JPH03149489A - ガス配管接続用継手 - Google Patents
ガス配管接続用継手Info
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- JPH03149489A JPH03149489A JP1286969A JP28696989A JPH03149489A JP H03149489 A JPH03149489 A JP H03149489A JP 1286969 A JP1286969 A JP 1286969A JP 28696989 A JP28696989 A JP 28696989A JP H03149489 A JPH03149489 A JP H03149489A
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 76
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Joints Allowing Movement (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
気相、或いは液相エピタキシャル成長装置に用いるガス
配管接続用継手に関し、 配管接続に於ける自由度が向上するガス配管接続用継手
を目的とし、 球面状に加工され、ガス通路を有する一方のガス配管の
端部と、 該球面状に加工された端部に接触可能な凹面を有するよ
うに加工され、ガス通路を有する他方のガス配管の端部
とより成り、 前記球面状に加工された端部、または凹面を有する端部
のいずれか一方に閉曲線の溝を設けるとともに該溝内に
嵌合して弾性部材をはめ込み、前記両者の端部間を互い
に押圧手段で押圧して構成する。
配管接続用継手に関し、 配管接続に於ける自由度が向上するガス配管接続用継手
を目的とし、 球面状に加工され、ガス通路を有する一方のガス配管の
端部と、 該球面状に加工された端部に接触可能な凹面を有するよ
うに加工され、ガス通路を有する他方のガス配管の端部
とより成り、 前記球面状に加工された端部、または凹面を有する端部
のいずれか一方に閉曲線の溝を設けるとともに該溝内に
嵌合して弾性部材をはめ込み、前記両者の端部間を互い
に押圧手段で押圧して構成する。
本発明は気相、或いは液相エピタキシャル成長装置に用
いるガス配管接続用継手に関する。
いるガス配管接続用継手に関する。
赤外線検知素子形成材料として、エネルギーバンドギャ
ップの狭い水銀・カドミウム・テルル(”g+−* C
dg Te)の結晶が用いられテイル。
ップの狭い水銀・カドミウム・テルル(”g+−* C
dg Te)の結晶が用いられテイル。
このようなHg+−x Cdx Teの結晶を素子形成
に都合が良いように、大面積で薄層状態に形成するため
に気相エピタキシャル成長装置が用いられている。
に都合が良いように、大面積で薄層状態に形成するため
に気相エピタキシャル成長装置が用いられている。
第6図に示すように、このような気相エピタキ器lや、
ジメチルカドミウムを収容した蒸発器2や、ジエチルテ
ルルを収容した蒸発器3内に水素ガス供給管4より水素
ガスを導入し、該水素ガスに前記水銀や、ジメチルカド
ミウムや、ジエチルテルルを担持させたエピタキシャル
成長用ガスをガス導入管5Aを通じてエピタキシャル成
長用反応管6内に搬送する。
ジメチルカドミウムを収容した蒸発器2や、ジエチルテ
ルルを収容した蒸発器3内に水素ガス供給管4より水素
ガスを導入し、該水素ガスに前記水銀や、ジメチルカド
ミウムや、ジエチルテルルを担持させたエピタキシャル
成長用ガスをガス導入管5Aを通じてエピタキシャル成
長用反応管6内に搬送する。
またキャリアガスとしての水素ガスをガス導入管5Bを
通じてエピタキシャル成長用反応管6内に供給する。
通じてエピタキシャル成長用反応管6内に供給する。
これらのガス導入管5^と5Bとは接続箇所Aで接続さ
れ、ガス導入管5Cとなり、更にこのガス4人管5Cは
接続箇所Bでエピタキシャル成長用反応管6のガス導入
管5Dとガス配管接続用継手7を用いて相互に接続され
ている。
れ、ガス導入管5Cとなり、更にこのガス4人管5Cは
接続箇所Bでエピタキシャル成長用反応管6のガス導入
管5Dとガス配管接続用継手7を用いて相互に接続され
ている。
〔従来の技術〕
従来のガス配管接続用継手の斜視図を第3図に示し、該
配管接続用継手の断面図を第4図に示す。
配管接続用継手の断面図を第4図に示す。
第3図、および第4図に示すようにガス通路11を有す
る石英ガラスで形成された一方のガス配管12の端部1
3は円板状に加工され、同様にガス通路14を有する石
英ガラスで形成された他方のガス配管15の端部16も
円板状に加工され、上記円板状に加工された一方の端部
13には円形の溝17が形成され、°この溝17内には
弾力性のゴム製の0リング18がはめ込まれている。
る石英ガラスで形成された一方のガス配管12の端部1
3は円板状に加工され、同様にガス通路14を有する石
英ガラスで形成された他方のガス配管15の端部16も
円板状に加工され、上記円板状に加工された一方の端部
13には円形の溝17が形成され、°この溝17内には
弾力性のゴム製の0リング18がはめ込まれている。
そしてこれら両方のガス配管の端部13.16を接
触させた後、両方の端部同士をクランプ19等を用いて
押圧して固定している。
触させた後、両方の端部同士をクランプ19等を用いて
押圧して固定している。
ところで上記した従来のガス配管接続用継手は、第5図
に示すように相互のガス配管12.15の互いのガス通
路11.14が一直線に成っていないと、互いのガス配
管が接続できない難点があり、例えば相互のガス通路1
1.14が一直線になっておらず接続箇所20で所定の
角度を有する場合には、相互のガス配管同士の接続が不
可能で、ガス配管の接続に於ける自由度が限定される問
題点がある。
に示すように相互のガス配管12.15の互いのガス通
路11.14が一直線に成っていないと、互いのガス配
管が接続できない難点があり、例えば相互のガス通路1
1.14が一直線になっておらず接続箇所20で所定の
角度を有する場合には、相互のガス配管同士の接続が不
可能で、ガス配管の接続に於ける自由度が限定される問
題点がある。
上記エピタキシャル成長装置は、多数のガス配管の接続
箇所が必要となるので、このような従来のガス配管接続
用継手では、エピタキシャル成長装置の組立、および設
計に支障をきたす問題がある。また上記エピタキシャル
成長装置は水銀ガスが通過するガス導入管の温度は25
0℃の高温に保持して、該水銀ガスが凝固しないように
する必要があり、そのため、ガス配管接続用継手も25
0℃の高温に保つ必要があり、この高温に耐えるガス配
管接続用継手が必要となる。
箇所が必要となるので、このような従来のガス配管接続
用継手では、エピタキシャル成長装置の組立、および設
計に支障をきたす問題がある。また上記エピタキシャル
成長装置は水銀ガスが通過するガス導入管の温度は25
0℃の高温に保持して、該水銀ガスが凝固しないように
する必要があり、そのため、ガス配管接続用継手も25
0℃の高温に保つ必要があり、この高温に耐えるガス配
管接続用継手が必要となる。
本発明は上記した問題点を除去し、ガス配管のガス通路
が相互に一直線になっていない場合でも、ガス配管同士
の接続が可能なガス配管接続用継手を目的とする。
が相互に一直線になっていない場合でも、ガス配管同士
の接続が可能なガス配管接続用継手を目的とする。
上記目的を達成する本発明のガス配管接続用継手は、第
1図および第2図に示すように、球面状に加工され、ガ
ス通路11を有する一方のガス配管12の端部13と、 該球面状に加工された端部13に接触可能な凹面を有す
るように加工され、ガス通路14を有する他方のガス配
管15の端部16とより成り、前記球面状に加工された
端部13、または凹面を有する端部16のいずれか一方
に閉曲線の溝17を設けるとともに該溝内に嵌合して弾
性部材18をはめ込み、前記両者の端部13.16間を
互いに押圧手段19で押圧して固定したことにある。
1図および第2図に示すように、球面状に加工され、ガ
ス通路11を有する一方のガス配管12の端部13と、 該球面状に加工された端部13に接触可能な凹面を有す
るように加工され、ガス通路14を有する他方のガス配
管15の端部16とより成り、前記球面状に加工された
端部13、または凹面を有する端部16のいずれか一方
に閉曲線の溝17を設けるとともに該溝内に嵌合して弾
性部材18をはめ込み、前記両者の端部13.16間を
互いに押圧手段19で押圧して固定したことにある。
本発明の配管接続用継手によれば、第1図および第2図
に示すように、一方のガス配管I2の球面状の端部13
が、他方のガス配管15の凹面状の端部16内で移動す
るので、相互のガス配管のガス通路11.14が一直線
に成らずに、ガス通路の接続箇所が所定の角度を有する
場合でも、上記球面状の端部を凹面状の端部に擦り合わ
せて移動させてガス通路同士の接続が可能となり、ガス
配管の接続の自由度が向上し、エピタキシャル成長装置
に於ける配管接続が容易となり、エピタキシャル成長装
置の組立て、および設計の自由度が向上する。
に示すように、一方のガス配管I2の球面状の端部13
が、他方のガス配管15の凹面状の端部16内で移動す
るので、相互のガス配管のガス通路11.14が一直線
に成らずに、ガス通路の接続箇所が所定の角度を有する
場合でも、上記球面状の端部を凹面状の端部に擦り合わ
せて移動させてガス通路同士の接続が可能となり、ガス
配管の接続の自由度が向上し、エピタキシャル成長装置
に於ける配管接続が容易となり、エピタキシャル成長装
置の組立て、および設計の自由度が向上する。
以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の配管接続用継手の斜視図で、第2図は
該配管接続用継手の断面図である。
該配管接続用継手の断面図である。
第1図および第2図に図示するように、本発明のガス配
管接続用継手は、ガス通路11を有する一方のガス配管
12の配管の端部13を球面状に加工するとともに、ガ
ス通路14を有する他方のガス配管15の配管端部16
を前記球面加工した端部13に擦り合わせ接触可能に凹
面状に加工し、前記球面状に加工した端部13に円形の
閉曲線の溝17を設け、該溝内に弾性ゴムよりなる0リ
ング18をはめ込み、両方の端部13.16同士を接触
させて擦り合わせ両者の端部間をクランプ19を用いて
押圧固定する。
管接続用継手は、ガス通路11を有する一方のガス配管
12の配管の端部13を球面状に加工するとともに、ガ
ス通路14を有する他方のガス配管15の配管端部16
を前記球面加工した端部13に擦り合わせ接触可能に凹
面状に加工し、前記球面状に加工した端部13に円形の
閉曲線の溝17を設け、該溝内に弾性ゴムよりなる0リ
ング18をはめ込み、両方の端部13.16同士を接触
させて擦り合わせ両者の端部間をクランプ19を用いて
押圧固定する。
このようにした本発明のガス配管接続用継手によると、
互いに接続すべきガス配管12.15のガス通路11.
14が相互に一直線に成っていない場合でも、上記相互
の端部間の擦り合わせ箇所で、上記配管の端部をそれぞ
れ斜め方向に移動できるので、ガス配管の接続の自由度
が向上し、エピタキシャル成長装置の組立、および設計
が容易となる。
互いに接続すべきガス配管12.15のガス通路11.
14が相互に一直線に成っていない場合でも、上記相互
の端部間の擦り合わせ箇所で、上記配管の端部をそれぞ
れ斜め方向に移動できるので、ガス配管の接続の自由度
が向上し、エピタキシャル成長装置の組立、および設計
が容易となる。
また上記ガス配管接続用継手は本実施例のように石英ガ
ラスで形成されているので、その周囲を保温性部材で被
覆すると、250℃に加熱された水銀蒸気を通過させる
耐熱性で耐腐蝕性の接続用継手が得られる。
ラスで形成されているので、その周囲を保温性部材で被
覆すると、250℃に加熱された水銀蒸気を通過させる
耐熱性で耐腐蝕性の接続用継手が得られる。
また他の実施例としてステンレスを用いて継ぎ手を作る
ことも可能である。
ことも可能である。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、接続す
べきガス配管のガス通路が相互に一直線に成っていない
場合でも、該ガス配管の端部の擦り合わせ箇所を左右に
移動させて相互のガス配管の通路を接続することが可能
であるので、このようなガス配管接続用継手を用いると
、ガス配管同士の接続の自由度が向上し、エピタキシャ
ル成長装置の組立、および設計が容易となる効果がある
。
べきガス配管のガス通路が相互に一直線に成っていない
場合でも、該ガス配管の端部の擦り合わせ箇所を左右に
移動させて相互のガス配管の通路を接続することが可能
であるので、このようなガス配管接続用継手を用いると
、ガス配管同士の接続の自由度が向上し、エピタキシャ
ル成長装置の組立、および設計が容易となる効果がある
。
第1図は本発明のガス配管接続用継手の斜視図、第2図
は本発明のガス配管接続用継手の断面図、第3図は従来
のガス配管接続用継手の斜視図、第4図は従来のガス配
管接続用継手の断面図、第5図は従来のガス配管接続用
継手の不都合を示す状態図である。 第6図は気相エピタキシャル成長装置の模式図である。 図において、 11.14はガス通路、12.15はガス配管、13.
16は端部、17は溝、18は0リング、19はクラン
プを示す。 t>jスを路 −)7溝 手亮ef14πスJθt1I憂用フ1チの斜セを訂第1
図 手イとを4.tiz画?普p1艷tpnチ4〜NH力第
2図 j13s。 20$111An
は本発明のガス配管接続用継手の断面図、第3図は従来
のガス配管接続用継手の斜視図、第4図は従来のガス配
管接続用継手の断面図、第5図は従来のガス配管接続用
継手の不都合を示す状態図である。 第6図は気相エピタキシャル成長装置の模式図である。 図において、 11.14はガス通路、12.15はガス配管、13.
16は端部、17は溝、18は0リング、19はクラン
プを示す。 t>jスを路 −)7溝 手亮ef14πスJθt1I憂用フ1チの斜セを訂第1
図 手イとを4.tiz画?普p1艷tpnチ4〜NH力第
2図 j13s。 20$111An
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 球面状に加工され、ガス通路(11)を有する一方の
ガス配管(12)の端部(13)と、 該球面状に加工された端部(13)に接触可能な凹面を
有するように加工され、ガス通路(14)を有する他方
のガス配管(15)の端部(16)とより成り、前記球
面状に加工された端部(13)、または凹部を有する端
部(16)のいずれか一方に閉曲線の溝(17)を設け
るとともに該溝内に嵌合して弾性部材(18)をはめ込
み、前記両者の端部13、16間を互いに押圧手段(1
9)で押圧したことを特徴とするガス配管接続用継手。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1286969A JPH03149489A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガス配管接続用継手 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1286969A JPH03149489A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガス配管接続用継手 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03149489A true JPH03149489A (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=17711303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1286969A Pending JPH03149489A (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | ガス配管接続用継手 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03149489A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04133430U (ja) * | 1991-03-22 | 1992-12-11 | 国際電気株式会社 | 半導体製造装置のガス管接続装置 |
USD922014S1 (en) | 2018-09-18 | 2021-06-08 | New Ermes S.r.l. | Accessory for vacuum cleaners |
US11224319B2 (en) | 2017-12-11 | 2022-01-18 | New Ermes Europe S.R.L. | Base plate for a vacuum cleaner suction head for the suction of fine dust and large debris |
US11564544B2 (en) | 2020-01-28 | 2023-01-31 | New Ermes Europe S.R.L. | Adapter device for a cordless electric vacuum cleaner |
-
1989
- 1989-11-02 JP JP1286969A patent/JPH03149489A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04133430U (ja) * | 1991-03-22 | 1992-12-11 | 国際電気株式会社 | 半導体製造装置のガス管接続装置 |
US11224319B2 (en) | 2017-12-11 | 2022-01-18 | New Ermes Europe S.R.L. | Base plate for a vacuum cleaner suction head for the suction of fine dust and large debris |
USD922014S1 (en) | 2018-09-18 | 2021-06-08 | New Ermes S.r.l. | Accessory for vacuum cleaners |
US11564544B2 (en) | 2020-01-28 | 2023-01-31 | New Ermes Europe S.R.L. | Adapter device for a cordless electric vacuum cleaner |
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