JPH0317300A - 被メツキ物用のサイホン管 - Google Patents
被メツキ物用のサイホン管Info
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- JPH0317300A JPH0317300A JP1149731A JP14973189A JPH0317300A JP H0317300 A JPH0317300 A JP H0317300A JP 1149731 A JP1149731 A JP 1149731A JP 14973189 A JP14973189 A JP 14973189A JP H0317300 A JPH0317300 A JP H0317300A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
-
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- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/003—Electroplating using gases, e.g. pressure influence
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、メッキ装置にてメッキされる被メッキ物用
のサイホン管に関するものである。
のサイホン管に関するものである。
金属、プラスチック等の被メッキ物に、金属、合金等の
被膜を形戒するメッキ装置であって、被メッキ物を複数
個の処理槽に順次に侵潰させて、被メッキ物に前処理、
メッキ及び後処理を施す各工程において、被メッキ物を
搬送装置にて搬送するものが知られている。
被膜を形戒するメッキ装置であって、被メッキ物を複数
個の処理槽に順次に侵潰させて、被メッキ物に前処理、
メッキ及び後処理を施す各工程において、被メッキ物を
搬送装置にて搬送するものが知られている。
この種のメッキ装置によってメッキ処理される被メッキ
物で、比較的深い凹所を有する場合がある。このような
被メッキ物は、例えばディスクブレーキ用のサポートで
あり、このサポートには、キャリパを摺動案内するため
のビンを挿入するための袋穴状の凹所が形威されている
。
物で、比較的深い凹所を有する場合がある。このような
被メッキ物は、例えばディスクブレーキ用のサポートで
あり、このサポートには、キャリパを摺動案内するため
のビンを挿入するための袋穴状の凹所が形威されている
。
この種の凹所を有する従来の被メッキ物に例えば電気メ
ッキを施す際、凹所の開口を上部として前処理、メッキ
又は後処理用の複数個の処理槽に浸漬させると、一つの
処理槽に浸漬したとき、処理冫夜が凹所に浸入し、他の
処理液を貯溜した処理槽に搬送浸漬したとき、両処理液
の混合混濁を生ずるため、処理槽を変更する隙、被メッ
キ物の上下を反転させて凹所から処理液を排出させなけ
ればならず、この作業を省略すると、処理液の早期劣化
を生しる。そこで、被メッキ物の凹所をゴム製プラグに
よって閉塞することが行われているが、その場合には、
凹所に前処理等が施されず、またメッキを施すためには
前処理後にプラグを取り外す必要を生し、メッキ工程の
自動化の妨げとなってしまうのみならず、凹所の開口を
上部とした同し姿勢にて凹所内に良好なメッキを施すこ
とができないという不具合がある。
ッキを施す際、凹所の開口を上部として前処理、メッキ
又は後処理用の複数個の処理槽に浸漬させると、一つの
処理槽に浸漬したとき、処理冫夜が凹所に浸入し、他の
処理液を貯溜した処理槽に搬送浸漬したとき、両処理液
の混合混濁を生ずるため、処理槽を変更する隙、被メッ
キ物の上下を反転させて凹所から処理液を排出させなけ
ればならず、この作業を省略すると、処理液の早期劣化
を生しる。そこで、被メッキ物の凹所をゴム製プラグに
よって閉塞することが行われているが、その場合には、
凹所に前処理等が施されず、またメッキを施すためには
前処理後にプラグを取り外す必要を生し、メッキ工程の
自動化の妨げとなってしまうのみならず、凹所の開口を
上部とした同し姿勢にて凹所内に良好なメッキを施すこ
とができないという不具合がある。
（課題を解決するための手段）
この発明は、このような従来の技術的課題に鑑みてなさ
れたものであり、請求項（】）記載の発明の構威は、複
数個の処理槽に順次に浸漬させる被メッキ物用のサイホ
ン管であって、上部に開口を備える凹所を有する被メッ
キ物に対し、一端部が他端部よりも短いＪ字状のサイホ
ン管の該一端部を、前記凹所に挿入し、該他端部を垂下
して備える被メッキ物用のサイホン管である。
れたものであり、請求項（】）記載の発明の構威は、複
数個の処理槽に順次に浸漬させる被メッキ物用のサイホ
ン管であって、上部に開口を備える凹所を有する被メッ
キ物に対し、一端部が他端部よりも短いＪ字状のサイホ
ン管の該一端部を、前記凹所に挿入し、該他端部を垂下
して備える被メッキ物用のサイホン管である。
また、請求項（２）記載の発明の構成は、複数個の処理
槽に順次に浸漬させる被メッキ物用のサイホン管であっ
て、上部に開口を備える凹所を有する被メッキ物に対し
、一端部が他端部よりも短いｊ字状のナイホン管の該一
端部を、前記凹所に挿入し、該他端部を垂下して該被メ
ッキ物に非接触の状朋にて備えられ、かつ該サイホン管
の一端部から他端部の少なくとも上部にわたり、電気的
に双極を起こし得る材料にて製作されている被メッキ物
用のサイホン管である。
槽に順次に浸漬させる被メッキ物用のサイホン管であっ
て、上部に開口を備える凹所を有する被メッキ物に対し
、一端部が他端部よりも短いｊ字状のナイホン管の該一
端部を、前記凹所に挿入し、該他端部を垂下して該被メ
ッキ物に非接触の状朋にて備えられ、かつ該サイホン管
の一端部から他端部の少なくとも上部にわたり、電気的
に双極を起こし得る材料にて製作されている被メッキ物
用のサイホン管である。
（作用〕
しかして、請求項（１）記載の発明によれば、サイホン
管を備える被メッキ物は、メッキ工程の前処理、メッキ
又は後処理用の複数個の処理槽に順次に挿入される。被
メッキ物を処理槽の処理液中に浸漬して行くと、被メッ
キ物の開口の周囲の上面が処理液の液面に達するまでの
間は、サイホン管の他端部に処理液が浸入する。処理液
の液面が被メッキ物の開口の周囲の上面を越えると、凹
所内にも処理液が流入し、サイホン管の一端部開口を閉
塞するので、サイホン管内に空気が閉し込められる。次
いで、被メッキ物及びサイホン管を充分に処理液中に浸
漬すれば、サイホン管内に閉じ込められた空気はサイホ
ン管の上部に移動して安定する。
管を備える被メッキ物は、メッキ工程の前処理、メッキ
又は後処理用の複数個の処理槽に順次に挿入される。被
メッキ物を処理槽の処理液中に浸漬して行くと、被メッ
キ物の開口の周囲の上面が処理液の液面に達するまでの
間は、サイホン管の他端部に処理液が浸入する。処理液
の液面が被メッキ物の開口の周囲の上面を越えると、凹
所内にも処理液が流入し、サイホン管の一端部開口を閉
塞するので、サイホン管内に空気が閉し込められる。次
いで、被メッキ物及びサイホン管を充分に処理液中に浸
漬すれば、サイホン管内に閉じ込められた空気はサイホ
ン管の上部に移動して安定する。
次に、特定の処理槽での処理が終了した被メッキ物を処
理液中から上昇させて取り出せば、被メッキ物の凹所内
に残存する処理液は、サイホン管の一端部開口から吸い
込まれ、他端部から処理槽内に流出する。すなわち、サ
イホン管の他端部の方が一端部よりも長いため、他端部
内の処理液が重力を受けて流出すると、サイホン管内に
存在する空気並びにサイホン管の一端部及び凹所内に存
在する処理我が次々に流出する。
理液中から上昇させて取り出せば、被メッキ物の凹所内
に残存する処理液は、サイホン管の一端部開口から吸い
込まれ、他端部から処理槽内に流出する。すなわち、サ
イホン管の他端部の方が一端部よりも長いため、他端部
内の処理液が重力を受けて流出すると、サイホン管内に
存在する空気並びにサイホン管の一端部及び凹所内に存
在する処理我が次々に流出する。
このようにして、被メッキ物を複数個の処理槽の処理液
中に浸漬した後取り出す作業を順次に操り返し与えるこ
とにより、各処理槽毎の処理液が凹所内に浸入後、サイ
ホン管によって汲み出され、処理液に応した各処理が凹
所内にも確実になされると共に、凹所内に処理液が残存
することに起因する各処理槽間の処理液の混合汚濁が避
けられる。
中に浸漬した後取り出す作業を順次に操り返し与えるこ
とにより、各処理槽毎の処理液が凹所内に浸入後、サイ
ホン管によって汲み出され、処理液に応した各処理が凹
所内にも確実になされると共に、凹所内に処理液が残存
することに起因する各処理槽間の処理液の混合汚濁が避
けられる。
また、請求項（２）記載の発明によれば、請求項（１）
記載の発明と同様の作用が得られる他、メッキを与える
処理槽において、バイボーラ（ｂｊｐｏｌａｒ）電極と
しての作用が得られる。すなわち、メッキ用の処理槽の
処理液中に電気的に双極を起こし得る材料にて製作され
ているサイホン管を位置させれば、サイホン管が補助陽
極と近似した作用を果たし、陽極に近い部分が双極によ
って陰極化し、陰極である被メッキ物に近い部分が双極
によって陽極化するため、被メッキ物の凹所内壁を陰極
として、凹所内にもほぼ均一な電流が流れ、その結果、
凹所内にも良好なメッキがなされる。
記載の発明と同様の作用が得られる他、メッキを与える
処理槽において、バイボーラ（ｂｊｐｏｌａｒ）電極と
しての作用が得られる。すなわち、メッキ用の処理槽の
処理液中に電気的に双極を起こし得る材料にて製作され
ているサイホン管を位置させれば、サイホン管が補助陽
極と近似した作用を果たし、陽極に近い部分が双極によ
って陰極化し、陰極である被メッキ物に近い部分が双極
によって陽極化するため、被メッキ物の凹所内壁を陰極
として、凹所内にもほぼ均一な電流が流れ、その結果、
凹所内にも良好なメッキがなされる。
このようなバイボーラ電極としての作用は、サイホン管
の一端部から他端部の少なくとも上部にわたり、電気的
に双極を起こし得る材料にて製作し、陽極に近い部分を
陰極化させ、陰極である被メッキ物の凹所内に位置する
部分を陽極化させれば得られるものである。
の一端部から他端部の少なくとも上部にわたり、電気的
に双極を起こし得る材料にて製作し、陽極に近い部分を
陰極化させ、陰極である被メッキ物の凹所内に位置する
部分を陽極化させれば得られるものである。
［実施例］
以下、この発明の実施例について図面を参照して説明す
る． 第ｌ〜５図は、この発明の第１実施例を示す。
る． 第ｌ〜５図は、この発明の第１実施例を示す。
図中において符号１は被メッキ物を示し、被メッキ物１
には、比較的深い袋穴状の凹所２が形威されている．具
体的には、この被メッキ物ｌは、車両の非回転部に固設
されるディスクブレーキのサポートであり、凹所２には
、このサポートに浮動的に支持されるキャリバのピンが
進退自在に挿入される。
には、比較的深い袋穴状の凹所２が形威されている．具
体的には、この被メッキ物ｌは、車両の非回転部に固設
されるディスクブレーキのサポートであり、凹所２には
、このサポートに浮動的に支持されるキャリバのピンが
進退自在に挿入される。
３は、サイホン管を示し、−ｉ部３ａが他端部３ｂより
も短いＪ字状をなし、プラスチック等の双極を生しない
管状材料にて製作されている．このような被メッキ物ｌ
は、凹所２の開口２ａを上部とした姿勢にて、サイホン
管３の一端部３ａを凹所２に挿入し、他端部３ｂを垂下
させて、逆Ｊ字状にサイホン管３を備えさせる。
も短いＪ字状をなし、プラスチック等の双極を生しない
管状材料にて製作されている．このような被メッキ物ｌ
は、凹所２の開口２ａを上部とした姿勢にて、サイホン
管３の一端部３ａを凹所２に挿入し、他端部３ｂを垂下
させて、逆Ｊ字状にサイホン管３を備えさせる。
サイホン管３を備える被メッキ物ｌは、図外の治具に引
掛けた状態にて搬送装置によって殿送され、第２図に示
すような？Ｊｌ数個の処理槽４に順次に挿入する。処理
槽４は、前処理用（浸漬脱脂、水洗、電解脱脂、水洗、
酸洗、水洗等）、メッキ用又は後処理用（水洗、場洗、
耐食性強化等）の所定の処理ＷＬ５を貯溜している。被
メッキ物１を処理槽４の処理液５中に浸漬して行くと、
第３図に示すように被メンキ物ｌの開口２ａの周囲の上
面が処理液５の液面５ａに達するまでの間は、サイホン
管３の他端部３ｂに処理液５が自由に浸入する。
掛けた状態にて搬送装置によって殿送され、第２図に示
すような？Ｊｌ数個の処理槽４に順次に挿入する。処理
槽４は、前処理用（浸漬脱脂、水洗、電解脱脂、水洗、
酸洗、水洗等）、メッキ用又は後処理用（水洗、場洗、
耐食性強化等）の所定の処理ＷＬ５を貯溜している。被
メッキ物１を処理槽４の処理液５中に浸漬して行くと、
第３図に示すように被メンキ物ｌの開口２ａの周囲の上
面が処理液５の液面５ａに達するまでの間は、サイホン
管３の他端部３ｂに処理液５が自由に浸入する。
処理液５の液面５ａが被メッキ物ｌの開口２ａの周囲の
上面を越えると、凹所２内にも処理液５が流入し、サイ
ホン管３の一端部３ａ開口を閉塞するので、サイホン管
３内にはほぼａ−ｂ間の空ヌが閉し込められる。次いで
、被メッキ物１及びサイホン管３を充分に処理液５中に
浸漬すれば、第４図に示すようにサイホン管３内の空気
はサイホン管３の上部ｃ − ｄ間に移動して安定する
。このような作用を得るためには、勿論、サイホン管３
の一端部３ａ開口が、被メッキ物１の凹所２の底部にて
閉塞されてはならず、このために一端部３ａ開口周辺に
適宜の切欠き３Ｃを形或し、処理液５の流通を確実にす
ることが望ましい。
上面を越えると、凹所２内にも処理液５が流入し、サイ
ホン管３の一端部３ａ開口を閉塞するので、サイホン管
３内にはほぼａ−ｂ間の空ヌが閉し込められる。次いで
、被メッキ物１及びサイホン管３を充分に処理液５中に
浸漬すれば、第４図に示すようにサイホン管３内の空気
はサイホン管３の上部ｃ − ｄ間に移動して安定する
。このような作用を得るためには、勿論、サイホン管３
の一端部３ａ開口が、被メッキ物１の凹所２の底部にて
閉塞されてはならず、このために一端部３ａ開口周辺に
適宜の切欠き３Ｃを形或し、処理液５の流通を確実にす
ることが望ましい。
次に、特定の処理槽４での処理が終了した被メッキ物１
を処理液５中から上昇させて取り出せば、第５図に示す
ように被メッキ吻１の凹所２内に残存する処理液５は、
サイホン管３の一端部３ａ開口から吸い込まれ、他端部
３ｂから処理槽４内に流出する。すなわち、サイホン管
３の他端部３ｂの方が一端部３ａよりも長いため、他端
部３ｂ内の処理液５が重力を受けて流出すると、上部Ｃ
〜ｄ間に存在する空気並びに一端部３ａ及び凹所２内に
存在する処理液５が次々に流出する。この現象の良好な
発現のために、第１図に示すようにサイホン管３の他端
部３ｂの長さ（Ｂ）を一端部３ａの長さ（Ａ）よりも１
．５倍以上に設定することが望ましい。
を処理液５中から上昇させて取り出せば、第５図に示す
ように被メッキ吻１の凹所２内に残存する処理液５は、
サイホン管３の一端部３ａ開口から吸い込まれ、他端部
３ｂから処理槽４内に流出する。すなわち、サイホン管
３の他端部３ｂの方が一端部３ａよりも長いため、他端
部３ｂ内の処理液５が重力を受けて流出すると、上部Ｃ
〜ｄ間に存在する空気並びに一端部３ａ及び凹所２内に
存在する処理液５が次々に流出する。この現象の良好な
発現のために、第１図に示すようにサイホン管３の他端
部３ｂの長さ（Ｂ）を一端部３ａの長さ（Ａ）よりも１
．５倍以上に設定することが望ましい。
このようにして、被メッキ物ｌを複数個の処理槽４の処
理冫良５中に浸漬した後取り出す作業を操り返し与える
ことにより、各処理槽４毎の処理演５が凹所２内に浸入
後、サイホン管３によって汲み出され、処理液５に応し
た処理が凹所２内にも確実になされると共に、凹所２内
に処理液５が残存することに起因する各処理槽４間の処
理／Ｆ！ｊ．５の混合が避けられる。
理冫良５中に浸漬した後取り出す作業を操り返し与える
ことにより、各処理槽４毎の処理演５が凹所２内に浸入
後、サイホン管３によって汲み出され、処理液５に応し
た処理が凹所２内にも確実になされると共に、凹所２内
に処理液５が残存することに起因する各処理槽４間の処
理／Ｆ！ｊ．５の混合が避けられる。
第６．７図には、この発明の第２実施例を示し、第１実
施例と実質的に同一部分には同一符号を付してある。こ
の実施例にあっては、サイホン管６は、一端部６ａが他
端部６ｂよりも短いＪ字状をなし、金属等の双極を生し
得る管状材料にて製作されている。そして、サイホン管
６の一端部６ａには、被メッキ物１の凹所２の深さとほ
ぼ同し長さの複数条の露出部６ｃ及び他端部６ｂの先端
６ｄを除き、電気的絶縁物による被膜７を形或し、被メ
ッキ物１との接触を防止してある。また、サイホン管６
の一端部６ａ先端には、第７図に詳示するように、先端
部に複数個の切欠きｌｌａを形威した短筒状の電気的絶
縁物にて製作したキャツプ１１を装着することができる
．このキャップｌ１は、サイホン管６の一端部６ａを被
メッキ物１の凹所２に挿入した際、一端部６ａの先端が
電気的接触を生ずることを防止すると共に、一端部６ａ
からの処理液９の流通を許容する機能を有し、このキャ
ップ１１の装着により、深さの異なる凹所２を備える各
種の被メッキ物１に対し、同一のサイホン管６を被メッ
キ物ｌに非接触の状態にて備えることが容易になる． このようなサイホン管６を備える被メッキ物１を、例え
ば前処理の各処理槽の処理液中に浸漬した後取り出す作
業を繰り返し与えることにより、各処理槽毎の処理液が
凹所２内に浸入後、汲み出され、各処理液に応じた処理
が確実になされると共に、各処理槽間の処理液の混合が
避けられ、第１実施例と同様の作用が得られる。加えて
、第６図に示すようにメッキを与える処理槽８において
、バイポーラ電極としての作用を生ずる。すなわち、メ
ッキ用の処理槽８の処理液９中にサイホン管６を位置さ
せれば、サイホン管６が補助陽極と近似した作用を果た
し、陽極１０に近い部分が双極によって陰極化し、陰極
である被メッキ物１に近い部分が双極によって陽極化す
るため、被メッキ物ｌの凹所２内壁を陰極として、凹所
２内にもほぼ均一な電流が流れ、その結果、良好なメッ
キがなされる。その際、バイポーラ模作用により、サイ
ホン管６の陽極化した一端部６ａが溶解し、陰極化した
他端部６ｂに金属が析出する傾向を示すため、サイホン
管６の材質としては、メッキ金属と同一材質とするか、
或いは不溶性電導体とするのが好ましい。また、サイホ
ン管６の他端部６ｂは、その全てを双極を生し得る材料
にて製作する必要はなく、一端部６ａから他端部６ｂの
少なくとも上部にわたり、電気的に双極を起こし得る材
料にて製作し、陽極１０に近い部分を陰極化させ、陰極
である被メッキ物１に近い部分を陽極化させればよい． 実際に、サイホン管６を備える被メッキ物１としてディ
スクブレーキ用のサポートを用い、処理槽８を塩化亜鉛
メッキ浴槽として、３５Ａ／個の電流を６分間通してメ
ッキを行った。これにより、凹所２内に平均で３μｍの
メッキがなされていることをｌｉｎ認した。
施例と実質的に同一部分には同一符号を付してある。こ
の実施例にあっては、サイホン管６は、一端部６ａが他
端部６ｂよりも短いＪ字状をなし、金属等の双極を生し
得る管状材料にて製作されている。そして、サイホン管
６の一端部６ａには、被メッキ物１の凹所２の深さとほ
ぼ同し長さの複数条の露出部６ｃ及び他端部６ｂの先端
６ｄを除き、電気的絶縁物による被膜７を形或し、被メ
ッキ物１との接触を防止してある。また、サイホン管６
の一端部６ａ先端には、第７図に詳示するように、先端
部に複数個の切欠きｌｌａを形威した短筒状の電気的絶
縁物にて製作したキャツプ１１を装着することができる
．このキャップｌ１は、サイホン管６の一端部６ａを被
メッキ物１の凹所２に挿入した際、一端部６ａの先端が
電気的接触を生ずることを防止すると共に、一端部６ａ
からの処理液９の流通を許容する機能を有し、このキャ
ップ１１の装着により、深さの異なる凹所２を備える各
種の被メッキ物１に対し、同一のサイホン管６を被メッ
キ物ｌに非接触の状態にて備えることが容易になる． このようなサイホン管６を備える被メッキ物１を、例え
ば前処理の各処理槽の処理液中に浸漬した後取り出す作
業を繰り返し与えることにより、各処理槽毎の処理液が
凹所２内に浸入後、汲み出され、各処理液に応じた処理
が確実になされると共に、各処理槽間の処理液の混合が
避けられ、第１実施例と同様の作用が得られる。加えて
、第６図に示すようにメッキを与える処理槽８において
、バイポーラ電極としての作用を生ずる。すなわち、メ
ッキ用の処理槽８の処理液９中にサイホン管６を位置さ
せれば、サイホン管６が補助陽極と近似した作用を果た
し、陽極１０に近い部分が双極によって陰極化し、陰極
である被メッキ物１に近い部分が双極によって陽極化す
るため、被メッキ物ｌの凹所２内壁を陰極として、凹所
２内にもほぼ均一な電流が流れ、その結果、良好なメッ
キがなされる。その際、バイポーラ模作用により、サイ
ホン管６の陽極化した一端部６ａが溶解し、陰極化した
他端部６ｂに金属が析出する傾向を示すため、サイホン
管６の材質としては、メッキ金属と同一材質とするか、
或いは不溶性電導体とするのが好ましい。また、サイホ
ン管６の他端部６ｂは、その全てを双極を生し得る材料
にて製作する必要はなく、一端部６ａから他端部６ｂの
少なくとも上部にわたり、電気的に双極を起こし得る材
料にて製作し、陽極１０に近い部分を陰極化させ、陰極
である被メッキ物１に近い部分を陽極化させればよい． 実際に、サイホン管６を備える被メッキ物１としてディ
スクブレーキ用のサポートを用い、処理槽８を塩化亜鉛
メッキ浴槽として、３５Ａ／個の電流を６分間通してメ
ッキを行った。これにより、凹所２内に平均で３μｍの
メッキがなされていることをｌｉｎ認した。
（発明の効果］
以上の説明によって理解されるように、この発明によれ
ば、下記の効果が得られる。
ば、下記の効果が得られる。
（１），請求項（１）記載の発明によれば、メッキ工程
において被メッキ物を複数個の処理槽に対して上げ下げ
するだけで、凹所内に処理液が浸入し排出されるため、
凹所内に洗浄、活性化等の所定の処理が良好になされる
と共に、隣合う処理槽間での処理液の混合汚濁が防止さ
れ、処理液の長期使用が可能になる。
において被メッキ物を複数個の処理槽に対して上げ下げ
するだけで、凹所内に処理液が浸入し排出されるため、
凹所内に洗浄、活性化等の所定の処理が良好になされる
と共に、隣合う処理槽間での処理液の混合汚濁が防止さ
れ、処理液の長期使用が可能になる。
（２）．請求項（２）記載の発明によれば、上記（１）
の効果が得られる他、メッキ用の処理槽において、被メ
ンキ物の姿勢を変更することなく、凹所内にも良好なメ
ッキがなされるため、メッキ工程の自動化が図れると同
時に、凹所の防錆、防食性及び光沢の向上を図ることが
できる。
の効果が得られる他、メッキ用の処理槽において、被メ
ンキ物の姿勢を変更することなく、凹所内にも良好なメ
ッキがなされるため、メッキ工程の自動化が図れると同
時に、凹所の防錆、防食性及び光沢の向上を図ることが
できる。
第１〜５図はこの発明の第１実施例を一部省略して示し
、第１図はサイホン管を備える被メッキ物を示す図、第
２図は処理槽を示す図、第３〜５図はそれぞれ作用説明
図、第６．７図はこの発明の第２実施例を示し、第６図
は処理槽を一部省略して示す断面図、第７図はキャップ
を装着したサイホン管の一端部を示す図である． １；被メッキ物，２：凹所．２ａ；開口，３６：サイホ
ン管，３ａ，６ａ：一端部，３ｂ，６ｂ ：他ＯＨＢ．
３ ｃ ：切欠キ． ６ ｃ ：ｔ’ｔ出部．４
８：処理槽．５．１処理液．５ａ：液面，７；被膜，ｌ
Ｏ：陽極。
、第１図はサイホン管を備える被メッキ物を示す図、第
２図は処理槽を示す図、第３〜５図はそれぞれ作用説明
図、第６．７図はこの発明の第２実施例を示し、第６図
は処理槽を一部省略して示す断面図、第７図はキャップ
を装着したサイホン管の一端部を示す図である． １；被メッキ物，２：凹所．２ａ；開口，３６：サイホ
ン管，３ａ，６ａ：一端部，３ｂ，６ｂ ：他ＯＨＢ．
３ ｃ ：切欠キ． ６ ｃ ：ｔ’ｔ出部．４
８：処理槽．５．１処理液．５ａ：液面，７；被膜，ｌ
Ｏ：陽極。
Claims (2)
- （１）、複数個の処理槽に順次に浸漬させる被メッキ物
用のサイホン管であつて、上部に開口を備える凹所を有
する被メッキ物に対し、一端部が他端部よりも短いＪ字
状のサイホン管の該一端部を、前記凹所に挿入し、該他
端部を垂下して備えることを特徴とする被メッキ物用の
サイホン管。 - （２）、複数個の処理槽に順次に浸漬させる被メッキ物
用のサイホン管であつて、上部に開口を備える凹所を有
する被メッキ物に対し、一端部が他端部よりも短いＪ字
状のサイホン管の該一端部を、前記凹所に挿入し、該他
端部を垂下して該被メッキ物に非接触の状態にて備えら
れ、かつ該サイホン管の一端部から他端部の少なくとも
上部にわたり、電気的に双極を発生し得る材料にて製作
されていることを特徴とする被メッキ物用のサイホン管
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149731A JPH0317300A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 被メツキ物用のサイホン管 |
| US07/535,150 US5080762A (en) | 1989-06-14 | 1990-06-08 | Method for siphoning liquid from a plated object during plating process |
| KR1019900008708A KR0137655B1 (ko) | 1989-06-14 | 1990-06-14 | 피도금물로부터 액체를 사이퍼닝하기 위한 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1149731A JPH0317300A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 被メツキ物用のサイホン管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317300A true JPH0317300A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=15481583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1149731A Pending JPH0317300A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 被メツキ物用のサイホン管 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5080762A (ja) |
| JP (1) | JPH0317300A (ja) |
| KR (1) | KR0137655B1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009215603A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Parker Netsu Shori Kogyo Kk | 物品の表面処理方法および排液管 |
| WO2016075828A1 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | 合同会社ナポレ企画 | 服飾付属部品の表面電解処理方法、服飾付属品及びその製造方法 |
| US10626515B2 (en) | 2014-11-14 | 2020-04-21 | Ykk Corporation | Surface electrolytic treatment apparatus for garment accessory part |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2943551B2 (ja) * | 1993-02-10 | 1999-08-30 | ヤマハ株式会社 | メッキ方法及びその装置 |
| US20160177975A1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | Sst Systems, Inc. | Method and apparatus for draining a work piece during finishing |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2083480A (en) * | 1934-05-21 | 1937-06-08 | William D Spence | Sinker and liquid level determining device for vessels |
| US4935109A (en) * | 1988-05-23 | 1990-06-19 | General Dynamics Corp., Pomona Div. | Double-cell electroplating apparatus and method |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP1149731A patent/JPH0317300A/ja active Pending
-
1990
- 1990-06-08 US US07/535,150 patent/US5080762A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-06-14 KR KR1019900008708A patent/KR0137655B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009215603A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Parker Netsu Shori Kogyo Kk | 物品の表面処理方法および排液管 |
| WO2016075828A1 (ja) * | 2014-11-14 | 2016-05-19 | 合同会社ナポレ企画 | 服飾付属部品の表面電解処理方法、服飾付属品及びその製造方法 |
| US10590557B2 (en) | 2014-11-14 | 2020-03-17 | Ykk Corporation | Method for surface electrolytic treatment of garment accessory part and method for producing a garment accessory part |
| US10626515B2 (en) | 2014-11-14 | 2020-04-21 | Ykk Corporation | Surface electrolytic treatment apparatus for garment accessory part |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR910001095A (ko) | 1991-01-30 |
| US5080762A (en) | 1992-01-14 |
| KR0137655B1 (ko) | 1998-07-15 |
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