JPH03154288A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
- Publication number
- JPH03154288A JPH03154288A JP1293312A JP29331289A JPH03154288A JP H03154288 A JPH03154288 A JP H03154288A JP 1293312 A JP1293312 A JP 1293312A JP 29331289 A JP29331289 A JP 29331289A JP H03154288 A JPH03154288 A JP H03154288A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line pair
- bit line
- pair
- output data
- potential difference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 5
- 230000003321 amplification Effects 0.000 abstract 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 101000860173 Myxococcus xanthus C-factor Proteins 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えばダイナミックRAM (DRAM)
のように、ビット線対間の電位差を増幅することにより
、データ読出しを行なう半導体記憶装置に関するもので
ある。[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention is applicable to dynamic RAM (DRAM), for example.
The present invention relates to a semiconductor memory device that reads data by amplifying the potential difference between a pair of bit lines.
第3図は従来のDRAMのビット線対周辺を示す略式回
路構成図である。同図において、1゜1′はビット線対
であり、図示しないメモリセルが、図示しない選択トラ
ンジスタを介してビット線1に接続されている。ビット
線対1.1′それぞれの一端はセンスアンプ2に接続さ
れ、他端はNチャネルのトランスファゲート対3,3′
の一方電極に接続されている。FIG. 3 is a schematic circuit diagram showing the periphery of a bit line pair of a conventional DRAM. In the figure, 1° 1' is a bit line pair, and a memory cell (not shown) is connected to a bit line 1 via a selection transistor (not shown). One end of each bit line pair 1.1' is connected to the sense amplifier 2, and the other end is connected to the N-channel transfer gate pair 3, 3'.
is connected to one electrode of the
センスアンプ2はセンスアップ活性信号S2により活性
、非活性が制御され、活性化すると、ビット線対1.1
′間の電位差を検出して増幅する。Sense amplifier 2 is activated or deactivated by sense up activation signal S2, and when activated, bit line pair 1.1
Detect and amplify the potential difference between
トランスファゲート対3.3′の両ゲートには、制御信
号出力手段4より出力される制御信号S4が印加されて
いる。制御信号出力手段4は、Hレベル(電源V レベ
ル)あるいはLレベル(接地C
レベル)の制御信号S4を、外部人力信号SOに基づき
、選択的に出力する。A control signal S4 outputted from the control signal output means 4 is applied to both gates of the transfer gate pair 3.3'. The control signal output means 4 selectively outputs a control signal S4 of H level (power supply V level) or L level (ground C level) based on the external human input signal SO.
また、トランスファゲート対3,3′の他方電極に入出
力データ線対5.5′が接続されている。Further, the input/output data line pair 5.5' is connected to the other electrode of the transfer gate pair 3, 3'.
入出力データ線対5,5′は外部から入力データを取込
んだり、外部に出力データを出力したりするのに用いる
。The input/output data line pair 5, 5' is used to take in input data from the outside and to output output data to the outside.
第4図は従来のDRAMの動作テスト状況を示す波形図
である。以下、同図を参照しつつその動作テストの説明
をする。まず、図示しない所定のワード線WLをHレベ
ルに立上げ、図示しないメモリセルとビット線1との間
に介挿された図示しない選択トランジスタをオンさせ、
メモリセルと、既に1/2v レベルにプリチャージさ
れたピッC
ト線1とを電気的に接続する。すると、メモリセルに格
納されたデータに基づき、ビット線対1゜1′間に微小
な電位差が生じる。FIG. 4 is a waveform diagram showing a conventional DRAM operation test situation. The operation test will be explained below with reference to the same figure. First, a predetermined word line WL (not shown) is raised to an H level, and a selection transistor (not shown) inserted between a memory cell (not shown) and the bit line 1 is turned on.
The memory cell and pit line 1, which has already been precharged to 1/2v level, are electrically connected. Then, based on the data stored in the memory cells, a minute potential difference is generated between the bit line pair 1°1'.
そして、センスアンプ活性信号S2をHレベルに立上げ
、センスアンプ2を活性化する。すると、ビット線対1
,1′間の微小な電位差が増幅される。Then, the sense amplifier activation signal S2 is raised to H level, and the sense amplifier 2 is activated. Then bit line pair 1
, 1' is amplified.
次に、所定の外部入力信号SOを制御信号発生手段4に
与えることにより、制御信号S4をHレベルに立上げ、
トランスファゲート対3.3′をオンさせる。すると、
ビット線対1,1′間の電位差が小さくなることなく、
そのまま入出力データ線対5,5′に現れる。この入出
力データ線対5.5′の電位差が、図示しないプリアン
プにより増幅されて、出力データとして出力される。こ
の出力データの良否を検証することにより、DRAMの
動作テストが行われる。Next, by applying a predetermined external input signal SO to the control signal generating means 4, the control signal S4 is raised to an H level,
Transfer gate pair 3.3' is turned on. Then,
without reducing the potential difference between bit line pair 1 and 1'.
It appears as it is on the input/output data line pair 5, 5'. The potential difference between the input/output data line pair 5.5' is amplified by a preamplifier (not shown) and output as output data. By verifying the quality of this output data, an operation test of the DRAM is performed.
従来のDRAMは以上のように構成されており、ビット
線対1.1′と入出力データ線対5.5′との電気的接
続を、Nチャネルのトランスファゲート対3.3′のゲ
ートに電源V レベルの制御C
信号S4を印加することにより行なっているため、ビッ
ト線対1.1′間の電位差が小さくなることなく、入出
力データ線対5,5′に現われる。The conventional DRAM is configured as described above, and the electrical connection between the bit line pair 1.1' and the input/output data line pair 5.5' is connected to the gate of the N-channel transfer gate pair 3.3'. Since control of the power supply V level is performed by applying the C signal S4, the potential difference between the bit line pair 1.1' does not become small and appears on the input/output data line pair 5, 5'.
一方、メモリセルの容量が基準より小さくなる、あるい
はメモリセルとビット線対1.1′との間に介挿された
選択トランジスタの閾値電圧が基準値より高くなる等の
メモリセルの動作マージンの低下が生じると、ビット線
対1.1′間に現れる微小な電位差が正常時より小さく
なる。その結果、センスアンプ2により増幅された後に
おいても、ビット線対1,1′間の電位差が正規の値を
下回る。On the other hand, the operating margin of the memory cell may be affected, such as when the capacity of the memory cell becomes smaller than the reference value, or when the threshold voltage of the selection transistor inserted between the memory cell and the bit line pair 1.1' becomes higher than the reference value. When a drop occurs, the minute potential difference that appears between the bit line pair 1.1' becomes smaller than in the normal state. As a result, even after being amplified by the sense amplifier 2, the potential difference between the bit line pair 1 and 1' falls below the normal value.
しかしながら、ビット線対1.1′間の電位差が正規の
値を下回っても、ビット線対1,1′入出力データ線対
5.5′間の伝達が劣化なく行われるため、入出力デー
タ線対5,5′にはプリアンプにより増幅が可能な電位
差が伝達されてしまう。つまり、多少のメモリセルの動
作マージンの低下は、上記した動作テストにより検出す
ることは困難であるという問題点があった。However, even if the potential difference between bit line pair 1.1' falls below the normal value, transmission between bit line pair 1, 1' and input/output data line pair 5.5' is carried out without deterioration, so A potential difference that can be amplified by the preamplifier is transmitted to the line pair 5, 5'. That is, there is a problem in that it is difficult to detect a slight decrease in the operating margin of the memory cell by the above-mentioned operation test.
従って、上記したようなメモリセルの動作マージンの低
下をも検出するには、ロングサイクル系の長時間に渡る
複雑なテストを行なわなければならないという問題点が
あった。Therefore, in order to detect even the decrease in the operating margin of a memory cell as described above, there has been a problem in that a long-cycle complex test must be performed over a long period of time.
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、簡単なテストにより、メモリセルの動作マー
ジンの低下を検出することができる半導体記憶装置を得
ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can detect a decrease in the operating margin of a memory cell by a simple test.
この発明にかかる半導体記憶装置は、少なくとも一方の
ビット線にメモリセルが接続されたビット線対と、前記
ビット線対に接続され、活性状態時に前記ビット線対の
電位差を増幅するセンスアンプと、外部と入出力データ
の授受を行う入出力データ線対と、前記ビット線対と前
記入出力データ線対と間に介挿されたトランスファゲー
ト対と、外部入力信号に基づき、前記トランスファゲー
ト対の両ゲニトに、前記トランスファゲート対の閾値電
圧と通常動作時に前記トランスファゲート対をオンさせ
るための電圧との間の電圧を与える制御信号出力手段と
を備えて構成されている。A semiconductor memory device according to the present invention includes: a bit line pair in which a memory cell is connected to at least one of the bit lines; a sense amplifier connected to the bit line pair and amplifying a potential difference between the bit line pair in an active state; an input/output data line pair for exchanging input/output data with the outside; a transfer gate pair inserted between the bit line pair and the input/output data line pair; Control signal output means is provided for both generators to apply a voltage between the threshold voltage of the transfer gate pair and the voltage for turning on the transfer gate pair during normal operation.
この発明における制御信号出力手段は、外部入力信号に
基づき、トランスファゲート対の両ゲートに、トランス
ファゲート対の閾値電圧と通常勤作詩に前記トランスフ
ァゲート対をオンさせるための電圧との間の電圧を出力
するため、通常動作時よりも伝達能力を低下させてトラ
ンスファゲート対をオンさせることができる。The control signal output means in the present invention applies a voltage between the threshold voltage of the transfer gate pair and the voltage for turning on the transfer gate pair in normal operation to both gates of the transfer gate pair based on an external input signal. In order to output an output, the transfer gate pair can be turned on with a lower transfer capability than during normal operation.
第1図はこの発明の一実施例であるDRAMのビット線
対周辺を示す略式回路構成図である。同図における制御
信号出力手段4′は、従来と異なり、Hレベル(電源V
レベル)、Lレベル(接C
地レベル)の他に、1/2v 程度の、NチャネC
ルのトランスファゲート対3.3′の閾値電圧より高く
、電源V レベルより低い中間レベルの電C
圧の制御信号S4’を外部入力信号SO′に基づき、選
択的に出力する。なお、他の構成は従来と同様であるた
め、説明は省略する。FIG. 1 is a schematic circuit diagram showing the periphery of a bit line pair of a DRAM according to an embodiment of the present invention. The control signal output means 4' in the same figure differs from the conventional one in that the control signal output means 4' is at H level (power supply V
In addition to the L level (ground level), there is an intermediate level voltage C of about 1/2V that is higher than the threshold voltage of the N-channel C transfer gate pair 3.3' and lower than the power supply V level. The control signal S4' is selectively output based on the external input signal SO'. Note that the other configurations are the same as those of the prior art, so explanations will be omitted.
第2図は第1図で示したDRAMの動作テスト状況を示
す波形図である。以下、同図を参照しつつその動作テス
トの説明をする。まず、図示しない所定のワード線WL
をHレベルに立上げ、図示しないメモリセルとビット線
1との間に介挿された図示しない選択トランジスタをオ
ンさせ、メモリセルと、既に1/2v レベルにプリチ
ャージC
されたビット線1とを電気的に接続する。すると、メモ
リセルに格納されたデータに基づき、ビット線対1.1
′間に微小な電位差が生じる。FIG. 2 is a waveform diagram showing the operational test status of the DRAM shown in FIG. The operation test will be explained below with reference to the same figure. First, a predetermined word line WL (not shown)
is raised to H level, and a selection transistor (not shown) inserted between a memory cell (not shown) and bit line 1 is turned on, and the memory cell and bit line 1, which has already been precharged to 1/2V level, are connected. Connect electrically. Then, based on the data stored in the memory cells, bit line pair 1.1
′ A minute potential difference occurs between the two.
そして、センスアンプ活性信号S2をHレベルに立上げ
、センスアンプ2を活性化する。すると、ビット線対1
.1′間の微小な電位差が増幅される。Then, the sense amplifier activation signal S2 is raised to H level, and the sense amplifier 2 is activated. Then bit line pair 1
.. 1' is amplified.
次に、外部入力信号SO′を制御信号出力手段4′に与
えることにより、制御信号S4’ を中間レベルH′に
立上げ、トランスファゲート対3゜3′をオンさせる。Next, by applying the external input signal SO' to the control signal output means 4', the control signal S4' is raised to the intermediate level H', and the transfer gate pair 3.3' is turned on.
中間レベルH′は例えば1/2v レベルであるため、
トランスファゲート対C
3,3′は強くオンせず、その伝達能力が、制御信号S
4’がV。。レベルである場合に比べ、かなり劣化する
。従って、ビット線対1,1′間の電位差が小さくなっ
て、入出力データ線対5,5′に現れる。Since the intermediate level H' is, for example, the 1/2v level,
The transfer gate pair C3, 3' is not strongly turned on, and its transfer ability is limited by the control signal S.
4' is V. . Compared to the case where it is at the same level, it deteriorates considerably. Therefore, the potential difference between bit line pair 1 and 1' becomes smaller and appears on input/output data line pair 5 and 5'.
この入出力データ線対5.5′の電位差が、図示しない
プリアンプにより増幅されて、出力データとして出力さ
れる。この出力データの良否を検証することにより、D
RAMの動作テストが行われる。The potential difference between the input/output data line pair 5.5' is amplified by a preamplifier (not shown) and output as output data. By verifying the quality of this output data, D
A RAM operation test is performed.
メモリセルの動作マージンが低下すると、ビット線対1
.1′間に現れる微小な電位差が正常時より小さくなり
、センスアンプ2により増幅された後においても、ビッ
ト線対1,1′間の電位差が正規の値を下回る。この場
合に、上記したDRAMの動作テストを行なうと、入出
力データ線対5.5′にはビット線対1,1′間の電位
差をさらに下回った電位差が伝達されることになる。When the operating margin of memory cells decreases, bit line pair 1
.. The minute potential difference that appears between bit lines 1' and 1' becomes smaller than normal, and even after being amplified by sense amplifier 2, the potential difference between bit line pair 1 and 1' remains below the normal value. In this case, when the above-described DRAM operation test is performed, a potential difference that is even lower than the potential difference between the bit line pair 1 and 1' is transmitted to the input/output data line pair 5.5'.
その結果、メモリセルの動作マージが低下すると、入出
力データ線対5,5′にはプリアンプにより増幅が不可
能な電位差が伝達されてしまう可能性が高くなるため、
出力データの良否を検証することによって、メモリセル
の動作マージンのi下を検出することができる。従って
、メモリセルの動作マージンの低下を検出するために、
従来のようにロングサイクル系の長時間に渡る複雑なテ
ストを行なう必要はなくなる。As a result, if the operational merge of the memory cell decreases, there is a high possibility that a potential difference that cannot be amplified by the preamplifier will be transmitted to the input/output data line pair 5, 5'.
By verifying the quality of the output data, it is possible to detect i below the operating margin of the memory cell. Therefore, in order to detect a decrease in the operating margin of a memory cell,
There is no longer a need to conduct complex long-cycle tests as required in the past.
なお、通常の読出し、書込み動作を行なう場合のトラン
スファゲート対3.3′のオン/オフは、外部入力信号
SO′に基づき、制御信号出力手段4′から、Hレベル
(電源V レベル)/LレベC
ル(接地レベル)の制御信号S4’を出力させることに
より行われる。The on/off of the transfer gate pair 3 and 3' when performing normal read and write operations is based on the external input signal SO', and is output from the control signal output means 4' to the H level (power supply V level)/L level. This is done by outputting a control signal S4' of level C (ground level).
また、この実施例における動作テストにより、上記した
メモリセルの動作マージンの低下は勿論、センスアンプ
2の能力不足、プリアンプの能力不足等を検出すること
もできる。Further, by the operation test in this embodiment, it is possible to detect not only the above-mentioned decrease in the operating margin of the memory cell, but also insufficient capacity of the sense amplifier 2, insufficient capacity of the preamplifier, and the like.
以上説明したように、この発明によれば、制御信号出力
手段は外部入力信号に基づき、トランスファゲート対の
両ゲートにトランスファゲート対の閾値電圧と通常動作
時に前記トランスファゲート対をオンさせるための電圧
との間の電圧を出力するため、通常動作時よりも伝達能
力を低下させてトランスファゲート対をオンさせること
ができる。As described above, according to the present invention, the control signal output means applies a threshold voltage of the transfer gate pair and a voltage for turning on the transfer gate pair during normal operation to both gates of the transfer gate pair based on an external input signal. Since it outputs a voltage between 1 and 2, it is possible to turn on the transfer gate pair with a lower transfer capability than during normal operation.
従って、ビット線対間の電位差を小さくして入出力デー
タ線対間に生じさせることができるため、入出力データ
線対間の電位差を検証データとした動作テストが厳しい
条件下で行われることになる。Therefore, since the potential difference between the bit line pair can be reduced and generated between the input/output data line pair, operation tests using the potential difference between the input/output data line pair as verification data can be performed under severe conditions. Become.
その結果、メモリセルのメモリ容量不足等のメモリセル
の動作マージンの低下を、簡単なテストにより検出する
ことができる効果がある。As a result, a reduction in the operating margin of a memory cell, such as an insufficient memory capacity of the memory cell, can be detected by a simple test.
第1図はこの発明の一実施例であるDRAMを示した略
式回路図、第2図は第1図で示したDRAMの動作テス
トを示した波形図、第3図は従来のDRAMを示した略
式回路図、第4図は第3図で示したDRAMの動作テス
トを示した波形図である。
図において、1.1’ はビット線対、2はセンスアン
プ、3.3’ はトランスファゲート対、4′は制御信
号出力手段、5,5′は入出力データ線対である。
なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
第
図
第
図
1.1:ビット線対
5.5:入出力データ線対Fig. 1 is a schematic circuit diagram showing a DRAM which is an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a waveform diagram showing an operation test of the DRAM shown in Fig. 1, and Fig. 3 shows a conventional DRAM. The schematic circuit diagram, FIG. 4, is a waveform diagram showing an operation test of the DRAM shown in FIG. In the figure, 1.1' is a bit line pair, 2 is a sense amplifier, 3.3' is a transfer gate pair, 4' is a control signal output means, and 5, 5' is an input/output data line pair. Note that the same reference numerals in each figure indicate the same or corresponding parts. Figure Figure 1.1: Bit line pair 5.5: Input/output data line pair
Claims (1)
れたビット線対と、 前記ビット線対に接続され、活性状態時に前記ビット線
対の電位差を増幅するセンスアンプと、外部と入出力デ
ータの授受を行う入出力データ線対と、 前記ビット線対と前記入出力データ線対と間に介挿され
たトランスファゲート対と、 外部入力信号に基づき、前記トランスファゲート対の両
ゲートに、前記トランスファゲート対の閾値電圧と通常
動作時に前記トランスファゲート対をオンさせるための
電圧との間の電圧を与える制御信号出力手段とを備えた
半導体記憶装置。(1) A bit line pair with a memory cell connected to at least one bit line, a sense amplifier connected to the bit line pair and amplifying the potential difference between the bit line pair when in an active state, and a sense amplifier that connects external and input/output data. an input/output data line pair for transmitting and receiving; a transfer gate pair interposed between the bit line pair and the input/output data line pair; A semiconductor memory device comprising control signal output means for applying a voltage between a threshold voltage of a gate pair and a voltage for turning on the transfer gate pair during normal operation.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1293312A JPH03154288A (en) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1293312A JPH03154288A (en) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03154288A true JPH03154288A (en) | 1991-07-02 |
Family
ID=17793207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1293312A Pending JPH03154288A (en) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03154288A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008004159A (en) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device and its test method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117344A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Ibm | Dynamic semiconductor memory |
-
1989
- 1989-11-10 JP JP1293312A patent/JPH03154288A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53117344A (en) * | 1977-03-23 | 1978-10-13 | Ibm | Dynamic semiconductor memory |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008004159A (en) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Toshiba Corp | Semiconductor storage device and its test method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7266030B2 (en) | Method for measuring offset voltage of sense amplifier and semiconductor employing the method | |
JP3076606B2 (en) | Semiconductor memory device and inspection method thereof | |
US6650584B2 (en) | Full stress open digit line memory device | |
US5625597A (en) | DRAM having test circuit capable of performing function test of refresh counter and measurement of refresh cycle simultaneously | |
JP3905999B2 (en) | Semiconductor memory device | |
US5659512A (en) | Semiconductor integrated circuit applicable to data read circuit from memory | |
JPH05144910A (en) | Method of reducing burn-in time and generating initial failure | |
JPH0757464A (en) | Semiconductor storage circuit | |
JPH03217051A (en) | Semiconductor memory | |
US5488585A (en) | Circuit for generating column decoder enable signal in a semiconductor device | |
JPH03154288A (en) | Semiconductor memory device | |
JPH03120483A (en) | Method for testing semiconductor memory device | |
JP4824149B2 (en) | Memory element to test using sense amplifier | |
KR100335123B1 (en) | Sense amplifier and Method for over drive using the same | |
JP3319427B2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPH0325872B2 (en) | ||
JP3168985B2 (en) | Roll call test equipment | |
US6477096B1 (en) | Semiconductor memory device capable of detecting memory cell having little margin | |
KR100612951B1 (en) | Semiconductor memory device | |
KR100301044B1 (en) | Semiconductor device able to control internal signal & testing method | |
JP2794134B2 (en) | DRAM | |
KR20010059962A (en) | Semiconductor memory device | |
KR20070073426A (en) | Data line sense amplifier for selectively controlling amplifying unit | |
KR100510480B1 (en) | Data write circuit for burn in mode | |
JPH06111573A (en) | Semiconductor storage device |