JPH03187736A - Heat rays barrier glass - Google Patents

Heat rays barrier glass

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Publication number
JPH03187736A
JPH03187736A JP2047136A JP4713690A JPH03187736A JP H03187736 A JPH03187736 A JP H03187736A JP 2047136 A JP2047136 A JP 2047136A JP 4713690 A JP4713690 A JP 4713690A JP H03187736 A JPH03187736 A JP H03187736A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
refractive index
oxide
heat ray
glass
Prior art date
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Pending
Application number
JP2047136A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidekazu Ando
英一 安藤
Koichi Suzuki
巧一 鈴木
Junichi Ebisawa
海老沢 純一
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a heat rays barrier glass with excellent durability and chem. stability by preparing the heat rays barrier glass wherein three layers consisting of a heat rays barrier film, a low refractive index oxide film and a protective film are laminated on a transparent substrate 1 and the refractive index of the low refractive index oxide film is at most a specified value and the protective layer consists of an amorphous film wherein a specified oxide is a main ingredient. CONSTITUTION:As a transparent substrate 1, various glass plates and plastics are used. A heat rays barrier film 2 is formed on the transparent substrate 1 and a low refractive index oxide film 3 is formed thereon. Then, a protective film 4 with excellent durability is formed thereon. As a film material of the low refractive index oxide film 3, an oxide with a refractive index of 2.0 or smaller contg. at least one of boron and silicon and at least one among zirconium, titanium, tantalum, hafnium, indium and tin is used. A film material of the heat rays barrier film 2 is selected from a metal, a carbide, an oxide or a composite film thereof. As the protective film 4, an oxide film consisting of at least one among titanium, zirconium, hafnium, tin, tantalum and indium and at least one of boron and silicon is pref.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、熱線遮断ガラスに関するものである。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to heat-shielding glass.

[従来の技術] 従来から、窓ガラスを通して建物の室内に流入する太陽
エネルギーを遮断して室内の温度上昇を抑え、冷房負荷
を軽減するために熱線遮断ガラスが使われている。従来
の熱線遮断ガラスとしては、スプレー法、CVD法、あ
るいは浸漬法などで酸化チタン、酸化錫などの酸化物薄
膜をガラス上に数百人形底したものが知られている。最
近では、スパッタリング法により酸化物ばかりでなく、
金属や窒化物などの薄膜が大面積に自由に形成できるよ
うになった。このため、クロムやチタンなどの遷移金属
の単層膜系、金属/酸化物膜、あるいは窒化物膜/酸化
物膜の2層膜系、または酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜
、あるいは酸化物膜/金属/酸化物膜の3層膜系、ある
いはそれ以上の多層膜構成の熱線遮断ガラスも使われる
ようになってきた。
[Prior Art] Heat ray blocking glass has traditionally been used to block solar energy from flowing into the interior of a building through window glass, suppress the rise in indoor temperature, and reduce the cooling load. Conventional heat-shielding glass is known in which several hundred thin films of oxides such as titanium oxide, tin oxide, etc. are formed on glass by spraying, CVD, or dipping. Recently, sputtering has been used to produce not only oxides but also
Thin films of metals, nitrides, etc. can now be formed freely over large areas. For this reason, single-layer film systems of transition metals such as chromium or titanium, metal/oxide films, two-layer film systems of nitride films/oxide films, oxide films/nitride films/oxide films, or Heat-shielding glass having a three-layer structure of oxide film/metal/oxide film, or a multilayer structure of more than that, has also come to be used.

単層膜と異なり、3層、またはそれ以上の多層膜構成の
熱線遮断ガラスは、干渉を利用することで反射率や反射
色調をかなり自由に選択することが可能である。このた
め、意匠性を重視する建築用に需要が伸びている。
Unlike a single-layer film, a heat-shielding glass having a multi-layer structure of three or more layers allows the reflectance and reflection color tone to be selected quite freely by utilizing interference. For this reason, demand is increasing for architectural applications where design is important.

この他に、Low−Eガラス(低放射率ガラス)と呼ば
れ、室内からの熱線を反射することにより室内の温度の
低下を防ぎ、暖房負荷を軽減するための熱線反射ガラス
も知られている。
In addition, heat-reflecting glass called Low-E glass (low-emissivity glass) is also known, which prevents the indoor temperature from dropping by reflecting heat rays from the room and reduces the heating load. .

これは、酸化膜/A g/酸化膜、あるいは酸化膜/A
g/酸化膜/Ag/酸化膜の構成の積層膜を有し、主に
寒冷地で用いられている。しかし、Ag膜を使用してい
るので耐久性に劣る。
This is oxide film/A g/oxide film or oxide film/A
It has a laminated film with a structure of g/oxide film/Ag/oxide film and is mainly used in cold regions. However, since it uses an Ag film, it is inferior in durability.

このため、合わせガラスか複層ガラスのかたちで積層膜
が外部に露出しない様にして用いられる。このLow−
Eガラスは、太陽光の熱線遮断効果も有するため、一部
の自動車ガラスにもこの目的で採用されている。
For this reason, laminated glass or double-glazed glass is used to prevent the laminated film from being exposed to the outside. This Low-
Since E-glass also has the effect of blocking heat rays from sunlight, it is also used in some automobile glasses for this purpose.

従来のスプレー法、CVD法、浸漬法などで酸化チタン
や酸化錫などの酸化物膜をガラス上に形成した熱線遮断
ガラスは、低コストで生産性良く製造できる反面、最近
のスパッタリング法によって形成された金属又は合金系
の単層又は多層系の熱線遮断ガラスと比べると、熱線遮
断性能がやや劣ること、又、酸化錫は酸に弱く、化学的
安定性が十分でないという問題点を有していた。
Heat-shielding glass, in which a film of oxides such as titanium oxide or tin oxide is formed on glass using conventional spraying, CVD, or dipping methods, can be manufactured at low cost and with high productivity; Compared to metal or alloy-based single-layer or multi-layer heat-shielding glass, tin oxide has a slightly inferior heat-shielding performance, and tin oxide is susceptible to acids and lacks sufficient chemical stability. Ta.

又、クロムやチタンなどの遷移金属の単層膜系熱線遮断
ガラスは、一般に可視光線反射率Rvが10〜50%と
高く、反射色もデザイン面からブロンズ、ブルー、グリ
ーン、グレー ゴールド、シルバーなどの色がついてい
る。又、可視光線透過率Tvも10〜60%と低い。こ
のため、自然な色、即ちニュートラル色で低い反射率、
且つ70%以上の可視光線透過率が要求される自動車用
や一般家庭の窓ガラスに応用するには、不適当であった
。又、かかる金属の単層膜では、耐擦傷性、化学的安定
性といった耐久性もあまり十分でな(、自動車用など、
使用環境も厳しい用途には単板で用いることは不可能で
あった。
In addition, single-layer heat-shielding glass made of transition metals such as chromium and titanium generally has a high visible light reflectance Rv of 10 to 50%, and the reflective colors include bronze, blue, green, gray, gold, and silver due to design considerations. It is colored. Moreover, the visible light transmittance Tv is also as low as 10 to 60%. Therefore, natural colors, i.e. neutral colors and low reflectance,
In addition, it was unsuitable for application to window glasses for automobiles or general households, which require a visible light transmittance of 70% or more. In addition, such single-layer metal films do not have sufficient durability such as scratch resistance and chemical stability (for example, for automobiles, etc.).
It was impossible to use a single plate in applications where the operating environment was harsh.

又、前述したタイプのLow−Eガラスは、比較的ニュ
ートラルな反射色を有し、70%以上の可視光線透過率
を有するが、Ag膜を用いているので耐擦傷性が不十分
な為、単板では使用できず、必ず合せガラス化あるいは
複層ガラス化しなければならないという難点があった。
In addition, the aforementioned type of Low-E glass has a relatively neutral reflective color and a visible light transmittance of 70% or more, but since it uses an Ag film, it has insufficient scratch resistance. The drawback was that it could not be used as a single sheet and had to be laminated or double-glazed.

又、従来の金属/酸化物膜や窒化物膜/酸化物膜などの
2層系の熱線遮断ガラスにおいては、ニュートラルな色
調、耐久性、高透過率、低反射率を有するものは得られ
ていなかった。
In addition, conventional two-layer heat-shielding glasses such as metal/oxide film or nitride film/oxide film have not been able to provide neutral color tone, durability, high transmittance, and low reflectance. There wasn't.

又、チタン、ジルコニウム、クロムなどの金属、又はこ
れらの金属の窒化物からなる膜を高屈折率酸化物膜で挟
んだ3層構成の熱線遮断ガラスも、十分に良好な熱線遮
断性能を有しており、酸化物膜の厚みを調整し、光の干
渉を利用して可視光の反射率を抑えて可視光線透過率を
70%以上にすることが可能であり、最外層が酸化物膜
であるため、耐久性も優れているので単板の熱線遮断ガ
ラスとして好適ではあるが、光の干渉によってブルー 
ピンク、あるいは黄色などの色を帯びてしまい、自然で
ニュートラルな外観が得られに(いという問題を有して
いた。
In addition, heat ray blocking glass with a three-layer structure in which a film made of metals such as titanium, zirconium, chromium, or nitrides of these metals is sandwiched between high refractive index oxide films also has sufficiently good heat ray blocking performance. It is possible to adjust the thickness of the oxide film and use light interference to suppress the reflectance of visible light and increase the visible light transmittance to 70% or more, and the outermost layer is an oxide film. Although it is suitable as a single-pane heat-shielding glass because of its excellent durability, it can also cause blue color due to light interference.
The problem is that it takes on a pink or yellow color, making it difficult to obtain a natural, neutral appearance.

このように、単板で使用できる程度の高耐久性を有し、
可視光線透過率が高く、特に自動車の窓ガラスとして使
用できる様70%以上であって、透過率、反射色共にニ
ュートラルな熱線遮断ガラスは得られていなかった。
In this way, it has high durability that can be used as a veneer,
It has not been possible to obtain a heat-shielding glass that has a high visible light transmittance, particularly 70% or more so that it can be used as a window glass for automobiles, and is neutral in both transmittance and reflective color.

そこで本発明者は、透明基板上に熱線吸収膜、酸化物膜
の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであ
って、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有することを特徴とする熱線遮断ガラスを
既に提供した。(特願昭63−144827号)しかし
ながら、屈折率2.0以下の低屈折率膜として酸化珪素
、酸化アルミニウム、酸化錫等を用いる場合には耐アル
カリ性、耐酸性等の長期化学的耐久性に劣っていた。
Therefore, the present inventor has proposed a heat ray blocking glass in which at least two layers, a heat ray absorbing film and an oxide film, are sequentially laminated on a transparent substrate, the oxide film being the outermost layer on the air side, and having a film density of 2.0 or less. A heat-shielding glass has already been provided which is characterized by having a refractive index of . (Patent Application No. 63-144827) However, when silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, etc. are used as a low refractive index film with a refractive index of 2.0 or less, long-term chemical durability such as alkali resistance and acid resistance is insufficient. It was inferior.

[発明の解決しようとする課題] 本発明の目的は、従来技術が有していた上記の欠点を解
決し、耐久性、特に化学的安定性に優れた熱線遮断ガラ
スを提供しようとするものである。
[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a heat ray shielding glass with excellent durability, especially chemical stability. be.

[課題を解決するための手段] 即ち、本発明は、透明基板上に熱線遮断膜、低屈折率酸
化物膜、保護膜と順次積層された少なくとも三層よりな
り、その低屈折率酸化物膜の屈折率が2.0以下である
熱線遮断ガラスであって、その保護層が硼素と珪素のう
ち少なくとも1種とジルコニウム、チタン、ハフニウム
、錫、タンタル、インジウムのうち少なくとも1種とを
含む酸化物を主成分とする非晶質膜からなることを特徴
とする熱線遮断ガラス。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention consists of at least three layers laminated in sequence, a heat ray blocking film, a low refractive index oxide film, and a protective film on a transparent substrate, and the low refractive index oxide film A heat ray blocking glass having a refractive index of 2.0 or less, the protective layer of which is an oxide containing at least one of boron and silicon and at least one of zirconium, titanium, hafnium, tin, tantalum, and indium. Heat-shielding glass characterized by being composed of an amorphous film whose main component is solids.

を提供するものである。It provides:

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例の断面図であり
、lは透明基板、2は熱線遮断膜、3は低屈折率酸化膜
、4は保護膜である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of the heat ray blocking glass of the present invention, in which 1 is a transparent substrate, 2 is a heat ray blocking film, 3 is a low refractive index oxide film, and 4 is a protective film.

透明基板1としては、ソーダライムガラス板や熱線吸収
ガラス板等の各種ガラス板や、プラスチックなどが使用
でき、特に限定されるものではない。
As the transparent substrate 1, various glass plates such as a soda lime glass plate and a heat ray absorbing glass plate, plastics, etc. can be used, and the transparent substrate 1 is not particularly limited.

次に透明基板上lに第1層として熱線遮断膜2を形成す
る。この上に反射率を下げかつ干渉による色が目立たな
(するために屈折率の低い酸化膜(第2層)3を形成す
る。これに先立ち、熱線遮断層が酸化されないためにメ
タル等からなる薄いバリア層を形成しておくことは、透
過率、反射率、色調などのコントロールを容易にする。
Next, a heat ray blocking film 2 is formed as a first layer on the transparent substrate. On top of this, an oxide film (second layer) 3 with a low refractive index is formed to lower the reflectance and make the color caused by interference less noticeable.Prior to this, an oxide film (second layer) 3 with a low refractive index is formed to prevent the heat ray blocking layer from being oxidized. Forming a thin barrier layer makes it easier to control transmittance, reflectance, color tone, etc.

次に、耐久性特に化学的安定性に優れる保護膜(第3層
)4を形成する。
Next, a protective film (third layer) 4 having excellent durability and especially chemical stability is formed.

低屈折率酸化物膜3の膜材料としては、屈折率が2.0
以下であれば可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガ
ラスが得られやすいので特に限定されないが、硼素又は
珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チタン、タ
ンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少なくとも
1種とを含む酸化物や、酸化錫、あるいは酸化珪素など
が好適な例として挙げられる。
The film material of the low refractive index oxide film 3 has a refractive index of 2.0.
If it is below, it is easy to obtain a heat-shielding glass with a visible light transmittance of 70% or more, so there is no particular limitation, but at least one of boron or silicon and at least one of zirconium, titanium, tantalum, hafnium, indium, and tin Suitable examples include oxides containing these, tin oxide, and silicon oxide.

硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウム、チ
タン、タンタル、ハフニウム、インジウム、錫のうち少
なくとも1種とを含む酸化物膜は、非晶質であるため、
耐摩耗性が大変良好であり、特に高耐久性が要求される
用途に最適である。硼素及び珪素とジルコニウム、チタ
ン等の含有割合は特に限定されないが、硼素又は珪素の
含有割合があまり少ないと屈折率が2.0を超えてしま
い、可視光線透過率が70%以上の熱線遮断ガラスが得
られにくくなってしまう為、ジルコニウム 100部に
対して硼素、珪素、又はその合計が原子比で30以上、
特に80部以上含むことが望ましい。
Since the oxide film containing at least one of boron or silicon and at least one of zirconium, titanium, tantalum, hafnium, indium, and tin is amorphous,
It has very good wear resistance and is especially suitable for applications that require high durability. The content ratio of boron and silicon to zirconium, titanium, etc. is not particularly limited, but if the content ratio of boron or silicon is too low, the refractive index will exceed 2.0, and the heat-shielding glass has a visible light transmittance of 70% or more. It becomes difficult to obtain boron, silicon, or the total of them in an atomic ratio of 30 or more per 100 parts of zirconium.
In particular, it is desirable to contain 80 parts or more.

以上、本発明の熱線遮断ガラスの低屈折率酸化物膜3と
して、硼素又は珪素のうち少なくとも一種とジルコニウ
ム、チタン等のうち少なくとも1種とを含む酸化物膜、
酸化錫膜、酸化珪素膜を挙げたが、特にこれだけに限定
されるものではなく、又、これらの酸化物膜が耐久性向
上、光学定数調整、成膜時の安定性、あるいは成膜速度
の向上などのために、他の成分を含んでいても差しつか
えない、又、本発明の低屈折率酸化物膜3は必ずしも完
全に透明である必要はな(、酸素欠損の状態の吸収性膜
であってもよいし、一部窒素や炭素を含有していてもよ
い。
As described above, as the low refractive index oxide film 3 of the heat ray blocking glass of the present invention, an oxide film containing at least one kind of boron or silicon and at least one kind of zirconium, titanium, etc.
Although the tin oxide film and the silicon oxide film are mentioned, the invention is not limited to these, and these oxide films can improve durability, adjust optical constants, stabilize film formation, or speed up film formation. In order to improve the refractive index, the low refractive index oxide film 3 may contain other components, and the low refractive index oxide film 3 of the present invention does not necessarily have to be completely transparent. or may contain a portion of nitrogen or carbon.

低屈折率酸化物膜層3の膜厚は限定されないが、あまり
薄いと十分な耐久性が得られない為、用途にもよるが、
50八以上、好ましくは100Å以上、特に150Å以
上であることが望ましい。一方、あまり厚くなると、屈
折率にも依るが、干渉効果が生じてきて反射色も強くな
るので、1000Å以下、好ましくは700Å以下、特
に500Å以下であることが好ましい。
The thickness of the low refractive index oxide film layer 3 is not limited, but if it is too thin, sufficient durability cannot be obtained, so depending on the application,
It is desirable that the thickness be 508 Å or more, preferably 100 Å or more, particularly 150 Å or more. On the other hand, if it becomes too thick, interference effects will occur and the reflected color will become stronger, although it depends on the refractive index. Therefore, the thickness is preferably 1000 Å or less, preferably 700 Å or less, and particularly 500 Å or less.

熱線遮断膜2の膜材料は特に限定されず、用途によって
、あるいは要求仕様によって、金属、炭化物、酸化物、
又はこれらの複合膜から選定される。具体的には、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、窒
化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタ
ル、窒化ハフニウムのうち一種を主成分とした膜が熱線
遮断性能が良好なため好ましい。
The film material of the heat ray blocking film 2 is not particularly limited, and may be metal, carbide, oxide, or
Or selected from these composite membranes. Specifically, a film containing one of titanium, chromium, zirconium, tantalum, hafnium, titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, tantalum nitride, and hafnium nitride as a main component is preferable because it has good heat ray blocking performance.

かかる熱線遮断膜2の膜厚としては、あまり厚くなると
可視光線透過率が低下してしまうので、基板1の種類、
低屈折率酸化物膜3の屈折率と膜厚にも依るが、100
0Å以下、好ましくは800Å以下が望まれる。800
人を超えると、特に窒化物膜の場合には、内部応力が大
きくなり膜の剥離が生じやすくなる。又、あまり薄いと
十分な熱線遮断性能が得られないので、膜材料と基板ガ
ラスの板厚、種類にも依るが、20Å以上、好ましくは
20〜100人であることが好ましい。
The thickness of the heat ray blocking film 2 is determined depending on the type of the substrate 1, the visible light transmittance decreases if it becomes too thick, and so on.
Although it depends on the refractive index and film thickness of the low refractive index oxide film 3, it is 100
A thickness of 0 Å or less, preferably 800 Å or less is desired. 800
If the thickness exceeds that of a person, the internal stress becomes large, especially in the case of a nitride film, and the film is likely to peel off. Moreover, if it is too thin, sufficient heat ray blocking performance cannot be obtained, so it is preferable that the thickness is 20 Å or more, preferably 20 to 100, although it depends on the film material and the thickness and type of the substrate glass.

保護膜3としては、チタン、ジルコニウム、ハフニウム
、錫及びタンタル、インジウムの群から選ばれた少なく
とも1種と硼素、珪素の群から選ばれた少なくとも1種
からなる酸化物膜が好ましい。
The protective film 3 is preferably an oxide film made of at least one member selected from the group consisting of titanium, zirconium, hafnium, tin, tantalum, and indium, and at least one member selected from the group consisting of boron and silicon.

保護膜3の組成は特に限定はないが、膜が非晶質化して
耐擦傷性や信頼性向上のためには、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム、錫、タンタル、インジウム、硼素、珪
素の酸化物膜をそれぞれTi0g、ZrOs、HfO*
、Sn0m、Ta1Os、InaOi、Ba0a。
The composition of the protective film 3 is not particularly limited, but in order to make the film amorphous and improve scratch resistance and reliability, oxide films of titanium, zirconium, hafnium, tin, tantalum, indium, boron, and silicon are recommended. are Ti0g, ZrOs, and HfO*, respectively.
, Sn0m, Ta1Os, InaOi, Ba0a.

Stow ト表わすトキ、Ties、 ZrOs、 H
fO*、 Snow、 TatO++。
Stow, Ties, ZrOs, H
fO*, Snow, TatO++.

及びIn10mから選ばれた酸化物の合計100部に対
して、B*Os、SIO□から選ばれた酸化物の合計が
モル比で5部以上、好ましくは10部以上、特に20部
以上あるのが良い、またB、03の場合、あまり多いと
信頼性が低下するので、用途によっては、Ties、 
ZrOs、 HfO*、 Snow、TazOs、及び
In、0.から選ばれた酸化物の合計100部に対して
モル比で200部以下好ましくは100部以下、特に5
0部以下が良い、 Sin、の場合は、あまり多いとア
ルカリに対する耐久性が低下するので、TiO,、Zr
O□。
and In10m, the total molar ratio of oxides selected from B*Os and SIO□ is 5 parts or more, preferably 10 parts or more, especially 20 parts or more. In the case of B, 03, if there are too many, the reliability will decrease, so depending on the application, Ties,
ZrOs, HfO*, Snow, TazOs, and In, 0. 200 parts or less, preferably 100 parts or less, particularly 5
0 parts or less is better.In the case of Sin, if too much is used, the durability against alkali will decrease, so TiO, Zr
O□.

Hf0z、 SnO*+ TazOs及びInaOiか
ら選ばれた酸化物の合計100部に対してモル比で19
00部以下、好ましくは900部以下、特に400部以
下が良い。
Hf0z, SnO*+ 19 molar ratio to 100 parts in total of oxides selected from TazOs and InaOi
00 parts or less, preferably 900 parts or less, especially 400 parts or less.

表1は、具体的に本発明の保護膜に最適な各種非晶質酸
化物膜の性質を示したものである。
Table 1 specifically shows the properties of various amorphous oxide films most suitable for the protective film of the present invention.

それぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応性
スパッタリングにより製膜したものである。結晶性は、
薄膜X線回折により観測した。又、耐擦傷性は、砂消し
ゴムによる擦り試験の結果で、○は傷が殆どつかなかっ
たもの、×は容易に傷が生じたものである。
Films were formed by reactive sputtering using targets with the compositions listed in the table. Crystallinity is
Observation was made by thin film X-ray diffraction. In addition, the scratch resistance is the result of a rubbing test using a sand eraser, where ○ indicates that there were almost no scratches, and × indicates that scratches occurred easily.

耐摩耗性は、テーパー試験(摩耗輪C5−10F、加重
soo g、 tooo回転)の結果、ヘイズ4%以内
のものを○、ヘイズ4%超のものを×とした。耐酸性は
0.1N  HISO,中に240時間浸漬した結果、
Tv  (可視光透過率)、Rv (可視光反射率)の
浸漬前に対する変化率が1%以内のものをO,1〜4%
のものを△、膜が溶解して消滅してしまったものを×と
した。耐アルカリ性は0.lN NaOH中に240時
間浸漬した結果、TV、Rvの浸漬前に対する変化率が
1%以内のものを○、2%以内のものをΔ、膜が溶解し
てしまったものを×とした。煮沸テストは、1気圧下、
100℃の水に2時間浸漬した後、Tv。
As for wear resistance, as a result of a taper test (wearing wheel C5-10F, weighted sooo g, too rotation), those with a haze of 4% or less were rated as ○, and those with a haze of more than 4% were rated as poor. Acid resistance was immersed in 0.1N HISO for 240 hours.
If the rate of change in Tv (visible light transmittance) and Rv (visible light reflectance) is within 1% compared to before immersion, O, 1 to 4%.
Those in which the film was dissolved and disappeared were marked as ×. Alkali resistance is 0. As a result of immersion in 1N NaOH for 240 hours, the rate of change in TV and Rv from before immersion was rated ◯ if it was within 1%, Δ if it was within 2%, and × if the film had dissolved. The boiling test is under 1 atm.
After immersion in 100°C water for 2 hours, Tv.

R,の浸漬前に対する変化率が1%以内であるとき○、
1%超のとき×とした。
○, when the rate of change of R from before immersion is within 1%;
When it exceeded 1%, it was marked as ×.

ZrBxOy膜に関しては、表1から明らかなように、
膜中のBが少ないと結晶性の膜ができ、Bが多いと非晶
質の膜ができる傾向があることがわかる。そして、結晶
性の膜は耐擦傷性及び耐摩耗性が劣るのに対して非晶質
の膜は優れていることがわかる。これは非晶質の膜は、
表面が平滑である為であると考えられる。従って、Zr
BxOv膜(膜中のZrに対するBの原子比Xが0.1
0<x)の膜は耐擦傷性、耐摩耗性に優れている。B2
0.膜は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしまう
ので、ZrBxOy膜においてx<4程度が好ましい。
Regarding the ZrBxOy film, as is clear from Table 1,
It can be seen that when the amount of B in the film is small, a crystalline film tends to be formed, and when the amount of B is large, an amorphous film tends to be formed. It can be seen that the crystalline film has poor scratch resistance and abrasion resistance, whereas the amorphous film has excellent scratch resistance and abrasion resistance. This is an amorphous film,
This is thought to be due to the smooth surface. Therefore, Zr
BxOv film (atomic ratio X of B to Zr in the film is 0.1
A film with 0<x) has excellent scratch resistance and abrasion resistance. B2
0. Since the film is hygroscopic and absorbs moisture in the air and dissolves, it is preferable that x<4 for the ZrBxOy film.

ZrB、tO,膜中のZrに対する0(酸素)の原子比
は特に限定されないが、多すぎると膜構造が粗になりボ
ッボッの膜になってしまうこと、又、あまり少ないと膜
が金属的になり透過率が低下したり膜の耐擦傷性が低下
する傾向があることなどの理由によりZr0iとB20
.の複合系となる量程度であることが好ましい。即ち、
複合酸化物をZrO□+xBO+、sと表すと、すがZ
rに対して原子比でX含まれる時に、y=2+1.5z
程度であることが好ましい。
The atomic ratio of ZrB, tO, and 0 (oxygen) to Zr in the film is not particularly limited, but if it is too high, the film structure will become rough and uneven, and if it is too low, the film will become metallic. Zr0i and B20 tend to decrease in transmittance and abrasion resistance of the film.
.. It is preferable that the amount is such that a composite system of . That is,
If the composite oxide is expressed as ZrO□+xBO+,s, then Z
When X is included in the atomic ratio to r, y=2+1.5z
It is preferable that the degree of

又、表1より、ZrB、Oy腹膜中Bの量が増えるにつ
れ、膜の屈折率が低下する傾向があることがわかる。膜
の組成と屈折率nとの関係を第2図(a)に示す。膜中
のBを増やすことにより、屈折率nは2.0ぐらいから
1.5程度まで低下する。
Furthermore, Table 1 shows that as the amount of B in the peritoneum of ZrB and Oy increases, the refractive index of the film tends to decrease. The relationship between the composition of the film and the refractive index n is shown in FIG. 2(a). By increasing the amount of B in the film, the refractive index n decreases from about 2.0 to about 1.5.

従って0.10<x<4.2<y<8のZrBxOy膜
は良好な耐擦傷性及び耐摩耗性を有し、かつ、Bの量に
よって自由に屈折率を選択できる本発明の目的に好適な
非晶質酸化物膜である。
Therefore, the ZrBxOy film with 0.10<x<4.2<y<8 has good scratch resistance and abrasion resistance, and is suitable for the purpose of the present invention since the refractive index can be freely selected depending on the amount of B. It is an amorphous oxide film.

さらに、表1に示したように、膜中のBの含有量が増え
るにつれ、耐酸性、耐アルカリ性が劣化する傾向がある
。X≧2.3で耐酸性が悪くなり、x>4で耐アルカリ
性の低下及び煮沸テストで劣化を示すようになる。従っ
て、空気中で露出した状態で使用される用途には、Zr
B、0゜(x<2.3 、y<5.45 )の保護膜が
好ましい。
Furthermore, as shown in Table 1, as the content of B in the film increases, the acid resistance and alkali resistance tend to deteriorate. When X≧2.3, the acid resistance deteriorates, and when x>4, the alkali resistance decreases and deterioration occurs in the boiling test. Therefore, Zr
A protective film of B, 0° (x<2.3, y<5.45) is preferred.

以上のように、z「0.膜に酸化硼素B30.を加えた
ことにより、膜が非晶質化し、表面が平滑化し、これが
耐摩耗性及び耐擦傷性の向上に寄与していると考えられ
る。又%Bの量で屈折率の調節が可能となり、さらに、
ZrOs膜と比べて、内部応力が小さいため、接する膜
との密着性の点で有利である。これは特に厚い膜を形成
する場合に有利である。
As mentioned above, by adding boron oxide B30. to the z"0. film, the film becomes amorphous and the surface becomes smooth, which is thought to contribute to improved wear resistance and scratch resistance. In addition, the refractive index can be adjusted by adjusting the amount of %B, and furthermore,
Compared to a ZrOs film, it has a smaller internal stress, so it is advantageous in terms of adhesion with adjacent films. This is especially advantageous when forming thick films.

次に、Zr5ixOy膜に関しては、やはりアモルファ
スであり、耐擦傷性、耐摩耗性の高い膜が得られる。
Next, regarding the Zr5ixOy film, it is also amorphous, and a film with high scratch resistance and abrasion resistance can be obtained.

屈折率については、ZrO,(n = 2.14)と5
ins(n = 1.46)の間でその組成割合によっ
て上下する(第2図(b)参照)、さらに詳しくは、Z
r5LOy膜において、0.05≦2(膜中のZrに対
するStの原子比)<19であることが好ましい。
Regarding the refractive index, ZrO, (n = 2.14) and 5
ins (n = 1.46) depending on the composition ratio (see Figure 2 (b)).
In the r5LOy film, it is preferable that 0.05≦2 (atomic ratio of St to Zr in the film)<19.

z<0.05だと、膜が非晶質化せず、十分な物理的耐
久性が得られない、又、2≧19だと、耐アルカリ性が
悪くなる。又、y (Zr51m0y膜中のZrに対す
る0の原子比)は、ZrBxOy膜について述べたのと
同様の理由により、SLがZrに対して原子比で2含ま
れる時に、y=2+2z程度であることが好ましい、即
ち、0.05≦2≦19.2.1≦y〈40であること
が好ましい。
If z<0.05, the film will not become amorphous and sufficient physical durability will not be obtained, and if 2≧19, alkali resistance will deteriorate. In addition, y (the atomic ratio of 0 to Zr in the Zr51m0y film) is approximately y = 2 + 2z when the atomic ratio of SL to Zr is 2 for the same reason as described for the ZrBxOy film. is preferable, that is, 0.05≦2≦19.2.1≦y<40.

又、ZrBmSi、O,膜も本発明の目的に合った膜で
ある。かかる膜中のZrに対するBの原子比x、Siの
原子比z、Oの原子比yは、x十Z≧0.05であれば
膜が非晶質化し、耐擦傷性及び耐摩耗性の高い膜となる
ので好ましい。
Further, a ZrBmSi,O, film is also a film suitable for the purpose of the present invention. If the atomic ratio x of B to Zr, the atomic ratio z of Si, and the atomic ratio y of O to Zr in such a film are This is preferable because it results in a high film thickness.

又、x+z<19であれば耐アルカリ性も良好であるの
で、ZrBgSxxOy膜においては、0.05≦x+
z<19であるのが好ましい。ただし、上述のように、
B803は吸湿性で空気中の水分を吸収して溶けてしま
うため、ZrBxSi*Oy膜中にあまり多く含有され
ない方がよい、具体的には、膜中において、0(酸素)
以外のZr、 B 、Slの合計に対してZr< 25
原子%かつSt<25原子%で残りがBとなる程Bが含
まれていると化学的耐久性が不十分となる。即ち、 Z
rBmSimOy膜中のZr:B:Si(原子比)を1
:x:zとすると。
In addition, if x+z<19, the alkali resistance is also good, so in the ZrBgSxxOy film, 0.05≦x+
Preferably, z<19. However, as mentioned above,
Since B803 is hygroscopic and dissolves by absorbing moisture in the air, it is better not to contain too much in the ZrBxSi*Oy film.
Zr<25 for the sum of Zr, B, and Sl other than
If B is included to the extent that the remainder is B when atomic % and St<25 atomic %, the chemical durability will be insufficient. That is, Z
Zr:B:Si (atomic ratio) in the rBmSimOy film is 1
:x:z.

1/ (1+x+z)<0.25かつZ/(1+x+Z
)<0.25、即ち、x+z−3>0かつx−32+1
>0の組成は化学的耐久性が好ましくない、yは、Zr
BxOyの場合に述べたのと同様の理由によりこの膜を
ZrOs + B*Os + 5iftの複合系と考え
て、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが好ま
しい、よってほぼ2<、y<40程度であることが好ま
しい、B+Slの含有量が多い程ZrB+gSimOy
膜の屈折率は低下する* ZrB+Si+tOy膜の例
を第2図(c)に示す。
1/ (1+x+z)<0.25 and Z/(1+x+Z
)<0.25, i.e. x+z-3>0 and x-32+1
>0 composition has unfavorable chemical durability, y is Zr
For the same reason as stated in the case of BxOy, considering this film as a composite system of ZrOs + B*Os + 5ift, y is preferably about 2+1.5 x+ 2z, so approximately 2<, y< It is preferable that it is about 40, and the higher the content of B+Sl, the more ZrB+gSimOy
The refractive index of the film decreases* An example of a ZrB+Si+tOy film is shown in FIG. 2(c).

Zr以外の金属、即ち、T 1 e Hf * S n
 e Ta e I n  と、BとSLのうち少なく
とも1種とを含む酸化物も同様に非晶質となり、十分な
耐擦傷性、及び耐摩耗性が得られるe Tl51m0y
膜を表1のサンプル28に一例として示した。
Metals other than Zr, i.e. T 1 e Hf * S n
The oxide containing e Ta e I n and at least one of B and SL similarly becomes amorphous, and sufficient scratch resistance and abrasion resistance are obtained e Tl51m0y
The membrane is shown as sample 28 in Table 1 by way of example.

以上、 ZrBxO,系%Zr5nxOy系、ZrBI
IS1mOy系等の膜において、膜設計に応じて所望の
屈折率を有するように、BやSLの添加量を調節すれば
良い。
Above, ZrBxO, system%Zr5nxOy system, ZrBI
In a film such as IS1mOy, the amount of B or SL added may be adjusted so as to have a desired refractive index depending on the film design.

この保護層4の膜厚は特に制限されないが、余り薄いと
連続膜とならないため、成膜法にもよるが30Å以上好
ましくは50Å以上が良い。また厚い方は干渉による色
が顕著になるのでニュートラルな外観のものを要求する
場合は500Å以下好ましくは200Å以下が良い。
The thickness of this protective layer 4 is not particularly limited, but if it is too thin, it will not form a continuous film, so it is preferably 30 Å or more, preferably 50 Å or more, although it depends on the film forming method. Further, if the thickness is thick, the color due to interference becomes noticeable, so if a neutral appearance is required, the thickness should be 500 Å or less, preferably 200 Å or less.

本発明における低屈折率酸化物層3として、Zr、Ti
、Hf、Ta、Sn、 Inのうち少なくとも1種と、
SiとBのうち少なくとも1種とを含む酸化物を用いる
こともできる。この場合、ジルコニウムと硼素を含む酸
化物ZrBxOytジルコニウムと珪素を含む酸化物Z
r5izOy−ジルコニウムと硼素と珪素を含む酸化物
ZrB、51m0yからなる膜において、その最適組成
については、B(硼素)。
As the low refractive index oxide layer 3 in the present invention, Zr, Ti
, Hf, Ta, Sn, and In;
An oxide containing at least one of Si and B can also be used. In this case, an oxide containing zirconium and boron ZrBxOyt an oxide containing zirconium and silicon Z
r5izOy - In a film made of ZrB, 51m0y, an oxide containing zirconium, boron, and silicon, its optimum composition is B (boron).

SL(珪素)、0(酸素)各々の膜中におけるZr(ジ
ルコニウム)に対する原子比をそれぞれX+Z+ yと
すると、次のような範囲である。
Letting the atomic ratio of SL (silicon) and 0 (oxygen) to Zr (zirconium) in each film to be X+Z+y, the range is as follows.

表1から明らかなようにZrBxOyについては1.0
≦Xであるのが好ましい、x<1.0であると膜の屈折
率が2.0を超えてしまい、可視光線透過率が70%以
上の熱線遮断ガラスが得られに(くなってしまう為であ
る。一方、Xが増加する程膜の屈折率が下がるので(第
2図(a)参照)、xの上限は特に制限されないが、X
≧2.3耐酸性が低下し、X≧4で耐アルカリ性の低下
及び煮沸テストで劣化を示すようになるので、本発明の
低屈折率酸化物膜3としてのZrBxO,膜においては
1.0≦x<2.3であるのが好ましい、yについては
、特に限定されないが、Zr0gとB、0.の複合系と
考えて、Zr0g+xBO+  と表すと、y=2+1
.5z程度、即ち、2.5≦y<s、4sであるのが好
ましい。
As is clear from Table 1, 1.0 for ZrBxOy
It is preferable that ≦X. If x<1.0, the refractive index of the film will exceed 2.0, making it difficult to obtain a heat-shielding glass with a visible light transmittance of 70% or more. On the other hand, as the refractive index of the film decreases as X increases (see Figure 2 (a)), the upper limit of x is not particularly limited.
≧2.3 Acid resistance decreases, and when X≧4, alkali resistance decreases and deterioration occurs in the boiling test. It is preferable that ≦x<2.3. Although y is not particularly limited, Zr0g and B, 0. If we consider it as a composite system and express it as Zr0g+xBO+, then y=2+1
.. It is preferable that it is about 5z, that is, 2.5≦y<s, 4s.

Zr5iiO,膜については、ZrBxOy膜と同様に
2が増加する程、屈折率が下がるが(第2図(b)参照
)、BよりもSLの方が屈折率低下に対する寄与度が高
いため、Bより少量でn=2.0以下となるので、0.
28≦2であるのが好ましい。上限は特に制限されない
が、Z2!:19であると膜の耐アルカリ性が不十分と
なり、Zrを含有している優位性があまり認められなく
なるので、0.28≦z<19であるのが好ましい。y
については同様にZrO*と5iftの複合系を考えて
y=2+2Z程度、すなわち2.56≦y<40である
のが好ましい。
Regarding the Zr5iiO, film, as with the ZrBxOy film, the refractive index decreases as 2 increases (see Figure 2 (b)), but since SL contributes more to the refractive index decrease than B, B With a smaller amount, n=2.0 or less, so 0.
It is preferable that 28≦2. There is no particular upper limit, but Z2! :19, the alkali resistance of the film becomes insufficient and the advantage of containing Zr is hardly recognized, so it is preferable that 0.28≦z<19. y
Similarly, considering a composite system of ZrO* and 5ift, it is preferable that y=2+2Z, that is, 2.56≦y<40.

ZrBxSizO,膜については、同様に屈折率の点か
ら0.28≦X+Zであるのが好ましい。又、同様に上
限の制限は特にないが、又、x+z<19であれば耐ア
ルカリ性も良好であるので、ZrBwSLxOsp膜に
おいては、0.28≦x+z<19であるのが好ましい
、ただし、上述のように、B2O,は吸湿性で空気中の
水分を吸収して溶けてしまうため、ZrBxSixO,
膜中にあまり多く含有されない方がよい。具体的には、
上で保護膜について述べたのと同様に、膜中において、
Zr< 25原子%、かつSL< 25原子%で残りが
Bとなる程Bが含まれていると化学的耐久性が不十分と
なる。即ち、ZrBmSi、0.膜中のZr:B:St
(原子比)を1:x:zとすると、1/(1十x + 
z ) <0.25、かつZ/ (1+x+z)<0.
25、即ち、x+z−3>O,かつx−3z+1>0の
組成は化学的耐久性が好ましくない。
Regarding the ZrBxSizO film, similarly, from the viewpoint of refractive index, it is preferable that 0.28≦X+Z. Similarly, there is no particular upper limit limit, but if x+z<19, the alkali resistance is also good, so in the ZrBwSLxOsp film, it is preferable that 0.28≦x+z<19. However, the above-mentioned As B2O, is hygroscopic and absorbs moisture in the air and dissolves, ZrBxSixO,
It is better not to contain too much in the film. in particular,
As mentioned above about the protective film, in the film,
If Zr<25 at% and SL<25 at% and B is included as the remainder, the chemical durability will be insufficient. That is, ZrBmSi, 0. Zr:B:St in the film
If (atomic ratio) is 1:x:z, then 1/(10x +
z ) <0.25, and Z/ (1+x+z)<0.
25, that is, a composition in which x+z-3>O and x-3z+1>0 has unfavorable chemical durability.

yは、ZrB++Oyの場合に述べたのと同様の理由に
よりこの膜をZrOヨ+B*Om+SiO雪の複合系と
考えて、yは2+1.5 x+ 2z程度であることが
好ましい、よってほぼ2.5≦y<40程度であること
が好ましい、BやSiの含有量が多い程ZrBmSix
O,膜の屈折率は低下する(第2図(c)参照)。
For the same reason as mentioned in the case of ZrB++Oy, considering this film as a composite system of ZrO + B*Om + SiO snow, y is preferably about 2 + 1.5 x + 2z, so it is approximately 2.5. It is preferable that ≦y<40, and the higher the content of B and Si, the more ZrBmSix
O, the refractive index of the film decreases (see FIG. 2(c)).

以上より、本発明の低屈折率酸化物膜3としての、硼素
と珪素のうち少なくとも1種とジルコニウムとを含む酸
化物膜としては、ZrB、0.膜(1,0≦x<2.3
.2.5≦y < 5.45)、Zr5ixOy膜(0
,28≦z<19.2.56≦y < 40 、 Zr
BxStxO,。
From the above, as the low refractive index oxide film 3 of the present invention, the oxide film containing at least one of boron and silicon and zirconium is selected from ZrB, 0.0. Membrane (1,0≦x<2.3
.. 2.5≦y<5.45), Zr5ixOy film (0
,28≦z<19.2.56≦y<40, Zr
BxStxO,.

膜(0,28≦x+z<19.2.5≦y<40、ただ
しx + z −3> Oかつx−3z+l>Oの部分
を除く)が特に好ましい。
Particularly preferred are membranes (0,28≦x+z<19.2.5≦y<40, excluding the portions where x + z −3>O and x−3z+l>O).

これらの膜はZrBxOy膜についてはX≧0.1O1
ZrS1!OF膜については2≧0.05、ZrB+t
SixO,膜についてはx+z≧0.05であれば膜が
非晶質化し、優れた耐摩耗性を有している。
For these films, X≧0.1O1 for ZrBxOy films.
ZrS1! For OF film, 2≧0.05, ZrB+t
For the SixO film, if x+z≧0.05, the film becomes amorphous and has excellent wear resistance.

Tiと、BとSLのうち少なくとも1種を含む酸化物も
本発明の低屈折率酸化物3として用いることができる。
An oxide containing at least one of Ti, B, and SL can also be used as the low refractive index oxide 3 of the present invention.

この場合第2図(d)より、Ti5ixOy膜について
は、Z≧0.56で屈折率2以下となる。
In this case, from FIG. 2(d), the refractive index of the Ti5ixOy film is 2 or less when Z≧0.56.

又、熱線遮断膜2、低屈折率酸化物層3および保護膜4
の膜形成法も特に限定されるものではな(、真空蒸着法
、イオンブレーティング法、スパッタリング法などが可
能であるが、大面積コーティングが必要な場合は、均一
性に優れる反応性スパッタリング法が好ましい。
Also, a heat ray blocking film 2, a low refractive index oxide layer 3, and a protective film 4
The film forming method is not particularly limited either (vacuum evaporation method, ion blating method, sputtering method, etc. are possible, but if large area coating is required, reactive sputtering method with excellent uniformity is recommended). preferable.

「作用」 第1層は熱線を反射、吸収する層であり、第2層は反射
率を下げ、且反射の干渉による色を目立たなくする働き
をする。第3層は、耐擦傷性と化学的安定性に優れた膜
からなる保護膜の役割を果たす、第3層に含まれる硼素
や珪素は酸化ジルコニム等からなる膜に不足する耐擦傷
性を向上させる働きをする。硼素により酸化ジルコニウ
ム膜は結晶質から非晶質化し表面摩擦がガラス並みに平
滑になり、摩擦抵抗が低下し、耐擦傷性が向上している
ものと考えられる。又、内部応力もこれに従って低(な
るので下地層との付着性が向上する。一方、硼素の含有
量が多くなると徐々に耐酸性が低下し、更に増えると耐
アルカリ性、耐水性なども低下する。従って、酸化ジル
コニウム等に含まれる硼素や珪素量を上述した範囲に制
御するのが好ましい。
"Function" The first layer is a layer that reflects and absorbs heat rays, and the second layer has the function of lowering the reflectance and making colors caused by interference of reflection less noticeable. The third layer plays the role of a protective film consisting of a film with excellent scratch resistance and chemical stability. The boron and silicon contained in the third layer improve the scratch resistance that is lacking in films made of zirconium oxide, etc. It works to make things happen. It is thought that boron changes the zirconium oxide film from crystalline to amorphous, making the surface friction as smooth as glass, reducing frictional resistance and improving scratch resistance. In addition, the internal stress is also low accordingly, which improves adhesion with the underlying layer.On the other hand, as the boron content increases, the acid resistance gradually decreases, and when the boron content increases further, the alkali resistance and water resistance also decrease. Therefore, it is preferable to control the amount of boron or silicon contained in zirconium oxide or the like within the above-mentioned range.

[実施例] 実施例1 ガラス基板をスパッタリング装置の真空槽にセットしI
 X 10−’ Torrまで排気した。ガラス基板と
しては4mm厚の青板を用いた。実施例2以下も同様の
ガラス基板を用いた。アルゴンと窒素の混合ガスを導入
して圧力を2 X 10−”Torrとした後、チタン
を反応性スパッタリングして熱線遮断膜2として窒化チ
タンを約20人形成した0次に該窒化チタンの酸化バリ
ア層としてArガス中でZrB1ターゲットをスパッタ
リングしてZrBx膜を15人形成した0次にアルゴン
と酸素の混合ガスに切り替え圧力を2 X 10−”T
orrにして、ZrB *ターゲットを反応性スパッタ
リングして低屈折率酸化物膜3としてジルコニウムと硼
素からなる酸化膜(ZrBxOy、 x=2. y=5
屈折率n:1.80)を約60人形成した0次にアルゴ
ンと酸素の混合ガス中でZf”tBsターゲットを反応
性スパッタリングして保護膜4としてZrBx’ Oy
’ (X’ !10、43.y’ =2.6)膜を約1
00人形成し、本発明の熱線遮断ガラスを製造した。
[Example] Example 1 A glass substrate was set in a vacuum chamber of a sputtering device.
It was evacuated to X 10-' Torr. A 4 mm thick blue plate was used as the glass substrate. Similar glass substrates were used in Example 2 and subsequent examples. After introducing a mixed gas of argon and nitrogen to set the pressure to 2×10-” Torr, titanium was reactively sputtered to form about 20 pieces of titanium nitride as the heat ray shielding film 2. The titanium nitride was then oxidized. A ZrBx film was formed by sputtering a ZrB1 target in Ar gas as a barrier layer. Next, the mixture gas of argon and oxygen was switched to a pressure of 2 x 10-"T.
orr, a ZrB* target is reactively sputtered to form an oxide film consisting of zirconium and boron (ZrBxOy, x=2.y=5) as the low refractive index oxide film 3.
A Zf'tBs target with a refractive index n: 1.80) was reactively sputtered in a zero-order mixed gas of argon and oxygen to form a protective film 4 of ZrBx'Oy.
'(X' !10, 43.y' = 2.6) The film is approximately 1
00 people were formed to produce the heat ray blocking glass of the present invention.

こうして得られた熱線遮断ガラスの可視光線透過率TV
、太陽光線透過率TE%コート面可面光視光反射率r、
ガラス面可視光反射率RV)は、それぞれ72,57.
10.8(%)であった。
Visible light transmittance TV of the heat ray blocking glass thus obtained
, sunlight transmittance TE% coated surface visible light reflectance r,
The glass surface visible light reflectance RV) is 72 and 57, respectively.
It was 10.8 (%).

又、透過色、反射色も素板のガラスと殆ど見分けがつか
ない程ニュートラル色であった。
Furthermore, the transmitted and reflected colors were so neutral that they were almost indistinguishable from the original glass.

膜の耐久性を調べるために0.1規定の硫酸、水酸化ナ
トリウム中に200時間、あるいは沸騰水中に2時間浸
漬したが、透過率変化が1%以内であり、光学性能にほ
とんど変化は認められなかった。
To test the durability of the membrane, it was immersed in 0.1N sulfuric acid and sodium hydroxide for 200 hours, or in boiling water for 2 hours, but the change in transmittance was within 1%, and almost no change in optical performance was observed. I couldn't.

砂消しゴムによる擦り試験でも、傷は殆どつかず極めて
優れた耐擦傷性を示した。
Even in a rubbing test with a sand eraser, there were almost no scratches and extremely excellent scratch resistance was exhibited.

実施例2 実施例1における第1層の窒化チタン膜のかわりにアル
ゴンと窒素と酸素の混合ガス中でCrターゲットを反応
性スパッタリングして熱線遮断膜2としてCrNx0y
膜を約20人形成した以外は全〈実施例1と同様に熱線
遮断ガラスを製造した、光学的性能、耐久性は全〈実施
例1と同様であった。
Example 2 Instead of the titanium nitride film as the first layer in Example 1, a Cr target was reactively sputtered in a mixed gas of argon, nitrogen, and oxygen to form a heat ray blocking film 2 of CrNx0y.
A heat ray blocking glass was manufactured in the same manner as in Example 1, except that about 20 layers were formed, and the optical performance and durability were the same as in Example 1.

比較例1 実施例1と同様に熱線遮断膜2としてTiN膜(20人
)、及び酸化バリア膜15人を形成した後、低屈折率酸
化物膜としてZr5Byターゲツトをアルゴンと酸素の
混合ガス中で反応性スパッタリングしてZrBxOy膜
(x=2.3.y=5.5.屈折率n=1.76)  
200人を形成し、その上には保護膜は形成しなかった
。Tv 、 Tt 、 Rvr、RVQは、それぞれ?
1.56.13.12(%)であった、耐擦傷性は実施
例1.2と同様だったが、実施例1における耐酸性テス
ト(0,1N H,SO,中に200時間浸漬)でTV
1%以上の変化を示した。
Comparative Example 1 After forming a TiN film (20 films) as the heat ray blocking film 2 and a 15 film oxidation barrier film in the same manner as in Example 1, a Zr5By target was formed as a low refractive index oxide film in a mixed gas of argon and oxygen. ZrBxOy film (x=2.3.y=5.5.refractive index n=1.76) by reactive sputtering
200 layers were formed, and no protective film was formed thereon. What are Tv, Tt, Rvr, and RVQ, respectively?
1.56.13.12 (%), the scratch resistance was similar to Example 1.2, but the acid resistance test in Example 1 (200 hours immersion in 0.1N H,SO,) On TV
It showed a change of 1% or more.

実施例3 実施例1と同様にしてガラス上に窒化チタンを約20人
形成し、次に酸化錫膜(n=2.0)を約60人形成し
、さらに保護層としてZr5izOy(z=1.y=4
.n=1.74)膜を約80人形成して本発明の熱線遮
断ガラスを形成した。この熱線遮断ガラスの光学性能は
、T v 、 T z、RVF% RVOがそれぞれ7
2.58.10.8(%)であった、又、外観は殆どニ
ュートラルであった。耐久性は実施例1と同様であった
Example 3 About 20 titanium nitride films were formed on glass in the same manner as in Example 1, and then about 60 films of tin oxide (n=2.0) were formed, and Zr5izOy (z=1) was further formed as a protective layer. .y=4
.. n=1.74) films were formed by about 80 people to form the heat ray blocking glass of the present invention. The optical performance of this heat ray blocking glass is as follows: T v , T z , RVF% RVO are each 7.
2.58.10.8 (%), and the appearance was almost neutral. Durability was similar to Example 1.

比較例2 実施例3において、保護膜を形成せず、ガラス/TiN
(20人)/Snow(60人)(n=2.0)という
構成の熱線遮断ガラスを形成した。その光学性能は、T
V、 Tt 、 RVF、 RVOがそれぞれ72、5
8.10.7(%)であった、耐久性については耐擦傷
性は実施例1.2.3と同様だったが、耐酸性テスト(
0,I N HgSO4中に200時間浸漬)でTvが
3%程度上昇した。
Comparative Example 2 In Example 3, no protective film was formed and glass/TiN
(20 people)/Snow (60 people) (n=2.0) heat ray blocking glass was formed. Its optical performance is T
V, Tt, RVF, and RVO are 72 and 5, respectively.
Regarding durability, the scratch resistance was the same as in Example 1.2.3, but the acid resistance test (
0,1 N HgSO4 for 200 hours), the Tv increased by about 3%.

[発明の効果] 本発明の熱線遮断ガラスは、透明基板上に熱線遮断膜、
屈折率が2.0以下の低屈折率酸化物膜、その上に保護
膜を積層した構成を有しているので、自然な、ニュート
ラル色調を有し、可視光透過率が高く、且つ高耐久性を
有している。従って、単板としても建築用、自動車用な
ど、使用環境の厳しい用途において充分使用できる。
[Effect of the invention] The heat ray blocking glass of the present invention has a heat ray blocking film on a transparent substrate,
It has a structure consisting of a low refractive index oxide film with a refractive index of 2.0 or less and a protective film layered on top of it, so it has a natural, neutral color tone, high visible light transmittance, and high durability. It has a sexual nature. Therefore, even as a veneer, it can be used satisfactorily in applications with severe operating environments, such as in construction and automobiles.

熱線遮断膜にクロムの酸・窒化膜は抵抗値が窒化チタン
を用いたものに比べて高抵抗(1M07口以上)になる
ため、自動車のりャガラスに用いる場合にプリントアン
テナの機能を低下させない自動車用ガラス窓を提供でき
る等の有利な点も生じる。
The chromium oxide/nitride film used as a heat ray shielding film has a higher resistance (more than 1M07) than that using titanium nitride, so it is suitable for automobiles without reducing the function of the printed antenna when used in the rear glass of an automobile. Advantages also arise, such as the ability to provide glass windows.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例を示す断面図で
ある。 第2図(a)はZrB、0.膜中のBの含有量と膜の屈
折率nとの関係を示した図、第2図(b)はZrS、1
xOy膜中のSiの含有量とnとの関係を、第2図(C
)はZrB+5iaOy膜中のStの含有量とnとの関
係を示した図、第2図(d)はT iS i! Oy膜
中のSiの含有量とnとの関係図である。 l:透明基板、    2:熱線遮断膜、3:低屈折率
酸化物膜、4:保護膜 第 2 図 Cb) lrBxOBp(Ktfey)−一一−p=Sシしm−
(:e、ル /、)’i!roz+BxOs 第2図(a) ”lr f5+ S; 101!71% f ノjOx HrOLす5jOz (モIしγ・) 第 図 (C)
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the heat ray blocking glass of the present invention. FIG. 2(a) shows ZrB, 0. A diagram showing the relationship between the content of B in the film and the refractive index n of the film, Figure 2 (b) is ZrS, 1
The relationship between the Si content and n in the xOy film is shown in Figure 2 (C
) is a diagram showing the relationship between the St content and n in the ZrB+5iaOy film, and FIG. 2(d) is a diagram showing the relationship between the St content and n in the ZrB+5iaOy film. FIG. 3 is a relationship diagram between the Si content in the Oy film and n. 1: Transparent substrate, 2: Heat ray blocking film, 3: Low refractive index oxide film, 4: Protective film (Figure 2Cb) lrBxOBp(Ktfey)-11-p=Sshim-
(:e, le /,)'i! roz+BxOs Fig. 2 (a) "lr f5+ S; 101!71% f ノjOx HrOLsu5jOz (MoIshiγ・) Fig. (C)

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透明基板上に熱線遮断膜、低屈折率酸化物膜、保
護膜と順次積層された少なくとも三層よりなり、その低
屈折率酸化物膜の屈折率が2.0以下である熱線遮断ガ
ラスであって、上記保護層が硼素と珪素のうち少なくと
も1種とジルコニウム、チタン、ハフニウム、錫、タン
タル、インジウムのうち少なくとも1種とを含む酸化物
を主成分とする非晶質膜からなることを特徴とする熱線
遮断ガラス。
(1) A heat ray shield consisting of at least three layers laminated in sequence: a heat ray shielding film, a low refractive index oxide film, and a protective film on a transparent substrate, and the refractive index of the low refractive index oxide film is 2.0 or less. The protective layer is made of glass, and the protective layer is composed of an amorphous film mainly composed of an oxide containing at least one of boron and silicon and at least one of zirconium, titanium, hafnium, tin, tantalum, and indium. Heat ray blocking glass characterized by:
(2)保護膜が硼素と珪素のうち少なくとも1種とジル
コニウム原子とを含む酸化物を主成分とする膜からなる
ことを特徴とする請求項1記載の熱線遮断ガラス。
(2) The heat-shielding glass according to claim 1, wherein the protective film is composed of a film whose main component is an oxide containing at least one of boron and silicon and zirconium atoms.
(3)低屈折率酸化物膜がジルコニウムと、硼素と珪素
のうち少なくとも1種を含む酸化物を主成分とする膜か
らなることを特徴とする請求項1又は2記載の熱線遮断
ガラス。
(3) The heat ray shielding glass according to claim 1 or 2, wherein the low refractive index oxide film is composed of a film whose main components are zirconium and an oxide containing at least one of boron and silicon.
(4)熱線遮断膜が、チタン、クロム、ジルコニウム、
タンタル、これらの金属窒化物、これらの金属酸窒化物
、またはこれらの吸収性酸化物の少なくとも一種を主成
分とする酸化物からなることを特徴とする請求項1〜3
いずれか一項記載の熱線遮断ガラス。
(4) The heat ray blocking film is made of titanium, chromium, zirconium,
Claims 1 to 3 are characterized in that they consist of an oxide whose main component is at least one of tantalum, nitrides of these metals, oxynitrides of these metals, or absorbent oxides of these.
The heat ray blocking glass according to any one of the items.
(5)熱線遮断膜が窒化チタン又は酸窒化クロムからな
ることを特徴とする請求項1〜4いずれか一項記載の熱
線遮断ガラス。
(5) The heat ray blocking glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the heat ray blocking film is made of titanium nitride or chromium oxynitride.
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