JPH0298847A - Manufacture of information recording medium - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、光により情報を記録および再生するために用
いられる情報記録媒体の製造方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of the Invention] The present invention relates to a method of manufacturing an information recording medium used for recording and reproducing information using light.
[発明の技術的背景1
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、ぎらには大容に静IF
画像ファイルおよび大容埴コンピュータ用ディスクψメ
モリーとして使用されうるものである。[Technical Background of the Invention 1] In recent years, information recording media that use high energy density beams such as laser light have been developed and put into practical use. This information recording medium is called an optical disk, and includes video disks, audio disks, and large-capacity static IFs.
It can be used as an image file and a disk ψ memory for a large capacity computer.
情報記録媒体は、基本4Ii造として、プラスチック、
ガラス等からなる円盤状の透明基板と、このにに、没け
られた記録層とを有する。記録層の材才1としては、B
i、Sn、In、TeC9の金属または゛h金金属どが
使用されている。記録層が設けられる側の基板表uli
には通常、基板のモ面性の改み、記録層との接着力の向
]二あるいは感度の向I〕などの点から、高分子物質か
らなる下塗層または中間層が、没けられている。また記
録層を保護するため、記録層、ヒに保護層を、役けたり
、あるいは−枚のノ、(板を記録層を内側にして1a合
したサンドイッチ構造の情報記録媒体が提案され、また
使用されている。The information recording medium is basically 4Ii construction, and is made of plastic,
It has a disc-shaped transparent substrate made of glass or the like, and a recording layer sunk into the disc-shaped transparent substrate. As material 1 for the recording layer, B
Metals such as i, Sn, In, TeC9 or gold metal are used. Substrate surface uli on the side where the recording layer is provided
In general, the undercoat layer or intermediate layer made of a polymeric substance is usually destroyed due to changes in the surface properties of the substrate, the adhesive strength with the recording layer, or the sensitivity. ing. In addition, in order to protect the recording layer, information recording media with a sandwich structure have been proposed, in which a protective layer is used for the recording layer, or two plates are stacked together with the recording layer inside. It is used.
記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザーど−
ムを記録媒体に照射することにより行なわれ、記録層の
照射部分がその光を吸収して局所的に温度1: ’yl
する結果、ビット形1&等の物理的変化あるいは相変化
等の化学的変化を生じてその先学的特性を変えることに
より情報が記録される。Information can be written to a recording medium using, for example, a laser.
The irradiated portion of the recording layer absorbs the light and locally raises the temperature to 1: 'yl.
As a result, information is recorded by causing a physical change, such as a bit shape 1&, or a chemical change, such as a phase change, to change its a priori characteristics.
光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムを光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記
録層の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を
検出することにより情報が11r生される。Reading of information from an optical disk is also performed by irradiating the optical disk with a laser beam, and information 11r is generated by detecting reflected light or transmitted light according to changes in the optical characteristics of the recording layer.
このような光ディスクの記録層は、前記材料を真空ノ^
B等により形成されるが、記録層の組成あるいは蒸着条
件などによって層形成直後から結晶性になる場合もある
が、非晶質の状態あるいは両方の状態が混在しているも
のも多い、このような崖品質状態の記録層は一般に熱処
理により結晶化された後、記録層として使用されている
0例えば、Se、Teおよび他の金属(In、Pb、S
n等から選ばれる)からなる記録層に熱処理を施すこと
が、時開IV(57−66998号公報に記数されてい
る。The recording layer of such an optical disc is made by depositing the material in a vacuum
Although it may become crystalline immediately after layer formation depending on the composition of the recording layer or the deposition conditions, there are many cases where it is in an amorphous state or a mixture of both states. The recording layer in the cliff quality state is generally crystallized by heat treatment and then used as the recording layer. For example, Se, Te and other metals (In, Pb, S
It is described in Jikai IV (No. 57-66998) that heat treatment is performed on a recording layer made of a material (selected from n, etc.).
I−温熱処理を行なわない場合、多くはほとんどの部分
が非晶質の状態にある記録層であるため、高い反射率は
1りられ難い、このような低反射率の記録層は充分に高
いC/Nが得にくいとの問題がある。I-If thermal treatment is not performed, most of the recording layer is in an amorphous state, so it is difficult to obtain a high reflectance.A recording layer with such a low reflectance is sufficiently high. There is a problem that it is difficult to obtain C/N.
しかしながら上記熱処理による結晶化工程は、数時間以
上要し、光ディスクを製造する上で極めて不利である。However, the crystallization process by heat treatment takes several hours or more, which is extremely disadvantageous in manufacturing optical disks.
この処理時間を短縮するため加熱温度をトげた場合は、
基板の歪み淳が発生し情報記録媒体の記録再生特性に悪
影響を及ぼす。If the heating temperature is increased to shorten this processing time,
Distortion of the substrate occurs, which adversely affects the recording and reproducing characteristics of the information recording medium.
[発明の[1的]
本発明は、新規な情報記録媒体の製造方法を提供するこ
とをn的とする。[Objective 1 of the Invention] An object of the present invention is to provide a novel method for manufacturing an information recording medium.
また、未発IJJは、高い反射率を右する情報記録媒体
を製造するために要する時間を大幅に短縮することがで
きる製造方法を提供することを【1的とする。Furthermore, one object of the undeveloped IJJ is to provide a manufacturing method that can significantly shorten the time required to manufacture an information recording medium with high reflectance.
[発明の要旨]
本発明は、基板−Eに、レーザー光の照射により情報の
占き込みおよび読み込みが可能な金属からなる層を形成
した後、該金属層を高周波加熱することにより結晶化さ
せることからなる情報記録媒体の製造方法にある。[Summary of the Invention] The present invention forms a layer made of a metal on which information can be read and interpreted by laser beam irradiation on the substrate-E, and then crystallizes the metal layer by high-frequency heating. There is a method for manufacturing an information recording medium comprising the following steps.
に配本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以ドの通りである。Preferred embodiments of the method for manufacturing an information recording medium of the present invention are as follows.
t−+1金属層が、Te、TeSe、TeS。The t-+1 metal layer is Te, TeSe, TeS.
InGe、InGe5およびTeSeM(但しTeSe
MにおいてTeは50〜90重量%。InGe, InGe5 and TeSeM (however, TeSe
In M, Te is 50 to 90% by weight.
Seは5〜40屯縫%モしてMは1〜30重量%の範囲
の値であり1MがPb、I n、Ge、S。Se has a value in the range of 5 to 40% by weight, M has a value in the range of 1 to 30% by weight, and 1M is Pb, In, Ge, S.
Sb、As、Bi、Sn、An、Ga、TJI、Zn、
Cd、Au、Ag、Cu、Ni、Pd、Rh、Cr、M
o、WおよびTaから選ばれる一種の金属を表わす)か
ら選ばれる一種の材料からなる層あることを特徴とする
」二足情報記録媒体の製造方法。Sb, As, Bi, Sn, An, Ga, TJI, Zn,
Cd, Au, Ag, Cu, Ni, Pd, Rh, Cr, M
A method for manufacturing a bipedal information recording medium, characterized in that the layer is made of a material selected from O, W, and Ta.
2、該金属層が、TeSe、InGe5またはTe5e
Pb (但し、Te5ePbにおいてTeは50〜90
重埴%、Seは6〜40重量%そしてPbは1〜30玉
昼%の11ii囲の値である)の材料からなることを特
徴とする上記情報記録媒体の製造方法。2. The metal layer is TeSe, InGe5 or Te5e
Pb (However, in Te5ePb, Te is 50 to 90
% by weight, Se by 6 to 40% by weight, and Pb by weight from 1 to 30% by weight, in the range of 11ii).
3、−1−記高周波加熱が、0 、5kHz−2、45
GHzの範囲の周波数を用いて、10秒〜10分の範囲
の時間内で行なわれること特徴とする」−記情報記録媒
体の製造方法。3.-1- High frequency heating is 0,5kHz-2,45
A method for manufacturing an information recording medium, characterized in that the process is carried out using a frequency in the GHz range and within a time period in the range of 10 seconds to 10 minutes.
4、該金属層が、上記金属を共蒸着または共ス夷
バッタリングすることにより形成されること特徴とする
」二足情報記録媒体の製造方法。4. A method for producing a bipedal information recording medium, characterized in that the metal layer is formed by co-evaporating or co-buttering the metal.
[9iIJ)の効果J
未発IJの製造方法によって得られる情報記録媒体は、
1−記金属からなる記録層が設けられた、高い反射率を
有するものである。すなわち、光デイスク用に適した比
較的高い感度を有する非晶質状態にある金属層を高周波
加熱することにより、極めて短時間に非晶質状態から結
晶質状態に変化させることができる。こうして得られた
記録層は反射(イが高< C/Nが充分に高いものであ
る。[9iIJ) Effect J The information recording medium obtained by the method for producing undeveloped IJ is as follows:
1- A recording layer made of a metal is provided and has a high reflectance. That is, by high-frequency heating a metal layer in an amorphous state that has relatively high sensitivity and is suitable for optical disks, it can be changed from an amorphous state to a crystalline state in an extremely short time. The recording layer thus obtained has a sufficiently high reflection (high A<C/N).
従って、−に記末完IJ7の製造方法を利用することに
より、高い反射率および高いC/Nの情報記録媒体を得
ることができる。Therefore, by using the manufacturing method of IJ7, an information recording medium with high reflectance and high C/N can be obtained.
[発明の詳細な記述]
未発11の情報記録媒体を9a造する方法は、たとえば
以下のように行なわれる。[Detailed Description of the Invention] A method for creating an information recording medium 9a of unissued 11 is carried out, for example, as follows.
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
増扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から2
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エボキシ
樹脂;ポリエチレンテレフタレート等ポリエステル類;
ポリイミド類;ポリカーボネートおよび非晶質ポリオレ
フィンを挙げることができる。これらのうちで、好まし
いものはポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート
、エポキシ樹脂、非晶質ポリオレフィンおよびポリエチ
レンテレフタレートであり、特にポリカーボネートが好
ましい。The substrate used in the present invention can be arbitrarily selected from various materials used as substrates for conventional information recording media. Optical properties, flatness, processability of the substrate,
2 from the viewpoint of ease of handling, stability over time, manufacturing cost, etc.
Examples of substrate materials include glass such as soda lime glass; acrylic resins such as cell cast polymethyl methacrylate and injection molded polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; polyethylene terephthalate. etc. polyesters;
Polyimides; mention may be made of polycarbonates and amorphous polyolefins. Among these, preferred are polymethyl methacrylate, polycarbonate, epoxy resin, amorphous polyolefin and polyethylene terephthalate, with polycarbonate being particularly preferred.
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい、下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメククリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体。The surface of the substrate on which the recording layer is provided has improved flatness,
An undercoat layer may be provided for the purpose of improving adhesive strength and preventing deterioration of the recording layer. Examples of materials for the undercoat layer include polymethyl meccrylate, acrylic acid/methacrylic acid copolymer .
ニトロセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート等の高分子物質;シランカップリング剤
などの有機物質;および無機酸化物(S io 2 、
A l 203等)、無機弗化物(MgF2)などの
無機物質を挙げることができる。Polymer substances such as nitrocellulose, polyethylene, polypropylene, and polycarbonate; organic substances such as silane coupling agents; and inorganic oxides (S io 2 ,
Examples include inorganic substances such as Al 203) and inorganic fluorides (MgF2).
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。In the case of a glass substrate, in order to prevent adverse effects on the recording layer due to alkali metal ions and alkaline earth metal ions liberated from the substrate, wood-philic groups such as styrene/maleic anhydride copolymer and/or maleic anhydride are added. Preferably, a subbing layer made of a polymer having acid groups is provided.
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、ティップコ
ート、エクストルージゴンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。The undercoat layer can be formed by, for example, dissolving or dispersing the above-mentioned substance in a suitable solvent and then applying this coating solution to the substrate surface by a coating method such as spin code, tip coat, extrusion coat, etc. .
また、基板上にはトラッキング用溝の目的でプレグルー
ブの層が、またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の
形成等の目的でプレピットの層が設けられてもよい、プ
レグルーブ等の層の材料としては、アクリル酸のモノエ
ステル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステ
ルのうちの少なくとも一種のモノマー(またはオリゴマ
ー)と光重合開始剤との混合物を用いることができる。Further, on the substrate, a pre-groove layer may be provided for the purpose of tracking grooves, or a pre-pit layer may be provided for the purpose of forming unevenness representing information such as address signals, etc. Materials for the pre-groove layer etc. As the initiator, a mixture of at least one monomer (or oligomer) of acrylic acid monoester, diester, triester, and tetraester and a photopolymerization initiator can be used.
プレグルーブ等の層の層厚は、一般に0.05〜!00
μmの範囲にあり、好ましくは0.1〜50gmの範囲
にある。また、プラスチック基板の場合は直接基板表面
にプレグルーブ等を形成してもよい。The thickness of the pre-groove layer is generally 0.05~! 00
It is in the range of μm, preferably in the range of 0.1 to 50 gm. Furthermore, in the case of a plastic substrate, pregrooves or the like may be formed directly on the substrate surface.
本発明の情報記録媒体の基板の上には(所望によりプレ
グルーブ層、下塗り層を介して)塩素化ポリオレフィン
、ニトロセルローズ、ポリスチレン、フッ素樹脂淳の中
間層が設けられても良い。An intermediate layer of chlorinated polyolefin, nitrocellulose, polystyrene, or fluororesin resin may be provided on the substrate of the information recording medium of the present invention (via a pregroove layer or an undercoat layer if desired).
好ましくは11!素化ポリオレフインまたはフッ素樹脂
からなる層である0例えば、塩素化ポリオレフィン層を
設けた場合、これにより、レーザービームの照射による
熱エネルギーが記録層から基板へ熱伝導によって損失す
るのを低減することができ、かつ塩素化ポリオレフィン
層の被照射部分からガスが発生するため、ビットの形成
が容易となり、従って記録感度を高めるとともに読取誤
差(ピットエラーレート)を低減することができる。Preferably 11! For example, when a chlorinated polyolefin layer is provided, which is a layer made of chlorinated polyolefin or fluororesin, this can reduce the loss of thermal energy due to laser beam irradiation from the recording layer to the substrate due to thermal conduction. Since gas is generated from the irradiated portion of the chlorinated polyolefin layer, it is easy to form bits, thereby increasing recording sensitivity and reducing reading errors (pit error rate).
塩素化ポリオレフィン層は、上記塩素化ポリオレフィン
を溶剤に溶解して塗布液を調製し1次いでこの塗布液を
基板の上に(所望により下塗り層などを介して)塗布乾
燥することにより設けることができる。The chlorinated polyolefin layer can be provided by dissolving the above-mentioned chlorinated polyolefin in a solvent to prepare a coating solution, and then applying and drying this coating solution onto the substrate (via an undercoat layer, etc. if desired). .
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを用いることができる
。As a coating method, a spray method, a spin code method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, a screen printing method, etc. can be used.
また、フッ素樹脂層は、例えばポリテトラフルオロエチ
レン(例えばテフロン(デュポン社製))を基板上にス
パッタリングすることにより1;シけることができる。Further, the fluororesin layer can be formed by, for example, sputtering polytetrafluoroethylene (eg, Teflon (manufactured by DuPont)) onto the substrate.
塩素化ポリオレフィン層およびフー7素樹脂層の層厚は
、一般にlO〜1000又の範囲にあり、好ましくは1
00〜500スの範囲にある。The layer thickness of the chlorinated polyolefin layer and the fluorine resin layer is generally in the range of 10 to 1000, preferably 1
It is in the range of 00 to 500 seconds.
上記のフッ素樹脂層等中間層の上または基板L(所望に
よりプレグルーブ層等を介して)には記録層が設けられ
る。A recording layer is provided on the intermediate layer such as the above-mentioned fluororesin layer or on the substrate L (via a pregroove layer or the like if desired).
本発明の記録層は、基板算の上に金属からなる層を形成
した後、該金rijs層を高周波加熱することにより結
晶化させることによって得ることができる。このように
して得られた記録層は、その反射率が充分に高い反射率
に変化した金属層である。The recording layer of the present invention can be obtained by forming a layer made of metal on a substrate and then crystallizing the gold layer by high-frequency heating. The recording layer thus obtained is a metal layer whose reflectance has been changed to a sufficiently high reflectance.
」−足金f!層の材料としては、加熱により結晶化する
ものであればよく、金属、半金属、金属硫化物2金&4
酸化物およびこれらの組合わせ等、特に限定されるもの
ではない。”-Ashikin f! The layer material may be any material that can be crystallized by heating, such as metals, semimetals, metal sulfides
The oxides and combinations thereof are not particularly limited.
金属層の材料として好ましい例としては、Te、TeS
e、TeS、InGe、InGe5およびTeSeM(
但し、T e S e Mにおイテ。Preferred examples of the material for the metal layer include Te and TeS.
e, TeS, InGe, InGe5 and TeSeM (
However, it is subject to T e S e M.
Teは50〜90重綴%(特に好ましくは60〜85重
量%)、Seは5〜40重量%(特に好ましくは7〜2
0爪j誹%)モしてMは1〜3017j :誹%(特に
好ましくは2〜lO重量%)の範囲の値であり、MがP
b、I n、Ge、S、Sb、As、Bi、Sn、AU
、Ga、T1.Zn。Te is 50 to 90% by weight (particularly preferably 60 to 85% by weight), and Se is 5 to 40% by weight (particularly preferably 7 to 2% by weight).
M is a value in the range of 1 to 3017j (particularly preferably 2 to 10% by weight), and M is P
b, In, Ge, S, Sb, As, Bi, Sn, AU
, Ga, T1. Zn.
Cd、Au、Ag、Cu、Ni、Pd、Rh。Cd, Au, Ag, Cu, Ni, Pd, Rh.
Cr、MOlWおよびTaから選ばれる一種の金属を表
わす)を挙げることがでJる。特に好ましくは、TeS
e、InGe5またはTe5ePb(但し、Te5eP
bにおいてTeは50〜90−に呈%、Seは6〜40
重量%そしてPbは1〜30爪量%の範囲の値である)
を挙げることができる。Representing a kind of metal selected from Cr, MOLW and Ta) can be mentioned. Particularly preferably TeS
e, InGe5 or Te5ePb (however, Te5eP
In b, Te is 50-90%, Se is 6-40%
% by weight and Pb ranges from 1 to 30% by weight)
can be mentioned.
1−、記記録層となる金属層は、上記の記録層材料を用
いて蒸着、スパッタリング、イオンブレーティングなど
の公知の方法により基板−にに形成される6未発IJで
は二種以上の金属を用いるため。1-. The metal layer serving as the recording layer is formed on the substrate by a known method such as vapor deposition, sputtering, or ion blasting using the above-mentioned recording layer material. to use.
共蒸着あるいは共スパッタリング法によることが好まし
い。Co-evaporation or co-sputtering is preferably used.
このようにして形成された金属層(記録層)の層厚は、
情報の書き込みの容易さと反射率との兼ね合いから、1
00〜3000Xの範囲が好ましく、特に好ましくは、
200−1200Xの範囲である。The thickness of the metal layer (recording layer) formed in this way is
From the viewpoint of ease of writing information and reflectance, 1.
The range is preferably from 00 to 3000X, particularly preferably,
It is in the range of 200-1200X.
上記のような金属、4Sに一種以上の金属との組合わせ
で真空蒸着等により形成された金属層は、それ自体比較
的高い記Q8度を示すものであるが1反射率は低い、こ
の理由は蒸着された金属層は、はとんどの部分が非晶質
状態にあるものが多いためである。このような反射率の
低い記録層は充分に高いC/N等の優れた記録再生特性
を得ることができない。The reason for this is that the above-mentioned metals, metal layers formed by vacuum deposition etc. in combination with 4S and one or more metals, exhibit a relatively high Q8 degree, but have a low 1 reflectance. This is because most of the deposited metal layer is in an amorphous state. A recording layer with such a low reflectance cannot provide excellent recording and reproducing characteristics such as a sufficiently high C/N.
上記金属層の相状態は、S処理することにより非晶質状
態から結晶状態に変化が起こり、反射率が高くなること
が知られている1本発明者らは。The present inventors have known that the phase state of the metal layer changes from an amorphous state to a crystalline state by S treatment, and the reflectance increases.
上記金属層を高周波加熱することによって極めて短時間
で非晶質状態から結晶状態に変化させることができ、こ
れにより高反射率を有する結晶化された金属層を得るこ
とができることを見い出した。こうして得られた記録層
は、加熱処理が充分行なわれたものと同様に結晶化が均
一に充分進んでいるため高い反射率を有し、従って、高
いC/Nがず;することができる。It has been found that by high-frequency heating the metal layer, it is possible to change it from an amorphous state to a crystalline state in an extremely short period of time, thereby obtaining a crystallized metal layer having a high reflectance. The recording layer thus obtained has a high reflectance because the crystallization has progressed uniformly and sufficiently, like a layer that has been sufficiently heat-treated, and therefore can have a high C/N ratio.
L記情報記録媒体においては、このように1反射((も
高く、C/Nも高い記録層を利用して、相変化による情
報の記録形態では無くビット形成による記録形態で情報
の記録が行なわれる。In the L information recording medium, by using a recording layer with a high C/N ratio and one reflection, information is recorded not by phase change but by bit formation. It will be done.
本15il!明では上記のように金属層の反射率を高く
する(非、1i7J′f!1状思から結晶状態に変化さ
せる)ため、金属層に高周波による加熱処理が行なわれ
る。高周波加熱は、上記aR等により形成された金kf
、層を高周波加熱炉に入れることにより実施される。一
般に、高周波加熱は、コイルの高周波電流を通して、コ
イル内においた材料を加熱する方法で、上記記録層よう
な導体の場合は、電磁誘導で生ずる渦電流によって加熱
され、プラスチック材料等の誘電体は誘電損失によって
ゆるやかに加熱される。Book 15il! In order to increase the reflectance of the metal layer (change it from a non-1i7J'f!1 state to a crystalline state) as described above, the metal layer is subjected to high-frequency heat treatment. High frequency heating is performed using gold kf formed by the above aR etc.
, is carried out by placing the layer in a high frequency heating furnace. In general, high-frequency heating is a method of heating a material placed inside a coil by passing a high-frequency current through the coil. In the case of a conductor such as the recording layer mentioned above, it is heated by eddy currents generated by electromagnetic induction, and dielectric materials such as plastic materials are heated. It is heated slowly due to dielectric loss.
高周波加熱炉は1例えばfjSf図に示すような外観を
右し、加熱材料を収容するための石英の筒lとその周り
にスパイラル状に高周波を印加するために巻かれた銅線
2とから成っている。この石英の筒lの中に光ディスク
3が並べられたサンプルホルダー4が加熱するため装入
され、この状態で銅線に高周波電流を流すことによって
高周波加熱が実施される。A high-frequency heating furnace 1 has an appearance as shown in the fjSf diagram, for example, and consists of a quartz cylinder 1 for housing a heating material and a copper wire 2 wound around the quartz cylinder 1 for applying high-frequency waves in a spiral shape. ing. A sample holder 4 in which optical disks 3 are lined up is inserted into this quartz tube 1 for heating, and in this state high-frequency heating is carried out by passing a high-frequency current through the copper wire.
高周波加熱の条件としては、0.5kHz〜2.45G
Hzの範囲の周波数の電流を用いて、10秒〜10分の
範囲の時間内で一般に行なわれ、好ましくは1−10k
Hzの範囲の周波数で1〜10分の範囲の時間自行なう
ことである。The conditions for high frequency heating are 0.5kHz to 2.45G.
It is generally carried out for a time in the range of 10 seconds to 10 minutes, preferably 1-10k, using a current with a frequency in the range of Hz.
It is carried out at a frequency in the range of Hz for a time in the range of 1 to 10 minutes.
高周波加熱に使用される電力は、一般に100W〜1O
kWの範囲内である。The power used for high frequency heating is generally 100W to 1O
It is within the range of kW.
このようにして本発明の記録層は形成することができる
。The recording layer of the present invention can be formed in this manner.
記録層の上には、記録層の一部として、記録特性および
耐久性の向上を目的として、上記記録層の酸化層または
窒化層、あるいは二酸化ケイ素。On the recording layer, as part of the recording layer, an oxide layer or a nitride layer, or silicon dioxide of the recording layer is provided for the purpose of improving recording characteristics and durability.
酸化スズ、弗化マグネシウム、酸化テルル、酸化アンチ
モンなどの無機物質からなる層を設けてもよい、これら
は真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法により
設けることができる。A layer made of an inorganic substance such as tin oxide, magnesium fluoride, tellurium oxide, or antimony oxide may be provided, and these can be provided by methods such as vacuum evaporation, sputtering, or coating.
記録層の上には保護層が設けられることが好ましい、保
護層としては、軟質樹脂材料からなる軟質保護層と硬質
樹脂材料からなる硬質保護層との間層体が好ましい、こ
の間層体は、軟質保護層側を記録層側にして、記録層上
に請層する。軟質樹脂材料の例としては、ポリウレタン
、ポリ塩化ビニリデン、エチレン争酢酸ビニル共重合体
、シリコンゴム、スチレン・ブタジェン・ゴム、ポリ塩
化ビニリデン、ポリアクリル酸エステルを挙げることが
できる0通常、これらは、溶液塗布、ラテックス塗布、
熔融塗布などの方法により記録層」=に塗布され、必要
により乾燥、加熱などの処理を行なって軟質保護層とさ
れる。軟質保護層の層厚は通常100λ〜5pmの範囲
にあり、好ましく0.01〜3終mの範囲にある。硬質
樹脂材料の例としては、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂な
どが挙げられる6通常、これらは、溶液塗布などの方法
により軟質保護層上に塗布され、必要により紫外線照射
、加熱などの処理を行なって硬質保護層とされる。硬質
保!I層の層厚は通常0.1−10gmの範囲にあり、
好ましくは1〜3μmの範囲にある。It is preferable that a protective layer is provided on the recording layer. The protective layer is preferably an intermediate layer consisting of a soft protective layer made of a soft resin material and a hard protective layer made of a hard resin material. Lay it on the recording layer with the soft protective layer side facing the recording layer side. Examples of soft resin materials include polyurethane, polyvinylidene chloride, ethylene-vinyl acetate copolymer, silicone rubber, styrene-butadiene rubber, polyvinylidene chloride, and polyacrylic acid ester. Solution coating, latex coating,
It is applied to the recording layer by a method such as melt coating, and if necessary, it is subjected to treatments such as drying and heating to form a soft protective layer. The thickness of the soft protective layer is usually in the range of 100 λ to 5 pm, preferably in the range of 0.01 to 3 pm. Examples of hard resin materials include ultraviolet curing resins, thermosetting resins, etc. 6 Usually, these are applied onto the soft protective layer by methods such as solution coating, and if necessary, treatments such as ultraviolet irradiation and heating are performed. It is used as a hard protective layer. Hard maintenance! The layer thickness of the I layer is usually in the range of 0.1-10 gm,
Preferably it is in the range of 1 to 3 μm.
基板の記録層が設けられる側とは反対側の表面には2耐
傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化ケイ
素、酸化スズ、弗化マグネシウム、などの無機物質、あ
るいは熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質か
らなる薄膜が、真空/A I!1.スパッタリングまた
は塗布等の方法により設けられていてもよい。The surface of the substrate opposite to the side on which the recording layer is provided is coated with inorganic substances such as silicon dioxide, tin oxide, magnesium fluoride, thermoplastic resin, and optical fibers to improve scratch resistance and moisture resistance. A thin film made of a polymer material such as a curable resin is coated in a vacuum/AI! 1. It may be provided by a method such as sputtering or coating.
貼り合わせタイプの情報記録媒体においては。For laminated type information recording media.
J二記構成を有する二枚の基板を接着剤等を用いて接合
することにより製造することができる。エアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体においては、二枚の円盤状基板の
うちの少なくとも一方が上記aI&を有する基板を、リ
ング状の外側スペーサと内側スペーサとを介して、ある
いはいずれか一方もしくは双方の基板に設けられた突起
を介して接合することにより製造することができる。It can be manufactured by joining two substrates having the J2 structure using an adhesive or the like. In an air sandwich type recording medium, at least one of the two disc-shaped substrates has the above-mentioned aI&, via a ring-shaped outer spacer and an inner spacer, or to one or both of the substrates. It can be manufactured by joining via provided protrusions.
次に、上記の情報記録媒体を用いて1例えば以下に述べ
るような光情報記録方法により、情報を記録することが
できる。Next, information can be recorded using the above information recording medium, for example, by an optical information recording method as described below.
まず、情報記録媒体を一定の線速度(角速度の場合もあ
る)で回転させながら、基板側から半導体レーザー光な
どの記録用の光を照射する。一般に、記録光としては7
50〜850nmの範囲の発振波長を有する半導体レー
ザービームが用いられる。一般に5〜20mWのレーザ
ーパワーで記録される。First, while rotating the information recording medium at a constant linear velocity (or angular velocity in some cases), recording light such as semiconductor laser light is irradiated from the substrate side. Generally, the recording light is 7
A semiconductor laser beam with an oscillation wavelength in the range of 50-850 nm is used. Generally recorded with a laser power of 5-20 mW.
これにより、記録層には長さが0.70〜4゜0pmの
ビットが0.70〜4.0pmの間隔で同心固状もしく
はスパイラル状に形成される。As a result, bits having a length of 0.70 to 4.0 pm are formed in the recording layer at intervals of 0.70 to 4.0 pm in a concentric solid shape or in a spiral shape.
記録に際しては、トラッキング用プレグルーブを用いて
トラッキング調御を行なうことが好ましい、記録媒体に
プレグルーブが設けられている場合において、信号の記
録はグループの底部、もしくはグループ間の領域のどち
らに行なってもよい。When recording, it is preferable to perform tracking adjustment using a tracking pregroove. If the recording medium is provided with a pregroove, the signal can be recorded either at the bottom of the group or in the area between the groups. It's okay.
情報の再生は、記録媒体を上記と同一の定線速度で回転
させながら半導体レーザー光を基板側から照射して、そ
の反射光を検出することにより行なうことができる。Information can be reproduced by rotating the recording medium at the same constant linear velocity as described above, irradiating semiconductor laser light from the substrate side, and detecting the reflected light.
次に本発明の実施例を記数する。ただし、これらの各個
は本発明を制限するものではない。Next, examples of the present invention will be listed. However, each of these does not limit the present invention.
[実施例1]
トラッキング用溝を有する円盤状のポリカーボネート基
板(外径:120mm、内径:15mm、厚さ:1.2
mm、内径45mm〜外径116mmの範囲に深さ0.
07JLm、$&IO,8ILm、 ピッチ1.671
mの溝がスパイラル状に設けられているもの)]二に、
テフロン(デュポン社製)をスパッタリングして層厚5
00Xの中間層を形成した6次いで、この中間層上に、
Te、SeおよびPbをそれぞれ82重量%:12重陽
%:6重槍%の割合で共スパッタリングを行なって、層
厚が500又の記録層を形成した。[Example 1] Disc-shaped polycarbonate substrate with tracking grooves (outer diameter: 120 mm, inner diameter: 15 mm, thickness: 1.2
mm, depth 0.0mm in the range of inner diameter 45mm to outer diameter 116mm.
07JLm, $&IO, 8ILm, pitch 1.671
m grooves are provided in a spiral shape)] Second,
Sputter Teflon (manufactured by DuPont) to a layer thickness of 5
00X intermediate layer was formed 6 Then, on this intermediate layer,
A recording layer having a layer thickness of 500 layers was formed by co-sputtering Te, Se, and Pb at a ratio of 82% by weight: 12% by weight: 6% by weight, respectively.
次に、得られた情報記録媒体を、高周波加熱炉に入れ、
5kHzの周波数を用いて、500Wの電力で1分間、
加熱を行なった。これにより、結晶化された記録層が形
成された。Next, the obtained information recording medium is placed in a high frequency heating furnace,
Using a frequency of 5kHz, power of 500W for 1 minute,
Heating was performed. As a result, a crystallized recording layer was formed.
このようにして、基板、中間層および記録層からなる情
報記録媒体)製造した。In this way, an information recording medium consisting of a substrate, an intermediate layer, and a recording layer was manufactured.
L記スパッタリング条件は、ペルジャー内圧力10″′
Torrでアルゴンガス導入、導入後圧力=7X10−
コTorr、ターゲット距離:5cmであった。The sputtering conditions listed in L are Pelger internal pressure 10'''
Argon gas introduced at Torr, pressure after introduction = 7X10-
Torr, target distance: 5 cm.
[比較例11
実施例1において、記録層に対して高周波加熱を行なわ
ずに60℃120分tinの加熱処理を行なった以外は
実施例1と同様に結晶化された記録層を有する情報記録
媒体をfiI造した。[Comparative Example 11 Information recording medium having a crystallized recording layer in the same manner as in Example 1 except that the recording layer was not subjected to high-frequency heating but was subjected to heat treatment at 60° C. for 120 minutes. I created fiI.
[比較例2]
実施例1において、記録層に対して高周波加熱を行なわ
ずに60℃30分間の加熱処理を行なった以外は実施例
1と同様に結晶化された記録層を有する情報記録媒体を
製造した。[Comparative Example 2] Information recording medium having a crystallized recording layer in the same manner as in Example 1 except that the recording layer was heat treated at 60° C. for 30 minutes without high-frequency heating. was manufactured.
[比較例3]
実施例1において、記録層に対して高周波加熱を行なわ
ずに80℃120分間の加熱処理を行なった以外は実施
例1と同様に結晶化之れだ記録層を有する情報記録媒体
を製造した。[Comparative Example 3] Information recording having a crystallized recording layer in the same manner as in Example 1 except that in Example 1, the recording layer was not subjected to high-frequency heating but was heated at 80° C. for 120 minutes. Media was manufactured.
[比較例4]
実施例1において、記録層に対して高周波加熱を行なわ
ずに80℃30分間の加熱処理を行なった以外は実施例
1と同様に結晶化された記録層を有する情報記録媒体を
製造した。[Comparative Example 4] Information recording medium having a crystallized recording layer in the same manner as in Example 1 except that the recording layer was heat treated at 80° C. for 30 minutes without high-frequency heating. was manufactured.
[情報記録媒体の評価]
(1)反射率
反射率の測定は分光光度計330型(日本分光■製)で
行なった。(測定に用いた光は、波長が820mmのも
のである)111定は高周波加熱処理前と後について行
なった。[Evaluation of Information Recording Medium] (1) Reflectance Reflectance was measured using a spectrophotometer model 330 (manufactured by JASCO ■). (The light used for the measurement had a wavelength of 820 mm.) 111 constant was performed before and after the high frequency heat treatment.
(2)C/Nが最大となる記録パワー
上記(2)の測定条件は、5.5m/秒の線速度、古き
込み周波数3.63MHzおよびオンパルス90 n5
ec、にて二値情報の記録を行ない、スペクトルアナラ
イザーによりバンド幅30kHzで上記測定を行なった
。(2) Recording power at which C/N is maximum
Binary information was recorded using EC, and the above measurement was performed using a spectrum analyzer with a bandwidth of 30 kHz.
上記測定結果を第1表に示す。The above measurement results are shown in Table 1.
第1表
反射率(%) 最大C/に
処理前→後 パワー(tW)
実施例1 34−$42 51比較例1
33→38 50
2 33瞬42 49
3 35→40 514 34呻4
1 50
第1表から明らかなように、実施例1.比較例1および
3は、高い反射率と高いC/Nを得ることができる。し
かしながら1本発明の製造方法を711用することによ
り従来の熱処理による比較例1よりはるかに効率良く(
すなわち熱処理は120分、高周波加熱は1分)品性ず
艶の光ディスクを製造することができる。Table 1 Reflectance (%) Maximum C/ Before → After treatment Power (tW) Example 1 34-$42 51 Comparative example 1
33 → 38 50 2 33 Shun 42 49 3 35 → 40 514 34 Moan 4
1 50 As is clear from Table 1, Example 1. In Comparative Examples 1 and 3, high reflectance and high C/N can be obtained. However, by using the manufacturing method of the present invention, it is much more efficient than Comparative Example 1 using conventional heat treatment (
In other words, the heat treatment is performed for 120 minutes, and the high-frequency heating is performed for 1 minute.) It is possible to produce an optical disc with a high gloss and high quality.
一方、熱処理時間の短い比較例2および3では、上記情
報記録媒体に比べて反射率、C/N共に劣っている。On the other hand, Comparative Examples 2 and 3, in which the heat treatment time was short, were inferior in both reflectance and C/N compared to the above information recording medium.
第1図は、本発明の製造方法に用いられる高周波加熱炉
の一例の外観を示す模式図である。
l二石英の筒
2:銅線
3:光ディスク
4:サンプルホルダーFIG. 1 is a schematic diagram showing the appearance of an example of a high-frequency heating furnace used in the manufacturing method of the present invention. l2 Quartz tube 2: Copper wire 3: Optical disk 4: Sample holder
Claims (1)
および読み込みが可能な金属からなる層を形成した後、
該金属層を高周波加熱することにより結晶化させること
からなる情報記録媒体の製造方法。1. After forming a layer made of metal on the substrate that allows information to be written and read by irradiation with laser light,
A method for manufacturing an information recording medium, which comprises crystallizing the metal layer by high-frequency heating.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25157088A JPH0298847A (en) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | Manufacture of information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25157088A JPH0298847A (en) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | Manufacture of information recording medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0298847A true JPH0298847A (en) | 1990-04-11 |
Family
ID=17224780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25157088A Pending JPH0298847A (en) | 1988-10-04 | 1988-10-04 | Manufacture of information recording medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0298847A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5627012A (en) * | 1995-02-13 | 1997-05-06 | Tdk Corporation | Method for preparing phase change optical recording medium |
US5965323A (en) * | 1997-02-27 | 1999-10-12 | Tdk Corporation | Method for preparing optical recording medium |
US6242157B1 (en) | 1996-08-09 | 2001-06-05 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for making |
US6537721B2 (en) | 1999-02-15 | 2003-03-25 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for its initialization |
-
1988
- 1988-10-04 JP JP25157088A patent/JPH0298847A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5627012A (en) * | 1995-02-13 | 1997-05-06 | Tdk Corporation | Method for preparing phase change optical recording medium |
US6242157B1 (en) | 1996-08-09 | 2001-06-05 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for making |
US5965323A (en) * | 1997-02-27 | 1999-10-12 | Tdk Corporation | Method for preparing optical recording medium |
US6537721B2 (en) | 1999-02-15 | 2003-03-25 | Tdk Corporation | Optical recording medium and method for its initialization |
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