JPH03171446A - Production of information recording medium - Google Patents

Production of information recording medium

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JPH03171446A
JPH03171446A JP31006889A JP31006889A JPH03171446A JP H03171446 A JPH03171446 A JP H03171446A JP 31006889 A JP31006889 A JP 31006889A JP 31006889 A JP31006889 A JP 31006889A JP H03171446 A JPH03171446 A JP H03171446A
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JP
Japan
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information recording
recording medium
layer
sputtering
substrate
Prior art date
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Application number
JP31006889A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Takao
高尾 俊之
Toshiaki Igata
居▲がた▼ 俊明
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form the information recording medium which decreases errors with high productivity by executing the formation of an underlying layer by using a sputtering device the inside wall surface of which is heated. CONSTITUTION:The sputtering device 1 is provided with a turning substrate support 4 and a target supporting base 5 in a chamber 3 enclosed by a wall 2 and the inside wall surface 6 of the wall 2 is so constituted that the wall surface is controlled by electric resistance heating elements 7a to 7c provided on the outside surface side of the wall 2 to a prescribed temp. The substrate 8 is mounted on the rear surface of the substrate support 4. A resin target 9 for forming the underlying layer is placed on the target supporting base 5. The resin for forming the underlying layer is sputtered as a target while the inside wall surface of the sputtering device is kept heated in such a manner, by which the underlying layer is formed on the surface of the substrate. Thus, the information recording medium which decreases the errors is formed stably with the high productivity.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野J 本発明は、エラーの少ない情報記録媒体を、高い生産性
で製造することができる情報記録媒体の製造方法に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention J] The present invention relates to a method for manufacturing an information recording medium that can manufacture an information recording medium with few errors with high productivity.

[発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され,ビデオ●デ
ィスク、オーディオ●ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用され得るものである。
[Technical Background of the Invention] In recent years, information recording media that use high energy density beams such as laser light have been developed and put into practical use. This information recording medium is called an optical disk, and can be used as a video disc, an audio disc, a large capacity still image file, and a large capacity computer disk memory.

このような情報記録媒体は、基本構造として、プラスチ
ック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、この上に
設けられたBi,Sn.In、Te,Se等の金属また
は半金属からなる記録層とを有する。光ディスクへの情
報の書き込み(記録)は、たとえばレーザービームを光
ディスクに照射することにより行なわれ、記録層の照射
部分がその光を吸収して局所的に温度上昇する結果、ピ
ット形成等の物理的変化あるいは相変化等の化学的変化
を生じてその光学的特性を変えることにより情報が記録
される。光ディスクからの情報の読み取り(再生)もま
た、レーザービームを光ディスクに照射することなどに
より行なわれ、記録層の光学的特性の変化に応じた反射
光またぼ透過光を検出することにより情報が再生される
。そして、上記光ディスクへの情報の書き込みおよび読
み取りのためのレーザービームの照射は、通常ディスク
表面の所定の位置に行われる。
The basic structure of such an information recording medium is a disc-shaped transparent substrate made of plastic, glass, etc., and a Bi, Sn. It has a recording layer made of metal or semimetal such as In, Te, Se, etc. Information is written (recorded) on an optical disk by, for example, irradiating the optical disk with a laser beam, and the irradiated portion of the recording layer absorbs the light and locally increases in temperature, resulting in physical damage such as pit formation. Information is recorded by causing a chemical change such as a change or phase change to change its optical properties. Reading (reproducing) information from an optical disc is also performed by irradiating the optical disc with a laser beam, and the information is reproduced by detecting reflected light or transmitted light that corresponds to changes in the optical characteristics of the recording layer. be done. Laser beam irradiation for writing and reading information on the optical disc is usually performed at a predetermined position on the disc surface.

このような情報記録媒体において、記録感度の向上や読
み出し信号のCN比の時間と共に劣化する度合を小さく
するために、基板と記録層との間にフッ素樹脂から作ら
れたフッ素と炭素とを含む有機化合物からなる下地層を
スパッタにより形成させることが提案されている(例え
ば、特開昭64−7348号公報). しかしながら、上記のような下地層は、基板との接着性
が悪いため,情報の記録時に記録層が剥離したり下地層
に穴が開いたりするので、情報記録媒体の感度や信号品
位をさらに向上させるためには、下地層の層厚を厚くす
る必要があった.しかしながら、上記のような下地層を
スパッタにより形威させる際に、低い電力で長時間かけ
て下地層を形成させる際には特に問題はないが、生産性
を上げるために高電力で大きい速度で短時間に下地層を
形成させると、下地層を形成させるバッチの回数が増加
するにつれて、製造される情報記録媒体のエラーが次第
に増加するという問題がある。
In such information recording media, in order to improve the recording sensitivity and reduce the degree of deterioration of the CN ratio of the read signal over time, fluorine and carbon made from a fluororesin are contained between the substrate and the recording layer. It has been proposed to form a base layer made of an organic compound by sputtering (for example, JP-A-64-7348). However, the underlayer as described above has poor adhesion with the substrate, which can cause the recording layer to peel off or create holes in the underlayer when information is recorded, so it is difficult to further improve the sensitivity and signal quality of the information recording medium. In order to achieve this, it was necessary to increase the thickness of the underlying layer. However, when forming the base layer by sputtering as described above, there is no particular problem when forming the base layer over a long time with low power, but in order to increase productivity, it is necessary to form the base layer with high power and high speed. If the underlayer is formed in a short period of time, there is a problem in that as the number of batches in which the underlayer is formed increases, errors in the manufactured information recording medium gradually increase.

この原因は、下地層を形威するバッチ工程を繰り返すう
ちに、スパッタ装置の内壁面に下地層形成樹脂が次第に
付着し、この内壁面に付着した樹脂が下地層の形威に何
等かの影響を与えているためと考えられる。従って、情
報記録媒体の製造工程において、運転を中断し、下地層
形成用のスパッタ装置をしばしば清浄にする必要があり
、情報記・録媒体の生産性が低下することになる。
The reason for this is that as the batch process for shaping the base layer is repeated, the base layer forming resin gradually adheres to the inner wall surface of the sputtering device, and the resin that adheres to the inner wall surface has some effect on the shape of the base layer. This is thought to be because it gives . Therefore, in the manufacturing process of information recording media, it is necessary to interrupt the operation and frequently clean the sputtering device for forming the underlayer, which reduces the productivity of the information recording medium.

[発明の目的] 本発明は、樹脂からなる下地層を高電力で短時間に形威
させても、データ記録時に下地層の変形や基板からの剥
離を生じることがなく、向上した感度や信号品位を有し
エラーの極めて少ない情報記録媒体を、安定して高い生
産性で製造することができる情報記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする. [発明の要旨] 本発明は、円盤状基板の表面にスパッタにより樹脂から
なる下地層を形成させ、次いで該下地層の上に記録層を
設けることを含む情報記録媒体の製造方法において、該
下地層の形成を、内壁面を加熱したスパッタ装置を使用
して行うことを特徴とする情報記録媒体の製造方法にあ
る。
[Objective of the Invention] The present invention provides improved sensitivity and signal strength without causing deformation or peeling of the underlayer from the substrate during data recording even when the underlayer made of resin is formed with high power in a short time. The purpose of this invention is to provide a method for manufacturing information recording media that can stably manufacture information recording media with high quality and extremely few errors with high productivity. [Summary of the Invention] The present invention provides a method for manufacturing an information recording medium that includes forming a base layer made of resin on the surface of a disc-shaped substrate by sputtering, and then providing a recording layer on the base layer. A method for manufacturing an information recording medium, characterized in that formation of a geological layer is performed using a sputtering device that heats an inner wall surface.

本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は以下
の通りである. 1)上記下地層が、フッ素系樹脂又はポリイミド樹脂か
らなることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法. 2)上記下地層が、フッ素系樹脂からなることを特徴と
する上記情報記録媒体の製造方法.3)上記フッ素系樹
脂が、ポリテトラフルオロエチレン、ボリフッ化ビニル
、ボリ三フッ化エチレン、ボリフッ化ビニリデン、ボリ
六フッ化プロピレン、ポリクロロトリフルオロエチレン
およびポリカーボンモノフルオライドから選ばれる少な
くとも一種の樹脂であることを特徴とする上記情報記録
媒体の製造方法。
Preferred embodiments of the method for manufacturing an information recording medium of the present invention are as follows. 1) The method for manufacturing the information recording medium, wherein the base layer is made of a fluororesin or a polyimide resin. 2) The method for manufacturing the information recording medium, wherein the base layer is made of a fluororesin. 3) The fluororesin is at least one selected from polytetrafluoroethylene, polyvinyl fluoride, polytrifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyhexafluoropropylene, polychlorotrifluoroethylene, and polycarbon monofluoride. The method for manufacturing the above-mentioned information recording medium, characterized in that it is made of resin.

4)上記フッ素系樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン
であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
4) The method for manufacturing the information recording medium, wherein the fluororesin is polytetrafluoroethylene.

5)上記下地層の形成を、装置の内壁面を60〜300
’Oの範囲の麺度に加熱したスパッタ装置を使用してス
パッタにより行うことを特徴とする上記情報記録媒体の
製造方法。
5) Form the base layer on the inner wall surface of the device by 60 to 300
The above-mentioned method for producing an information recording medium, characterized in that it is carried out by sputtering using a sputtering device heated to a degree of noodle in the range of 0.

6)上記下地層を、Zoo〜3000X、更に好ましく
は300〜2000又の層厚で設けることを特徴とする
上記情報記録媒体の製造方法。
6) The method for manufacturing the information recording medium, characterized in that the underlayer is provided with a layer thickness of Zoo to 3000X, more preferably 300 to 2000X.

7)該記録層が、レーザ光により情報の記録及び/又は
再生が可能なTeを含むことを特徴とする上記情報記録
媒体の製造方法。
7) The method for manufacturing the above-mentioned information recording medium, wherein the recording layer contains Te that allows information to be recorded and/or reproduced by laser light.

8)上記記録層が.Te及びSeを含む記録層であるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
8) The recording layer is... The method for manufacturing the above-mentioned information recording medium, characterized in that the recording layer contains Te and Se.

9)上記記録層が、SeaTebMc(但し、0.02
≦a≦0.35、0.50≦b≦0.98、O≦C≦0
.45の範囲の値であり、Mは、Pb.In,Ge,S
,Sb.AsBf,Sn.AKI.、Ga,Tl、Zn
.Cd、Au,Pt.Ag,Cu.Nf.Pd,Rh、
Cr.Mo,WおよびTaから選ばれる少なくとも一種
の金属を表わす)で表わされる組成を有することを特徴
とする上記情報記録媒体。
9) The recording layer has SeaTebMc (however, 0.02
≦a≦0.35, 0.50≦b≦0.98, O≦C≦0
.. 45, where M is Pb. In, Ge, S
, Sb. AsBf, Sn. AKI. , Ga, Tl, Zn
.. Cd, Au, Pt. Ag, Cu. Nf. Pd, Rh,
Cr. The above-mentioned information recording medium has a composition represented by (representing at least one metal selected from Mo, W and Ta).

10)土記Mで表わされる金属が,Pbであることを特
徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
10) The method for manufacturing the above-mentioned information recording medium, wherein the metal represented by Doki M is Pb.

11)土記Teを含む記録層の上に、二酸化ケイ素、酸
化スズ、弗化マグネシウム、酸化チタン、TeOx(但
し、1≦X≦2)、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛か
ら選ばれる少なくとも一種の材料からなる層を積層する
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
11) On the recording layer containing Doki Te, at least one material selected from silicon dioxide, tin oxide, magnesium fluoride, titanium oxide, TeOx (1≦X≦2), zirconium oxide, and zinc oxide. The method for manufacturing the information recording medium described above, characterized by laminating layers of:

12)上記記録層の上に、TeC),(1 .5≦X≦
2)からなる層を積層することを特徴とする上記情報記
録媒体の製造方法。
12) On the recording layer, TeC), (1.5≦X≦
2) The method for manufacturing the information recording medium described above, characterized by laminating layers consisting of the following.

13)上記記録層が、レーザ光により情報の記録及び/
又は再生が可能な色素を含むことを特徴とする上記情報
記録媒体の製造方法。
13) The recording layer is capable of recording and/or recording information using a laser beam.
Alternatively, the method for producing the information recording medium described above, characterized in that it contains a reproducible dye.

14)該記録層に含まれる色素が、シアニン系色素、ア
ズレニウム系色素、スク7リリウム系色素、フタロシア
ニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素
、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キノン系色素、アミニウム系
色素、ジインモニウム系色素、金属錯塩系色素、などか
ら選ばれる色素の一種又は二種以上からなることを特徴
とする上記情報記録媒体の製造方法。
14) The dye contained in the recording layer is a cyanine dye, an azulenium dye, a squarylium dye, a phthalocyanine dye, a pyrylium dye, a thiopyrylium dye, an indophenol dye, an indoaniline dye, or a triphenylmethane dye. The method for producing the above-mentioned information recording medium, characterized in that the information recording medium is made of one or more kinds of dyes selected from dyes based on pigments, quinone dyes, aminium dyes, diimmonium dyes, metal complex dyes, and the like.

15)上記記録層が、更に金属錯体系色素を−L記色素
又は色素混合物1モル部に対して0.001〜0.2モ
ル部含むことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法
15) The method for producing the information recording medium, wherein the recording layer further contains 0.001 to 0.2 mol part of a metal complex dye per 1 mol part of the -L dye or dye mixture.

tS)上記記録層の層厚が、500〜2000又の範囲
にあることを特徴とする上記情報記録媒体及びその製造
方法。
tS) The above-mentioned information recording medium and its manufacturing method, characterized in that the thickness of the above-mentioned recording layer is in the range of 500 to 2000 mm.

17)上記基板の材料が、ポリカーポネート、ポリオレ
フインまたはセルキャストポリメチルメタクリレートで
あることを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。
17) The method for manufacturing the information recording medium, wherein the material of the substrate is polycarbonate, polyolefin, or cell cast polymethyl methacrylate.

[発明の詳細な記述] 本発明の情報記録媒体の製造方法においては、先ず、円
盤状基板の表面に、スパッタにより樹脂からなる下地層
を形成させる。
[Detailed Description of the Invention] In the method for manufacturing an information recording medium of the present invention, first, a base layer made of resin is formed on the surface of a disc-shaped substrate by sputtering.

上記基板は、従来の情報記録媒体の基板として用いられ
ている各種の材料から任意に選択することができる。基
板の光学的特性、平面性、加工性、取扱い性、経時安定
性および製造コストなどの点から、基板材料の例として
は、ソーダ石灰ガラス等のガラス;セルキャストポリメ
チルメタクリレート、射出威形ボリメチルメタクリレー
ト等のアクリル樹脂:ボリ塩化ビニル、塩化ビニル共重
合体等の塩化ビニル系樹脂:エポキシ樹脂;ポリエチレ
ンテレフタレート等ポリエステル類;ボリカーポネート
および非晶質ポリオレフィンを挙げることができる。こ
れらのうちで、好ましいものはポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーポネート、エポキシ樹脂、非晶賀ポリオレ
フィンおよびポリエチレンテレフタレートであり、特に
ポリカーポネートが好ましい。
The substrate can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Examples of substrate materials from the viewpoint of substrate optical properties, flatness, workability, ease of handling, stability over time, and manufacturing cost include glass such as soda lime glass; cell-cast polymethyl methacrylate, and injection molded plastic. Acrylic resins such as methyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; polyesters such as polyethylene terephthalate; polycarbonates and amorphous polyolefins. Among these, preferred are polymethyl methacrylate, polycarbonate, epoxy resin, amorphous polyolefin and polyethylene terephthalate, with polycarbonate being particularly preferred.

また、基板上にはトラッキング用グループの目的でプレ
グループが、またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸
の形威等の目的でプレピットが設けられている。上記プ
レグループまたはプレビットは、上記基板の表面に、ア
クリル酸のエステルのようなモノマー(又はオリゴマー
)と光重合開始剤との混合物を用いてプレグループ層を
形成させるか、基板が樹脂製である場合には、威形によ
り基板表面に直接プレグループまたはプレピットを形威
させてもよい。
Further, on the substrate, pre-groups are provided for the purpose of tracking groups, or pre-pits are provided for the purpose of forming irregularities representing information such as address signals. The pregroup or prebit can be obtained by forming a pregroup layer on the surface of the substrate using a mixture of a monomer (or oligomer) such as an acrylic acid ester and a photopolymerization initiator, or by forming a pregroup layer on the surface of the substrate, or by forming a pregroup layer on the surface of the substrate using a mixture of a photopolymerization initiator and a monomer (or oligomer) such as an ester of acrylic acid, or by forming a pregroup layer on the surface of the substrate. In some cases, pregroups or prepits may be formed directly on the substrate surface depending on the shape.

本発明においては、次いで」−記基板の表面に、フッ素
系樹脂からなる下地層をスパッタにより形威させる。本
発明は、上記下地層の形成を、その内壁面を加熱したス
パッタ装置を使用して行うことに特に特徴を有する。
In the present invention, a base layer made of a fluororesin is then formed on the surface of the substrate by sputtering. The present invention is particularly characterized in that the underlayer is formed using a sputtering device that heats the inner wall surface thereof.

上記下地層を形戊するために使用できる樹脂としては、
フッ素系欄脂、ポリイミド、などの樹脂を好ましい例と
して挙げることができる.なかでも下地層として特に好
ましい樹脂は、フッ素系樹脂である. 上記フッ素系樹脂としては、例えばポリテトラフルオロ
エチレン、テトラフルオロエチレンーパーフルオロアル
キルビニルエーテル共重合体(PFA),テトラフルオ
ロエチレンーヘキサフルオロプロピレン共重合体(FE
P).テトラフルオロエチレンーヘキサフルオロプロピ
レンーパーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(
EPE)、ボリフッ化ビニル、ポリ、三フッ化エチレン
、ボリフッ化ビニリデン、ボリ六フッ化プロピレン、ポ
リクロロトリフルオロエチレンおよびポリジカーボンモ
ノフルオライド等を挙げることができる。特に好ましい
ものはポリテトラフルオロエチレンである. また,上記ポリイミドとしては、例えば、酸二無水物と
ジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸を加熱
閉環又は化学閉環させて得られるものが用いられる。酸
二無水物としては、ピロメ1l リフト酸二無水物、ビフェニルテトラカルポン酸二無水
物、ペンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物,等が用
いられる。ジアミンとしては、4.4゜−ジアミノジフ
ェニルエーテル、4,4゜ジアミノジフェニルスルホン
、4.4′−ジアミノジフェニルメタン等が用いられる
. 上記下地層を形成させるために使用されるスパッタ装置
について、添付する図面を参照して説明する. 第1図は、本発明において下地層を形成するために使用
することができるスパッタ装置の一具体例の主要部を、
模式的に示す一部断面図である。
Resins that can be used to shape the base layer include:
Preferred examples include resins such as fluorine-based ballast resin and polyimide. Among these, a particularly preferred resin for the base layer is a fluororesin. Examples of the fluororesin include polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FE).
P). Tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (
EPE), polyvinyl fluoride, poly, trifluoroethylene, polyvinylidene fluoride, polyhexafluoropropylene, polychlorotrifluoroethylene, and polydicarbon monofluoride. Particularly preferred is polytetrafluoroethylene. Further, as the polyimide, for example, one obtained by subjecting a polyamic acid obtained by reacting an acid dianhydride and a diamine to thermal ring closure or chemical ring closure is used. As the acid dianhydride, pyrome1l lift acid dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, penzophenonetetracarboxylic dianhydride, etc. are used. As the diamine, 4.4°-diaminodiphenyl ether, 4,4°diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenylmethane, etc. are used. The sputtering equipment used to form the above-mentioned underlayer will be explained with reference to the attached drawings. FIG. 1 shows the main parts of a specific example of a sputtering apparatus that can be used to form an underlayer in the present invention.
It is a partial sectional view shown typically.

第1図において、スパッタ装置1は、壁2により取り囲
まれたチャンバ3内に、回動する基板支持体4とターゲ
ット支持台5とが設けられて構成されている.壁2の内
壁面6は、壁2の外面側に設けられた電気抵抗加熱体7
a、7b、7c(それぞれ独立に温度調節できる)によ
り,所定の温度に制御されて加熱できるように構成され
ている.壁2の内壁面6を加熱するための加熱手段とl
 2 ?ては、上記のものに限定されず,例えば,壁2の内部
に埋め込まれた電気抵抗加熱体であってもよく、また、
チャンバ3内に電気抵抗加熱体を埋め込んだパネルを設
置してもよく、また、チャンバ3内に加熱用ランプを設
置してもよい.第1図には,スバッタ装置の詳細につい
ては示していないが、内壁面6を加熱するための加熱手
段が設けられている点を除いて、従来・公知のスパッタ
装置と同様に構成されている. 基板支持体4の下面には基板8が取り付けられ、ターゲ
ット支持台5に下地層を形成させるための樹脂ターゲッ
ト9が載せられている.本発明においては、第1rII
Jに示すような装置の他に、その内壁面を所望の温度に
加熱できるように改造されたものであるかぎり、従来樹
脂を基板にスパッタして下地層を形成させるために使用
されているどのようなスパッタ装置であっても■使用す
ることができる。例えば、イオンビームスパッタ装置、
RFグロー放電スパッタ装置,DCグロー放電スパッタ
装置、マグネトロンスパッタ装置などの何れも使用でき
る。
In FIG. 1, a sputtering apparatus 1 includes a rotating substrate support 4 and a target support 5 provided in a chamber 3 surrounded by a wall 2. The inner wall surface 6 of the wall 2 has an electric resistance heating element 7 provided on the outer surface side of the wall 2.
A, 7b, and 7c (temperatures can be adjusted independently) are configured so that heating can be controlled to a predetermined temperature. heating means for heating the inner wall surface 6 of the wall 2;
2? The heating element is not limited to the above-mentioned one, and may be an electric resistance heating element embedded inside the wall 2, or
A panel with an electrical resistance heating element embedded therein may be installed within the chamber 3, or a heating lamp may be installed within the chamber 3. Although the details of the sputtering apparatus are not shown in FIG. 1, it is constructed in the same manner as a conventional and well-known sputtering apparatus, except that a heating means for heating the inner wall surface 6 is provided. .. A substrate 8 is attached to the lower surface of the substrate support 4, and a resin target 9 for forming a base layer is placed on the target support 5. In the present invention, the first rII
In addition to the equipment shown in J, any equipment conventionally used for sputtering resin onto a substrate to form an underlayer can be used, as long as it has been modified to heat the inner wall surface to the desired temperature. 2) Even a sputtering device like this can be used. For example, ion beam sputtering equipment,
Any of an RF glow discharge sputtering device, a DC glow discharge sputtering device, a magnetron sputtering device, etc. can be used.

本発明においては、上記のようなスパッタ装置の内壁面
を加熱した状態で,前記のような下地層形成用樹脂をタ
ーゲットとしてスパッタすることにより、前記基板の表
面に前記下地層を形成させる。
In the present invention, the base layer is formed on the surface of the substrate by sputtering using the base layer forming resin as a target while heating the inner wall surface of the sputtering apparatus as described above.

上記スパッタ装置の内壁面の最適加熱温度は、使用する
樹脂、スパッタ条件などにより変わるが、一般に、60
〜300℃の範囲の温度であることが好ましく、特に、
80〜200℃の範囲の温度であることが好ましい。
The optimum heating temperature for the inner wall surface of the sputtering apparatus described above varies depending on the resin used, sputtering conditions, etc., but is generally 60°C.
Preferably, the temperature is in the range of ~300°C, in particular:
Preferably, the temperature is in the range of 80 to 200°C.

一般的に、スパッタの電力を増大させ、大きい速度で短
時間にスパッタを行うほど、スパッタ装置の内壁面の温
度を高くする必要がある。なお、チャンバー3内は高真
空に維持されているので、スパッタ装置の内壁面の温度
を高くしても、それにより基板自体が悪い影響を受ける
ことはない。
Generally, as sputtering power is increased and sputtering is performed at a higher speed and in a shorter time, it is necessary to raise the temperature of the inner wall surface of the sputtering apparatus. Note that, since the inside of the chamber 3 is maintained at a high vacuum, even if the temperature of the inner wall surface of the sputtering apparatus is increased, the substrate itself will not be adversely affected.

本発明における下地層を形成するためのスパッタの条件
は、それ自体公知のものを採用することができる。
The sputtering conditions for forming the base layer in the present invention may be those known per se.

例えば、マグネトロンスパッタ装置によりスパッタする
場合は、IX10−3〜50X10−3Torrの圧力
、50〜2000Wの電力、20〜200mm(7)タ
ーゲット距離で、Ar.Nz.02 ,Ne,Kr,X
e、これらの混合物などのガスを使用する条件で行うこ
とが好ましい。
For example, when sputtering is performed using a magnetron sputtering device, a pressure of IX10-3 to 50X10-3 Torr, a power of 50 to 2000 W, and a target distance of 20 to 200 mm (7) are used. Nz. 02, Ne, Kr, X
e. It is preferable to carry out the process using a gas such as a mixture thereof.

上記下地層の層厚は、100〜3ooozの範囲、特に
、300〜2000Xの範囲であることが好ましい。
The layer thickness of the base layer is preferably in the range of 100 to 3000×, particularly in the range of 300 to 2000×.

上記のような方法により、基板の表面に上記のような下
J1!!層を、高電力で短時間に形成する工程を繰り返
し行っても、従来方法におけるように上記工程の回数が
増加するにつれて得られる情報記録媒体のエラーが増大
することはな〈、エラーの少ない情報記録媒体を製造す
ることができる。
By the above method, the above-mentioned lower J1! ! Even if the process of forming layers in a short time with high power is repeated, errors in the obtained information recording medium do not increase as the number of the above steps increases, unlike in conventional methods. Recording media can be manufactured.

本発明においては、次いで、」二記のようにして形威し
た下地層の上に記録層を設ける。
In the present invention, a recording layer is then provided on the underlayer formed as described in section 2 above.

上記記録層の一つは、レーザ光により情報の記録及び/
又は再生が可能なTeを含む記録層を設ける。
One of the above recording layers is capable of recording and/or recording information using a laser beam.
Alternatively, a reproducible recording layer containing Te is provided.

上記記録層は、Te及びSeを含む記録層であることが
好ましい。
The recording layer preferably contains Te and Se.

更に、上記記録層は、SeaTebMc(但し、0.0
2≦a≦0.35、0.50≦b≦0.98、O≦C≦
0.45の範囲の値であり、Mは、Pb、In,Ge,
S,Sb,As、Bf.Sn.AM.Ga.Tl.Zn
.Cd、Au.Pt,Ag.Cu.Ni.Pd.Rh、
Cr.Mo,WおよびTaから選ばれる少なくとも一種
の金属を表わす)で表わされる組成を有することが好ま
しい。
Furthermore, the recording layer has SeaTebMc (however, 0.0
2≦a≦0.35, 0.50≦b≦0.98, O≦C≦
The value is in the range of 0.45, and M is Pb, In, Ge,
S, Sb, As, Bf. Sn. A.M. Ga. Tl. Zn
.. Cd, Au. Pt, Ag. Cu. Ni. Pd. Rh,
Cr. It is preferable to have a composition represented by (representing at least one metal selected from Mo, W and Ta).

更にまた、上記記録層は、Sea Teb Pbc(但
し、a,b及びCは」二記の通りである)で表わされる
組成を有することが好ましい。
Furthermore, it is preferable that the recording layer has a composition represented by Sea Teb Pbc (where a, b, and C are as shown in ``2'').

本発明の情報記録媒体の記録層上には、二酸化ケイ素、
酸化スズ、弗化マグネシウム、酸化チタン、TeOχ 
(但し,1≦X≦2)、酸化ジルコニウムおよび酸化亜
鉛のいずれかの材料からなる層が積層されていることが
好ましい。
On the recording layer of the information recording medium of the present invention, silicon dioxide,
Tin oxide, magnesium fluoride, titanium oxide, TeOx
(However, 1≦X≦2) It is preferable that layers made of either zirconium oxide or zinc oxide are laminated.

これらの材料の中では特に、TeOx(但し、1 5 Xはl≦X≦2の範囲内の数字であり、特に、1.5≦
X≦2の範囲内の数字であることが好ましい)からなる
層が積層されていることが好ましい。
Among these materials, TeOx (where 1 5 X is a number within the range of l≦X≦2, especially 1.5≦
It is preferable that layers consisting of (preferably a number in the range of X≦2) are laminated.

前記Teを含む記録層は特に記録感度に優れたものであ
るが、記録層の形威後に経時的な感度劣化が起こり易い
。Te単体に比較してSeが混入してることにより耐久
性の向上は見られるが充分ではない。上記一般式中のM
の他の金属を添加した場合には、例えば光吸収性の増加
、反射率の向上また記録層表面の平担性の良化等の効果
があるが、耐久性の向上への寄与は見られない。Teを
含む記録層上にTeOx(但し、l≦X≦2)などから
なる層を積層した場合、耐久性の向上は勿論のこと、記
録感度をほとんど低下させることな〈2小さなピットが
形成され易くなることができる。このように小さなピッ
ト形威が容易になることにより、特に記録された情報の
分解能が高くなること、また高いC/Nを得るための記
録パワーの適応範囲を表すラチチュードが広〈なるなど
の1 6 記録再生特性の向上が見られる。さらに、耐久性の面で
は、特に繰返し再生した場合でもC/Nの低下が少なく
読取り耐久性が、向上している。
Although the recording layer containing Te has particularly excellent recording sensitivity, deterioration in sensitivity over time tends to occur after the recording layer is formed. Although the durability is improved by incorporating Se compared to Te alone, it is not sufficient. M in the above general formula
When other metals are added, for example, they have the effect of increasing light absorption, improving reflectance, and improving the flatness of the surface of the recording layer, but no contribution to improving durability has been observed. do not have. When a layer made of TeOx (where l≦X≦2) is laminated on a recording layer containing Te, not only the durability improves but also the recording sensitivity hardly decreases (2 small pits are formed). It can become easier. By making it easier to form small pits in this way, the resolution of recorded information becomes higher, and the latitude, which represents the applicable range of recording power to obtain a high C/N, becomes wider. 6 Improvement in recording and reproducing characteristics can be seen. Furthermore, in terms of durability, the C/N ratio does not decrease even after repeated reproduction, and reading durability is improved.

記録層の層厚は、情報の書き込みの容易さと反射率との
兼ね合いから、100〜3000Jの範囲が好ましく、
特に好ましくは、200〜1200Xの範囲である。
The thickness of the recording layer is preferably in the range of 100 to 3000 J from the viewpoint of ease of writing information and reflectance.
Particularly preferred is a range of 200 to 1200X.

またT e O xなどからなる層の層厚は、50〜1
000Xの範囲が好ましく、特に好まし〈は、lOO〜
500Xの範囲である。
Further, the layer thickness of the layer made of T e O x etc. is 50 to 1
A range of 000X is preferable, particularly preferably <1OO~
The range is 500X.

記録層は、」二記の記録層材料を用いて蒸着、スパッタ
リング、イオンプレーティングなどの公知の方法により
基板上に形威される。Tea×などからなる層も記録層
と同じように蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ングなどの公知の方法により基板上に形威される。
The recording layer is formed on the substrate by a known method such as vapor deposition, sputtering, or ion plating using the recording layer material mentioned above. Similarly to the recording layer, the layer made of Teax or the like is formed on the substrate by a known method such as vapor deposition, sputtering, or ion plating.

上記記録層の他のものは、レーザ光により情報の記録及
び/又は再生が可能な色素を含む記録層である。1二記
色素は特に限定されるものではな〈、どのようなもので
も良い。例えば、シアニン系色素、アズレニウム系色素
、スクワリリウム系色素、フタロシアニン系色素、ピリ
リウム系色素、チオピリリウム系色素、インドフェノー
ル系色素,インドアニリン系色素、トリフェニルメタン
系色素、キノン系色素、アミニウム系色素、ジインモニ
ウム系色素、金属錯塩系色素、などを挙げることができ
る.好ましくは、シアニン系色素及びフタロシアニン系
色素を挙げることができる。
The other recording layer is a recording layer containing a dye that allows information to be recorded and/or reproduced by laser light. 12. The dye described above is not particularly limited, and any dye may be used. For example, cyanine dyes, azulenium dyes, squalirium dyes, phthalocyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, indophenol dyes, indoaniline dyes, triphenylmethane dyes, quinone dyes, aminium dyes, Examples include diimmonium dyes and metal complex dyes. Preferably, cyanine dyes and phthalocyanine dyes can be mentioned.

これらのうちでも記録再生用レーザとして近赤外光を発
振する半導体レーザの利用が実用化されている点から、
700〜900nmの近赤外領域の光に対する吸収率が
高い色素が好ましい.なお、これらの色素は単独でもあ
るいは二種以上の混合物として用いてもよい.また、シ
アニン系色素を用いる場合に、上記金属錯塩系色素また
はアミニウム系色素やジインモニウム系色素をクエンチ
ャーとして一緒に用いることが好ましい。
Among these, semiconductor lasers that emit near-infrared light have been put into practical use as recording and reproducing lasers.
A dye that has a high absorption rate for light in the near-infrared region of 700 to 900 nm is preferable. Note that these dyes may be used alone or as a mixture of two or more. Further, when a cyanine dye is used, it is preferable to use the above metal complex dye, aminium dye, or diimmonium dye together as a quencher.

その場合,クエンチャーは全色素1モル部に対して0.
001〜0.1モル部含むことが好ましい。
In that case, the quencher is 0.0% per mole part of total dye.
It is preferable to contain 0.001 to 0.1 mole part.

上記色素を含む記録層の形成は、上記色素、さらに所望
により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで
この塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾
燥することにより行なうことができる. −E記色素塗布液調製用の溶剤としては、酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、l,2−ジク
ロルエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなど
のエーテル、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール、n−ブタノールなどのアルコール、ジメチル
ホルムアミドなどのアミド、2,2,3.3−テトラフ
ロロプロパノール等フッ素系溶剤などを挙げることがで
きる。なお、これらの非炭化水素系有機溶剤は、50容
量%以内である限り、脂肪族炭化水素溶剤、脂環族炭化
水素溶剤、芳香l 9 族炭化水素溶剤などの炭化水素系溶媒を含んでいてもよ
い. 塗布液中にはさらに酸化防止剤,UV吸収剤、可塑剤,
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい. 結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物賀:およびポリエチレン、ボリブロピレン、ボリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル●ポ
リ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エボキ
シ樹脂、ブチラール樹脂,ゴム誘導体、フェノール●ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合威有機高分子物質を挙げることができる。
Formation of a recording layer containing the above-mentioned dye involves dissolving the above-mentioned dye and, if desired, a binder in a solvent to prepare a coating solution, then applying this coating solution to the substrate surface to form a coating film, and then drying. This can be done by - E as a solvent for preparing the dye coating solution, ethyl acetate,
Esters such as butyl acetate and cellosolve acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and methyl isobutyl ketone, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, l,2-dichloroethane, and chloroform;
Examples include ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether, and dioxane, alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol, and n-butanol, amides such as dimethylformamide, and fluorinated solvents such as 2,2,3,3-tetrafluoropropanol. Can be done. These non-hydrocarbon organic solvents may contain hydrocarbon solvents such as aliphatic hydrocarbon solvents, alicyclic hydrocarbon solvents, and aromatic l9 group hydrocarbon solvents, as long as the amount is within 50% by volume. Good too. The coating solution also contains antioxidants, UV absorbers, plasticizers,
Various additives such as lubricants may be added depending on the purpose. When a binder is used, examples of the binder include cellulose derivatives such as gelatin, nitrocellulose, and cellulose acetate, natural organic polymers such as dextran, rosin, and rubber, and polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyisobutylene, etc. Hydrocarbon resins, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride Vinyl resins such as polyvinyl acetate copolymers, acrylic resins such as polymethyl acrylate and polymethyl methacrylate,
Examples include organic polymeric substances such as polyvinyl alcohol, chlorinated polyolefins, epoxy resins, butyral resins, rubber derivatives, and initial condensates of thermosetting resins such as phenol/formaldehyde resins.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート2 0 法,ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、
ドクターロール法、スクリーン印刷法などを挙げること
ができる。色素の良好な配向状態を形成するためには,
スビンコート法を用いることが好ましい. 色素を含む記録層の材料として結合剤を併用する場合に
、結合剤に対する色素の比率は一般に0.Ol〜99%
(重量比)の範囲にあり、好ましくは1.0〜95%(
重量比)の範囲にある。
Application methods include spray method, spin coat 20 method, dip method, roll coat method, blade coat method,
Examples include a doctor roll method and a screen printing method. In order to form a good orientation state of the dye,
It is preferable to use the Subin coat method. When a binder is used as a material for a recording layer containing a dye, the ratio of the dye to the binder is generally 0. Ol~99%
(weight ratio), preferably 1.0 to 95% (
weight ratio).

上記色素記録層の上に更に金属からなる反射層が設けら
れている。反射層を設けることにより、反射率の向上の
効果、情報に再生時におけるS/Nの向上および記録時
における感度の向上の効果も得ることができる. 反射層の材料としては、Mg.Se.Y、Ti,Zr,
Hf,V.Nb.Ta.Cr.MoW.Mn.Re,F
e.Co.Ni.Ru、Rh.Pd、I r,Pt,C
u,Ag.Au,Zn.Cd,An、Ga,In,Si
,Ge,Te,Pb,Po、Sn.Biなどの金属およ
び半金属を挙げることができる。さらにステンレス鋼な
どの合金であってもよい。本発明では、温度400°K
における熱伝導率が高い、少なくともLow/msk以
上の金属からなる反射層が設けられることが好ましい。
A reflective layer made of metal is further provided on the dye recording layer. By providing a reflective layer, it is possible to obtain the effect of improving reflectance, improving S/N during information reproduction, and improving sensitivity during recording. The material for the reflective layer is Mg. Se. Y, Ti, Zr,
Hf, V. Nb. Ta. Cr. MoW. Mn. Re,F
e. Co. Ni. Ru, Rh. Pd, I r, Pt, C
u, Ag. Au, Zn. Cd, An, Ga, In, Si
, Ge, Te, Pb, Po, Sn. Mention may be made of metals and metalloids such as Bi. Furthermore, alloys such as stainless steel may be used. In the present invention, the temperature is 400°K.
It is preferable that a reflective layer made of a metal having a high thermal conductivity of at least Low/msk or higher is provided.

これにより、色素記録層にレーザ光を照射した際の熱を
反射層に急速に伝導することができる。これらの中でも
Au、Ag,Cu,Pt,An、Cr,Niおよびステ
ンレス鋼が特に好ましい。これらの物質は単独で用いて
もよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金とし
て用いてもよい。
Thereby, heat generated when the dye recording layer is irradiated with laser light can be rapidly conducted to the reflective layer. Among these, Au, Ag, Cu, Pt, An, Cr, Ni and stainless steel are particularly preferred. These substances may be used alone, or in combination of two or more or as an alloy.

上記のような記録層の上には保護層が設けられてもよい
。保護層としては、軟質樹脂材料からなる軟質保護層と
硬質樹脂材料からなる硬質保護層との積層体が好ましい
。この積層体は、軟質保護層側を記録層側にして、記録
層上に積層する。軟質樹脂材料の例としては、ポリウレ
タン、ポリ塩化ビニリデン、エチレン・酢酸ビニル共重
合体、シリコンゴム、スチレン●ブタジエン●ゴム、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリアクリル酸エステルを挙げるこ
とができる。通常、これらは、溶液塗布、ラテックス塗
布、熔融塗布などの方法により記録層上に塗布され、必
要により乾燥、加熱などの処理を行なって軟質保護層と
される。軟質保護層の層厚は通常100X〜5JLmの
範囲にあり、好ましくは0.3〜3JLmの範囲にある
。硬質樹脂材料の例としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化
樹脂などが挙げられる。通常、これらは、溶液塗布など
の方法により軟質保護層上に塗布され、必要により紫外
線照射、加熱などの処理を行なって硬質保護層とされる
。硬質保護層の層厚は通常0.1〜10Ii.mの範囲
にあり、好ましくは1〜3ILmの範囲にある。
A protective layer may be provided on the recording layer as described above. The protective layer is preferably a laminate of a soft protective layer made of a soft resin material and a hard protective layer made of a hard resin material. This laminate is laminated on the recording layer with the soft protective layer side facing the recording layer side. Examples of the soft resin material include polyurethane, polyvinylidene chloride, ethylene/vinyl acetate copolymer, silicone rubber, styrene*butadiene*rubber, polyvinylidene chloride, and polyacrylic acid ester. Usually, these are applied onto the recording layer by methods such as solution coating, latex coating, and melt coating, and are subjected to treatments such as drying and heating as necessary to form a soft protective layer. The thickness of the soft protective layer is usually in the range of 100X to 5 JLm, preferably in the range of 0.3 to 3 JLm. Examples of hard resin materials include ultraviolet curing resins and thermosetting resins. Usually, these are applied onto a soft protective layer by a method such as solution coating, and if necessary, a treatment such as ultraviolet irradiation or heating is performed to form a hard protective layer. The thickness of the hard protective layer is usually 0.1 to 10Ii. m, preferably in the range of 1 to 3 ILm.

基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面には、耐
傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化ケイ
素、酸化スズ、弗化マグネシウムそして上記T e O
 xなどの無機物質、あるいは熱可塑性樹脂、光硬化型
樹脂などの高分子物質からなる薄膜が、真空蒸着、スパ
ッタリングまたは塗布等の方法により設けられていても
よい。
The surface of the substrate opposite to the side on which the recording layer is provided is coated with silicon dioxide, tin oxide, magnesium fluoride, and the above-mentioned T e O to improve scratch resistance, moisture resistance, etc.
A thin film made of an inorganic substance such as x, or a polymeric substance such as a thermoplastic resin or a photocurable resin may be provided by a method such as vacuum evaporation, sputtering, or coating.

2 3 本発明により製造された情報記録媒体を用いて、以下に
述べるような光情報記録方法により、情報を記録するこ
とができる。本発明により製造された情報記録媒体は、
CDフォーマット信号の記録に特に適しているため、こ
れを例にとって説明する。
2 3 Using the information recording medium manufactured according to the present invention, information can be recorded by an optical information recording method as described below. The information recording medium manufactured according to the present invention includes:
Since it is particularly suitable for recording CD format signals, this will be explained as an example.

まず、情報記録媒体を1.2〜1.4m/秒の定線速度
で回転させながら、表面にプレグループを有する基板側
から半導体レーザー光などの記録用の光を、基板側から
該プレグループのグループにレーザー光を照射してCD
フォーマットのEFM信号を、該グループの記録層にピ
ットを形威することにより記録する。一般に、記録光と
しては750〜850nmの範囲の発振波長を有する半
導体レーザービームが用いられる。一般に3〜15mW
のレーザーパワーで記録される。
First, while rotating the information recording medium at a constant linear speed of 1.2 to 1.4 m/sec, a recording light such as a semiconductor laser beam is applied from the substrate side having pregroups on the surface to the pregroups. CD by irradiating the group with laser light.
The formatted EFM signal is recorded by forming pits on the recording layer of the group. Generally, a semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 750 to 850 nm is used as the recording light. Generally 3-15mW
recorded with a laser power of

これにより記録層には長さが0.70〜4.OI1.m
のピットが0.70 〜4.0JLmの間隔で同心円状
もしくはスパイラル状に形成される。
As a result, the recording layer has a length of 0.70 to 4. OI1. m
The pits are formed concentrically or spirally at intervals of 0.70 to 4.0 JLm.

記録に際しては、上記トラッキング用プレグループを用
いてトラッキング制御を行なわれる。
During recording, tracking control is performed using the tracking pre-group.

本発明の情報の記録は、プレグループのグループの底部
の領域に行なわれる。
The recording of information according to the invention takes place in the bottom area of the group of the pregroup.

情報の再生は、記録媒体を上記と同一・の定線速度で回
転させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、
その反射光を検出することにより行なうことができる。
Information is reproduced by irradiating semiconductor laser light from the substrate side while rotating the recording medium at the same constant linear speed as above.
This can be done by detecting the reflected light.

次に本発明の実施例を記載する。ただし、これらの各例
は本発明を制限するものではない。
Next, examples of the present invention will be described. However, these examples do not limit the invention.

[実施例l] トラッキング用溝を有する円盤状のポリカーポネート基
板(外径:120mm、内径=15mm、厚さ:1.2
mm、内径46mm〜外径117mmc7)範囲に深さ
800X、半値幅0.7μm、ピッチ1.6pmの溝が
スパイラル状に設けられているもの)の表面に、ポリテ
トラフルオロエチレンを使用し、第1図に示すようなマ
グネトロンスパッタ装置のチャンバーの内壁面の温度を
90℃に加熱維持して、スパッタガス:アルゴン、圧力
5ミリTorr.電力400W、ターゲット距離9 0
 m mの条件で10分間スパッタして層厚12007
の下地層を形成した. 次いで、この下地層上に、Te,SeおよびPbをそれ
ぞれ78原子数%:18M子数%;4原子数%の混合タ
ーゲットを用い、スパッタガス:アルゴン、圧力5ミリ
Torr、電力125W、ターゲッ}ffiJ190m
mの条件で5分間スパッタを行なって層厚600スの記
録層を形成した。
[Example 1] Disc-shaped polycarbonate substrate with tracking grooves (outer diameter: 120 mm, inner diameter = 15 mm, thickness: 1.2
mm, inner diameter 46 mm to outer diameter 117 mmc7) A groove with a depth of 800X, a half width of 0.7 μm, and a pitch of 1.6 pm is provided in a spiral shape) using polytetrafluoroethylene on the surface. The temperature of the inner wall surface of the chamber of the magnetron sputtering apparatus as shown in FIG. Power 400W, target distance 90
The layer thickness was 12007 mm by sputtering for 10 minutes under the conditions of
The base layer was formed. Next, on this base layer, using a mixed target containing Te, Se and Pb of 78 atomic %: 18 M atomic % and 4 atomic %, respectively, sputtering gas: argon, pressure 5 mTorr, power 125 W, target} ffiJ190m
Sputtering was performed for 5 minutes under the conditions of m to form a recording layer with a thickness of 600 μm.

この記録層上に、スパッタガス:アルゴン,圧力5ミリ
Torr、電力100W、ターゲット距離90mmの条
件で3分間Te02のスパッタを行なって、層厚803
のT e O 1.6の層を形威した。なお、記録層形
虞以降のスパッタにおいて、スバッタ装置の内壁面は特
に加熱しなかった.このようにして、基板、下地層、記
録層およびTeOI,6の層からなる情報記録媒体を製
造した. 続いて、上記の情報記録媒体の製造で使用した下地層形
成用スパッタ装置を清浄にすることなくそのまま使用し
、上記と同様にして第2回目の情報記8111体を製造
し、以下同様にして、情報記録媒体の製造を合計5回繰
り返した。
On this recording layer, Te02 was sputtered for 3 minutes under the conditions of sputtering gas: argon, pressure of 5 mm Torr, power of 100 W, and target distance of 90 mm, resulting in a layer thickness of 803 mm.
A layer of T e O of 1.6 was formed. In sputtering after forming the recording layer, the inner wall surface of the sputtering device was not particularly heated. In this way, an information recording medium consisting of a substrate, an underlayer, a recording layer, and a layer of TeOI, 6, was manufactured. Subsequently, the sputtering device for forming the base layer used in the production of the above information recording medium was used as it was without cleaning, and a second information record 8111 body was produced in the same manner as above, and the following was carried out in the same manner. , the production of the information recording medium was repeated a total of 5 times.

上記の各回で製造した情報記録媒体について、波長:7
80nm.NA:0.5.線速度:1.2m/秒、レー
ザパワー=5.6mW、記録波形:デューティ及びパル
ス数補正でEFM信号を記録した。
Wavelength: 7 for the information recording media manufactured in each of the above steps
80nm. NA: 0.5. EFM signals were recorded with linear velocity: 1.2 m/sec, laser power = 5.6 mW, and recording waveform: duty and pulse number correction.

記録された信号の再生を、波長:780nm、NA:0
.45、線速度:1.2m/秒、レーザパワー:0.5
mWで行って、その際のCIエラー(個/秒)を測定し
た。
The recorded signal is reproduced at wavelength: 780 nm, NA: 0.
.. 45, Linear velocity: 1.2m/sec, Laser power: 0.5
mW, and the CI error (numbers/second) at that time was measured.

各回で製造した情報記録媒体について、エラーを第1表
に示す。
Table 1 shows the errors for the information recording media manufactured each time.

[比較例l1 実施例lにおいて、下地層の形威時にスパッタ装置の内
壁面を特に加熱しなかった以外は、実施例1におけると
同様にして情報記録媒体を製造した。
[Comparative Example 11 In Example 1, an information recording medium was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the inner wall surface of the sputtering device was not particularly heated during the formation of the underlayer.

続いて、上記の情報記録媒体の製造で使用した下地層形
威用スパッタ装置を清浄にすることなく2 7 そのまま使用し、上記と同様にして第2回目の情報記録
媒体を製造し,以下同様にして、情報記録媒体の製造を
合計5回繰り返した。
Subsequently, the base layer sputtering equipment used in the production of the above information recording medium was used as it was without cleaning, and a second information recording medium was produced in the same manner as above. The production of the information recording medium was repeated five times in total.

上記の各回で製造した情報記録媒体について、実施例l
におけると同様にしてエラーを測定した。
Example 1 Regarding the information recording medium manufactured in each of the above steps,
The error was measured in the same manner as in.

その結果を第1表に示す. 第  1  表 第1表の結果から明らかなように、実施例1で得られた
本発明により製造された情報記録媒体は、同じ装置での
下地層の形威を繰り返したとき、繰り返し回数が増加し
ても、製造された情報2 8 記録媒体のエラーは殆ど増加していないのに対して、比
較例1で得られた情報記録媒体のエラーは、繰り返し回
数が増加するにつれて、エラーが著しく増大している。
The results are shown in Table 1. Table 1 As is clear from the results in Table 1, the information recording medium manufactured according to the present invention obtained in Example 1 showed an increase in the number of repetitions when the formation of the underlayer was repeated in the same device. However, the errors in the information recording medium obtained in Comparative Example 1 increased significantly as the number of repetitions increased. are doing.

[発明の効果1 本発明の情報記録媒体の製造方法は、下地層をスパッタ
により形成の際の電力を高くして下地層の形或時間を短
縮できると共に、そのような条件下で下地層を形威させ
ても製造される情報記録媒体の性能が低下することがな
いので、下地層形成用スパッタ装置の保守、清浄化のた
めに必要な回数を低減させることができ、性能の安定し
た情報記録媒体を製造できると共に、情報記録媒体の生
産性を著しく増大させることができるという顕著な効果
を奏するものである。
[Advantageous Effects of the Invention 1] The method for manufacturing an information recording medium of the present invention makes it possible to shorten the time required to form the base layer by increasing the power when forming the base layer by sputtering, and to form the base layer under such conditions. Since the performance of the information recording medium manufactured does not deteriorate even if the information storage medium is damaged, the number of times required for maintenance and cleaning of the sputtering equipment for forming the base layer can be reduced, and information with stable performance can be obtained. This has the remarkable effect of not only making it possible to manufacture recording media but also significantly increasing the productivity of information recording media.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明において下地層を形威するために使用
することができるスパッタ装置の一具体例の主要部を、
模式的に示す一部断面図である。 1:スバッタ装置、 2:壁、 3:チャンバ、 4:基板支持体、 5:ターゲット支持台、 6:内壁面、 7a、7b、7c:電気抵抗加熱体、 8:基板、 9:樹脂ターゲット。
FIG. 1 shows the main parts of a specific example of a sputtering apparatus that can be used to form an underlayer in the present invention.
It is a partial sectional view shown typically. Reference Signs List 1: Spatter device, 2: Wall, 3: Chamber, 4: Substrate support, 5: Target support, 6: Inner wall surface, 7a, 7b, 7c: Electric resistance heating element, 8: Substrate, 9: Resin target.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、円盤状基板の表面にスパッタにより樹脂からなる下
地層を形成させ、次いで該下地層の上に記録層を設ける
ことを含む情報記録媒体の製造方法において、該下地層
の形成を、内壁面を加熱したスパッタ装置を使用して行
うことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 2、該下地層が、フッ素系樹脂からなることを特徴とす
る請求項1記載の情報記録媒体の製造方法。 3、該記録層が、レーザ光により情報の記録及び/又は
再生が可能なTeを含むことを特徴とする請求項1記載
の情報記録媒体の製造方法。
[Claims] 1. A method for manufacturing an information recording medium comprising forming an underlayer made of resin on the surface of a disc-shaped substrate by sputtering, and then providing a recording layer on the underlayer, the underlayer comprising: 1. A method of manufacturing an information recording medium, characterized in that the formation of the information recording medium is performed using a sputtering device that heats the inner wall surface. 2. The method for manufacturing an information recording medium according to claim 1, wherein the base layer is made of a fluororesin. 3. The method for manufacturing an information recording medium according to claim 1, wherein the recording layer contains Te that allows information to be recorded and/or reproduced by laser light.
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