JPH03187734A - Heat rays barrier glass - Google Patents

Heat rays barrier glass

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JPH03187734A
JPH03187734A JP2047134A JP4713490A JPH03187734A JP H03187734 A JPH03187734 A JP H03187734A JP 2047134 A JP2047134 A JP 2047134A JP 4713490 A JP4713490 A JP 4713490A JP H03187734 A JPH03187734 A JP H03187734A
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oxide
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heat rays
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英一 安藤
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Abstract

PURPOSE:To obtain a heat rays barrier glass with neutral transparency and reflected color by laminating a heat rays absorbing film and an oxide film on a transparent substrate and providing an oxide film with a specified refractive index at its outermost layer of the air side. CONSTITUTION:A heat rays barrier glass is prepd. by laminating successively at least two layers consisting of a heat rays absorbing film 2 and an oxide film 3 on a transparent substrate 1 and wherein the oxide film 3 is the outermost layer of the air side and has a refractive index of 2.0 or smaller. If the refractive index of the oxide film exceeds, reflectance of visible light ray becomes large and as the result, transmittance of visible light ray becomes low and the transmittance of visible light ray of 70 % or higher is hardly obtd. The oxide film 3 lowers the reflectance of the heat rays barrier glass because of the refractive index and the thickness and contributes to the improvement of the transmittance of the visible light ray and lowers the stimulating purity of the reflective color and has an action for neutralizing the whole color tone. Furthermore, wear resistance and chem. resistance of the heat rays barrier glass are improved. A heat rays absorbing film 2 performs an action absorbing a solar ray energy and adjusts transmittance of the visible light ray.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、熱線遮断ガラスに関するものである。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to heat-shielding glass.

[従来の技術] 従来から、窓ガラスを通して建物の室内に流入する太陽
エネルギーを遮断して室内の温度上昇を抑え、冷房負荷
を軽減するために熱線遮断ガラスが使われている。従来
の熱線遮断ガラスとしては、スプレー法、CVD法、あ
るいは浸漬法などで酸化チタン、酸化錫などの酸化物薄
膜をガラス上に数百人形成したものが知られている。最
近では、スパッタリング法により酸化物ばかりでな(、
金属や窒化物などの薄膜が大面積に自由に形成できるよ
うになった。このため、クロムやチタンなどの遷移金属
の単層膜系、金属/酸化物膜、あるいは窒化物膜/酸化
物膜の2層膜系、または酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜
、あるいは酸化物膜/金属/酸化物膜の3層膜系、ある
いはそれ以上の多層膜構成の熱線遮断ガラスも使われる
ようになってきた。
[Prior Art] Heat ray blocking glass has traditionally been used to block solar energy from flowing into the interior of a building through window glass, suppress the rise in indoor temperature, and reduce the cooling load. Conventional heat-shielding glass is known in which several hundred thin films of oxides such as titanium oxide, tin oxide, etc. are formed on glass by spraying, CVD, dipping, or the like. Recently, only oxides have been produced using sputtering method (,
Thin films of metals, nitrides, etc. can now be formed freely over large areas. For this reason, single-layer film systems of transition metals such as chromium or titanium, metal/oxide films, two-layer film systems of nitride films/oxide films, oxide films/nitride films/oxide films, or Heat-shielding glass having a three-layer structure of oxide film/metal/oxide film, or a multilayer structure of more than that, has also come to be used.

単層膜と異なり、3層、またはそれ以上の多層膜構成の
熱線遮断ガラスは、干渉を利用することで反射率や反射
色調をかなり自由に選択することが可能である。このた
め、意匠性を重視する建築用に需要が伸びている。
Unlike a single-layer film, a heat-shielding glass having a multi-layer structure of three or more layers allows the reflectance and reflection color tone to be selected quite freely by utilizing interference. For this reason, demand is increasing for architectural applications where design is important.

この他に、Low−Eガラス(低放射率ガラス)と呼ば
れ、室内からの熱線を反射することにより室内の温度の
低下を防ぎ、暖房負荷な軽減するための熱線反射ガラス
も知られている。
In addition, heat-reflecting glass called Low-E glass (low-emissivity glass) is also known, which prevents the indoor temperature from dropping by reflecting heat rays from the room and reduces the heating load. .

これは、酸化膜/Ag/酸化膜、あるいは酸化膜/Ag
/酸化膜/Ag/酸化膜の構成の積層膜を有し、主に寒
冷地で用いられている。しかし、Ag膜を使用している
ので耐久性に劣る。
This is oxide film/Ag/oxide film or oxide film/Ag
It has a laminated film with the following structure: /oxide film/Ag/oxide film, and is mainly used in cold regions. However, since it uses an Ag film, it is inferior in durability.

このため、合わせガラスか複層ガラスのかたちで積層膜
が外部に露出しない様にして用いられる。このLow−
Eガラスは、太陽光の熱線遮断効果も有するため、一部
の自動車ガラスにもこの目的で採用されている。
For this reason, laminated glass or double-glazed glass is used to prevent the laminated film from being exposed to the outside. This Low-
Since E-glass also has the effect of blocking heat rays from sunlight, it is also used in some automobile glasses for this purpose.

[発明の解決しようとする課題] 従来のスプレー法、CVD法、浸漬法などで酸化チタン
や酸化錫などの酸化物膜をガラス上に形成した熱線遮断
ガラスは、低コストで生産性良く製造できる反面、最近
のスパッタリング法によって形成された金属又は合金系
の単層又は多層系の熱線遮断ガラスと比べると、熱線遮
断性能がやや劣ること、又、酸化錫は酸に弱(、化学的
安定性が十分でないという問題点を有していた。
[Problem to be solved by the invention] Heat-shielding glass in which a film of oxides such as titanium oxide or tin oxide is formed on glass by conventional spraying, CVD, or dipping methods can be manufactured at low cost and with high productivity. On the other hand, compared to metal or alloy-based single-layer or multi-layer heat-shielding glass formed by recent sputtering methods, its heat-shielding performance is somewhat inferior, and tin oxide is weak against acids (and chemically stable). The problem was that it was not sufficient.

又、クロムやチタンなどの遷移金属の単層膜系熱線遮断
ガラスは、一般に可視光線反射率Rvが10〜50%と
高く、反射色もデザイン面からブロンズ、ブルー グリ
ーン、グレー ゴールド、シルバーなどの色がついてい
る。又、可視光線透過率Tvも10〜60%と低い。こ
のため、自然な色、即ちニュートラル色で低い反射率、
且つ70%以上の可視光線透過率が要求される自動車用
や一般家庭の窓ガラスに応用するには、不適当であった
。又、かかる金属の単層膜では、耐擦傷性、化学的安定
性といった耐久性もあまり十分でなく、自動車用など、
使用環境も厳しい用途には単板で用いることは不可能で
あった。
In addition, single-layer heat-shielding glass made of transition metals such as chromium and titanium generally has a high visible light reflectance Rv of 10 to 50%, and the reflective colors are bronze, blue-green, gray gold, silver, etc. from a design perspective. It's colored. Moreover, the visible light transmittance Tv is also as low as 10 to 60%. Therefore, natural colors, i.e. neutral colors and low reflectance,
In addition, it was unsuitable for application to window glasses for automobiles or general households, which require a visible light transmittance of 70% or more. In addition, such single-layer metal films do not have sufficient durability such as scratch resistance and chemical stability, and are not suitable for use in automobiles, etc.
It was impossible to use a single plate in applications where the operating environment was harsh.

又、前述したタイプのLow−Eガラスは、比較的ニュ
ートラルな反射色を有し、70%以上の可視光線透過率
を有するが、Ag膜を用いているので耐擦傷性が不十分
な為、単板では使用できず、必ず合せガラス化あるいは
複層ガラス化しなければならないという難点があった。
In addition, the aforementioned type of Low-E glass has a relatively neutral reflective color and a visible light transmittance of 70% or more, but since it uses an Ag film, it has insufficient scratch resistance. The drawback was that it could not be used as a single sheet and had to be laminated or double-glazed.

又、従来の金属/酸化物膜や窒化物膜/酸化物膜などの
2層系の熱線遮断ガラスにおいては、ニュートラルな色
調、耐久性、高透過率、低反射率を有するものは得られ
ていなかった。
In addition, conventional two-layer heat-shielding glasses such as metal/oxide film or nitride film/oxide film have not been able to provide neutral color tone, durability, high transmittance, and low reflectance. There wasn't.

又、チタン、ジルコニウム、クロムなどの金属、又はこ
れらの金属の窒化物からなる膜を高屈折率酸化物膜で挟
んだ3層構成の熱線遮断ガラスも、十分に良好な熱線遮
断性能を有しており、酸化物膜の厚みを調整し、光の干
渉を利用して可視光の反射率を抑えて可視光線透過率を
70%以上にすることが可能であり、最外層が酸化物膜
であるため、耐久性も優れているので単板の熱線遮断ガ
ラスとして好適ではあるが、光の干渉によってブルー 
ピンク、あるいは黄色などの色を帯びてしまい、自然で
ニュートラルな外観が得られにくいという問題を有して
いた。
In addition, heat ray blocking glass with a three-layer structure in which a film made of metals such as titanium, zirconium, chromium, or nitrides of these metals is sandwiched between high refractive index oxide films also has sufficiently good heat ray blocking performance. It is possible to adjust the thickness of the oxide film and use light interference to suppress the reflectance of visible light and increase the visible light transmittance to 70% or more, and the outermost layer is an oxide film. Although it is suitable as a single-pane heat-shielding glass because of its excellent durability, it can also cause blue color due to light interference.
The problem is that it takes on a pink or yellow color, making it difficult to obtain a natural and neutral appearance.

このように、単板で使用できる程度の高耐久性を有し、
可視光線透過率が高(、特に自動車の窓ガラスとして使
用できる様70%以上であって、透過率、反射色共にニ
ュートラルな熱線遮断ガラスは得られていなかった。
In this way, it has high durability that can be used as a veneer,
A heat-shielding glass that has a high visible light transmittance (particularly 70% or more so that it can be used as an automobile window glass) and is neutral in both transmittance and reflective color has not been obtained.

[課題を解決するための手段] 本発明は、前述の課題を解決すべ(なされたものであり
、透明基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少なくとも2層
が順次積層された熱線遮断ガラスであって、該酸化物膜
が空気側最外層であり、かつ2.0以下の屈折率を有す
ることを特徴とする熱線遮断ガラスを提供するものであ
る。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and is a heat-shielding glass in which at least two layers, a heat-absorbing film and an oxide film, are sequentially laminated on a transparent substrate. The present invention provides a heat ray blocking glass characterized in that the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less.

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例の断面図を示し
たものであり、1は透明基板、2は熱線吸収膜、3は屈
折率が2.0以下である酸化物膜を示す。
FIG. 1 shows a cross-sectional view of an example of the heat ray blocking glass of the present invention, where 1 is a transparent substrate, 2 is a heat ray absorbing film, and 3 is an oxide film having a refractive index of 2.0 or less.

本発明における最も大きな特徴は、空気側最外層に屈折
率が2.0以下である酸化膜を形成することである。空
気側最外層の酸化物膜の屈折率が2.0を超えると、可
視光線反射率が太き(なり、その結果可視光線透過率が
低くなり、70%以上の可視光線透過率が容易に得られ
にくくなる。従って、酸化物膜3の屈折率は2.0以下
、好ましくは1.8以下、特に1.7以下が望ましい。
The most significant feature of the present invention is that an oxide film having a refractive index of 2.0 or less is formed on the outermost layer on the air side. When the refractive index of the oxide film in the outermost layer on the air side exceeds 2.0, the visible light reflectance becomes thick (as a result, the visible light transmittance becomes low, and a visible light transmittance of 70% or more is easily achieved). Therefore, the refractive index of the oxide film 3 is preferably 2.0 or less, preferably 1.8 or less, particularly 1.7 or less.

かかる酸化物膜3の膜材料としては、耐久性が高く、屈
折率が2.0以下であれば特に限定されないが、硼素又
は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウムとを含む酸
化物、酸化錫、あるいは酸化珪素などが好適な例として
挙げられる。
The film material for the oxide film 3 is not particularly limited as long as it is highly durable and has a refractive index of 2.0 or less, but may include an oxide containing at least one of boron or silicon and zirconium, tin oxide, or A suitable example is silicon oxide.

硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チ
タン、ハフニウム、錫、タンタル。
At least one of boron or silicon, and zirconium, titanium, hafnium, tin, and tantalum.

インジウムのうち少なくとも1種とを含む酸化物膜は、
非晶質であるため、耐摩耗性が大変良好であるばかりで
なく、耐酸性、耐アルカリ性も優れているので、特に高
耐久性が要求される用途に最適である。
The oxide film containing at least one kind of indium is
Since it is amorphous, it not only has very good wear resistance, but also has excellent acid and alkali resistance, making it ideal for applications that require particularly high durability.

表1は、具体的に本発明の酸化物膜に最適な各種非晶質
酸化物膜の性質を示したものである。それぞれ表に挙げ
た組成のターゲットを用いて、反応性スパッタリングに
より製膜したものである。結晶性は、薄膜X線回折によ
り観測した。又、耐擦傷性は、砂消しゴムによる擦り試
験の結果で、○は傷が殆どつかなかったもの、×は容易
に傷が生じたものである。
Table 1 specifically shows the properties of various amorphous oxide films that are optimal for the oxide film of the present invention. Films were formed by reactive sputtering using targets with the compositions listed in the table. Crystallinity was observed by thin film X-ray diffraction. In addition, the scratch resistance is the result of a rubbing test using a sand eraser, where ○ indicates that there were almost no scratches, and × indicates that scratches occurred easily.

耐摩耗性は、テーパー試験(摩耗輪C5−10F、加重
500 g、 1000回転)の結果、ヘイズ4%以内
のものをO、ヘイズ4%超のものを×とした。耐酸性は
0.1N  ngso4中に240時間浸漬した結果、
T、(可視光透過率)、Rv (可視光反射率)の浸漬
前に対する変化率が1%以内のものを○、1〜4%のも
のを△、膜が溶解して消滅してしまったものを×とした
。耐アルカリ性は0.IN NaOH中に240時間浸
漬した結果、Tv、Rvの浸漬前に対する変化率が1%
以内のものを○、2%以内のものを△、膜が溶解してし
まったものを×とした。煮沸テストは、1気圧下、10
0℃の水に2時間浸漬した後、Tv、Rvの浸漬前に対
する変化率が1%以内であるとき0% 1%超のとき×
とした。
As for wear resistance, as a result of a taper test (wearing wheel C5-10F, load 500 g, 1000 rotations), a haze within 4% was rated O, and a haze exceeding 4% was rated x. Acid resistance was determined by immersion in 0.1N ngso4 for 240 hours.
○ indicates that the change rate of T, (visible light transmittance), and Rv (visible light reflectance) from before immersion is within 1%; △ indicates that the film has dissolved and disappeared from 1 to 4%. Marked things as ×. Alkali resistance is 0. As a result of immersion in IN NaOH for 240 hours, the rate of change in Tv and Rv from before immersion was 1%.
Those within 2% were rated as ○, those within 2% were rated as △, and those in which the film had dissolved were rated as ×. The boiling test is 1 atm, 10
After being immersed in water at 0°C for 2 hours, if the rate of change in Tv and Rv from before immersion is within 1%: 0% If over 1%: ×
And so.

ジルコニウムと硼素を含む酸化物ZrBxOy、ジルコ
ニウムと珪素を含む酸化物Zr5ixOy 、ジルコニ
ウムと硼素と珪素を含む酸化物ZrBxSi*O。
An oxide ZrBxOy containing zirconium and boron, an oxide Zr5ixOy containing zirconium and silicon, and an oxide ZrBxSi*O containing zirconium, boron, and silicon.

からなる膜において、その最適組成については、B(硼
素)、Si(珪素)、0(酸素)各々の膜中におけるZ
r (ジルコニウム)に対する原子比をそれぞれX+Z
+ yとすると、次のような範囲である。
Regarding the optimum composition of a film consisting of B (boron), Si (silicon), and 0 (oxygen), Z
The atomic ratio to r (zirconium) is
+y, the range is as follows.

表1から明らかなようにZrBxOyについては1.0
≦Xであるのが好ましい* x < 1.0であると膜
の屈折率が2.0を超えてしまい、可視光線透過率が7
0%以上の熱線遮断が得られに(くなってしまう為であ
る。一方、Xが増加する程膜の屈折率が下がるので(第
2図(a)参照)、Xの上限は特に制限されないが、X
≧2.3耐酸性が低下し、X≧4で耐アルカリ性の低下
及び煮沸テストで劣化を示すようになるので、本発明の
酸化物膜3としてのZrBxO,膜においては1.0≦
x<2.3であるのが好ましい、yについては、特に限
定されないが、ZrO*とB!0.の複合系と考えて、
Zr0g+ x BO+、 sと表すと、y=2+1.
5x程度、即ち、2.5≦、y<5.45であるのが好
ましい。
As is clear from Table 1, 1.0 for ZrBxOy
It is preferable that ≦X* If x < 1.0, the refractive index of the film will exceed 2.0, and the visible light transmittance will be 7.
This is because it is difficult to obtain heat ray blocking of 0% or more. On the other hand, as X increases, the refractive index of the film decreases (see Figure 2 (a)), so there is no particular restriction on the upper limit of X. But, X
≧2.3 The acid resistance decreases, and when X≧4, the alkali resistance decreases and deterioration occurs in the boiling test.
It is preferable that x<2.3, and y is not particularly limited, but ZrO* and B! 0. Considering it as a complex system of
When expressed as Zr0g+ x BO+, s, y=2+1.
It is preferable that y be about 5x, that is, 2.5≦, y<5.45.

Zr51 !011膜については、ZrBxOy膜と同
様に2が増加する程、屈折率が下がるが(第2図(b)
参照)、BよりもSLの方が屈折率低下に対する寄与度
が高いため、Bより少量でn=2.0以下となるので、
0.28≦2であるのが好ましい。上限は特に制限され
ないが、22:19であると膜の耐アルカリ性が不十分
となり、Zrを含有している優位性があまり認められな
くなるので、0.28≦z<19であるのが好ましい。
Zr51! Regarding the 011 film, as with the ZrBxOy film, the refractive index decreases as 2 increases (Fig. 2(b)).
), SL has a higher contribution to the refractive index reduction than B, so a smaller amount than B makes n=2.0 or less,
It is preferable that 0.28≦2. The upper limit is not particularly limited, but if it is 22:19, the alkali resistance of the membrane will be insufficient and the advantage of containing Zr will not be recognized so much, so it is preferable that 0.28≦z<19.

yについては同様にZrO□とSiO□の複合系を考え
てy=2+2Z程度、すなわち2.56≦y<40であ
るのが好ましい。
Regarding y, considering a composite system of ZrO□ and SiO□, it is preferable that y=2+2Z or so, that is, 2.56≦y<40.

ZrBxSixO,膜については、同様に屈折率の点か
ら0.28≦X+Zであるのが好ましい。又、同様に上
限の制限は特にないが、又、x+z<19であれば耐ア
ルカリ性も良好であるので、ZrBmSi、Oy膜にお
いては、0.28≦x+z<19であるのが好ましい。
Regarding the ZrBxSixO film, similarly, from the viewpoint of refractive index, it is preferable that 0.28≦X+Z. Similarly, there is no particular upper limit, but since alkali resistance is good if x+z<19, it is preferable that 0.28≦x+z<19 for ZrBmSi, Oy films.

ただし、上述のように、B2O3は吸湿性で空気中の水
分を吸収しで溶けてしまうため、Z r B * S 
t x Oy膜中にあまり多く含有されない方がよい。
However, as mentioned above, B2O3 is hygroscopic and dissolves when it absorbs moisture in the air, so Z r B * S
It is better not to contain too much in the t x Oy film.

具体的には、膜中において、0(酸素)以外のZr、 
B、 Stの合計に対して、Zr<25原子%、かつS
t<25原子%で残りが8となる程Bが含まれていると
化学的耐久性が不十分となる。即ち、ZrBxSizO
,膜中のZr:B : Si (原子比)を1:x:z
とすると、l/(1+x+z) <0.25、かつz/
 (1+x+z)<0.25、即ち、x+z−3>0、
かつX−3z+1>Oの組成は化学的耐久性が好ましく
ない。yは、ZrBxOyの場合に述べたのと同様の理
由によりこの膜をZrO* + BgOs + SiO
□の複合系と考えて、yは2+1.5 x+ 2z程度
であることが好ましい。よってほぼ2.5≦yく40程
度であることが好ましい。BやStの含有量が多い程Z
rBxSixOy膜の屈折率は低下する(第2図(e)
参照)。
Specifically, in the film, Zr other than 0 (oxygen),
B, Zr<25 atomic% with respect to the total of St, and S
If B is included so much that the remainder is 8 when t<25 atomic %, the chemical durability will be insufficient. That is, ZrBxSizO
, Zr:B:Si (atomic ratio) in the film is 1:x:z
Then, l/(1+x+z) <0.25 and z/
(1+x+z)<0.25, i.e. x+z-3>0,
In addition, the composition of X-3z+1>O has unfavorable chemical durability. For the same reason as mentioned in the case of ZrBxOy, y is the same as ZrO* + BgOs + SiO
Considering the composite system of □, it is preferable that y is approximately 2+1.5x+2z. Therefore, it is preferable that approximately 2.5≦y×40. The higher the content of B and St, the higher the Z
The refractive index of the rBxSixOy film decreases (Fig. 2(e)
reference).

以上より、本発明の酸化物膜3としての、硼素と珪素の
うち少なくとも1種とジルコニウムとを含む酸化物膜と
しては、ZrBつOy膜(1,0≦x<2.3.2.5
≦y < 5.45) 、 Zr5ixOy膜(0,2
8≦z<19.2.56≦y <40) 、ZrBxS
izOy膜(0,28≦x+z<19.2.5≦y<4
o、ただしx+z−3>Oかつx−3z+1>Oの部分
を除く)が特に好ましい。
From the above, as the oxide film 3 of the present invention, the oxide film containing at least one of boron and silicon and zirconium is a ZrBxOy film (1,0≦x<2.3.2.5
≦y < 5.45), Zr5ixOy film (0,2
8≦z<19.2.56≦y<40), ZrBxS
izOy film (0,28≦x+z<19.2.5≦y<4
o, except for x+z-3>O and x-3z+1>O) is particularly preferred.

これらの膜はZrB、0.膜についてはx>0.10、
ZrSi、0.膜についてはZ≧0,05、Zr5ix
Oy膜についてはX+Z≧0.05であれば膜が非晶質
化し、優れた耐摩耗性を有している。
These films were made of ZrB, 0. x>0.10 for membranes;
ZrSi, 0. For membranes Z≧0,05, Zr5ix
Regarding the Oy film, if X+Z≧0.05, the film becomes amorphous and has excellent wear resistance.

Tiと、BとSlのうち少なくとも1種を含む酸化物も
本発明の酸化物として用いることができる。この場合第
2図(d)より、T i S 1 z Oy膜について
は、2≧0.56で屈折率2以下となる。
An oxide containing at least one of Ti, B, and Sl can also be used as the oxide of the present invention. In this case, from FIG. 2(d), for the T i S 1 z Oy film, the refractive index is 2 or less when 2≧0.56.

硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウムとを
含む酸化物膜は、ジルコニウム、硼素、珪素の混合物、
硼化ジルコニウム、あるいはこれらの混合物等の焼結タ
ーゲットから直流を用いた反応性スパッタリング法で容
易に大面積のコーティングが可能であるので、自動車用
、建築用等の用途に好適である。
The oxide film containing zirconium and at least one of boron or silicon is a mixture of zirconium, boron, and silicon;
Since it is possible to easily coat a large area using a reactive sputtering method using direct current from a sintered target such as zirconium boride or a mixture thereof, it is suitable for applications such as automobiles and architecture.

酸化錫は、屈折率が1.9と比較的大きいことと、耐酸
性がやや十分でないという点はあるが、その他の点では
優れた性能を有しており、又、直流スパッタリング法で
コーティングできるので、大面積で耐酸性があまり要求
されない用途に適する。
Although tin oxide has a relatively large refractive index of 1.9 and somewhat insufficient acid resistance, it has excellent performance in other respects, and can be coated using DC sputtering. Therefore, it is suitable for applications that require large areas and low acid resistance.

又、酸化珪素は、耐アルカリ性がやや十分でないという
点はあるが、屈折率が約1.5と低(、耐摩耗性、耐擦
傷性も非常に優れているため、特に低反射性が要求され
る用途には最適である。
In addition, silicon oxide has a low refractive index of approximately 1.5, although its alkali resistance is somewhat insufficient (it also has excellent abrasion and scratch resistance, so it requires particularly low reflectivity). It is ideal for applications such as

以上、本発明の熱線遮断ガラスの空気側最外層の酸化物
膜3として、硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジル
コニウムとを含む酸化物膜、酸化錫膜、酸化珪素膜を挙
げたが、特にこれだけに限定されるものではなく、又、
これらの酸化物膜が耐久性向上、光学定数調整、成膜時
の安定性、あるいは成膜速度の向上などのために、他の
成分を含んでいても差しつかえない。又、本発明の酸化
物膜3は必ずしも完全に透明である必要はなく、酸素欠
損の状態の吸収性膜であってもよいし、一部窒素や炭素
を含有していてもよい。
Above, as the oxide film 3 of the air-side outermost layer of the heat-shielding glass of the present invention, an oxide film containing at least one of boron or silicon and zirconium, a tin oxide film, and a silicon oxide film have been mentioned, but in particular, only these are mentioned. It is not limited to, and
These oxide films may contain other components in order to improve durability, adjust optical constants, improve stability during film formation, or improve film formation speed. Further, the oxide film 3 of the present invention does not necessarily have to be completely transparent, and may be an absorbent film in an oxygen-deficient state, or may partially contain nitrogen or carbon.

酸化物層3の膜厚は限定されないが、あまり薄いと十分
な耐久性が得られない為、用途にもよるが、50Å以上
、好ましくはioo八以へ、特に150Å以上であるこ
とが望ましい。一方、あまり厚くなると、屈折率にも依
るが、干渉効果が生じてきて反射色も強(なるので、1
000Å以下、好ましくは700Å以下、特に500Å
以下であることが好ましい。
The thickness of the oxide layer 3 is not limited, but if it is too thin, sufficient durability cannot be obtained, so it is preferably 50 Å or more, preferably IOO 8 or more, particularly 150 Å or more, although it depends on the application. On the other hand, if it becomes too thick, interference effects will occur and the reflected color will become strong (although it depends on the refractive index).
000 Å or less, preferably 700 Å or less, especially 500 Å
It is preferable that it is below.

熱線吸収膜2の膜材料は特に限定されず、用途によって
、あるいは要求仕様によって、金属、炭化物、酸化物、
又はこれらの複合膜から選定される。具体的には、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、窒
化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタ
ル、窒化ハフニウムのうち一種を主成分とした膜が熱線
吸収性能が良好なため好ましい。
The film material of the heat ray absorption film 2 is not particularly limited, and may be metal, carbide, oxide, or
Or selected from these composite membranes. Specifically, a film containing one of titanium, chromium, zirconium, tantalum, hafnium, titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, tantalum nitride, and hafnium nitride as a main component is preferable because it has good heat ray absorption performance.

かかる熱線吸収膜2の膜厚としては、あまり厚(なると
可視光線透過率が低下してしまうので、基板1の種類、
酸化物膜3の屈折率と膜厚にも依るが、1000Å以下
、好ましくは800Å以下が望まれる。800人を超え
ると、特に窒化物膜の場合には、内部応力が大きくなり
膜の剥離が生じやすくなる。又、あまり薄いと十分な熱
線吸収性能が得られないので、膜材料と基板ガラスの板
厚、種類にも依るが、20Å以上、好ましくは20〜1
00人であることが好ましい。
The thickness of the heat ray absorbing film 2 should be set to be too thick (as this will reduce the visible light transmittance), the type of substrate 1,
Although it depends on the refractive index and film thickness of the oxide film 3, it is desired that the thickness is 1000 Å or less, preferably 800 Å or less. If the number exceeds 800, the internal stress will increase, especially in the case of a nitride film, and the film will likely peel off. In addition, if it is too thin, sufficient heat ray absorption performance cannot be obtained, so it depends on the thickness and type of the film material and the substrate glass, but it is preferably 20 Å or more, preferably 20 to 1
00 people is preferable.

又、酸化物層3及び熱線吸収膜2の膜形成法も特に限定
されるものではなく、真空蒸着法、イオンブレーティン
グ法、スパッタリング法などが可能であるが、大面積コ
ーティングが必要な場合は、均一性に優れる反応性スパ
ッタリング法が好ましい。
Furthermore, the method of forming the oxide layer 3 and the heat ray absorbing film 2 is not particularly limited, and vacuum evaporation, ion blasting, sputtering, etc. are possible, but if large area coating is required, , a reactive sputtering method is preferred since it has excellent uniformity.

透明基板lとしては、通常ガラス、プラスチックなどが
用いられる。
As the transparent substrate l, glass, plastic, etc. are usually used.

本発明において、色調がニュートラルとは、以下の様な
特性を有するものを意味する。即ち、CIHの表色系で
表示したときの、基板表面に熱線吸収膜、酸化物膜等の
被膜形成する前と後のX坐標、y坐標の変化中をΔX、
Δyとする。J((Δx)”+  (Δy)2)を、被
膜形成したことによる色調変化とし、ニュートラル色と
は、この色調変化の値が、透過色、反射色の各々につい
て0.008.0.032以下、より好ましくGEE 
O,007,0,028以下であることをいう。但し、
反射色については、被膜形成した面と、形成していない
面とで反射色が異なる場合であるので、値の大きい方を
指すものとする。
In the present invention, neutral color tone means one having the following characteristics. In other words, when expressed in the CIH color system, the changes in the X and Y points before and after the formation of a heat ray absorbing film, oxide film, etc. on the substrate surface are expressed as ΔX,
Let it be Δy. J((Δx)”+(Δy)2) is the color tone change due to film formation, and a neutral color is defined as a value of this color tone change of 0.008.0.032 for each of the transmitted color and reflected color. The following is more preferable: GEE
It means that it is 0,007,0,028 or less. however,
Regarding the reflected color, since the reflected color is different between the surface on which the coating is formed and the surface on which the coating is not formed, the one with the larger value is used.

熱線吸収膜2が窒化物膜である場合、該窒化物膜を内部
応力を低減しガラス基板との付着力を増すため、ガラス
基板と窒化物膜との間に酸化物膜を形成しても良い。又
、ガラス基板との間に付着力を増すもう一つの方法とし
て、ガラス基板上にまず下地膜を形成し、次いで高エネ
ルギーイオンを注入し、その後、熱線吸収膜を形成する
という方法も有効である。例えば、下地膜としてチタン
膜を形成し、次いで高エネルギー窒素イオンを注入した
後窒化チタン膜を形成すると、熱線吸収膜2として大変
付着力の高い窒化チタン膜が得られる。
When the heat ray absorption film 2 is a nitride film, an oxide film may be formed between the glass substrate and the nitride film in order to reduce internal stress and increase adhesion to the glass substrate. good. Another effective method to increase adhesion to the glass substrate is to first form a base film on the glass substrate, then implant high-energy ions, and then form a heat ray absorbing film. be. For example, if a titanium film is formed as a base film and then a titanium nitride film is formed after high-energy nitrogen ions are implanted, a titanium nitride film with very high adhesion can be obtained as the heat ray absorbing film 2.

「作用」 本発明の熱線遮断ガラスにおいて、空気側最外層の酸化
物膜3は、その屈折率、膜厚などにより、光学的な機能
を果している。即ち、熱線遮断ガラスの反射率を低下さ
せ、可視光線透過率の向上に寄与しているとともに、反
射色の刺激純度を低下させ全体の色調をニュートラル化
する作用を有している。さらに、酸化物膜3は熱線遮断
ガラスの耐摩耗性、耐薬品性を向上させるための保護膜
の役割を有している。
"Function" In the heat ray blocking glass of the present invention, the air-side outermost oxide film 3 performs an optical function due to its refractive index, film thickness, etc. That is, it reduces the reflectance of the heat ray blocking glass and contributes to improving the visible light transmittance, and also has the effect of reducing the stimulating purity of the reflected color and neutralizing the overall color tone. Further, the oxide film 3 has the role of a protective film for improving the abrasion resistance and chemical resistance of the heat ray blocking glass.

熱線吸収膜2は、太陽光線エネルギーを吸収する作用を
果たすと共に可視光線透過率を調整している。
The heat ray absorbing film 2 functions to absorb sunlight energy and also adjusts visible light transmittance.

又、酸化物膜3が硼素又は珪素のうち少なくとも一種と
ジルコニウムとを含む酸化物膜である場合は、その屈折
率を低下させる作用を有するとともに、かかる硼素又は
珪素は酸化ジルコニウム膜に不足している耐摩耗性を向
上させる作用も有している。これは、ガラス構成要素で
ある硼素又は珪素の添加により、膜が非晶質化し、表面
の平滑さが増すため摩擦抵抗が低下し、耐摩耗性が向上
しているものと考えられる。この様な非晶質化により、
酸、アルカリなどに強い化学的安定性を有する酸化ジル
コニウムにあわせて耐摩耗性を付与することができ、耐
摩耗性と化学的安定性の両方を併せもつ大変優れた耐久
性を有する膜の実現に寄与している。
In addition, when the oxide film 3 is an oxide film containing at least one of boron or silicon and zirconium, it has the effect of lowering its refractive index, and the zirconium oxide film lacks such boron or silicon. It also has the effect of improving wear resistance. This is thought to be because the addition of boron or silicon, which is a glass component, makes the film amorphous and increases the surface smoothness, which lowers the frictional resistance and improves the wear resistance. Due to such amorphization,
Abrasion resistance can be added to zirconium oxide, which has strong chemical stability against acids and alkalis, creating a highly durable film that has both abrasion resistance and chemical stability. contributes to

[実施例] 実施例1 ガラス基板をスパッタリング装置の真空槽にセットしI
 X 10−’ Torrまで排気した。ガラス基板と
しては4mm厚の青板を用いた。実施例2以下も同様の
ガラス基板を用いた。アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して圧力を2 X 10−”Torrとした後、チタン
を反応性スパッタリングして窒化チタン(第1層)を約
2OA形成した。次にアルゴンと酸素の混合ガスに切り
替え圧力を2 X 10−”Torrにして、ZrB雪
ターゲットを反応性スパッタリングしてジルコニウムと
硼素からなる酸化膜(第2層)を約200人形成した。
[Example] Example 1 A glass substrate was set in a vacuum chamber of a sputtering device.
It was evacuated to X 10-' Torr. A 4 mm thick blue plate was used as the glass substrate. Similar glass substrates were used in Example 2 and subsequent examples. After introducing a mixed gas of argon and nitrogen to set the pressure to 2 X 10-'' Torr, titanium was reactively sputtered to form titanium nitride (first layer) of approximately 2OA.Next, a mixed gas of argon and oxygen The pressure was changed to 2 x 10-'' Torr, and about 200 oxide films (second layer) made of zirconium and boron were formed by reactive sputtering of a ZrB snow target.

こうして得られた熱線遮断ガラスの可視光線透過率Tv
、太陽光線透過率Tts コート面可視光反射率Rvr
、ガラス面可視光反射率Rva、透過、反射の色調変化
はJ((Δx)”+(Δy)2)は、それぞれ71.5
6.13.12(%)、0.006g。
Visible light transmittance Tv of the heat ray blocking glass thus obtained
, sunlight transmittance Tts coated surface visible light reflectance Rvr
, glass surface visible light reflectance Rva, color tone change of transmission and reflection J((Δx)”+(Δy)2) is 71.5, respectively.
6.13.12 (%), 0.006g.

0、026であった。It was 0.026.

又、透過色、反射色も素板のガラスと殆ど見分けがつか
ない程ニュートラル色であった。
Furthermore, the transmitted and reflected colors were so neutral that they were almost indistinguishable from the original glass.

膜の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、水酸化ナ
トリウム中に室温で6時間、あるいは沸騰水中に2時間
浸漬したが、光学性能に変化は認められなかった。酸、
アルカリに対して更に浸漬を続けて240Hr経過後に
同様に評価したところ、TV%Ttが2〜3%上昇して
いて、劣化が認められた。
To examine the durability of the film, it was immersed in 0.1 N hydrochloric acid or sodium hydroxide at room temperature for 6 hours, or in boiling water for 2 hours, but no change was observed in the optical performance. acid,
When immersion in alkali was further continued and evaluation was made in the same manner after 240 hours had elapsed, TV%Tt had increased by 2 to 3%, indicating deterioration.

砂消しゴムによる擦り試験でも、傷は殆どっかず極めて
優れた耐擦傷性を示した。
Even in a scratch test with a sand eraser, there were almost no scratches, showing extremely excellent scratch resistance.

実施例2 実施例1と同様にガラス基板上にジルコニウムを反応性
スパッタリングして窒化ジルコニウム(第1層)を約2
0人形成した後、アルゴンと酸素の混合ガスに切り替え
2 X 10−”Torrにした。次にZrB1ターゲ
ットを反応性スパッタリングしてジルコニウムと硼素か
らなる酸化膜(第2層)を約200人形成した。
Example 2 Zirconium nitride (first layer) was deposited on a glass substrate by reactive sputtering in the same manner as in Example 1.
After forming 0 layers, the gas was switched to a mixed gas of argon and oxygen at 2 x 10-'' Torr.Next, a ZrB1 target was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) consisting of zirconium and boron for about 200 layers. did.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能Tv、T t s 
Rvrs Rva、透過、反射の色調変化はそれぞれ7
1.55.12.12(%)、0.0067、0.02
6であった。
Optical performance Tv, Tts of the obtained heat ray blocking glass
Rvrs Rva, transmission and reflection color tone changes are each 7
1.55.12.12 (%), 0.0067, 0.02
It was 6.

実施例膜の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、水
酸化ナトリウム各水溶液中に室温で6時間、あるいは沸
騰水中に2時間浸漬したが、光学性能に変化は認められ
なかった。1と同様な耐久試験を行ったが、同様に優れ
た性能を示した。
In order to examine the durability of the example membranes, they were immersed in 0.1 N hydrochloric acid and sodium hydroxide aqueous solutions at room temperature for 6 hours or in boiling water for 2 hours, but no change was observed in the optical performance. A durability test similar to No. 1 was conducted, and similarly excellent performance was shown.

実施例3 実施例1と同様にガラス基板上にクロムを反応性スパッ
タリングして窒化クロム(第1層)を約10人形成後、
アルゴンと酸素の混合ガスに切り替え2 X 10−”
Torrにした。次にZrB zとSiCを含むターゲ
ットを反応性スパッタリングしてジルコニウム、硼素、
珪素を含む酸化膜(第2層)を約200人形成した。得
られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、Tg 、RvF
、Rva、透過、反射の色調変化はそれぞれ72. 5
g、 10゜9(%) 、 0.0074.0.029
であった。透過、反射の色も素板と殆ど見分けがつかな
かった。耐久性も実施例1と同様極めて優れていた。
Example 3 After forming about 10 chromium nitrides (first layer) by reactive sputtering of chromium on a glass substrate in the same manner as in Example 1,
Switch to mixed gas of argon and oxygen 2 x 10-”
I set it to Torr. Next, a target containing ZrBz and SiC was reactively sputtered to form zirconium, boron,
Approximately 200 people formed an oxide film (second layer) containing silicon. Optical performance TV, Tg, RvF of the obtained heat ray blocking glass
, Rva, transmission, and reflection color tone changes are each 72. 5
g, 10°9 (%), 0.0074.0.029
Met. The transmitted and reflected colors were almost indistinguishable from the base plate. The durability was also extremely excellent as in Example 1.

実施例4 実施例1の窒化チタンのかわりに第1層としてクロム、
チタン、ジルコニウムをそれぞれ約10人形成した。そ
の上にZrB*ターゲットを反応性スパッタリングして
ジルコニウムと硼素を含む酸化膜(第2層)を約200
人形成して3種類の熱線遮断ガラスを作った。これらの
Tv、Tg 、RVF% RVOは第1層のクロム、チ
タン、ジルコニウムに大きな差はみられず、それぞれ7
2.58.11.10(%)のものであった。透過色1
反射色は色調変化がそれぞれ0.0031〜0.006
5.0.028〜0.030と実施例1と同様に極めて
優れていた。又、耐久性も実施例1と同様に極めて優れ
ていた。
Example 4 Chromium was used as the first layer instead of titanium nitride in Example 1.
Approximately 10 people each formed titanium and zirconium. On top of that, a ZrB* target is reactively sputtered to form an oxide film (second layer) containing zirconium and boron with a thickness of approximately 200 mm.
We created three types of heat-shielding glass by forming people. These Tv, Tg, RVF% RVO did not show any big difference in the first layer of chromium, titanium, and zirconium, and each was 7.
It was 2.58.11.10 (%). Transparent color 1
Reflection color has a color tone change of 0.0031 to 0.006, respectively.
5.0.028 to 0.030, which was extremely excellent as in Example 1. Further, the durability was also extremely excellent as in Example 1.

実施例5 実施例1と同様に窒化チタンを20人形成後、錫を反応
性スパッタリングして200人形成した。こうして得ら
れた熱線遮断ガラスのTV、TIE、RVF、Rvoは
、それぞれ70.55.15゜13(%)であった。
Example 5 As in Example 1, 20 titanium nitride layers were formed, and then 200 layers were formed by reactive sputtering of tin. The thus obtained heat ray blocking glass had TV, TIE, RVF, and Rvo of 70.55.15°13 (%), respectively.

長時間の0.1規定のHCI水溶液中保存で膜の溶解が
みられた他は耐久性に優れていた。色調も反射が若干高
いことを除けば透過色、反射色の色調変化がそれぞれ0
.0036.0.030とニュートラル色であった。
Except for the fact that the membrane dissolved during long-term storage in a 0.1N HCI aqueous solution, it had excellent durability. As for the color tone, except for the slightly higher reflection, the color tone change of the transmitted color and reflected color is 0.
.. 0036.0.030, a neutral color.

実施例6 実施例1と同様に窒化チタンを20人形成した後、酸化
珪素を高周波反応性スパッタリングして250人形成し
た。こうして得られた熱線遮断ガラスのTV、TE、R
vF%Rvoは、それぞれ73、56.8.6(%)で
あった。
Example 6 After 20 layers of titanium nitride were formed in the same manner as in Example 1, 250 layers of silicon oxide were formed by high frequency reactive sputtering. TV, TE, R of the heat ray blocking glass thus obtained
vF%Rvo was 73 and 56.8.6 (%), respectively.

長時間の0.1規定のNaOH水溶液中で膜の溶解がみ
られた他は耐久性に優れていた。反射率が低く、透過、
反射の色調変化が0.005.0.018と色調も極め
て優れていた。
Except for the fact that the film was dissolved in the 0.1N NaOH aqueous solution for a long time, the durability was excellent. Low reflectance, transmission,
The color tone was also extremely excellent, with a color change in reflection of 0.005.0.018.

実施例7 実施例1と同様に窒化チタンを20人形成後、ジルコニ
ウム−硼素合金ターゲット(組成は原子濃度で50Zr
−50B )を反応性スパッタリングしてジルコニウム
と硼素からなる酸化膜(第2層)を約200人形成した
Example 7 After forming 20 titanium nitrides in the same manner as in Example 1, a zirconium-boron alloy target (composition is 50Zr in atomic concentration) was prepared.
-50B) was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) consisting of zirconium and boron.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、Rv□
Rvoは、透過、反射の色調はそれぞれ72.3.5g
、5.10.4.8.8.0.0024.0.0290
であった。透過、反射の色も素材と殆ど見分けがつかな
かった。膜の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、
水産化ナトリウム各水溶液中に室温で240時間、ある
いは沸騰水中に2時間浸漬したが、光学性能に変化は認
められなかった。このとから実施例1よりさらにきびし
い耐久性試験によって優れた耐久性を示すことがわかっ
た。砂消しゴムによる擦り試験でも、極めて優れた耐擦
傷性を示した。
Optical performance TV, TE, Rv□ of the obtained heat ray blocking glass
Rvo is 72.3.5g for transmission and reflection color tone each.
, 5.10.4.8.8.0.0024.0.0290
Met. The transmitted and reflected colors were almost indistinguishable from the material. To check the durability of the membrane, 0.1N hydrochloric acid,
Although it was immersed in each sodium aquatic solution at room temperature for 240 hours or in boiling water for 2 hours, no change in optical performance was observed. From this, it was found that excellent durability was shown in a more severe durability test than in Example 1. It also showed excellent scratch resistance in a sand eraser rubbing test.

実施例8 実施例1と同様に窒化チタンを20人形成後、ZrSi
、ターゲットを反応性スパッタリングしてジルコニウム
と珪素からなる酸化膜(第2層)を約200人形成した
Example 8 After forming 20 titanium nitride layers in the same manner as in Example 1, ZrSi
Approximately 200 people formed an oxide film (second layer) consisting of zirconium and silicon by reactive sputtering using a target.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能Tv、1区、RvF
、Rvoは、透過、反射の色調変化はそれぞれ73.7
.59.3.8.6.7.1.0.0010゜0.01
75であった。膜の耐久性は実施例7と同条件で評価し
たが、同様に優れた性能を示した。
Optical performance Tv, 1st section, RvF of the obtained heat ray blocking glass
, Rvo is 73.7 for transmission and reflection color tone changes, respectively.
.. 59.3.8.6.7.1.0.0010゜0.01
It was 75. The durability of the film was evaluated under the same conditions as in Example 7, and it showed similarly excellent performance.

実施例9 実施例1と同様に窒化チタンを20人形成後、ジルコニ
ウム−珪素合金ターゲット(組成は原子濃度で1OZr
 −90Si)を反応性スパッタリングしてジルコニウ
ムと珪素からなる酸化膜(第2層)を約200人形成し
た。
Example 9 After forming 20 titanium nitrides in the same manner as in Example 1, a zirconium-silicon alloy target (composition is 1OZr in atomic concentration)
-90Si) was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) of zirconium and silicon.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RvF
%RVQは、透過、反射の色調はそれぞれ74.3.5
9.6.8.0.6.3.0.000g、 0.007
4であった。
Optical performance TV, TE, RvF of the obtained heat ray blocking glass
%RVQ is 74.3.5 for transmission and reflection color tones, respectively.
9.6.8.0.6.3.0.000g, 0.007
It was 4.

膜の耐久性は実施例7と同条件で評価したが、同様に優
れた性能を示した。
The durability of the film was evaluated under the same conditions as in Example 7, and it showed similarly excellent performance.

[発明の効果] 本発明の熱線遮断ガラスは透明基板上に熱線吸収膜、屈
折率が2.0以下の酸化物膜を積層した少なくとも2層
膜構成を有しているので、自然な、ニュートラル色調を
有し、可視光透過率が高く、且つ高耐久性を有している
[Effects of the Invention] The heat-shielding glass of the present invention has at least a two-layer structure in which a heat-absorbing film and an oxide film with a refractive index of 2.0 or less are laminated on a transparent substrate. It has a good color tone, high visible light transmittance, and high durability.

従って、単板としても建築用、自動車用など、使用環境
の厳しい用途において充分使用できる。
Therefore, even as a veneer, it can be used satisfactorily in applications with severe operating environments, such as in construction and automobiles.

酸化物膜3として硼素又は珪素のうち少なくとも1種と
ジルコニウムとを含む酸化物膜を形成した場合には、特
に耐摩耗性、耐薬品性に優れた熱線遮断ガラスが可能と
なる。
When an oxide film containing zirconium and at least one of boron or silicon is formed as the oxide film 3, a heat-shielding glass particularly excellent in abrasion resistance and chemical resistance can be obtained.

硼素又は珪素あるいはその合計量の含有割合を多(する
ことにより、該酸化物膜の屈折率を1.7以下にするこ
とが可能であり、その結果、可視光線低反射、高透過、
ニュートラルな色調を有する熱線遮断ガラスが可能とな
る。
By increasing the content ratio of boron, silicon, or the total amount thereof, it is possible to reduce the refractive index of the oxide film to 1.7 or less, resulting in low visible light reflection, high transmission,
Heat-shielding glass with a neutral color tone becomes possible.

さらに、かかる硼素又は珪素のうち少なくとも1種とジ
ルコニウムとを含む酸化物膜や酸化錫膜を空気側最外層
3とする場合には、直流スパッタリング法により製膜で
きるため、大面積が必要とされる自動車用、建築用等の
用途に最適である。
Furthermore, when an oxide film or a tin oxide film containing at least one of boron or silicon and zirconium is used as the air-side outermost layer 3, a large area is required because the film can be formed by direct current sputtering. It is ideal for automotive, architectural, and other applications.

又、酸化珪素膜を空気側最外層3とする場合には、直流
スパッタリングは困難であるが、酸化珪素膜は屈折率が
低いため、ニュートラル色調で非常に可視光反射率が低
(透過率が高い熱線遮断ガラスが可能となる。又、可視
光反射率が小さいので、万−傷がついても傷が目立たな
いという効果も奏する。
In addition, when using a silicon oxide film as the outermost layer 3 on the air side, direct current sputtering is difficult, but since the silicon oxide film has a low refractive index, it has a neutral color tone and extremely low visible light reflectance (transmittance is low). It is possible to create a glass that blocks high heat rays.Also, since the visible light reflectance is low, even if it gets scratched, it will not be noticeable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例を示す断面図で
ある。 第2図(a)はZrBxOy膜中のBの含有量と膜の屈
折率nとの関係を示した図である。第2図(b)はZr
Si、o、膜中のSiの含有量とnとの関係を、第2図
(c)はZ r B + S 1 ! Oy膜中のSi
の含有量とnとの関係を示した図、第2図(d)はTi
5xzOy膜中のStの含有量とnとの関係図である。 l:透明基板、 2:熱線吸収膜、 3二酸化物膜 第  1  図 50 00 第 図 (a) 第 図 (c) 2rSilOx月真中cp) 21o2+s、。2(−
Ltv ’/a)第2図cb) 第 図 (cl)
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the heat ray blocking glass of the present invention. FIG. 2(a) is a diagram showing the relationship between the content of B in the ZrBxOy film and the refractive index n of the film. Figure 2(b) shows Zr
Figure 2 (c) shows the relationship between Si, o, Si content in the film and n, Z r B + S 1 ! Si in Oy film
Figure 2(d) shows the relationship between the content of Ti and n.
FIG. 3 is a relationship diagram between the St content and n in a 5xzOy film. 1: Transparent substrate, 2: Heat ray absorption film, 3 Dioxide film No. 1 Fig. 50 00 Fig. (a) Fig. (c) 2rSilOx Moon center cp) 21o2+s. 2(-
Ltv'/a) Figure 2 cb) Figure (cl)

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透明基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少なくとも
2層が順次積層された熱線遮断ガラ スであつて、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2
.0以下の屈折率を有することを特徴とする熱線遮断ガ
ラス。
(1) A heat-shielding glass in which at least two layers, a heat-absorbing film and an oxide film, are sequentially laminated on a transparent substrate, and the oxide film is the outermost layer on the air side;
.. A heat ray blocking glass characterized by having a refractive index of 0 or less.
(2)可視光線透過率が70%以上であることを特徴と
する請求項1記載の熱線遮断ガラス。
(2) The heat ray blocking glass according to claim 1, characterized in that the visible light transmittance is 70% or more.
(3)酸化物膜が硼素又は珪素のうち少なくとも一種と
、ジルコニウム、チタン、ハフニウ ム、錫、タンタル、インジウムのうち少なくとも1種と
を含む酸化物からなることを特徴とする請求項1又は2
記載の熱線遮断ガラ ス。
(3) Claim 1 or 2, wherein the oxide film is made of an oxide containing at least one of boron or silicon and at least one of zirconium, titanium, hafnium, tin, tantalum, and indium.
Heat-shielding glass as described.
(4)酸化物膜が酸化錫を主成分とする酸化物からなる
ことを特徴とする請求項1又は2記載の熱線遮断ガラス
(4) The heat ray blocking glass according to claim 1 or 2, wherein the oxide film is made of an oxide whose main component is tin oxide.
(5)酸化物膜が酸化珪素を主成分とする酸化物からな
ることを特徴とする請求項1又は2記載の熱線遮断ガラ
ス。
(5) The heat ray blocking glass according to claim 1 or 2, wherein the oxide film is made of an oxide whose main component is silicon oxide.
(6)熱線吸収膜がチタン、クロム、ジルコニウム、タ
ンタル、ハフニウム、窒化チタン、窒化クロム、窒化ジ
ルコニウム、窒化タンタ ル、窒化ハフニウムの群から選ばれた1種又は2種以上
を主成分とすることを特徴とする請求項1から5いずれ
か一項記載の熱線遮断ガラス。
(6) The heat ray absorbing film has as a main component one or more selected from the group of titanium, chromium, zirconium, tantalum, hafnium, titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, tantalum nitride, and hafnium nitride. The heat ray blocking glass according to any one of claims 1 to 5.
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