JPH03163338A - Attached-dust inspecting apparatus - Google Patents

Attached-dust inspecting apparatus

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Publication number
JPH03163338A
JPH03163338A JP30358689A JP30358689A JPH03163338A JP H03163338 A JPH03163338 A JP H03163338A JP 30358689 A JP30358689 A JP 30358689A JP 30358689 A JP30358689 A JP 30358689A JP H03163338 A JPH03163338 A JP H03163338A
Authority
JP
Japan
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substrate
dust
detector
sensor
inspected
Prior art date
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Pending
Application number
JP30358689A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobushi Suzuki
鈴木 悦四
Katsuyuki Fukui
克幸 福居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP30358689A priority Critical patent/JPH03163338A/en
Publication of JPH03163338A publication Critical patent/JPH03163338A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make it possible to perform inspections characterized by a movable method, a low cost and high sensivity by projecting spot light on the surface of one part in a large square-shaped substrate which is held with a rotary body, and detecting attached dust based on the state of the reflected light. CONSTITUTION:A substrate to be inspected 1 is mounted on a rotary table 2, and a start signal S1 is inputted. Then, a detector 16 is moved to the position of a sensor 26 from the position of a sensor 17 with a motor 25. When the center of the detector approximately agrees with a rotary shafts 3 of the sensor 26, the inspection is started. The motor 25 is rotated in the reverse direction. The detector 16 is relatively moved along the surface of the substrate 1 toward the sensor 27. Spot light is projected during the movement, and the state of the reflected light is detected. That is, when the dust is attached to the substrate 1, the scattering light is extracted and stored. The fact is confirmed after the inspection is finished. When the detector 16 is further moved by a specified distance l, the detection is finished, and the rotation of the table 2 is stopped. This detecting method is the same as the detection of a semiconductor wafer. The entire surface of the large squared substrate cannot be detected, but this method is sufficient for controlling the dust in the manufacturing line and has the advantages such as the movable method, the low cost and the like.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、液晶表示パネル用大型角形基板の製造時等に
用いる付着ごみ検査装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Field of Application) The present invention relates to an attached dust inspection device used when manufacturing large square substrates for liquid crystal display panels.

(従来の技術) 近年、ワープロ、パソコンや液晶テレビ等の普及にとも
ない、液晶ディスプレイの需要が増加し、これと共に液
晶ディスプレイに対する微細表示や大型化の要求が大き
くなっており、品質保持も非常にきびしく要求されるよ
うになっている。
(Conventional technology) In recent years, with the spread of word processors, personal computers, LCD televisions, etc., the demand for liquid crystal displays has increased. At the same time, the demand for finer displays and larger sizes for liquid crystal displays has also increased, and quality maintenance has become extremely difficult. It is becoming more and more demanding.

このような要求に対し、液晶ディスプレイでは、その製
造手段でのごみの付着が大きな問題となる。
In response to such demands, the adhesion of dust in the manufacturing means of liquid crystal displays poses a major problem.

液晶ディスプレイは、液晶画面である表示パネルと、こ
れを駆動するモジュールに大別されるが、表示パネルの
製造では、基板となるガラス板にフォト・エッチング・
プロセスにより種々の微細パターンを形成するバターニ
ング工程と、バタニン,グされた2枚の基板を貼り合せ
て、その間に液晶を注入するセル工程とがある。いずれ
の場合も、その工程中で基板面にごみが付着すると、微
細パターンが切断あるいはショートしたり、また、セル
工程では2枚の基板の電極がショートする等の不良が生
じ、結果的に生産歩留の悪化と、品質の悪化を招くこと
になる。特に、最近のTFT (Thin Film 
Transistor)構造の表示パネルノ製造では、
ごみ問題は大きな課題である。したがって、各工程中に
おいて、基板面にどれだけごみが付着するかを検査する
ことは、歩留および品質の向上のためにきわめて重要と
なっている。
Liquid crystal displays are broadly divided into a display panel, which is a liquid crystal screen, and a module that drives the display panel.In manufacturing the display panel, photo-etching and photo-etching are applied to the glass plate that serves as the substrate.
There is a buttering process in which various fine patterns are formed through a process, and a cell process in which two buttered substrates are bonded together and liquid crystal is injected between them. In either case, if dust adheres to the substrate surface during the process, fine patterns may be cut or short-circuited, and defects such as short-circuiting of the electrodes of two substrates may occur in the cell process, resulting in production problems. This will lead to deterioration of yield and quality. In particular, recent TFT (Thin Film)
In the manufacturing of display panels with transistor structure,
The garbage problem is a major issue. Therefore, it is extremely important to inspect how much dust adheres to the substrate surface during each process in order to improve yield and quality.

このようなことから、近時、大型のガラス基板の付着ご
み検査装置としては、基板面をレーザスポットによりポ
リゴンミラーを介して走査すると同時に、上記基板を走
査方向と直角方向に移動し、基板面上のごみによる散乱
反射光をそれらの動きに同期して検出し、ごみの付着状
態を検査するものが使われ始めている。しかし、この装
置は、全体が大きいため据置き型となると共に高価であ
り、さらに、ごみ検出感度が劣り、最小ごみ検出レベル
は1#ffi程度である。
For this reason, recently, large glass substrate adhering dust inspection equipment scans the substrate surface with a laser spot via a polygon mirror, and at the same time moves the substrate in a direction perpendicular to the scanning direction. Devices that detect the scattered and reflected light from dust on the surface in synchronization with the movement of the dust and inspect the state of dust adhesion are beginning to be used. However, this device is large in size, is stationary, and is expensive.Furthermore, the dust detection sensitivity is poor, and the minimum dust detection level is about 1#ffi.

したがって、従来は、半導体の製造に際して用いられる
ウエハ用ごみ検査装置が広く使われている。この場合、
被検査基板は丸形の半導体ウエハか、同形状のガラス基
板に限定される。一方、液晶ディスプレイの表示パネル
の製造工程に用いる製造設備では、大型角形のガラス板
が搬送され、かつ、処理されるようになっている。
Therefore, conventionally, wafer dust inspection apparatuses used in the manufacture of semiconductors have been widely used. in this case,
The substrate to be inspected is limited to a round semiconductor wafer or a glass substrate of the same shape. On the other hand, in manufacturing equipment used in the manufacturing process of display panels for liquid crystal displays, large square glass plates are transported and processed.

そこで、従来は、ごみ検査用に特別に製作したトレーに
半導体ウエハを搭載して工程を流すか、あるいは、上記
大型のガラス板上に半導体ウエハを粘着テープで固定し
て工程を流すことにより、工程内のごみ情況を把握する
ようにしている。
Therefore, conventionally, the semiconductor wafer was mounted on a tray specially manufactured for dust inspection and the process was carried out, or the semiconductor wafer was fixed with adhesive tape on the above-mentioned large glass plate and the process was carried out. We are trying to understand the waste situation within the process.

しかし、この方法において、洗浄、エッチング等、液を
用いる基板の連続搬送装置においては、ガラス板上に接
着固定されたウエハを搬送すると、ガラス板とウエハの
すき間に洗浄液やエッチング液がたまり、洗浄槽やエツ
,チング槽を汚すこととなる。また、ガラス面とウエハ
とに段差があることでその周辺が汚れたり、そこでごみ
が発生したりする。したがって、本来のガラス板のみの
ときのごみ付着状態を見ることができない。
However, in this method, in a continuous substrate conveyance device that uses liquid for cleaning, etching, etc., when a wafer adhesively fixed onto a glass plate is conveyed, cleaning liquid or etching liquid accumulates in the gap between the glass plate and the wafer. This will contaminate the tank, etsu, and dressing tank. Further, because there is a step between the glass surface and the wafer, the area around the step becomes dirty and dust is generated there. Therefore, it is not possible to see the state of dust adhesion when only the original glass plate is used.

(発明が解決しようとする課題) 上記のように、従来においては、大型のガラス基板から
直接ごみを検出することができると共に手軽に移動でき
る安価な付着ごみ検査装置は用いられていない。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the past, there has not been used an inexpensive attached dust inspection device that can directly detect dust from a large glass substrate and can be easily moved.

本発明は、このような状況からなされたものであり、大
型角形の基板内の一部面のごみを検出するようにして、
可動式で安価な、そして高感度な付着ごみ検査装置を提
供することを目的とするものである。
The present invention was developed in view of this situation, and is designed to detect dust on one side of a large rectangular substrate.
The object of the present invention is to provide a movable, inexpensive, and highly sensitive adhering dust inspection device.

【発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 本発明は、被検査基板を保持して回転する回転体と、こ
の回転体に保持された被検査基板面に対しスポット光を
投光すると共に反射光の状態を検出し、かつ上記回転体
に保持された被検査基板の面に沿う方向に相対的に移動
する検出器とを備え、上記被検査基板のほぼ中央部の円
形面積をごみ検出するものである。
(Means for Solving the Problems) The present invention includes a rotating body that holds and rotates a substrate to be inspected, and a spot light is projected onto the surface of the substrate to be inspected held by the rotating body, and the state of the reflected light is and a detector that moves relatively in a direction along the surface of the substrate to be inspected held by the rotating body, and detects dust in a circular area approximately in the center of the substrate to be inspected. .

(作用) 本発明では、回転体の駆動により被検査基板を回転する
と同時に、検出器を被検査基板に対しその面に沿う方向
:;所定位置から相対的に移動し、かつ、検出器から被
検査基板に対しスポット光を投光し、基板からの反射光
の状態を検出する。すなわち、散乱反射光を検出するこ
とにより、基板の表面のごみを検出する。そして、回転
体の被検査基板と検出器との相対的移動により、被検査
基板上におけるほぼ中央部の円形内のごみを検出する。
(Function) In the present invention, the substrate to be inspected is rotated by driving the rotating body, and at the same time, the detector is moved relative to the substrate to be inspected from a predetermined position in the direction along the surface of the substrate. Spot light is projected onto the test board and the state of the reflected light from the board is detected. That is, dust on the surface of the substrate is detected by detecting scattered reflected light. Then, by the relative movement of the rotating body between the substrate to be inspected and the detector, dust within a circle approximately in the center of the substrate to be inspected is detected.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。(Example) Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図において、1は大型角形のガラス板からなる被検
査基板である。2は水平状に設けられた回転体としての
回転テーブルで、上面に上記基板1を載置し、図示しな
い吸着機構により吸着保持して回転する。そして、上記
回転テーブル2の中心下部に設けられた回転軸3がベア
リング4により機枠5に垂直に保持されている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a substrate to be inspected consisting of a large square glass plate. Reference numeral 2 denotes a rotary table as a rotating body provided horizontally, on which the substrate 1 is placed and rotated while being sucked and held by a suction mechanism (not shown). A rotary shaft 3 provided at the lower center of the rotary table 2 is held perpendicularly to the machine frame 5 by a bearing 4.

上記回転軸3に駆動機構6が連結されている。A drive mechanism 6 is connected to the rotating shaft 3.

この駆動機構6は、回転軸3の下部に取付けたプーり7
と、モータ8の駆動紬9に取付けたプーリ10トノ間に
ベルト11が掛け渡され、モータ8の駆動により、その
駆動軸9のプーリlO、ベルトILプーり7、回転軸3
を介して回転テーブル2を回転する。
This drive mechanism 6 includes a pulley 7 attached to the lower part of the rotating shaft 3.
A belt 11 is stretched between a pulley 10 and a pulley 10 attached to a drive shaft 9 of a motor 8, and the drive of the motor 8 causes a pulley lO of a drive shaft 9, a belt IL pulley 7, and a rotation shaft 3.
The rotary table 2 is rotated via the rotary table 2.

また、上記回転軸3の下部に回転エンコーダ12および
回転位置検出器13が設けられている。この回転位置検
出器13は、回転Illl3に、円周上の1個所にスリ
ットが刻設されたスリット板14が固着され、このスリ
ット板14に対してそのスリット位置を検出するセンサ
15が配設されている。
Furthermore, a rotational encoder 12 and a rotational position detector 13 are provided below the rotational shaft 3. This rotational position detector 13 has a slit plate 14 in which a slit is carved at one location on the circumference fixed to the rotation Illll3, and a sensor 15 for detecting the slit position with respect to the slit plate 14 is provided. has been done.

上記回転テーブル2の上方に検出器16が横方向移動自
在に配設されている。この検出器16は、第2図に示す
ように、本体17内に下方を開放した反射ミラー18が
設けられ、この反射ミラー18の一側にレーザ投光器1
9および他側に通孔20が対称的位置に設けられ、かつ
、反射ミラー18の中央上部に光検知センサ21が取付
けられている。
A detector 16 is disposed above the rotary table 2 so as to be movable laterally. As shown in FIG. 2, this detector 16 is provided with a reflecting mirror 18 with an open bottom in a main body 17, and a laser projector 18 on one side of the reflecting mirror 18.
9 and the other side are provided at symmetrical positions, and a light detection sensor 21 is attached to the upper center of the reflecting mirror 18.

そして、回転テーブル2上に保持された被検査基板1に
対し、検出器16のレーザ投光器19からレーザスポッ
ト光}93を投射し、正反射光19bは反射ミラー18
の通孔20を通って外部に出て行き、光検出センサ21
には入射せず、一方、もし、基板1上に異物(ごみ)が
付着していると、この異物によって散乱反射光19cが
発生し、この散乱反射光19cは反射ミラー18により
反射して光検知センサ21に入射し、光電変換され、付
着ごみを検出するようになっている。
Then, a laser spot light }93 is projected from the laser projector 19 of the detector 16 onto the substrate 1 to be inspected held on the rotary table 2, and the specularly reflected light 19b is reflected by the reflection mirror 18.
passes through the through hole 20 to the outside, and the light detection sensor 21
On the other hand, if foreign matter (dust) adheres to the substrate 1, this foreign matter generates scattered reflected light 19c, and this scattered reflected light 19c is reflected by the reflection mirror 18 and becomes light. The light enters the detection sensor 21 and is photoelectrically converted to detect attached dust.

また、第1図に示すように、上記検出器l6の移動機構
22が設けられている。この移動機構22は、機枠5に
ベアリング23によりねじ軸24が水平状に支持され、
このねじ軸24の一端にパルスモータ25が連結されて
いると共に、ねじ軸24に上記検出器16の本体17が
進退自在に螺合支持され、かつ、検出器16に対し回転
テーブル2の中心上位置および側方位置においてセンサ
26, 27が配設され、モータ25の駆動によりねじ
軸24が正逆回転し、検出器16が満方向にセンサ26
, 27間で進退移動するようになっている。
Further, as shown in FIG. 1, a moving mechanism 22 for the detector l6 is provided. This moving mechanism 22 has a screw shaft 24 horizontally supported by a bearing 23 on the machine frame 5.
A pulse motor 25 is connected to one end of this screw shaft 24, and the main body 17 of the detector 16 is screwed and supported on the screw shaft 24 so as to be able to move forward and backward, and Sensors 26 and 27 are arranged at the position and the side position, and the screw shaft 24 is rotated forward and backward by the drive of the motor 25, so that the detector 16 is in the full direction.
, It is designed to move forward and backward in 27 steps.

28は制御装置で、この制御装置28にモータ駆動回路
29. 30を介して上記モータ8,25が接続され、
また、制御装置28は、上記回転エンコーダ12、上記
回転位置検出器13のセンサ15、このセンサ15と上
記センサ26に接続したアンド回路31がそれぞれ接続
され、さらに、検出器16からプリアンプ32および上
記回転エンコーダ12に接続したA/D変換器33を介
して信号を受けるように接続されている。
28 is a control device, and this control device 28 is connected to a motor drive circuit 29. The motors 8 and 25 are connected via 30,
Further, the control device 28 is connected to the rotary encoder 12, the sensor 15 of the rotary position detector 13, and an AND circuit 31 connected to the sensor 15 and the sensor 26, and further connected to the preamplifier 32 and the It is connected to receive signals via an A/D converter 33 connected to the rotary encoder 12.

また、上記回転テーブル2、検出器l6、検出器16の
移動機構22、センサ26. 27等で構成されるごみ
検出機構全体は、図示されていない暗箱でおおわれて、
検出時に外乱光の影響を受けないようにされている。さ
らに、暗箱は暗箱内をダストフリーに保つため、エアフ
ィルタを介してクリーンエアを上部から流すためのクリ
ーンユニットを持っている。
Further, the rotary table 2, the detector l6, the moving mechanism 22 of the detector 16, the sensor 26 . The entire dust detection mechanism consisting of 27 etc. is covered with a dark box (not shown).
It is designed not to be affected by ambient light during detection. Furthermore, the dark box has a clean unit that flows clean air from the top through an air filter to keep the inside of the dark box dust-free.

次に、作動を説明する。Next, the operation will be explained.

まず、被検査基板1を回転テーブル2上にセットするが
、この基板1のセット開始時点では、検出器1Gはセン
サ27の位置にあり、回転テーブル2は所定の位置で停
止している。この場合、回転位置検出器l3のスリット
板l4のスリットがセンサ15によって検出されている
状態となっている。すなわち、大型角形の基板1と回転
テーブル2の位置関係が規定され、基板1のセットが容
易にできるよう回転テーブル2の回転位置が決まってい
る。
First, the substrate 1 to be inspected is set on the rotary table 2. At the start of setting the substrate 1, the detector 1G is at the position of the sensor 27, and the rotary table 2 is stopped at a predetermined position. In this case, the slit of the slit plate l4 of the rotational position detector l3 is being detected by the sensor 15. That is, the positional relationship between the large square substrate 1 and the rotary table 2 is defined, and the rotational position of the rotary table 2 is determined so that the substrate 1 can be easily set.

そして、基板Iを回転テーブル2に載置し、図示しない
回転テーブル2のバキューム機構により固定する。この
状態で制御装置28にスタート信号Stを入力すると、
モータ駆動回路30によって移動機構22のモータ25
が駆動され、ねじ輸24の回転により検出器1Gがセン
サ27の位置からセンサ26の位置に向って移動を始め
る。これと共に、モータ駆動回路29によって駆動機構
6のモータ8が駆動され、プーり7,IO、ベルト11
および回転軸3を介して回転テーブル2が所定回転速度
まで回転され、速度保持される。
Then, the substrate I is placed on the rotary table 2 and fixed by a vacuum mechanism of the rotary table 2 (not shown). When the start signal St is input to the control device 28 in this state,
The motor 25 of the moving mechanism 22 is driven by the motor drive circuit 30.
is driven, and the detector 1G begins to move from the position of the sensor 27 toward the position of the sensor 26 due to the rotation of the screw transport 24. At the same time, the motor 8 of the drive mechanism 6 is driven by the motor drive circuit 29, and the pulley 7, IO, belt 11
The rotary table 2 is rotated to a predetermined rotation speed via the rotation shaft 3, and the speed is maintained.

そして、検出器I6がセンサ26の位置に来ると、第3
図のように、基板1の回転位置を示す回転位置検出器1
3のセンサ15の出力信号S1と、センサ2Gの出力信
号S2とのアンド回路3lによるAND信号S3が発生
する。このとき、検出器16の中心位置は、センサ26
および回転テーブル2の回転#i3の中心位置とほぼ一
致する。
Then, when the detector I6 comes to the position of the sensor 26, the third
As shown in the figure, a rotational position detector 1 that indicates the rotational position of the substrate 1
An AND signal S3 is generated by an AND circuit 3l of the output signal S1 of the sensor 15 of No. 3 and the output signal S2 of the sensor 2G. At this time, the center position of the detector 16 is
and almost coincides with the center position of rotation #i3 of the rotary table 2.

この状態がごみ検出開始位置となり、すなわち、上記A
ND信号S3がごみ検出開始信号となり、同時に検出器
16の逆送り信号となる。これによって、モータ25は
逆方向に回転し、検出器l6はセンサ26の位置からセ
ンサ27の位置に向って、回転テーブル2に保持された
基板1の面に沿う方向に相対的に移動を開始する。
This state becomes the dust detection start position, that is, the above A
The ND signal S3 becomes a dust detection start signal, and at the same time becomes a reverse feed signal for the detector 16. As a result, the motor 25 rotates in the opposite direction, and the detector l6 starts moving relatively from the sensor 26 position toward the sensor 27 position in a direction along the surface of the substrate 1 held on the rotary table 2. do.

これと共に、検出器l6から基板1に対しスポット光を
投光すると共に反射光の状態を検出する。
At the same time, a spot light is projected onto the substrate 1 from the detector l6, and the state of the reflected light is detected.

すなわち、検出器l6のレーザ投光器19から投射され
たスポット光19iの正反射光19bは、反射ミラー1
8の通孔20を通って光検知センサ2lには入射しない
が、もし、基板1に異物(ごみ)が付着していると、散
乱反射光19Cが発生し、その散乱反射光19cは反射
ミラー18により効率よく光検知センサ21に入射し、
光電変換される。
That is, the specularly reflected light 19b of the spot light 19i projected from the laser projector 19 of the detector l6 is reflected by the reflection mirror 1.
However, if foreign matter (dust) adheres to the substrate 1, scattered reflected light 19C will be generated, and the scattered reflected light 19c will not enter the light detection sensor 2l through the through hole 20 of 8. 18 efficiently enters the light detection sensor 21,
Photoelectrically converted.

そして、検出器16の検出出力はプリアンプ32で増幅
された後、回転エンコーダ12からの信号S4のタイミ
ングでA/D変換器33によりA/D変換、サンプリン
グされ、制御装置28のメモリに順次記録される。
Then, the detection output of the detector 16 is amplified by the preamplifier 32, and then A/D converted and sampled by the A/D converter 33 at the timing of the signal S4 from the rotary encoder 12, and sequentially recorded in the memory of the control device 28. be done.

ついで、検出器16が所定距離lだけ移動するとごみ検
出が終了し、モータ8は減速し、センサl5がスリット
を検出した時点で回転テーブル2は停止する。すなわち
、被検査基板1を取り出しやすい所定位置に停止する。
Then, when the detector 16 moves by a predetermined distance l, the dust detection ends, the motor 8 decelerates, and the rotary table 2 stops when the sensor l5 detects the slit. That is, the substrate 1 to be inspected is stopped at a predetermined position from which it can be easily taken out.

一方、検出器l6はセンサ27の位置まで、すなわち、
回転テーブル2に載置された基板1から離れた位置まで
移動し、停止する。つぎに、作業者の指示により、制御
装置26はメモリに記録された検出器l6のデータを、
回転エンコーダ12のパルス数と回転テーブル2の回転
速度から算出した基板1上の位置情報から、ごみの大き
さ、その位置分布を適当なアルゴリズムを基にデータ処
理し、図示しない表示器や印字機器に出力表示する。
On the other hand, the detector l6 reaches the position of the sensor 27, that is,
It moves to a position away from the substrate 1 placed on the rotary table 2 and stops. Next, according to the operator's instructions, the control device 26 reads the data of the detector 16 recorded in the memory.
Based on the positional information on the substrate 1 calculated from the number of pulses of the rotary encoder 12 and the rotational speed of the rotary table 2, the size of the dust and its positional distribution are processed based on an appropriate algorithm, and the data is processed on a display or printing device (not shown). Display the output in .

したがって、第4図のように、基板1に対し、ほぼ中央
部における直径2lの円形内のごみの検出をし、その表
示も基板1に対してごみ個所が正確に表わされる。また
、その検出速度、精度も半導体ウエハのごみ検出と同じ
性能が得られる。
Therefore, as shown in FIG. 4, dust is detected within a circle with a diameter of 2 l at approximately the center of the substrate 1, and the dust location is accurately displayed with respect to the substrate 1. In addition, the same detection speed and accuracy as in semiconductor wafer dust detection can be obtained.

ごみ検出原理はウエハ用のゴミ検出法と全く同じである
が、大型角形の基板1の全面にわたりごみ検出ができな
いものにおいて、ほぼ中央部のかなりの円形面積を検査
するという発想を取り入れることで、小型、軽量、安価
で、高性能なごみ検査が実現できる。したがって、容易
に移動可能であるため、製造ラインの各所に持込み、手
軽にごみ検査をすることで、装置管理や大気のごみ管理
を容易に行なうことができる。なお、この検査において
は、角形基板の中央部の円形面積しかごみの検査をしな
いが、製造ラインにおけるごみレベル管理には実用上充
分である。さらに、ソフト処理の拡充をすれば、ごみ検
出面積をドーナツ形にすることができる。すなわち、直
径2gから直径(2l+2L)の面積のごみ検出ができ
るので、まず、直径2l内の面積をごみ検出し、その後
、直径21 − (2l+2L)の面積をごみ検出する
ことにより、内部のメモリを増やさずに、大面積のごみ
検出が可能である。
The dust detection principle is exactly the same as the dust detection method for wafers, but in cases where dust cannot be detected over the entire surface of the large rectangular substrate 1, by incorporating the idea of inspecting a considerable circular area approximately in the center, It is small, lightweight, inexpensive, and enables high-performance garbage inspection. Therefore, since it is easily movable, equipment management and atmospheric dust management can be easily carried out by bringing it to various parts of the production line and easily inspecting it for dust. Note that in this inspection, only the circular area at the center of the square substrate is inspected for dust, but this is practically sufficient for controlling the dust level on the production line. Furthermore, by expanding the software processing, the dust detection area can be made into a donut shape. In other words, since it is possible to detect dust in an area with a diameter of 2g to (2l+2L), the area within the diameter of 2l is first detected as dust, and then the area with a diameter of 21 - (2l + 2L) is detected to remove dust from the internal memory. It is possible to detect debris over a large area without increasing the area.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上記のように、本発明によれば、大型角形の基板内の一
部面のごみを検出するようにして、可動式で安価な、そ
して高感度な付着ごみ検査装置を提供することができる
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a movable, inexpensive, and highly sensitive attached dust inspection device that detects dust on one side of a large square substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の装置の一実施例を示す説明図、第2図
は第1図の検出器の断面図、第3図は信号波形図、第4
図は被検査基板の検出面の説明図である。 1・・被検査基板、2・・回転体、16・・検出器。
Fig. 1 is an explanatory diagram showing one embodiment of the device of the present invention, Fig. 2 is a sectional view of the detector shown in Fig. 1, Fig. 3 is a signal waveform diagram, and Fig. 4 is a diagram showing an embodiment of the device of the present invention.
The figure is an explanatory diagram of the detection surface of the substrate to be inspected. 1. Board to be inspected, 2. Rotating body, 16. Detector.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被検査基板を保持して回転する回転体と、 この回転体に保持された被検査基板面に対しスポット光
を投光すると共に反射光の状態を検出し、かつ上記回転
体に保持された被検査基板の面に沿う方向に相対的に移
動する検出器とを備え、上記被検査基板のほぼ中央部の
円形面積をごみ検出することを特徴とする付着ごみ検査
装置。
(1) A rotating body that holds and rotates the substrate to be inspected; a spot light is emitted onto the surface of the substrate to be inspected held by this rotating body, and the state of the reflected light is detected; and the substrate is held by the rotating body. What is claimed is: 1. An attached dust inspection apparatus comprising: a detector that moves relatively in a direction along a surface of a board to be inspected, and detects dust in a circular area approximately in the center of the board to be inspected.
JP30358689A 1989-11-22 1989-11-22 Attached-dust inspecting apparatus Pending JPH03163338A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6633372B2 (en) 1998-11-30 2003-10-14 Obschestvo S Ogranichennoi Otvetstvennostiju “Reflex Lait” Method for inspection of an analyzed surface and surface scanning analyzer

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6633372B2 (en) 1998-11-30 2003-10-14 Obschestvo S Ogranichennoi Otvetstvennostiju “Reflex Lait” Method for inspection of an analyzed surface and surface scanning analyzer

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