JPH03178769A - Grinding method and device therefor - Google Patents

Grinding method and device therefor

Info

Publication number
JPH03178769A
JPH03178769A JP2051786A JP5178690A JPH03178769A JP H03178769 A JPH03178769 A JP H03178769A JP 2051786 A JP2051786 A JP 2051786A JP 5178690 A JP5178690 A JP 5178690A JP H03178769 A JPH03178769 A JP H03178769A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
aqueous solution
blade
grindstone blade
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2051786A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0739074B2 (en
Inventor
Yasuhiro Tani
泰弘 谷
Junichi Ikeno
順一 池野
Michio Kumazawa
熊澤 通夫
Motoo Yoshida
吉田 元夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OKAMOTO KOSAKU KIKAI SEISAKUSHO KK
Okamoto Machine Tool Works Ltd
Original Assignee
OKAMOTO KOSAKU KIKAI SEISAKUSHO KK
Okamoto Machine Tool Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OKAMOTO KOSAKU KIKAI SEISAKUSHO KK, Okamoto Machine Tool Works Ltd filed Critical OKAMOTO KOSAKU KIKAI SEISAKUSHO KK
Priority to JP2051786A priority Critical patent/JPH0739074B2/en
Publication of JPH03178769A publication Critical patent/JPH03178769A/en
Publication of JPH0739074B2 publication Critical patent/JPH0739074B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To take the mechanical load given to the body to be worked less than the sticking force by the electric force of a particulate and to cause no chipping, etc., by performing the grinding motion to the body to be worked by the particulate sticked to a grindstone blade with the electric force. CONSTITUTION:A grindstone blade 4 formed of a conductive thin plate and the body 9 to be worked are arranged in the water solution 2 mixed with a particulate 7. Electric charge is then exerted between the grindstone blade 4 and water solution 2, the particulate 7 suspended in the water solution 2 is charged and the particulate 7 is sticked to the grindstone blade 4. The layer thickness of the particulate 7 is aligned constant by a layer thickness regulating means 10 and the body 9 to be worked is ground by performing a relative movement in the space with the body 9 to be worked.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、平面研削、成形研削その他の研削方法および
その装置に係るもので、液相中に懸濁させた微粒子の電
気泳動現象を利用し、一般金属材料の外に、硬くて脆く
、かつ、衝撃に弱い被加工物の研削加工に適した研削方
法およびその装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to surface grinding, form grinding, and other grinding methods and apparatus thereof, which utilize the electrophoretic phenomenon of fine particles suspended in a liquid phase. The present invention relates to a grinding method and apparatus suitable for grinding not only general metal materials but also hard, brittle, and shock-resistant workpieces.

従来の技術 従来、シリコン、フェライト、セラミックス、ガラス等
の硬くて脆く、かつ、衝撃に弱い材料のダイシングやス
ライシングの加工を行なうには、研削砥石を用いて行な
っている。
BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, grinding wheels have been used to process dicing and slicing of hard, brittle, impact-resistant materials such as silicon, ferrite, ceramics, and glass.

発明が解決しようとする課題 研削砥石による機械的加工手段による場合には、被加工
物がシリコン、フェライト、セラミックス、ガラス等の
硬くて脆く、かつ、衝撃に弱い材料である場合には、被
加工物にチッピングが生じやすく、高精度の加工を行な
うことが困難である。
Problems to be Solved by the Invention In the case of mechanical processing using a grinding wheel, if the workpiece is a hard, brittle, impact-resistant material such as silicon, ferrite, ceramics, or glass, Chipping tends to occur on objects, making it difficult to perform high-precision processing.

課題を解決するための手段 微細粒子を混合した水溶液中に導電性のある薄板、若し
くは、一定の厚さのある板材により形成された砥石ブレ
ードと被加工物とを配設し、前記砥石ブレードと前記水
溶液との間に電荷をかけ、前記水溶液中に懸濁された微
粒子を帯電させて前記砥石ブレードに前記微粒子を付着
させ、この微粒子の層厚を層厚規制手段により一定に揃
えて前記被加工物との間で相対運動させることにより前
記被加工物を研削するようにした。
Means for Solving the Problems A grindstone blade formed of a conductive thin plate or a plate material with a certain thickness and a workpiece are placed in an aqueous solution containing fine particles, and the grindstone blade and the workpiece are disposed in an aqueous solution containing fine particles. The fine particles suspended in the aqueous solution are charged by applying an electric charge to the aqueous solution to adhere the fine particles to the grinding wheel blade, and the layer thickness of the fine particles is made constant by a layer thickness regulating means. The workpiece is ground by relative movement between the grinder and the workpiece.

また、その装置としては、微細粒子を混合した水溶液を
保持する水溶液保持手段と、前記水溶液中に配設されて
回転する円板状の砥石ブレードと、この砥石ブレードに
対向する被加工物と、前記砥石ブレードと前記水溶液と
の間に電圧を印加する電源手段と、前記砥石ブレードに
付着した微粒子の層厚を一定に揃える層厚規制手段とに
より構成した。
The device also includes: an aqueous solution holding means for holding an aqueous solution containing fine particles; a disc-shaped grindstone blade that is disposed in the aqueous solution and rotates; and a workpiece facing the grindstone blade. It was constructed by a power supply means for applying a voltage between the grindstone blade and the aqueous solution, and a layer thickness regulation means for regulating the layer thickness of fine particles attached to the grindstone blade to be constant.

作用 被加工物に対する研削動作は、砥石ブレードに電気力で
付着した微粒子により行なわれるため、被加工物に与え
られる機械的な負荷は微粒子の電気力による付着力以下
であり、その微粒子が被加工物に衝突することによる研
削であることから無理なく加工することができ、これに
より、チッピング等が発生することなく高精度で加工す
ることができ、また、加工幅の管理は微粒子の層厚を一
定に揃える層厚規制手段で行なうことができ、砥石ブレ
ードへの微粒子の付着は、水溶液中に懸濁させた微粒子
を帯電させることにより発生する電気泳動現象を利用す
ることにより簡単に行なうことができるものである。
Action The grinding operation on the workpiece is performed by fine particles attached to the grinding wheel blade by electric force, so the mechanical load applied to the workpiece is less than the adhesion force due to the electric force of the fine particles, and the fine particles are attached to the workpiece by electric force. Grinding is done by colliding with an object, so it can be processed easily.This allows high precision processing without chipping, and the processing width can be controlled by controlling the layer thickness of fine particles. This can be done by regulating the layer thickness to a constant level, and the adhesion of fine particles to the grinding wheel blade can be easily done by utilizing the electrophoresis phenomenon that occurs when fine particles suspended in an aqueous solution are charged. It is possible.

実施例 本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。Example An embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

まず、理解を助けるために、第■図に基づいてその原理
を説明する。
First, to aid understanding, the principle will be explained based on Figure 2.

容器1の中に粒径が10〜20nm程度のコロイダルシ
リカが混合されたアルカリ性水溶液2を蓄える。この水
溶液2中にスピンドル3で保持された黄銅型の砥石ブレ
ード4を位置させる。この砥石ブレード4は、その直径
が60mm、厚さが300〜400 ILm程度のもの
である。そして、前記砥石ブレード4と前記水溶液2と
には、電源手段としての外部電源5及び電極6により電
圧が印加されている。そのため、前記砥石ブレード4に
は、その電界分布に応じた形でコロイダルシリカによる
微粒子7が付着する。
An alkaline aqueous solution 2 mixed with colloidal silica having a particle size of about 10 to 20 nm is stored in a container 1. A brass type grindstone blade 4 held by a spindle 3 is placed in this aqueous solution 2. This grindstone blade 4 has a diameter of 60 mm and a thickness of about 300 to 400 ILm. A voltage is applied to the grindstone blade 4 and the aqueous solution 2 by an external power source 5 and an electrode 6 as power source means. Therefore, the fine particles 7 made of colloidal silica adhere to the grindstone blade 4 in a form corresponding to the electric field distribution.

ついで、前記容器1中に支台8が設けられ、この支台8
に被加工物9が取付けられている。この被加工物9の一
面には、前記砥石ブレード4に付着した微粒子7の層厚
を一定にするための層厚規制部材10が間隔調整自在に
ガラスにより形成されている。
Next, an abutment 8 is provided in the container 1, and this abutment 8
A workpiece 9 is attached to. A layer thickness regulating member 10 made of glass is formed on one surface of the workpiece 9 so that the layer thickness of the fine particles 7 adhering to the grindstone blade 4 is constant, and the interval can be freely adjusted.

したがって、砥石ブレード4の周囲には、電気泳動現象
により微粒子7が付着する。付着したこの微粒子7は層
厚規制部材10で砥石ブレード4の回転に伴い整形され
て一定の厚さになり、被加工物9に接触して研削加工す
る。すなわち、溝加工をする。この時、砥石ブレード4
が被加工物9に接触することはないので、機械的な無理
がなく、きわめて高精度の加工が行なわれる。
Therefore, the fine particles 7 adhere to the periphery of the grindstone blade 4 due to the electrophoretic phenomenon. The adhered fine particles 7 are shaped by the layer thickness regulating member 10 as the grindstone blade 4 rotates to a constant thickness, and come into contact with the workpiece 9 to be ground. That is, groove processing is performed. At this time, grindstone blade 4
Since the material does not come into contact with the workpiece 9, there is no mechanical stress and processing is performed with extremely high precision.

そして、この加工時に微粒子7の付着形状は崩れるが、
砥石ブレード4は回転していることにより、加工に関与
していない部分で付着作用が進行しており、連続的な加
工が可能である。
During this processing, the adhesion shape of the fine particles 7 is destroyed, but
Since the grindstone blade 4 is rotating, adhesion is progressing in parts not involved in machining, and continuous machining is possible.

つぎに、第2図乃至第6図に基づいてその装置の具体例
を説明する。第1図について説明した部分と同一部分は
同一符号を用い、説明も省略する。
Next, a specific example of the device will be explained based on FIGS. 2 to 6. Components that are the same as those described with reference to FIG. 1 are designated by the same reference numerals, and their description will be omitted.

まず、スピンドル3は水平に配設され、このスピンドル
3の先端に保持具11により砥石ブレード4が保持され
ている。そして、この砥石ブレード4の下方のみを開放
してカバー12が設けられ、このカバー12には、前記
砥石ブレード4の周囲に沿って配設された水溶液保持手
段としての水溶液通路13が設けられている。この水溶
液通路13には、パイプ14が連設され、このパイプ1
4は図示しない水溶液供給部に接続されている。
First, the spindle 3 is arranged horizontally, and the grindstone blade 4 is held at the tip of the spindle 3 by a holder 11. A cover 12 is provided with only the lower part of the grindstone blade 4 open, and the cover 12 is provided with an aqueous solution passage 13 as an aqueous solution holding means disposed along the periphery of the grindstone blade 4. There is. A pipe 14 is connected to this aqueous solution passage 13, and this pipe 1
4 is connected to an aqueous solution supply section (not shown).

そして、前記砥石ブレード4の下方−例には、層厚規制
部材10が設けられている。この層厚規制部材10は、
環状のスリット15を備えた回転体であり、前記砥石ブ
レード4の回転に連れ回りするように取付けられている
A layer thickness regulating member 10 is provided below the grindstone blade 4 . This layer thickness regulating member 10 is
It is a rotating body having an annular slit 15, and is attached so as to rotate with the rotation of the grindstone blade 4.

このように取付けられた砥石ブレード4の下方には、テ
ーブル16が設けられ、このテーブル16には、パーマ
ネントチャック17が取付けられ、このパーマネントチ
ャック17の上には、薄い絶縁材を介在させて治具18
が取付けられており、この治具18の周囲には、一定の
高さの壁19が設けられてプール20が形成されている
A table 16 is provided below the grindstone blade 4 mounted in this manner, and a permanent chuck 17 is mounted on this table 16. Ingredients 18
is attached, and a wall 19 of a constant height is provided around this jig 18 to form a pool 20.

このような構成において、研削加工に当っては、治具1
8の上に被加工物9をセットする。そして、パイプ14
から水溶液2を供給しながら砥石ブレード4を回転させ
る。これにより、砥石ブレード4の周囲には、水溶液通
路13を経て水溶液2が流下するが、その過程で微粒子
7が砥石ブレード4に付着する。そして、砥石ブレード
4の回転に伴って回転する層厚規制部材10により、砥
石ブレード4に付着した微粒子7は一定の厚さに整形さ
れる。
In such a configuration, during grinding, the jig 1
A workpiece 9 is set on top of the workpiece 8. And pipe 14
The grindstone blade 4 is rotated while supplying the aqueous solution 2 from the grinding wheel. As a result, the aqueous solution 2 flows down around the grindstone blade 4 via the aqueous solution passage 13, but the fine particles 7 adhere to the grindstone blade 4 in the process. The fine particles 7 attached to the grindstone blade 4 are shaped to have a constant thickness by the layer thickness regulating member 10 that rotates as the grindstone blade 4 rotates.

しかして、加工部においては、プール20中に水溶液2
は蓄えられており、その水溶液2中で砥石ブレード4に
付着した微粒子7は、被加工物9に接触した研削動作を
行なう。また、プール20からは水溶液2が流出するが
、図示しない回収手段によりその水溶液2は一定のとこ
ろに回収される。
However, in the processing section, the aqueous solution 2 is in the pool 20.
is stored, and the fine particles 7 attached to the grindstone blade 4 in the aqueous solution 2 contact the workpiece 9 and perform a grinding operation. Furthermore, although the aqueous solution 2 flows out from the pool 20, the aqueous solution 2 is collected at a fixed location by a collection means (not shown).

つぎに、砥石ブレード4としてダイヤモンドの入ってい
ない金属ブレードを用いた実験の結果な説明する。本実
験は、高速で回転する砥石ブレードへのシリカの付着と
それらによる研削能力の確認のためである。
Next, the results of an experiment using a metal blade without diamond as the grindstone blade 4 will be explained. The purpose of this experiment was to confirm the adhesion of silica to the grinding wheel blades rotating at high speed and the resulting grinding ability.

まず、研削条件としては、次の通りである。First, the grinding conditions are as follows.

ブレード : ブロンズ系金属ブレード切り込み : 
 1.1mm 送り速度 :  2.5mm/min 研削液  : スノーテックス30 (商品名) 研削液流量+  7Q/min 試  料 : シリコンウェハ 回転数  :  3000ppm 負荷電圧 :  30V この場合、負荷電圧がO■の時はブレードとシリコンウ
ェハが直接接触するためにブレードが損傷して切り込め
なかった。それに対して、前述のように負荷電圧が30
Vの時は、良好な研削ができて溝入れも可能になり、電
圧無負荷の時に伴つた金属音やブレードの損傷も認めら
れなかった。
Blade: Bronze metal blade Notch:
1.1mm Feed rate: 2.5mm/min Grinding fluid: Snowtex 30 (Product name) Grinding fluid flow rate + 7Q/min Sample: Silicon wafer Rotation speed: 3000ppm Load voltage: 30V In this case, the load voltage is O At that time, the blade was damaged due to direct contact between the blade and the silicon wafer, and the cut could not be made. On the other hand, as mentioned above, the load voltage is 30
At V, good grinding was possible and grooving was possible, and there was no metallic sound or damage to the blade that occurred when no voltage was applied.

これにより、高速で回転している金属ブレードに対して
もシリカが付着し、研削能力を持つことが確認できた。
As a result, it was confirmed that silica adhered to metal blades that were rotating at high speed, and that they had the ability to grind.

ついで、ダイヤモンドブレードを用いた実験の結果につ
いて説明する。前述の金属ブレードでは砥粒の剥離に伴
うブレードの破損の危険が有るため、次の加工条件でダ
イヤモンドブレードによるダイシングを行なった。
Next, the results of an experiment using a diamond blade will be explained. Since there is a risk of the blade being damaged due to peeling off of the abrasive grains in the metal blade described above, dicing was performed using a diamond blade under the following processing conditions.

ブレード :  SD50ON75M D 70mm  H40mm  TO,1mm:  0
.2mm :  5mm/min スノーテックス30 (商品名) 7Q/min ソーダガラス 3000rpm 研削液流量: 試   料  : 回転数  : 切り込み 送り速度 研削液 負荷電圧 : O■、30V このようなダイヤモンドブレードでもその結合材が導電
性を有している場合には、金属ブレードの場合と同様の
シリカの電着現象が生じる。電圧を印加することで全く
チッピングのない面が得られたが、加工断面にダレを生
じた。これはシリカの脱落速度に比して付着速度が速い
ために、ブレード回りに余分なシリカが付着し、そのシ
リカがダレを起こしたものと思われる。
Blade: SD50ON75M D 70mm H40mm TO, 1mm: 0
.. 2mm: 5mm/min Snowtex 30 (Product name) 7Q/min Soda glass 3000rpm Grinding fluid flow rate: Sample: Rotation speed: Cutting feed rate Grinding fluid load voltage: O■, 30V Even with such a diamond blade, the bonding material When it has conductivity, the same electrodeposition phenomenon of silica as in the case of a metal blade occurs. By applying a voltage, a surface with no chipping was obtained, but sagging occurred on the processed cross section. This is thought to be because the deposition rate is faster than the rate at which the silica falls off, so extra silica adheres around the blade, causing the silica to sag.

このダレをなくすためには砥粒の脱落速度を速くするこ
とが必要と考えられたので、加工条件の内、切込み量を
0.5mmとして実験を行なった。
In order to eliminate this sagging, it was thought that it was necessary to increase the falling rate of the abrasive grains, so an experiment was conducted with the depth of cut set to 0.5 mm among the processing conditions.

その結果、ダレはほとんど消滅したが、チッピングがか
なりみられるようになった。これは逆に砥粒の付着速度
が脱落速度に比べ低過ぎたためだと思われる。
As a result, most of the sag disappeared, but a lot of chipping became visible. This seems to be due to the fact that the rate at which the abrasive grains adhered was too low compared to the rate at which they fell off.

そこで、今度は付着速度を高めるために、負荷電圧を6
0Vとして、0.5mmの切込みを行なった。これによ
り、ダレもチッピングもかなり押えられた溝が得られた
。この時のチッピング量の測定結果を第7図に示す。
Therefore, in order to increase the adhesion speed, the load voltage was increased to 6
A cut of 0.5 mm was made at 0V. As a result, grooves with significantly suppressed sagging and chipping were obtained. The measurement results of the amount of chipping at this time are shown in FIG.

ここで、このような測定結果を得た条件を第8図に示す
。まず、21mm角の試料に対し、測定点は1mm間隔
で計20ケ所とした。各測定点での測定長さは、0 、
4 mmとし、各測定箇所では溝両端面について各lケ
所ずつ、それぞれその中に存在するチッピングのうちで
最大幅のもの(第8図中のa、b)を累積した。
Here, the conditions under which such measurement results were obtained are shown in FIG. First, for a 21 mm square sample, a total of 20 measurement points were set at 1 mm intervals. The measured length at each measurement point is 0,
4 mm, and at each measurement location, the largest width chips (a, b in FIG. 8) among the chippings existing therein were accumulated at l locations on both end faces of the groove.

以上のことにより、この加工には最適条件が存在し、そ
れはシリカの脱落速度と付着速度とが同一になる時であ
ると推測される。また、この条件下では、ダレもチッピ
ングもほとんど存在しない加工が可能であると考えられ
る。
From the above, it is presumed that there is an optimal condition for this process, and that is when the falling rate and the deposition rate of silica become the same. Furthermore, under these conditions, it is thought that processing with almost no sag or chipping is possible.

発明の効果 本発明は上述のように、微細粒子を混合した水溶液中に
導電性のある薄板、又は所定の厚さのある板材により形
成された砥石ブレードと被加工物とを配設し、前記砥石
ブレードと前記水溶液との間に電荷をかけ、前記水溶液
中に懸濁された微粒子を帯電させて前記砥石ブレードに
前記微粒子を付着させ、この微粒子の層厚を層厚規制手
段により一定に揃えて前記被加工物との間で相対運動さ
せることにより前記被加工物を研削するようにしたので
、被加工物に対する研削動作は、砥石ブレードに電気力
で付着した微粒子により行なわれるため、被加工物に与
えられる機械的な負荷は微粒子の電気力による付着力以
下であり、その微粒子が被加工物に衝突することによる
研削であることから無理なく加工することができ、これ
により、チッピング等が発生することなく高精度で加工
することができ、また、加工幅の管理は微粒子の層厚を
一定に揃える層厚規制手段で行なうことができ、砥石ブ
レードへの微粒子の付着は、水溶液中に懸濁させた微粒
子を帯電させることにより発生する電気泳動現象を利用
することにより簡単に行なうことができ、また、その装
置としては、微細粒子を混合した水溶液を保持する水溶
液保持手段と、前記水溶液中に配設されて回転する薄板
により形成された円板状の砥石ブレードと、この砥石ブ
レードに対向する被加工物と、前記砥石ブレードと前記
水溶液との間に電圧を印加する電源手段と、前記砥石ブ
レードに付着した微粒子の層厚を一定に揃える層厚規制
手段とにより簡単に形成することができるものである。
Effects of the Invention As described above, the present invention disposes a grindstone blade formed of a conductive thin plate or a plate material with a predetermined thickness and a workpiece in an aqueous solution containing fine particles, and Applying an electric charge between the grinding wheel blade and the aqueous solution to charge the fine particles suspended in the aqueous solution, causing the fine particles to adhere to the grinding wheel blade, and making the layer thickness of the fine particles constant by a layer thickness regulating means. Since the workpiece is ground by making the workpiece move relative to the workpiece, the grinding operation on the workpiece is performed by fine particles attached to the grindstone blade by electric force. The mechanical load applied to the object is less than the adhesion force due to the electric force of the particles, and the grinding is done by the particles colliding with the workpiece, so it can be processed without difficulty, thereby preventing chipping etc. Machining can be performed with high precision without generation of particles, and the processing width can be controlled using a layer thickness regulating means that keeps the layer thickness of fine particles constant. This can be easily carried out by utilizing the electrophoresis phenomenon that occurs when suspended fine particles are charged, and the apparatus includes an aqueous solution holding means for holding an aqueous solution containing mixed fine particles, and an aqueous solution holding means for holding an aqueous solution containing mixed fine particles. a disc-shaped grindstone blade formed by a rotating thin plate disposed therein, a workpiece facing the grindstone blade, and a power supply means for applying a voltage between the grindstone blade and the aqueous solution; This can be easily formed by using a layer thickness regulating means that makes the layer thickness of the fine particles adhered to the grindstone blade constant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理を示す縦断側面図、第2図は本発
明の一実施例を示す縦断側面図、第3図はその一部の正
面図、第4図は層厚規制部材の縦断側面図、第5図はテ
ーブル部分の側面図、第6図はその平面図、第7図はチ
ッピングの分布図、第8図はチッピングの測定方法を示
す説明図である。 l。 ・・水溶液保持手段、 2・・・水溶液、 4・・・ 砥石ブレード、 5・・・電源手段、 7・・・微粒子、 9・・・ 被加工物、 ・・層厚規制部材 出 願 人 株式会社岡本工作機械製作所 谷 泰 弘 ヒンL:・ 3」 隣 」す・°A動i規雷ll引労才
Fig. 1 is a longitudinal side view showing the principle of the present invention, Fig. 2 is a longitudinal side view showing an embodiment of the invention, Fig. 3 is a front view of a part thereof, and Fig. 4 is a layer thickness regulating member. 5 is a side view of the table portion, FIG. 6 is a plan view thereof, FIG. 7 is a distribution diagram of chipping, and FIG. 8 is an explanatory diagram showing a method of measuring chipping. l. ...Aqueous solution holding means, 2..Aqueous solution, 4.. Grinding wheel blade, 5.. Power supply means, 7.. Fine particles, 9.. Workpiece, .... Layer thickness regulating member applicant Co., Ltd. Okamoto Machine Tool Manufacturing Co., Ltd. Yasuhiro Tani Hin L: ・ 3 "Next" ・ ° A motion regulation ll laborious talent

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、微細粒子を混合した水溶液中に導電性のある薄板に
より形成された砥石ブレードと被加工物とを配設し、前
記砥石ブレードと前記水溶液との間に電荷をかけ、前記
水溶液中に懸濁された微粒子を帯電させて前記砥石ブレ
ードに前記微粒子を付着させ、この微粒子の層厚を層厚
規制手段により一定に揃えて前記被加工物との間で相対
運動させることにより前記被加工物を研削するようにし
たことを特徴とする研削方法。 2、砥石ブレードを金属ブレードとしたことを特徴とす
る請求項1記載の研削方法。 3、砥石ブレードをダイヤモンドブレードとしたことを
特徴とする請求項1記載の研削方法。 4、微細粒子を混合した水溶液中に導電性がある一定厚
さの板材により形成された砥石ブレードと被加工物とを
配設し、前記砥石ブレードと前記水溶液との間に電荷を
かけ、前記水溶液中に懸濁された微粒子を帯電させて前
記砥石ブレードに前記微粒子を付着させ、この微粒子の
層厚を層厚規制手段により一定に揃えて前記被加工物と
の間で相対運動させることにより前記被加工物を研削す
るようにしたことを特徴とする研削方法。 5、微細粒子を混合した水溶液を保持する水溶液保持手
段と、前記水溶液中に配設されて回転する円板状の砥石
ブレードと、この砥石ブレードに対向する被加工物と、
前記砥石ブレードと前記水溶液との間に電圧を印加する
電源手段と、前記砥石ブレードに付着した微粒子の層厚
を一定に揃える層厚規制手段とよりなることを特徴とす
る研削装置。
[Claims] 1. A grindstone blade formed of a conductive thin plate and a workpiece are disposed in an aqueous solution containing fine particles, and an electric charge is applied between the grindstone blade and the aqueous solution. , the fine particles suspended in the aqueous solution are charged, the fine particles are attached to the grindstone blade, the layer thickness of the fine particles is made constant by a layer thickness regulating means, and the fine particles are moved relative to the workpiece. A grinding method characterized in that the workpiece is ground by: 2. The grinding method according to claim 1, wherein the grindstone blade is a metal blade. 3. The grinding method according to claim 1, wherein the grindstone blade is a diamond blade. 4. A grindstone blade formed of a conductive plate material of a certain thickness and a workpiece are placed in an aqueous solution containing fine particles, and an electric charge is applied between the grindstone blade and the aqueous solution. By electrifying fine particles suspended in an aqueous solution and adhering the fine particles to the grinding wheel blade, the layer thickness of the fine particles is made constant by a layer thickness regulating means, and the fine particles are caused to move relative to the workpiece. A grinding method characterized in that the workpiece is ground. 5. an aqueous solution holding means for holding an aqueous solution containing fine particles; a disc-shaped grindstone blade that is disposed in the aqueous solution and rotates; and a workpiece facing the grindstone blade;
A grinding device comprising: a power supply means for applying a voltage between the grindstone blade and the aqueous solution; and a layer thickness regulation means for regulating the layer thickness of fine particles attached to the grindstone blade to be constant.
JP2051786A 1989-03-08 1990-03-05 Grinding method and apparatus Expired - Fee Related JPH0739074B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2051786A JPH0739074B2 (en) 1989-03-08 1990-03-05 Grinding method and apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1-55585 1989-03-08
JP5558589 1989-03-08
JP2051786A JPH0739074B2 (en) 1989-03-08 1990-03-05 Grinding method and apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03178769A true JPH03178769A (en) 1991-08-02
JPH0739074B2 JPH0739074B2 (en) 1995-05-01

Family

ID=26392355

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2051786A Expired - Fee Related JPH0739074B2 (en) 1989-03-08 1990-03-05 Grinding method and apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0739074B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0739074B2 (en) 1995-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3286941B2 (en) Truing method of diamond grinding wheel
TW201231219A (en) Grinding/polishing device for polygonal column member and grinding/polishing method
JPH03121776A (en) Electrolytic polishing/grinding method and device therefor
JPH09168947A (en) Work periphery grinding method by ultrasonic micro vibration
JP5622445B2 (en) Grinding method and grinding apparatus
JP6656327B2 (en) Work processing equipment
KR950004921B1 (en) Machining table of grinding machine
JP7385985B2 (en) Blade processing equipment and blade processing method
JPH03178769A (en) Grinding method and device therefor
JP2601750B2 (en) Wheel side shaping method by on-machine discharge truing method
JP2565385B2 (en) Combined processing method and apparatus of electrolytic dressing grinding method and polishing method using conductive whetstone as tool
JPH07100737A (en) Method for polishing semiconductor wafer
JP6812068B2 (en) Processing method
JPS618280A (en) Wheel spindle and method for curved face grinding
JPH06270139A (en) Hole processing of hard and fragile material
JPH06114733A (en) Grinding wheel shaping method by on-machine discharge truing method
JPH0691437A (en) Dressing method for cutting tool, dressing method for grinding tool, and cutting tool and grinding tool
JPS62152676A (en) Manufacture of diamond grindstone
JPH04201073A (en) On board electric discharging trueing/dressing method and device thereof
JPH0775829B2 (en) Precision polishing method
JPH01210259A (en) Polishing machine
JPH0431818B2 (en)
JP3671250B2 (en) Diamond grinding wheel and its truing device
JP2002292570A (en) Electrodeposition tool
Cai et al. A Novel Electro-Discharge Dressing Technique for Nonelectrical Diamond Grinding Wheels