JPH03183149A - 異物検査装置の感度校正用の試料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、異物検査装置の感度校ＩＥ用の試料に関し
、詐しくは、半導体ウェハやマスク等の異物を検査する
マツプ表示できる異物検査装置においてｌｌｉ　ｌｔに
装置の感度校正ができるような校正用ウェハ等の試料に
関する。

［従来の技術］ ウェハ専の異物を検査する一般的な方法としては、光源
からウェハ等に光を照射してその散乱光を受光素子等で
受光し、その出力レベルを検出することで行われる。そ
のため、異物検査装置は、通常、照明用の光源、投光光
学系、受光光学系、充電変換部、アンプ等から構成され
、最近では、大きさの異なる異物の分布状態やその数量
などを検出する機能が設けられている。しかし、光源の
劣化や受光素子の特性の変化、アンプの劣化などにより
装置の感度に変化が生じると、特に大きさの異なる異物
について正確な異物検出ができなくなる。このようなこ
とから定期的に検査装置の感度を校正すること（絶対感
度校正）が行われている。

［解決しようとする課題］ 従来の感度校正としては、ビーズ状ラテックス標準粒子
を特定の異物の代わりにウェハ上に塗布してそれを検出
することで行われる。また、実際に検出する異物の大き
さも標準粒子に置き換えて標嘔粒子何μｍの異物という
形で検出される。

したがって、大きさの異なる異物の分布状態やその数量
などを検出する場合に特定の粒径について校＋Ｅした検
査装置で他の大きさの異物の粒径について検出レベルの
相違で判定しても正確な大きさ検出はできない欠点があ
る。このようなことを回避するには粒径に対応した校正
用ウェハで校ｉ［しながらそれに対応する大きさの異物
を検出すればよいが、それでは検査に手間がかかり、か
つ、校正ミスも生じやすい。

この発明は、このような従来技術の問題点を齢決するも
のであって、校ｉＥ　ｚスを防１１−．でき、感度校正
が容易な異物検査装置の感度校正用の試料を提供するこ
とを目的とする。

［課題を解決するための手段］ このような「目的を達成するためのこの発明の感度校正
用の試料の特徴は、検出異物をマツプ表示できる異物検
査装置の感度校屯に使用されるものであって、その表面
を領域分けして分けられた領域のうちから選択された領
域のそれぞれに異なる粒径の標準粒子を付？ｆさせるも
のである。

［作用］ このように、１つの試料の表面に異なる粒僅を領域分け
して付着させることにより、この試料を使用してマツプ
表示できる異物検査装置により試料の異物検出をすれば
、装置の検出感度に応じて表示される領域が変化する。

そこで、異物の検出状態がどの粒径のレベルに設定され
ているかが表示された領域で東線に判定できる。

その結果、校正ミスがなくなり、異なる大きさの異物を
検出する際に、装置をそれに対応した感度に設定するの
が容易になり、正確な異物検出ができる。

［実施例］ 以Ｆ１この発明の・実施例について図面を用いて詐細に
説明する。

第１図は、この発明の異物検査装置の感度校正用の試料
を適用した校正用ウェハの−・実施例の説明図であり、
第２図は、その検出状態の表示画像の説明図、第３図は
、検出閾値レベルと検出粒子との関係の説明図、第４図
は、他の一実施例の校正用ウェハの説明図である。

第１図において、１０は、校正用シリコンウェハ（以下
ウェハ）であって、数字“１”、′２”“３”４”で示
される形状で粒子付着領域がウェハ１０において領域分
割され、配置されている。数字“１”の粒子付青領域１
では、０．５μｍのビーズ状うテックス標中粒子が数字
“１”の形状に従って付着されている。また、数字“２
″の粒子付着領域２では、０．７μｍのビーズ状ラテッ
クス標準粒子が数字“２”の形状で付着されている。数
字“３”の粒子付着領域３では、１゜０μｍのビーズ状
ラテックス標準粒子が数字“３”の形状で付着されてい
る。そして、数字“４″のＲＦ付着領域４では、２．０
μｍのビーズ状うテックス標準粒子が数字“４”の形状
で付着されている。

この数字と、装置の検出閾値レベルと検出粒子・との関
係を后すのが第３図であって、縦軸が設定される閾値型
ＳＦであり、横軸にそれぞれの粒径の粒子が割゛当てら
れた数字を示す。そして、６棒グラフは、そのウェハ１
０の数′？形状の粒子付？？　Ｇｒｔ域が検出可能な閾
値電圧の範囲を示している。第３図に示すように、０．
５μｍの標準粒子以上の大きさの検出状態を装置の閾値
検出レベルＶｌ（最も感度が高い状態、感度の検出と閾
値とは逆の関係にある）に対応させ、０．７μｍの標準
粒子以りの大きさの検出状態を装置の閾値検出レベルｖ
２に対応させ、ｌｌ−０Ｉｔの標準粒子以りの大きさの
検出状態を装置の閾値検出レベルＶ３に対応させ、そし
て、２．０μｍの標準粒子以上の人きさの検出状態を装
置の閾値検出レベルｖ４に対応させるものとする。

このような校正用ウェハ１０をマツプ表示できる異物検
査装置によりその異物検出をした場合には、検出閾値レ
ベルを最も低いレベル、例えば、レベルｖｌ　の付近に
感度を設定したときには、第１図に示すウェハの状態が
そのまま異物検査装置の画面ｔｌに表示される。一方、
検出閾値レベルをヒげて（感度をドげて）、例えば、３
番目に低いレベルＶ３　　（第３図参照）の付近に感度
が設定されたときには、第２図に示すように文字“３”
と“４”とが異物検査装置の画面５−Ｌに表示され、文
字“１”と“２”とは現れない。したがって、画面５上
に表示される数値の最小の数値により現イ［設定されて
いる感度が分かる。

このように、感度がどのレベルにあるかが画面りの表示
状態で容易に分かる。もちろん、感度をＬげて検出閾値
レベルを下げ、例えば、２番目に低いレベルＶ２の付近
に感度が設定されたときには、文？“２”、“３″と“
４”とが画面上に表示され、文字“１”が現れず、それ
が逆に最も高いレベルＶ４に設定されたときには、文字
“４”のみが表示され、さらに、感度をドげて高い検出
閾値レベルでは表示されるのがウェハの外観だけになる
。

第４図は、他の校ＩＥ用ウェハの実施例であって、これ
は、ウェハの粒子付着領域をストライプ状に設定して左
から０．５μｍのビーズ状うテックス標準拉子を、次に
０．７μｍ１そして、１．０μｍ、２．０μｍｗ　３．
０μｍｗ　５．０８ｍ９　Ｂ。

０μｍ、１０μｍのビーズ状うテックス標１９１粒子と
いうように順次ストライプ状に分けた領域に異なる粒径
の粒子を付着させたものである。

ところで、数字状やストライプの縦の粒子付着領域にビ
ーズ状うテックス標関粒子を付着させる方法としては、
ウェハの付着エリアに対応する形状以外をマスクして、
付着する粒径のポリスチレンの標準粒子を所定の濃度で
純水に解いたラテックスをそれぞれ粒径に応じて作り、
それらを清浄な空気でノズルから霧吹きと同様にして噴
霧することでマスクされていない部分に順次付着させる
ことによる。

以−ヒ説明してきたが、実施例では、ウェハの粒子付着
領域をストライプ状のものと文字形状のものとを例とし
て挙げているが、基盤の目のような形態であってもよく
、また、同心円状に複数のリングとして形成しても、さ
らに、特定の図形パターンとして形成してもよい。

実施例では、試料としてシリコンウェハを例に挙げてい
るが、試料は、ウェハとほぼ同一寸法の金属板や樹脂板
であってもよい。また、異物検査の対象は、ウェハに限
定されるものではなく、ホトマスク等であってもよいの
で、ホトマスク等の場合にはそれに応じた形状の試料と
することができる。

［発明の効果］ 以ヒの説明から理解できるように、この発明にあっては
、１つの試料の表面に異なる粒径を、領域分けして付着
させることにより、この試料を使用してマツプ表）ｌ＜
できる異物検査装置により試料の異物検出をすれば、装
置の検ｔ口感度に地じて表示される領域が変化する。そ
こで、異物の検出状態がとの粒径のレベルに設定されて
いるかが表示された領域で肥確に判定できる。

その結果、校１［ミスがなくなり、異なる大きさの異物
を検出する際に、装置をそれに対応した感度に設定する
のが容易になり、＋Ｌ、確な異物検出ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の異物検査装置の感度校正用の試料
を適用した校ｉＥ用ウェハの一実施例の説明図、第２図
は、その検出状態の表示画像の説明図、第３図は、検出
閾値と検出粒子との関係の説明図、第４図は、他の一実
施例の校区用ウエノ１の説明図である。 １．２．３．４・・・粒子付着領域、 １０・・・校正用シリコンウェハ。 特許出顔人 日立電Ｔ工／ジニアリング株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）検出異物をマップ表示できる異物検査装置の感度
   校正に使用されるものであって、その表面を領域分けし
   て分けられた領域のうちから選択された領域のそれぞれ
   に異なる粒径の標準粒子を付着させたことを特徴とする
   異物検査装置の感度校正用の試料。