JPH03181478A - ピリドンカルボン酸誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 星粟些旦剋里旦工 本発明は、新規なピリドンカルボン酸誘導体、その製法
および該誘導体を有効成分とする抗菌剤に関する。

丈来狡猾 近年開発されたキノロン系合成抗菌剤、例えばノルフロ
キサシン、オフロキサシン、シプロフロキサシン等の１
，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸
誘導体は、グラム陰性菌およびグラム陰性菌に対して幅
広いスペクトルと優れた抗菌力を有し、感染症の治療薬
として臨床に汎用されている。

キノロン系合成抗菌剤は、キノロンカルボン酸骨格の７
位にピペラジニル基またはピロリジニル基を有するもの
が多く、−数式 ［式中、Ｒ３は水素原子または一〇〇Ｎ（Ｒ”）Ｒ’も
しくは−ＣＨ，Ｎ　ＣＲ”）　Ｒ’　（ここにおいて、
Ｒ３およびＲ４は同一または異なって水素原子または低
級アルキル基を示すか、Ｒ３およびＲ４は隣接する窒素
原子と共にアジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジ
ニル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジニル基
および３−オキソピペラジニル基からなる群から選ばれ
る複素環基を形成する）、ｎは工ないし３の整数を示す
］で表される二環性アミノ基を有するピリドンカルボン
酸は、文献未記載の新規化合物であり、文献および特許
出願明細書にも全く開示されず、また示唆すらされてい
ない。

が　・　しよ−と ノルフロキサシン、オフロキサシン、シプロフロキサシ
ン等の市販のキノロン系抗菌剤は、グラム陰性菌および
緑膿菌を含むグラム陰性菌に対して著しい抗菌活性を有
し、細菌感染症の治療に広く使用され、有用性の高い薬
剤である。

しかしながら、近年、第三世代セフェム系およびキノロ
ン系抗菌剤等が感染症の治療に頻繁に使用されるに伴い
、これらの抗菌剤に耐性なメチシリン耐性黄色ブドウ球
菌、表皮ブドウ球菌、溶連菌、腸球菌等のグラム陰性菌
および耐性緑膿菌等のグラム陰性菌による難治性の感染
菌が臨床の場で増加しつつある。これらの耐性菌に対し
て、既存のキノロン系薬剤は充分な治療効果を示してい
ない。

また、該薬剤はグラム陰性菌に対してはグラム陰性菌に
対する抗菌力はど強くないという問題点があり、さらに
ヒトあるいは動物に投与した場合、その経口吸収性の点
についても、改善が望まれている。

本発明の目的は、グラム陰性菌に対する抗菌力の増強、
耐性菌に対する抗菌力の改善、生体内における優れた体
内動態を有し、更には、特に中枢神経系に対する副作用
の少ないピリドンカルボン酸系抗菌剤を提供することに
ある。

１を・　たの 本発明者らは、優れた抗菌力と体内動態を有するピリド
ンカルボン酸系化合物を医薬として提供することを目的
とし、鋭意研究を行った。その結果、キノリン骨格また
は１，８−ナフチリジン骨格の７位に一般式［Ｖ］で表
される二環性アミノ基を有する新規なピリドンカルボン
酸化合物がメチシリン耐性黄色ブドウ球菌を含むグラム
陰性菌およびグラム陰性菌に対して、強い抗菌力を有す
ることを見出し、本発明を完成した。

本発明は、一般式 ［式中、Ｒ１は直鎖状、分岐状または環状の低級アルキ
ル基、またはふっ素原子により置換されていてもよいフ
ェニル基、Ｒ２は水素原子または一〇〇Ｎ　（Ｒ”）　
Ｒ“もしくは−ＣＨＩＮ　（Ｒ”）Ｒ’　（、ニー　：
　ニオイテ、Ｒ３オヨびＲ４は同一または異なって水素
原子または低級アルキル基を示すか、Ｒ３およびＲ４は
隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチジニル
基、ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピ
ペラジニル基および３−オキソピペラジニル基からなる
群から選ばれる複素環基を形成する）、Ｘは窒素原子ま
たはＣ−Ｙ　（ここにおいて、Ｙは水素原子、ハロゲン
原子、メチル基またはメトキシ基を示す）、ｎは１ない
し３の整数を示す］で表される化合物またはその医薬と
して許容される塩またはエステル、その製造法およびそ
の用途に関する。

本明細書に記載された記号および用語について説明する
。

直鎮状の低級アルキル基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基を意味し、エチル基が好
適である。

分岐状の低級アルキル基としては、例えばイソプロピル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基を意味し、ｔｅ
ｒｔ−ブチル基が好適である。

環状の低級アルキル基としては、例えばシクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基を意味し、シク
ロプロピル基、シクロブチル基が好適であり、中でも、
シクロプロピル基が好ましい。

ふっ素原子により置換されていてもよいフェニル基とし
ては、例えばフェニル基、２−フルオロフェニル基、３
−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２．
３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニ
ル基、３，４−ジフルオロフェニル基を意味し、２−フ
ルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、４
−フルオロフェニル基が好適である。

ハロゲン原子としては、例えばふっ素原子、塩素原子、
臭素原子を意味し、ふっ素原子が好適である。

脱離基としては、例えばふっ素原子、塩素原子、臭素原
子等のハロゲン原子を意味し、ふっ素原子が好適である
。

カルボキシル基の保護基としては、例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基等の低級アルキル基；例えばアセトキシメチル基、
プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシメチル
基、ｌ−アセトキシエチル基、１−プロピオニルオキシ
エチル基等の低級アルカノイルオキシアルキル基；例え
ば１−（メトキシカルボニルオキシ）エチル基、１−（
エトキシカルボニルオキシ）エチル基、ｌ−（インプロ
ポキシカルボニルオキシ）エチル基等の低級アルコキシ
カルボニルオキシアルキル基；例えば（５−メチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチル基
等の（５−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー
４−イル）メチル基；　例えばトリメチルシリル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等の低級アルキルシリ
ル基；例えばインダニル基、フタリジル基、メトキシメ
チル基等が挙げられ、特にメチル基、エチル基等が好適
である。

アミノ保護基としては、例えばベンジリデン基、ｐ−ク
ロロベンジリデン基、ｐ−二トロペンジリデン基、サリ
チリデン基、α−ナフチリデン基、β−ナフチリデン基
等のアラルキリデン基；例えばベンジル基、ｐ−メトキ
シベンジル基、３．４−ジメトキシベンジル基、Ｏ−ニ
トロベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ベンズヒドリ
ル基、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチル基等のアラ
ルキル基；例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、オキサリル基、スクシニル基、ピバ
ロイル基等の低級アルカノイル基；例えばクロロアセチ
ル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、ト
リフルオロアセチル基等のハロ置換低級アルカノイル基
；例えばフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基等
のアリールアルカノイル基；例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基等の低級アルコキシカ
ルボニル基；例えば２−ヨ−ドエチルオキシカルボニル
基、２，２．２−１−リクロロエトキシカルボニル基等
のハロ置換低級アルコキシカルボニル基：例えば２−プ
ロペニルオキシカルボニル基、２−クロロ−２−プロペ
ニルオキシカルボニル基、３−メトキシカルボニル−２
−プロペニルオキシカルボニル基、２−メチル−２−プ
ロペニルオキシカルボニル基、２−ブテニルオキシカル
ボニル基、シンナミルオキシカルボニル基等のアルケニ
ルオキシカルボニル基；例えばベンジルオキシカルボニ
ル基、Ｏｏニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基、フェネチルオキシカ
ルボニル基等のアラルキルオキシカルボニル基；例えば
トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
基等の低級アルキルシリル基が挙げられ、特に、２−プ
ロペニルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基等が
好ましい。

一般式［Ｖ］で表される二環性アミノ基とは、−数式 ［式中、Ｒ２は水素原子または一〇〇Ｎ（Ｒ”）Ｒ’も
しくはＣＨ，Ｎ（Ｒ３）Ｒ’　（ここにおいて、Ｒ３お
よびＲ４は同一または異なって水素原子または低級アル
キル基を示すか、Ｒ３およびＲ４は隣接する窒素原子と
共にアジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基
、ピペリジノ基、モルホリノ基、ピペラジニル基および
３−オキソピペラジニル基からなる群から選ばれる複素
環基を形成する）、ｎは１ないし３の整数を示す］で表
される置換基であり、好適には、−数式［Ｖ−ａ］ ［式中、Ｒ１′は水素原子または一〇〇Ｎ　（Ｒ”）　
Ｒ”もしくは−ＣＨ，Ｎ　ＣＲ”　）　Ｒ”　（ここに
おいて、Ｒ”およびＲ”は同一または異なって水素原子
または低級アルキル基を示す）、がは１または２の整数
を示すコで表される置換基である。

一般式［Ｉ］の化合物は、常法により医薬として許容さ
れる無毒性塩またはそのエステルとすることができる。

一般式［Ｉ］の化合物の無毒性塩としては、医薬として
許容される慣用的なものを意味し、キノリン骨格または
１．８−ナフチリジン骨格の３位のカルボキシル基また
は７位側鎖の遊離アミン基における塩を挙げることがで
きる。

カルボキシル基における塩基性付加塩としては、例えば
ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；例えば
カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩
；例えばアンモニウム塩；例えばトリメチルアミン塩、
トリエチルアミン塩；ジシクロヘキシルアミン塩、エタ
ノールアミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタノー
ルアミン塩、ブロカイン塩等の脂肪族アミン塩；例えば
Ｎ、Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン等のアラルキル
アミン塩；例えばピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩
、イソキノリン塩等の複素環芳香族アミン塩；例えばテ
トラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム
塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリ
エチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウ
ム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチ
ルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩；アルギニ
ン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。

７位側鎖の遊離アミノ基における酸付加塩としては、例
えば塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、燐酸塩、炭酸塩、炭酸水
素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；例えば酢酸塩、プロピ
オン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石
酸塩、りんご酸塩、くえん酸塩、アスコルビン酸塩等の
有機酸塩；例えばメタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩
、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等
のスルホン酸塩；例えばアスパラギン酸塩、グルタミン
酸塩等の酸性アミノ酸塩等が挙げられる。

−数式ＣＩ］の化合物の無毒性エステルとしては、キノ
リン骨格または１，８−ナフチリジン骨格の３位のカル
ボキシル基における医薬として許容される慣用的なもの
を意味する。例えばアセトキシメチル基、ピバロイルオ
キシメチル基等のアルカノイルオキシメチル基とのエス
テル、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基等の
アルコキシカルボニルオキシアルキル基とのエステル、
フタリジル基とのエステル、（５−メチル−２−オキソ
−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メチル基等の（５
−置換−２−オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル
）メチル基とのエステル等が挙げられる。

一般式［１］の化合物の好適な化合物について説明する
。

一般式［Ｉ］の化合物中、−数式 ［式中、Ｒ は直鎮状、分岐状または環状の低級ア ルキル基、Ｒ２１は水素原子または一〇〇Ｎ　（Ｒ”ｌ
　）　Ｒ”もしくは−ＣＨ，Ｎ　（Ｒ”　）Ｒ’ｌ　（
ここにおいて、Ｒ”およびＲ”は同一または異なって水
素原子または低級アルキル基を示す）、ｎｌは１または
２の整数を示す］で表される化合物は好適な化合物群で
ある。

−数式［Ｉ］の化合物の具体例を例示する。

なお、以下の表における略号の意味は次のとおりである
。

Ｍｅ　：　メチル基 Ｅｔ　　−：　　エチル基 Ｐｒ：　　プロピル基 ｉＰｒ　　：　　イソプロピル基 ｔＢｕ　：　　ｔｅｒｔ−ブチル基 −数式ＣＩ］の化合物の具体例は、次の三種の化音物群
で示される。

即ち、−数式 ％式％ ） 化合物番号 Ｒ’ Ｒ′ １ Ｆ ＣＨ，Ｎ）Ｉ。

Ｆ ２ Ｆ ＣＭ、ＮＭｅオ Ｆ 羽 ＣＨ，Ｎ　　　ＮＨ 運−ノ Ｆ 凋 Ｐｒ Ｆ ５ Ｐｒ Ｃ０ＮＨ。

Ｆ あ Ｐｒ ＯＮＨＭｅ Ｆ 「 正テ ＣＯＮＭｅ。

Ｆ ８ Ｐｒ ＣＨ，開も Ｆ ９ Ｐｒ ＣＨ，ＮＨＭｅ Ｆ ０ Ｐｒ ＣＨ，ＮＭｅｔ Ｆ １ Ｐｒ ＣＭ、Ｎ　　　ＮＨ ｔ−ノ Ｆ ２ Ｂｕ Ｆ ３ Ｂｕ ＣＯＮＨ。

Ｆ ４ Ｂｕ ＯＮＨＭｅ Ｆ ５ Ｂｕ ＣＯＮＩ（Ｅｔ Ｆ ♂ ｏｍ ＣＯＮＨｉＰｒ ＣＯＮＨｔＢｕ ＣＯＮＲＩ！ｅ＊ Ｃ０ＮＥｔ。

Ｃ０ＮＰｒ雪 Ｃ０Ｎ司 ＣＯＮ］ ｏＱ ＣＯＮ”Ｏ ｔ−ノ ＣＯＮ〜 ９ Ｂｕ ＣＨ，ＮＨ。

（イ） Ｂｕ ＣＨ，Ｎ）ｆＭｅ Ｒ″ ＣＨ，ＮＨＥｔ ＣＨｔＮＨ′Ｐｒ ＣＩ（、ＮＨ４Ｐｒ ＣＨＪＪＨｔＢｕ ＣＨｔＮＭｅｔ ＣＨ，ＮＥｔ。

ＣＨＪｕｒ冨 ＣＨ，ＮｉＰｒ。

ＨＩＮ３ ＣＨ，Ｎ］ ＣＨ，＜） ＣＨ，ρＯ 覧−ノ ＣＨ，Ｎ’二■ ｔ−ノ 化合物番号　　　Ｒ’ Ｒ″ ７６＜］ ７７〈 ７８〈 ７９〈 ８０＜ ８１　　　刈 ８２＜１ ８３〈 ８４　　　□ ８５〈 あ　　イ ８７　　　□ ８８　　　□ ８９＜１ 匍　　〈 ＣＯＮ’Ｈ。

ＯＮＨＭｅ ＯＭＭｅｓ ０ＮＨＥｔ ＯＮＨＰｒ ＣＯＮＨｉＰｒ ＣＯＮＨｔＢｕ ＣＯＮＭｅ□ Ｃ０ＮＥｔ。

Ｃ０ＮＰｒ雪 Ｃ０ＮＰｒ雪 ＣＯＮ＋ｑ ＣＯ◇ ＣＯＮ］ 化合物番号 Ｒ″ □ □ 〈 ｏＮＱ ＣＯＮ　　Ｏ 覧−ノ ＣＯＮ”ＮＨ 覧−ノ □ □ □ 刈 〈 □ 〈 刈 □ 〈 ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＨＥｔ ＣＨ，ＮＨＰｒ ＣＨ，ＮＨｉＰｒ ＣＨ，ＮＨｔＢｕ ＣＨ，ＮＭｅｔ ＣＨ，ＮＥｔ。

ＣＨ，ＮＰｒ。

ＣＨｌＮｉＰｒｔ ｃＨ，Ｎ＠ １ Ｒ” 〈 〈 □ 〈 ＣＨ，◇ ＣＨ，Ｎ］ ＣＨ，＜） ＣＨ，ρＯ 覧−ノ ＣＨ，Ｎ”ＮＨ 覧−ノ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ −ｃ＞Ｆ ＣＯＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ＋ＮＭｅ＊ ＣＨ，Ｎ”ＮＨ 覧−ノ 化合物番号 １ １ 化合物番号 １ ２ ４６ ｔ ４７ ｔ ＣＯＮＨ。

４８ ｔ ＯＮＨＭｅ ４９ ｔ ０ＮＨＥｔ ５０ ｔ ０ＮＨＰｒ ＣＨ ＣＨ ＣＨ ＣＨ Ｈ Ｒ才 ＣＨｙＮＥｔ。

ＣＨ，ＮＰｒ。

Ｃ０ＮｉＰｒ２ ＣＨ，Ｎ司 ＣＨ，◇ ＣＨ，Ｎ］ ＣＨ，＜） ＣＨ，ρ０ １（−） ＣＨ，Ｎ”ＮＨ 覧−ノ 〈 〈 〈 〈 〈 Ｃ０犯 ＣＯＮ）ｒＭｅ ０ＮＨＥｔ ０ＮＨＰｒ 〈 □ 〈 □ □ 〈 〈 〈 □ □ □ □ 〈 □ Ｒ’ Ｃ０ＮＨｉＰｒ ＣＯＮＨｔＢｕ ＯＨＭｅｘ ０ＮＥｔｌ ＣＯＮＰｒ。

Ｃ０ＮｉＰｒ。

ＣＯＮ割 Ｃ０ＮＣ） ＣＯＮ］ ＣＯＮ：） ＣＯＮ　　０ ＣＯＮ”ＮＨ ｋ−ノ ＣＯＮ　　ＮＨ −も ＣＨ２ＮＨ。

ＣＴ（ｒＮＨＭｅ Ｒ’ 〈 □ 〈 □ □ 〈 〈 □ □ □ □ □ 〈 〈 ｆ ＣＨ，ＩＳ旧Ｅｔ ＣＨｔＮＨＰｒ ＣＨ，ＮＨｉＰｒ ＣＨ，ＮＨｔＢｕ ＣＨｚＮＭｅｓ ＣＨ，ＮＥｔ。

ＣＨ，ＮＰｒ。

ＣＨ，ＮｉＰｒ。

ＣＨ，Ｎ′３ ＣＨ，◇ ＣＨ，Ｎ］ ＣＨ，＜） ｒ−） ＣＨ，Ｎ　　　Ｏ 覧−ノ ＣＨ，Ｎ”ＮＨ 覧−ノ ＣＨ，Ｎ”ＮＨ −ち １ Ｒ’ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ Ｆ （）Ｆ ＋Ｆ Ｆ ＋Ｆ Ｆ ＋Ｆ Ｃ０ＮＩ（。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，Ｎ）ｒＭｅ ＣＨｔＮＭｅｔ ＣＨ，Ｎ”ＮＨ ｋ−ノ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＯＮＭｅｔ ＣＨ，ＮＨＩ ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

化合物番号 Ｒ１ １ ７１ （）Ｆ ＣＨ，Ｎ″′ＮＨ 連−ノ ＣＨ 化合物番号 Ｒ’ Ｒ″ ９０ ｔ Ｍｅ ９１ Ｅヒ Ｃ０ＮＨ。

Ｍｅ ９２ ｔ ＯＮＨＭｅ Ｍｅ ９３ ｔ ＣＯＮＭｅ。

Ｍｅ ９４ ｔ ＣＨ□ＮＨ。

Ｍｅ ９５ ｔ ＣＨ，Ｎ）（Ｍｅ Ｍｅ ９６ ｔ ＣＨｚＮＭｅｔ Ｍｅ ９７ ｔ ＣＨ，ρＮＨ 運−） Ｍｅ ９８ 丹 Ｍｅ ９９ ｒ ＣＯＮＨ。

Ｍｅ ００ ｒ ＯＮＨＭｅ Ｍｅ ２ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨｘＮＫＭｅ ＣＨ！ＮＭｅｆ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｃ０ＮＨ。

ＣＯＮＩ（Ｍｅ ＯＮＭｅｚ ＣＨ，ＮＨ。

Ｃ）（、ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

Ｍａ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ １４ Ｂｕ Ｍｅ １５ Ｂｕ ０ＮＨｚ Ｍｅ Ｒ’ 〈 □ 〈 〈 〈 〈 〈 ◇ ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，ＨＫ！Ｊｌｅ ＣＨ２ＮＭｅｚ Ｃ）Ｔ、Ｎ”ＮＨ ｋ−ノ ＣＯＮ’Ｈ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

ＣＨ，Ｎ”ＮＨ 見−ノ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ 化合物番号 Ｒ’ １ よ珀 ３９ ＋Ｆ ＋Ｆ Ｃ０ＮＨ。

４２ （）Ｆ ＣＨ，ＮＨ。

４４ （）Ｆ ＣＨ，ＮＭｅ。

Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ Ｍｅ 化合物番号 １ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，Ｎ）（。

ＣＴ（、ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

Ｃ−〇Ｍｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ ＣＨ，Ｎ″′聞 ゛（−］ Ｃ０ＮＨ。

Ｃ０Ｎ）（’Ｍｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，Ｎ１（。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

ＣＨ，Ｎ”Ｎｌ（ 覧−］ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＯＮＭｅｘ ＣＨ，Ｎ’Ｈ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ −ＯＭｅ Ｃ−○Ｍｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ Ｃ−○Ｍｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ □ □ 〈 〈 □ ２ ＣＨＩＮＭｅ。

ＣＨ，ρ■ に−ノ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

ＣＨ，Ｎ　　　ＮＨ 覧−ノ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ。

ＣＨ，ＮＨ。

−ＯＭｅ −ＯＭｅ Ｃ−〇Ｍｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ Ｃ−〇Ｍｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ Ｃ−○Ｍｅ Ｒ’ Ｒ′ 〈 □ 〈 □ 〈 〈 ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ ◇ Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＩｔＪＭｅｔ ＣＨ，ＮＨ□ ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨＩＮＭｅ。

ＣＨ！Ｎ”ＮＨ （−） Ｃ０ＮＨ。

ＯＮＨＭｅ ＣＯＮＭｅ＊ ＣＨ，ＮＨ□ ＣＨＲＫＭｅｔ ＣＨｚＦＪＰＡｅｚ Ｃ）（、Ｎ”ＮＨ １（−〕 １ Ｒ′ （）Ｆ （）Ｆ ＋ｐ （）Ｆ （）Ｆ （）Ｆ ＋Ｆ に）Ｆ Ｆ Ｆ 登Ｆ よ）Ｆ ジ・ よ）Ｆ Ｃ０ＮＨ。

Ｃ０Ｎ）（’Ｍｅ ＣＯＮＭｅ＋ ＣＨ，Ｎ’Ｈ。

ＣＨ，ＮＨＭｅ ＣＨ，ＮＭｅ。

Ｃ０ＮＨ。

ＣＯＮＴ（Ｍｅ ＣＯＮＭｅ。

Ｃ）（、ＮＨ。

ＣＨ２ＮＨＭｅ ＣＨ＋ＮＭｃ＋ 化合物番号 １ および一般式 （） 化 物 番 号 １ ｔ Ｐｒ Ｐｒ Ｂｕ 〈 −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ −ＯＭｅ の化合物である。

上記の具体的な化合物の内、より好適な化合物は、以下
の化合物が挙げられる。

ｌ−エチル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−
７−（イソインドリン−２−イル）−４−オキソ−３−
キノリンカルボン酸、 ７−（５−アミノメチルイソインドリン−２−イル）−
１−エチル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−
４−オキソ−３−キノリンカルボン酸、 ６．８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−
７−［５−（ピペラジノメチル）イソインドリン−２−
イル］−１−イソプロピルー３−キノリンカルボン酸、
１−ｔｅｒｔ−ブチル−６，８−ジフルオロ−１，４−
ジヒドロ−７−（イソインドリン−２−イル）−４−オ
キソ−３−キノリンカルボン酸、 ７−（５−アミノメチルイソインドリン−２−イル）−
１−ｔｅｒｔ−ブチル−６，８−ジフルオｏ−１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸、 ｌ−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
ヒドロ−７−（イソインドリン−２−イル）−４−オキ
ソ−３−キノリンカルボン酸、 １−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
ヒドロ−７−（５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノカルボニ
ル）イソインドリン−２−イルゴー４−オキソ−３−キ
ノリンカルボン酸、■−ジシクロプロピル−６８−ジフ
ルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−７−［５−（
ピペラジノメチル）イソインドリン−２−イル］−３−
キノリンカルボン酸、６．８−ジフルオロ−１−［（２
，４−ジフルオロ）フェニル］−１，４−ジヒドロ−７
−（イソインドリン−２−イル）−４−オキソ−３−キ
ノリンカルボン酸、 ｌ−エチル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−７−（
イソインドリン−２−イル）−４−オキソ−３−キノリ
ンカルボン酸、６−フルオロ−１，４−ジヒドロ−４−
オキソ−７−［５−（ピペラジノメチル）イソインドリ
ン−２−イル］−１−プロピルー３−キノリンカルボン
酸、 ７−（５−アミノメチルイソインドリン−２−イル）−
１−ｔｅｒｔ−ブチル−６−フルオロ−１，４−ジヒド
ロ・４−オキソ３−キノリンカルボン酸、 １−ｔｅｒｔ−ブチル−６−フルオｏ−１．４−ジヒド
ロー４−オキソ−７−（５−（ピペラジノメチル）イソ
インドリン−２−イル］−３−キノリンカルボン酸、 ７−（５−アミノメチルイソインドリン−２−イル）−
１−シクロプロピル−６−フルオロ−１，４−ジヒドロ
−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸、 ７−（５−アミノメチルイソインドリン−２−イル）−
〇−フルオロー１−［（４−フルオロ）フェニル］−１
，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸
、ｌ−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−
ジヒドロ−７−［５−（Ｎ−メチルアミノカルボニル）
イソインドリン−２−イルゴー４−オキソ−３−キノリ
ンカルボン酸、７−（５−アミノカルボニルイソインド
リン−２−イル）−１−シクロプロピル−６，８−ジフ
ルオロ−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリン
カルボン酸、 ｌ−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
ヒドロ−７＝［５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）
イソインドリン−２−イルゴー４−オキソ−３−キノリ
ンカルボン酸、１−ｔｅｒｔ−ブチル−６，８−ジフル
オＣｌ−１，４−ジヒドロ−７−（１，２，３，４−テ
トラヒドロイソキノリン−２−イル）−４−オキソ−３
−キノリンカルボン酸、 １−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
ヒドロ−７−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノ
リン−２−イル）−４−オキソ−３−キノリンカルボン
酸および６．８−ジフルオロ−１−（２，４−ジフルオ
ロフェニル）−１，４−ジヒドロ−７−（１，２，３，
４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル）−４−オキ
ソ−３−カルボン酸が挙げられる。

本発明化合物の製造法について説明する。

本発明の一般式［Ｉ］の化合物は、一般式Ｒ１ ［式中、Ｒ１は直鎮状、分岐状または環状の低級アルキ
ル基、またはふっ素原子により置換されていてもよいフ
ェニル基、Ｒ６は水素原子またはカルボキシル基の保護
基、Ｘは窒素原子またはＣ−Ｙ（ここにおいて、Ｙは水
素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基を示
す）、Ｚは脱離基を示す］で表される化合物またはその
塩と 一般式 ［式中、Ｒ″は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ３２）Ｒ４
２もしくは−ＣＨ，Ｎ（Ｒ”）Ｒ”（ここにおいて、Ｒ
″およびＲ”は同一または異なって水素原子、アミノ基
の保護基または低級アルキル基を示すか、Ｒ”およびＲ
”は隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチジ
ニル基、ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリノ基
、ピペラジニル基および３−オキソピペラジニル基から
なる群から選ばれる複素環基を形成し、ｎは１ないし３
の整数を示す］で表される化合物またはその塩とを脱酸
剤の存在下に反応させて、 一般式 ［式中、Ｒ１，Ｒａ、Ｒ”、Ｘおよびｎは前記の意味を
有する］で表される化合物とし、必要に応じて該化合物
の保護基を除去することにより製造することができる。

一般式［１［１］の化合物と一般式［ＩＶ］の化合物と
の反応は、通常例えばエタノール、メタノール等のアル
コール類、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン等の
エーテル類、例えばベンゼン、トルエン等の芳香族炭化
水素類、例えばアセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド等の不活性溶媒中で行
われる。反応温度は室温〜２００℃、好ましくは８０〜
１５０’ｃにて、反応時間は０．５〜２４時間、通常は
１〜６時間で行う。

本反応は通常脱酸剤の存在下に行い、一般式［ＩＶ］の
化合物１モルに対して一般式［Ｉ［［］の化合物を１．
０〜１．２モル使用する。脱酸剤は、一般式［ＩＶ］の
化合物１モルに対して１．０〜１．２モル使用する。脱
酸剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物、例えば炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸水素
ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、例えばトリエ
チルアミン、ピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５，
４，０］ウンデカ−７−エン（ＤＢＵ）、１．５．ジア
ザビシクロ［４，３，０］ノナン−５−エン（ＤＢＮ）
等の有機塩基等が挙げられる。反応は、例えばトリエチ
ルアミン、ピリジン等の塩基化合物を過剰に用いて脱酸
剤と溶媒を兼ねて使用することもできる。

反応終了後、通常の処理を行い一般式［■］で表される
粗生成物が得られる。一般式［■］の化合物のＲ８がカ
ルボキシル基の保護基である場合、精製することなくカ
ルボキシル基の保護基を除去することにより、一般式［
Ｉ］の化合物を製造することができる。

保護基の除去は、常法に従って不活性溶媒中、酸または
アルカリ存在下に加水分解または加溶媒分解により行わ
れる。

不活性溶媒としては、例えば水、メタノール、エタノー
ル、プロパツール、テトラヒドロフランまたはこれらの
混合溶媒が挙げられる。

反応に使用する酸としては、例えば塩酸、硫酸等が挙げ
られ、一般式［■］の化合物１モルに対して酸は２〜２
０モルを用いる。反応温度は０〜８０°Ｃで０．５〜３
時間で反応は完結する。

反応に使用する塩基としては、例えば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、例えば炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、
例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアル
カリ金属炭酸水素塩等が挙げられる。反応は一般式［ｎ
］の化合物１モルに対して塩基１〜３モルを用い、反応
温度は０〜５０’Ｃで５〜３０分間で反応は完結する。

保護基の除去反応の終了後、通常の処理法により、例え
ば溶媒抽出、結晶化またはシリカゲルもしくは吸着樹脂
等を用いるカラムクロマトグラフィー等により、一般式
［Ｉ］の化合物を単離することができる。単離、精製条
件によって、一般式［Ｉ］の化合物は、分子内塩、無毒
性付加塩、水和物の形で得られるが、これらは目的に応
じて常法により相互に変換することができる。

尚、一般式［ＩＩ］の化合物の３位のカルボキシル基の
保護基が、例えばアセトキシメチル基、ピバロイルオキ
シメチル基等の低級アルカノイルオキシアルキル基；例
えばメトキシメチル基、インダニル基、フタリジル基等
である場合、このようなエステルは生体内で生理的に加
水分解されるので、保護基を除去することなく、直接、
ヒトまたは動物に投与することができる。

一般式［１［Ｉ］の化合物は、公知のアミン化合物であ
るか、新規化合物であっても、オーガニツクシンセシー
ズ（Ｏｒｇ、　５ｙｎｔｈｅｓｅｓ、　Ｃｏ１１．　ｖ
ｏｌ、　５゜４０６、１ｂｉｄ、、旦、　１０６４）お
よびジャーナル　オブファーマシューティカル　サイエ
ンス［Ｊ、　Ｐｈａｒｍ。

Ｓｃｉ、、　５３．９８１　（１９６４）コ等の記載に
準じて容易に製造することができる。一般式［１１１］
の化合物の代表化合物の製造法を参考例１ないし参考例
４に示す。

一般式［ＩＶ］の化合物は、例えば特開昭５９−２１２
４７５号、同６０−１７２，９８１号、同６１−２６７
．５７３号、同６２−２１５，５７２号、同６３−２９
７，３６６号公報等に記載の方法に準じて製造される。

本発明化合物の種々の細菌に対する試験管内抗菌活性を
下記の寒天平板希釈法により測定した。［日本化学療法
学会標準法：ケモテラピ−（Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒａｐｙ
）、第２９巻、７６〜７９頁（１９８１年）］ミュラー
　ヒントン　ブロス（Ｍｕｅｌｌｅｒ　Ｈｉｎｔｏｎ　
ｂｒｏｔｈ）中で一夜培養した各試験菌株の一白金耳（
接種菌量：１０’ＣＦＵ／ｍ／）をミュラー　ヒントン
　アガー（ＭＨａｇａｒ）に接種した。この培地には抗
菌剤が各濃度で含まれており、３７℃で１６時間培養し
た後、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ：μｇ／ｍりを測定し
た。その結果を下記表に示す。

本発明の化合物は、種々のグラム陰性菌およびグラム陰
性菌に対して優れた抗菌活性を有し、これら病原菌を起
炎菌とするヒトの細菌感染症の治療および予防に、抗菌
剤として有用な化合物である。

本発明の抗菌剤に感受性のある代表的な病原体としては
、例えばスタフィロコッカス（狙■虫姐匹史工匹）属、
エンテロコツカス（Ｅｎｔｅｒｏｃｏｃｃｕｓ）属、エ
シェリキア（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ）属、エンテロバ
クタ−（Ｅｎｔｅｒｏｂａｃｔｅｒ）属、クレブシェラ
（Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ）属、セレイシア（Ｓｅｒｒａ
ｔｉａ）属、プロテウス（Ｐｒｏｔｅｕｓ）属、シュー
ドモナス（Ｐ　ｓ　ｅ　ｕ　ｄ　ｏ　ｍ　ｏ　ｎ　ａ　
ｓ　）属等の菌種を挙げることができ、特にメチシリン
耐性スタフィロコッカス　アウレウス（Ｍｅｔｈｉｃｉ
ｌｌｉｎ　ｒｅｓｉｓｔａｎｔＳｔａ　ｈ　１ｏｃｏｃ
ｃｕｓ　ａｕｒｅｕｓ）およびチェナマイシン耐性シュ
ードモナス　アエルギノーサ（Ｔｈｉｅｎａｍｙｃｉｎ
ｒｅｓｉｓｔａｎｔ　Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ａｅｒ
ｕ　１ｎｏｓａ）に対して優れた抗菌活性を示した。

本発明化合物は、多分野で公知の固体または液体の賦形
剤の担体と混合し、非経口投与、経口投与、外部投与に
適した医薬製剤の形で使用することができる。主なもの
は、局所的または注射による非経口的（静注又は筋注）
な投与である。医薬製剤としては、例えば注射剤、シロ
ップ剤、乳剤等の液剤；錠剤、カプセル剤、粒剤等の固
形剤；軟膏、坐剤等の外用剤等が挙げられる。これらの
製剤には、必要に応じて塩基、助剤、安定化剤、湿潤剤
、乳化剤、吸収促進剤、界面活性剤等の通常使用される
添加剤が含まれていてもよい。

添加剤としては例えば注射用蒸留水、リンゲル液、グル
コース、しょ糖シロップ、ゼラチン、食用油、カカオ脂
、エチレングリコール、しょ糖、とうもろこし澱粉、ス
テアリン酸マグネシウム、タルク等があげられる。

投与量は、患者の症状、体重、年齢、性別、投与形態、
投与回数等によって異なるが、通常、成人に対しての好
ましい日用量は有効成分約５〜５０　ｍ　ｇ／ｋｇ、子
供に対しての好ましい日用量は約５〜２５　ｍ　ｇ／ｋ
ｇの範囲にあり、１日当り１回または数回に分けて投与
するのが好ましい。

および供 実施例および参考例を挙げて本発明を更に具体的に説明
するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもので
はない。

実施例および参考例の薄層クロマトグラフは、プレート
としてＳｉｌｉｃａｇｅｌ　６０Ｆ２４　（Ｍｅｒｃｋ
）を、検出法としてＵＶ検出器またはニンヒドリン発色
法を用いた。カラム用シリカゲルとしては、Ｗａｋｏｇ
ｅｌ・Ｃ−３００（和光純薬）を、逆層カラム用シリカ
ゲルとしては、ＬＣ−ＳＯＲＢ”ＳＰ−Ｂ−００８（Ｃ
ｈｅｍｃｏ）を用いた。ＮＭＲスペクトルは、重ジメチ
ルスルホキシドまたは重クロロホルム溶液で測定する場
合には、内部基準としてテトラメチルシラン（ＴＭＳ）
を用い、ＸＬ−２００（２００ＭＨ２：　Ｖａｒｉａｎ
）型スペクトロメータを用いて測定し、全δ値をｐｐｍ
で示した。

ＮＭＲ測定における略号の意味を以下に示す。

Ｓ　　　　：　シングレット ｄ　　　　：　ダブレット ｂｒ＝　　ブロード ｍ　　　　：　マルチプレット Ｊ　　　　：　カップリング定数 Ｈ２：　ヘルツ ＣＤＣ１，：　　重クロロホルム ＣＤ、ＯＤ　　：　　重メタノール ＤＭＳＯ−ｄ、：　　重ジメチルスルホキシドＴＦＡ−
ｄ＋　　：　　重トリフルオロ酢酸Ｄ２０　　　　：　
　重水 反応式における略号の意味を以下に示す。

Ｂｚｌ　　　　：　　ベンジル基 Ｍｅ　　　：　メチル基 実施例１ ０込」Ｌ乙敗 ｌ−シクロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，
４−ジヒドロ−４−才キソー３−キノリンカルボン酸（
２８３ｍｇ。

Ｉｍｍｏｌ；　特開昭５９−２１２４７４号公報により
製造）、イソインドリン［ｌ１９ｍｇ、Ｉｍｍｏｌ：　
　オーガニック　シンセシス（Ｏｒｇ、　Ｓｙｎ、）、
第５巻、４０６頁（１９７３年）により製造］、および
ｌ、８−ジアザビシフ０　［５，４，０］ウンデカ−７
−エン（０，１５ｍ７．　Ｉｍｍｏｌ）のアセトニトリ
ル（５ｍ４）溶液を窒素気流中、５０〜６０℃で５時間
撹拌した。冷却した後、析出物を濾取し、アセトニトリ
ルで洗浄して淡黄色粉末として標記化合物（２２０ｍｇ
、収率：　５７．５％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６４　（ＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ＝　９　：　ｌ）ＭＰ　：　２２６°Ｃ（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３４００．３２００．
２９２５．２Ｂ７５゜１７３０、１６３５．１６０５．
１５１０．　１４４５゜１４１０．１３６５．１３１５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、−ＣＤＣｌ２）δ：　１．１〜
１．５　（４Ｈ，ｍ）。

４．０３〜４．１０　（ＩＨ，ｂｒ）、　５．２５　（
４Ｈ，ｓ）。

７．３６　（４Ｈ，ｓ）、　７．８８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
　＝　１２Ｈｚ）。

８．７７　（ＬＨ，ｓ）、　　１１．８　（ＩＨ，ｂｒ
）ＭＳ　（ｍ／ｅ）：３８３　（Ｍ’＋Ｈ）実施例２ ７．５−アミノカルボニルイン゛リンー２−イル−１−
シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１４−ジヒ゛ロ
ー４−オキン−３−キノリンカルボン ｌ−シクロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸（
２８３ｍｇ。

１ｍｍｏｆ）、５−アミノカルボニルイソインドリン（
１７８ｍｇ。

１．１ｍｍｏｆ）および１．８−ジアザビシフｏ　［５
，４，０］ウンデカ−７−エン（０，１５ｍ／、１ｍｍ
ｏ／）のアセトニトリル（５ｍ４）溶液を窒素気流中、
６時間撹拌還流した。反応溶液を室温で９時間撹拌した
。析出物を濾取し、アセトニトリルで洗浄し、淡黄色粉
末として標記化合物（３２２ｍｇ、収率：　７５．８％
）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６５　（ＡｃＯＥｔ　：　Ａ
ｃＯＨ：　ＨｚＯ＝３　：　１　：　１） ＭＰ　：　２３２°Ｃ（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）　ａｍ−’　：３４７０．３３５０．１
７０５．１６７０゜１６２５、　１６００．　１５１５
．　１４５５．　１４０５゜３５Ｏ ＮＭＲ（ＴＦＡ−ｄ、：　ＣＤＣ１，＝　１　：　２）
　　δ：１．２〜１．７（４Ｈ，ｍ）、４．３〜４．６
　（ＩＨ，ｍ）、５．５５（４Ｈ，ｓ）、　７．６０　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝Ｊ３Ｈｚ）、　７．９９（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝８Ｈｚ）、　８．０１　（ＩＨ，ｓ）、　８．０７
（ｌＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　　ａｎｄ　　１２Ｈｚ）、９．
１８（ＬＨ，ｓ） ＭＳ　（ｍ／ｅ）：　４２６　（Ｍ”＋　Ｈ）実施例３ ノー２−イル−４−ソー３−　ノｉンカルポン１、シク
ロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−３−カルボン酸（２２６ｍ　ｇ　、
　０　、８　ｍ　ｍ　ｏ　！　）および５−（Ｎ−メチ
ルアミノカルボニル）イソインドリン（１４１ｍｇ、　
０．８ｍｍｏｒ）を用いて、実施例２と同様の方法によ
り、標記化合物（１２１ｍｇ、収率：３４．５％）を得
た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　　：　０．６３　　（ＡｃＯＥｔ　二
ＡｃＯＨ：　ＨａＯ＝３：ｌ：ｌ） ＭＰ　：　２７０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３３７０．１７４０．
１６３０．１６０５゜１５４５、１５１５．１４９０．
１４４０．１４０５゜１３６０、１３１５ ＮＭＲ（ＴＦＡ−ｄ、　：　ＣＤＣ１，＝　１　：　２
）δ：１．２〜１．７（４Ｈ，ｍ）、　４．１８　（３
Ｈ，ｓ）、　４．３〜４．５　（ＩＨ。

ｍ）、　５．５１　（４Ｈ，ｓ）、　７．５３　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　７．７６　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８
Ｈｚ）、　７．８１（ＩＨ，ｓ）、　８．０６　（ＩＨ
，ｄ、Ｊ　＝　１４Ｈｚ）。

９．１８　（ＩＨ，ｓ） 実施例４ シー２−イル−４−オキソ−３−キノリンカル゛ンｌ−
シクロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸（２８
３ｍｇ。

ｌ　ｍ　ｍ　ｏ　！　）および５−（Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノカルボニル）イソインドリン（１９０ｍｇ、　１
　ｍｍｏｌ）を用いて実施例２と同様の方法により、標
記化合物（３２２ｍｇ。

収率：　７１．１％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．７８　（ＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ”　９　：　１）ＭＰ　：　２４５°Ｃ（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　３４５０．２９３０．
２８５０．１７２５゜１６２５、１５１０．１４５０．
１４００．１３５５゜３１５ ＮＭＲ（ＣＤＣ１，）δ：　１．１〜１．４　（４Ｈ，
ｍ）、　２．０５（３Ｈ，ｓ）、　２．１６　（３Ｈ，
ｓ）、　３．９５〜４．１５（ＩＨ，ｍ）、　５．２４
　（４Ｈ，ｓ）、　７．３〜７．５　（３Ｈ。

ｍ）、　７．９４　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　ａｎｄ　１
４Ｈｚ）。

８．９０　（ＩＨ，ｓ）、　　１４．８　（ＩＨ，ｂｒ
）実施例５ ソー２− ル ー４−オキソ−３− ンカル ン ｌ−シクロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸（
２８３ｍｇ１ｍｍｏｊ）および５−（Ｎ、Ｎ−ジメチル
アミノメチル）イソインドリン（１９８ｍｇ、　　１．
１３ｍｍｏｒ）を用いて実施例２と同様に反応を行い、
標記化合物（２８９ｍｇ収率：　６５．８％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６１　（ＡｃＯＥｔ　：　Ａ
ｃＯＨ：　Ｈ２Ｏ＝３：１：１） ＭＰ　：　１９０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：　３４２０，２９３０，２
８５０，２８００゜２７６０．１７２０，１８２０，１
５４５，１５１５゜ＭＲ １４６０、１４００，１３５０，１３１５（ＣＤ　Ｃ１
３）　　δ：　１．１〜１．４　（４Ｈ，ｍ）、　　２
．２６（６Ｈ，ｓ）、　３．４８　（２Ｈ，ｓ）、　３
．９〜４．１　（ＬＨ。

ｍ）、５．２２　（４Ｈ，ｓ）、７．１〜７．４　（３
Ｈ。

ｍ）、７．９０　（ｌＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　　ａｎｄ　　
１４Ｈｚ）。

８．７９　（ＩＨ，ｓ） 実施例６ ４−オ ソー３− ノＩンカルボン ■−ジシクロプロピル−６７，８−１−リフルオロ−１
，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸
（２８３ｍｇ。

１ｍｍｏｆ’）、１，２，３．４−テトラヒドロイソキ
ノリン（１３３ｍｇ。

ｌ　ｍ　ｍ　ｏ　！　）および１．８−ジアザビシフｏ
　［５，４，０］ウンデカ−７−エン（０，１５ｍ／、
１ｍｍｏｒ）のアセトニトリル（５ｍ４）溶液を窒素気
流中で３時間還流した。溶媒を減圧下で留去した。残渣
をシリカゲルフラッシュカラムクロマトグラフィー（Ｗ
ａｋｏｇｅｌ・Ｃ−３００，４０ｍ／；塩化メチレン：
メタノール＝５０：１→９：１で溶出）で精製した。目
的化合物を含む両分を集め溶媒を減圧下で留去した。得
られた残渣にメタノールを加えた後、結晶を濾取し淡黄
色粉末として、標記化合物（１７０ｍｇ、収率：４３％
）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６８　（ＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ＝　９　：　１）ＭＰ：２０２℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）　ａｍ−’　＋　３４５０．３０６０．
２８４０．１７３０゜１６２０．１６０５，１５５０，
１５１０，１４７０゜１４４０．１４０５，１３８０．
１３２ＯＮＭＲ（ＣＤＣＬ）δ：　１．１２〜１．３６
　（４Ｈ，ｍ）、　３．０９（２Ｈ，ｂｒ）、　３．７
０　（２Ｈ，ｂｒ）、　３．９２〜４．１０（ＩＨ，ｍ
）、　４．６５　（２Ｈ，ｓ）、　７．０８〜７．３５
（４Ｈ，ｍ）、　７．９７　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　　
ａｎｄ１２Ｈｚ）、　８．９２　（ＬＨ，ｓ）、　１４
．６　（ＩＨ，ｓ）ＭＳ　（ｍ／ｅ）：　３９７　（Ｍ
”＋Ｈ）実施例７ オ ３− ン ル ン ｌ−シクロプロピル−６，７，８−トリフルオロ−１，
４−ジヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸（
８５ｍｇ、　０．３ｍ　ｍ　ｏ　ｌ　）および５，６，
７．８−テトラヒトｏ−１，６−ナフチリジン［４０ｍ
ｇ、　０．３ｍｍｏｉ’　；ケミカル　アンドファーマ
キュティカル　プリテン（Ｃｈｅｍ、　Ｐｈａｒｍ。

Ｂｕｌｌ、）、第３２巻、２５２２頁（１９８４年）に
より製造］を用いて、実施例６と同様の方法により、標
記化合物（１５ｍｇ、収率１２．６％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６６　（ＣＨ，ＣＩ、　：　
ＭｅＯＨ”　９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：
　３４１０．１７３５．１６２０．１６１０゜１５２０
、１４６０．１４４５．１３１５ＮＭＲ（ＣＤＣＬ）δ
：　１．１０〜１．５　（４Ｈ，ｍ）、　３．２６（２
Ｈ，ｂｒ）、３．８１　（２Ｈ，ｂｒ）、　３．９５〜
４．１０（ＩＨ，ｍ）、４．６５　（２Ｈ，ｓ）、７．
１１　　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝６　　ａｎｄ　　８Ｈｚ）、７．４７　（Ｉ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ）、８．０　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　　ａｎ
ｄ１２Ｈｚ）、８．５３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）、
８．８４（ＩＨ，ｓ）、１４．６　（ＩＨ，ｓ）参考例
１ ５−ミ カルボニルイソイン゛１ン １） ３．４−ジメチル安息香酸（４，５ｇ、　３０ｍｍｏｌ
）をチオニルクロリド（２０ｍ４）に熔かし、２時間還
流した。冷却した後、過剰のチオニルクロリドを減圧下
で留去した。得られた油状残渣を水冷撹拌下でメタノー
ル（１００ｍ４）に滴下した。溶媒を減圧留去した。残
渣を酢酸エチル（５０ｍ４）に溶かし、５％炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、３．４−ジメチ
ル安息香酸メチルエステル（５，７７ｇ。

収率：　１００％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．５　（ｈｅｘａｎｅ）ＩＲ（
ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４００．２９５０．１７２０
．１６２０゜１４４０、　１３００．１２７０．１２２
ＯＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ：　２．２１　（６Ｈ，ｓ）
、　３．９０　（３Ｈ。

ｓ）、　７．２２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、　７．
８０　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）、７．８３　（ＬＨ，５）２） ３．４−ジメチル安息香酸メチルエステル（５，７７ｇ
。

３０ｍｍｏ７）およびＮ−ブロモスクシンイミド（ｌｏ
、６８ｇ。

６０　ｍ　ｍ　ｏ　ｌ　）の四塩化炭素（１００ｍ４）
溶液を、５００Ｗタングステンランプ照射下で５時間還
流した。反応液を冷却した後、析出物を濾別し、濾液を
水洗した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。油状残渣の３，４−ビス（ブロモメチ
ル）安息香酸メチルエステル（ｌｏ、２８ｇ、収率：１
００％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）：０．６６　（ＡｃＯＥｔ：ｈｅｘａｎ
ｅ＝　ｌ　：４）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：　３４０
０，２９７０，２８７０，２６５０゜２５５０．１６９
０，１６８０，１６１０，１５７５゜１４３０、　１３
１０．　１２８０．　１２２ＯＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　
　δ：　３．９２　（３Ｈ，ｓ）、　４．６７、４．６
９（４Ｈ，ｓ）、７．４６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）
、７．９８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２　ａｎｄ　８Ｈｚ）、
８．０６　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ　＝　２Ｈｚ） ３） ３．４−ビス（ブロモメチル）安息香酸メチルエステル
（８，５ｇ、　２５ｍｍｏｒ）のベンゼン（１０ｍ／）
溶液を５０％水酸化ナトリウム水溶Ｈ（ｌｏｍｌ）、ベ
ンゼン（５０ｍ４）、ベンジルアミン（３，０５ｍ４２
８ｍｍｏ／）、トリエチルベンジルアンモニウム　クロ
リド（０，５ｇ）の混液に撹拌下で滴下した。反応溶液
を室温で１４時間撹拌した。反応溶液に水（１００ｍ／
）を加え、酢酸エチル（５０ｍ／）で抽出した。有機層
を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧
下で留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー　（Ｗａｋｏｇｅｌ＠Ｃ−３００，２００ｍ４．　
ヘキサン−酢酸エチル＝２０：１→４：１）にて精製し
、２−ベンジル−５−メトキシカルボニルイソインドリ
ン（２，１６ｇ。

収率：　３２．４％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　　：　０．３５　　（ＡｃＯＥｔ　二
ｈｅｘａｎｅ　＝　ｌ　　：　４）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃ
ｍ−’　：　２９５０．２７７５．１７２０．１６２０
゜１４９５、１４４０．１２８０．１２６ＯＮＭＲ（Ｃ
ＤＣ１，）δ：　３．９１　（３Ｈ，ｓ）、　３．９３
　（２Ｈ。

ｄ、Ｊ　＝　６Ｈｚ）、３．９６　（４Ｈ，ｓ）、７．
２〜７．５（６Ｈ，ｍ）、７．８１〜７．９２　（２Ｈ
，ｍ）４） ２−ベンジル−５−メトキシカルボニルイソインドリン
（１，８６ｇ、　７ｍｍｏｌ）の２Ｎ塩酸（６０ｍｉ’
）溶液を５０℃で１８時間撹拌した。溶媒を減圧下で留
去し、結晶残渣を塩化メチレンで洗浄して、２−ベンジ
ル−５−インインドリンカルボン酸塩酸塩（１，６１ｇ
。

収率ニア９．１％）を得た。

Ｔｒ、ｃ　（Ｒｆ）　：　０．２０　（ＣＨｉＣＩｚ　
：　ＭｅＯＨ＝　９　：　ｌ　）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ
”　：３４２０．２９３０．２５７０　１７１５１６２
０、１４４０．１３８０．１２４０．１２１０゜１７Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ：３．４０　（２Ｈ，ｂｒ
ｓ）、　４．６０（４Ｈ，ｂｒ　ｓ）、　７．４〜８．
０５　（８Ｈ，ｍ）、　　１２．５（ＩＨ，ｂｒ） ５） ２−ベンジル−５−インインドリンカルボン酸塩酸塩（
１，４５ｇ、　５ｍｍｏｒ）のベンゼン（２０ｍ４）溶
液にチオニルクロリド（５ｍｌ）を加え、この溶液を２
時間還流した。溶媒を減圧下で留去した後、ベンゼン（
ｉｏｍ／）を加え、再び溶媒を減圧下で留去した。

得られた残渣のテトラヒドロフラン（１０ｍ４）溶液を
水冷撹拌下で濃アンモニア水（１０ｍ／）とテトラヒド
ロフラン（１０ｍｊ）の溶液に滴下し、反応溶液を３０
分間撹拌した。反応溶液に水（２０ｍｌ）を加え、酢酸
エチル（５０ｍ７）で抽出した。有機層を水洗し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、５．アミ
ノカルボニル−２−ベンジルインインドリン（１，２１
ｇ、収率：９６％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．５６　ＣＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ＝　９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：
　３３６０．３１７０．２７８０．１６５０゜１６１０
、１３８５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）δ：　３．９６　（２Ｈ，ｄ、Ｊ
　＝　６１（ｚ）。

３．９７　（４Ｈ，ｓ）、　５．４〜６．２　（２Ｈ，
ｂｒ）。

７．２〜７．８　（８Ｈ，ｍ） ６） ５−アミノカルボニル−２−ベンジルイソインドリン（
５１７ｍｇ、　２．０５ｍｍｏｌ）のメタノール（５０
ｍＡ’）溶液にＩＮ塩酸（２，２ｍ／）および１０％パ
ラジウム−炭素触媒（５００ｍ　ｇ　）を加え、室温、
常圧下で１５時間水素添加した。触媒を濾別し、濾液の
溶媒を減圧下で留去した。残渣をメタノール（２０ｍ４
）に溶かし、この溶液にアンバーライト（Ａｍｂｅｒｌ
ｉｔｅ＠）ＩＲＡ−４０１（２ｇ）を加え、この懸濁液
を２時間撹拌した。樹脂を濾別し、濾液を減圧下で濃縮
して、標記化合物の５−アミノカルボニルイソインドリ
ン（３５５ｍｇ。

収率：１００％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．４９　（ＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ＝　９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：
　３４１０．３９８０．３１８０．３０２０゜１６６０
、１６１５．１５８０．１４４０．１３８ＯＮＭＲ（Ｃ
ＤＣＬ、−ＣＤ、ＯＤ）δ：　３．８８　（４Ｈ，ｓ）
、　７．３５（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝　８Ｈｚ）、　７．７
５　（ＬＨ，ｄ、Ｊ　＝８Ｈｚ）、　７．７７　（ＩＨ
，ｓ） 参考例２ ５−　Ｎ−メ　ル　ミノカル　ニル　　ソ　ン゛１ン■
） ２−ベンジル−５−インインドリンカルボン酸塩酸塩（
１，６０ｇ、　５．５ｍｍｏｆ）および４０％メチルア
ミン水溶液（２０ｍ　ｌ　）を用いて、参考例１−５）
と同様の方法により２−ベンジル−５−（Ｎ−メチルア
ミノカルボニル）イソインドリン（１，０３ｇ、収率：
　７０．４％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．４９　（ＣＨｔＣ１２：　Ｍ
ｅＯＨ＝　９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　
３３５０．３２７５．１６２０．１５４５゜１４１０、
１３１５ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ：　２．７８　（３Ｈ，ｄ
、Ｊ　＝　４Ｈｚ）。

３．８８　（６Ｈ，ｓ）、　７．２〜７．５　（６Ｈ，
ｍ）。

７．６〜７．８　（２Ｈ，ｍ）、　８．４　（ＬＨ，ｂ
ｒ）２） ２−ベンジル−５−（Ｎ−メチルアミノカルボニル）イ
ソインドリン（３０５ｍｇ、　１．１５ｍｍｏｒ）およ
び１０％パラジウム−炭素触媒（２００ｍｇ）を用いて
参考例１−６）と同様の方法により、標記化合物の５−
（Ｎ−メチルアミノカルボニル）イソインドリン（１５
３ｍｇ。

収率：　７５．６％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．５０　（ＡｃＯＥｔ　：　Ａ
ｃＯＨ：　Ｈ，Ｏ＝３　：　１　：　１） ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ”　：　３４００．３２８０．３
２１０．３０５０゜２９５０、２８５０．１６４０．１
５７５．１５５５゜１４１０、１３２Ｏ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−４）δ：　２．８０　（３Ｈ，ｄｊ
　＝　４Ｈｚ）。

４．１９　（４Ｈ，ｓ）、　７．３７　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
　＝　８Ｈｚ）。

７．７３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝　８Ｈｚ）、　７．７６
　（ＬＨ。

ｓ）、　８．４５　（ＩＨ，ｂｒ） 参考例３ １之 １） ２−ベンジル−５−イソインドリンカルボン酸塩酸塩 （１，７４ｇ、　６ｍｍｏｒ）および５０％ジメチルア
ミン水溶液（２０ｍ　ｌ　）を用いて参考例１−５）と
同様の方法により、２−ベンジル−５−（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノカルボニル）イソインドリン（１，６５ｇ、
収率：　９８．３％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．６０　（ｃＨｔｃｔｚ　：　
ＭｅＯＨ＝　９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　
：　３４５０．２９３０．２７８０．１６３５゜１５７
５、１４９０．　１４５０．１３８５．１３４ＯＮＭＲ
（ＣＤＣＩりδ：　２．９７　（３Ｈ，ｓ）、　３．１
０　（３Ｈ。

ｓ）、　３．９２　（２Ｈ，ｄ、Ｊ　＝　５Ｈｚ）、　
３．９６　（４Ｈ。

Ｓ）、７．１〜７．７　（８Ｈ，ｍ） ２） ２−ベンジル−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノカルボニ
ル）イソインドリン（１，１２ｇ、４ｍｍｏｌ）、１０
％パラジウム−炭素触媒（１，０ｇ）を用いて、参考例
１−６）と同様の方法により、標記化合物の５−（Ｎ、
Ｎ−ジメチルアミノカルボニル）イソインドリン（８０
９ｍｇ。

収率：　１００％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）：　０．６４　（ＡｃＯＥｔ　：　Ａｃ
ＯＨ：　Ｈ，Ｏ＝３：１：１） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　：　３４２０，２９３０，２
７２０，１６２０゜１５０５．１４８０．　１４４０．
　１３９５ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）δ：　２．９４　
（３Ｈ，ｓ）、３．００　（３Ｈ，ｓ）。

４．４５　（４Ｈ，ｓ）、７．３〜７．５　（３Ｈ，ｍ
）参考例４ ５−ＮＮ−ジメチルアミノ　チル　　ソ　ン゛■ン１） ２−ベンジル−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノカルボニ
ル）イソインドリン（５３０ｍｇ、　１．８ｍｍｏ／）
のテトラヒドロフラン（ｌｏｍ／）溶液に水冷撹拌下で
水素化リチウムアルミニウム（１５０ｍｇ、　４ｍｍｏ
ｌ）を少量ずつ加え、次にこの反応溶液を１５時間還流
した。

水冷撹拌下で反応溶液に酢酸エチル（５ｍ７）、続いて
２Ｎ塩酸（５ｍ／）を滴下した。水層を分取し、４０％
水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、酢酸エチル
（３０ｍ／）で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を減圧下で留去して、２−ベン
ジル−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）イソイン
ドリン（３９１ｍｇ、収率：８１．７％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．２５　（ＣＨ，Ｃ１，：　Ｍ
ｅＯＨ＝９　：　１）ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ−’　：　
３０５０．２９７０．２９４０．２８８０゜２８００、
２７６０．　１６９５．１６００．１４９０゜１４５０
、　１３４５ ２） ２−ベンジル−５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメチル）
イソインドリン（３９１ｍｇ、　１．４７ｍｍｏ／）、
１０％パラジウム−炭素触媒（２５０ｍｇ）および２Ｎ
塩酸（１，５ｍ４）を用いて、参考例１−６）と同様の
方法により、標記化合物の５−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミ
ノメチル）イソインドリン（２４７ｍ　ｇ　、収率：　
９５．２％）を得た。

ＴＬＣ（Ｒｆ）　：　０．２４　（ＡｃＯＥｔ　：　Ａ
ｃＯＨ；　ＨｌＯ＝３：１：１） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−’　＋　３４００．２９５０，２
７００，１６２０゜１５８５．　１４５０．　１４１５
．　１３６ＯＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、−ＣＤＣＩ、）　
　δ：　２．６０　（６Ｈ，ｓ）。

４．０８　（２Ｈ，ｓ）、　　４．５９　（４Ｈ，ｓ）
、　　７．１〜７．７　　（３Ｈ，ｍ） 発ｌじと１果 本発明の化合物は、文献未記載の新規化合物であり、感
受性・耐性のダラム陽性菌およびダラム陰性菌に対する
強い抗菌力を有するので、抗菌剤として有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｒ＾１は直鎖状、分岐状または環状の低級アル
   キル基、またはふっ素原子により置換されていてもよい
   フェニル基、Ｒ＾２は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ＾３
   ）Ｒ＾４もしくは−ＣＨ＿２Ｎ（Ｒ＾３）Ｒ＾４（ここ
   において、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一または異なって水
   素原子または低級アルキル基を示すか、Ｒ＾３およびＲ
   ＾４は隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチ
   ジニル基、ピロリジニル基、ビペリジノ基、モルホリノ
   基、ピペラジニル基および３−オキソピペラジニル基か
   らなる群から選ばれる複素環基を形成する）、Ｘは窒素
   原子またはＣ−Ｙ（ここにおいて、Ｙは水素原子、ハロ
   ゲン原子、メチル基またはメトキシ基を示す）、ｎは１
   ないし３の整数を示す］で表される化合物またはその医
   薬として許容される塩またはエステル。 ２）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I −ａ］ ［式中、Ｒ＾１＾１は直鎖状、分岐状または環状の低級
   アルキル基、Ｒ＾２＾１は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ
   ＾３＾１）Ｒ＾４＾１もしくは−ＣＨ＿２Ｎ（Ｒ＾３＾
   １）Ｒ＾４＾１（ここにおいて、Ｒ＾３＾１およびＲ＾
   ４＾１は同一または異なって水素原子または低級アルキ
   ル基を示す）、Ｙ＾１は水素原子またはハロゲン原子、
   ｎ＾１は１または２の整数を示す］で表される第１請求
   項記載の化合物。 ３）Ｒ＾１がシクロブチル基である第１請求項記載の化
   合物。 ４）１−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４
   −ジヒドロ−７−（イソインドリン−２−イル）−４−
   オキソ−３−キノリンカルボン酸、 ７−（５−アミノカルボニルインドリン−２−イル）−
   １−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
   ヒドロ−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸、 １−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジ
   ヒドロ−７−［５−（Ｎ−メチルアミノカルボニル）イ
   ソインドリン−２−イル］−４−オキソ−３−キノリン
   カルボン酸、１−シクロプロピル−６，８−ジフルオロ
   −１，４−ジヒドロ−７−［５−（Ｎ，Ｎ−ジメチルア
   ミノカルボニル）イソインドリン−２−イル］−４−オ
   キソ−３−キノリンカルボン酸、１−シクロプロピル−
   ６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒドロ−７−［５−（
   Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）イソインドリン−２−
   イル］−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸および１
   −シクロプロピル−６，８−ジフルオロ−１，４−ジヒ
   ドロ−７−（１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリ
   ン−２−イル）−４−オキソ−３−キノリンカルボン酸
   である第１請求項記載の化合物。 ５）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［IV］ ［式中、Ｒ＾１は直鎖状、分岐状または環状の低級アル
   キル基、またはふっ素原子により置換されていてもよい
   フェニル基、Ｒ＾３は水素原子またはカルボキシル基の
   保護基、Ｘは窒素原子またはＣ−Ｙ（ここにおいて、Ｙ
   は水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基
   を示す）、Ｚは脱離基を示す］で表される化合物または
   その塩と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［III］ 〔式中、Ｒ＾２＾２は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ＾３
   ＾２）Ｒ＾４＾２もしくは−ＣＨ＿２Ｎ（Ｒ＾３＾２）
   Ｒ＾４＾２（ここにおいて、Ｒ＾３＾２およびＲ＾４＾
   ２は同一または異なって水素原子、アミノ基の保護基ま
   たは低級アルキル基を示すか、Ｒ＾３＾２およびＲ＾４
   ＾２は隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチ
   ジニル基、ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリノ
   基、ピペラジニル基および３−オキソピペラジニル基か
   らなる群から選ばれる複素環基を形成し、ｎは１ないし
   ３の整数を示す］で表される化合物またはその塩とを反
   応させて、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［II］ ［式中、Ｒ＾１、Ｒ＾５、Ｒ＾２＾２、Ｘおよびｎは前
   記の意味を有する］で表される化合物とし、必要に応じ
   て該化合物の保護基を除去することを特徴とする、一般
   式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｒ＾２は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ＾３）Ｒ
   ＾４もしくは−ＣＨ＿２Ｎ（Ｒ＾３）Ｒ＾４（ここにお
   いて、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一または異なって水素原
   子または低級アルキル基を示すか、Ｒ＾３およびＲ＾４
   は隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチジニ
   ル基、ピロリジニル基、ピペリジノ基、モルホリノ基、
   ピペラジニル基および３−オキソピペラジニル基からな
   る群から選ばれる複素環基を形成する）、Ｒ＾１、Ｘお
   よびｎは前記の意味を有する］で表される化合物または
   その医薬として許容される塩またはエステルの製造法。 ６）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ ［式中、Ｒ＾１は直鎖状、分岐状または環状の低級アル
   キル基、またはふっ素原子により置換されていてもよい
   フェニル基、Ｒ＾２は水素原子または−ＣＯＮ（Ｒ＾３
   ）Ｒ＾４もしくは−ＣＨ＿２Ｎ（Ｒ＾３）Ｒ＾４（ここ
   において、Ｒ＾３およびＲ＾４は同一または異なって水
   素原子または低級アルキル基を示すか、Ｒ＾３およびＲ
   ＾４は隣接する窒素原子と共にアジリジニル基、アゼチ
   ジニル基、ピロリジニル基、ビペリジノ基、モルホリノ
   基、ピペラジニル基および３−オキソピペラジニル基か
   らなる群から選ばれる複素環基を形成する）、Ｘは窒素
   原子またはＣ−Ｙ（ここにおいて、Ｙは水素原子、ハロ
   ゲン原子、メチル基またはメトキシ基を示す）、ｎは１
   ないし３の整数を示す］で表される化合物またはその医
   薬として許容される塩またはエステルを有効成分とする
   抗菌剤。