JPH03149489A - ガス配管接続用継手 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 気相、或いは液相エピタキシャル成長装置に用いるガス
配管接続用継手に関し、 配管接続に於ける自由度が向上するガス配管接続用継手
を目的とし、 球面状に加工され、ガス通路を有する一方のガス配管の
端部と、 該球面状に加工された端部に接触可能な凹面を有するよ
うに加工され、ガス通路を有する他方のガス配管の端部
とより成り、 前記球面状に加工された端部、または凹面を有する端部
のいずれか一方に閉曲線の溝を設けるとともに該溝内に
嵌合して弾性部材をはめ込み、前記両者の端部間を互い
に押圧手段で押圧して構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は気相、或いは液相エピタキシャル成長装置に用
いるガス配管接続用継手に関する。

赤外線検知素子形成材料として、エネルギーバンドギャ
ップの狭い水銀・カドミウム・テルル（”ｇ＋−＊　Ｃ
ｄｇ　Ｔｅ）の結晶が用いられテイル。

このようなＨｇ＋−ｘ　Ｃｄｘ　Ｔｅの結晶を素子形成
に都合が良いように、大面積で薄層状態に形成するため
に気相エピタキシャル成長装置が用いられている。

第６図に示すように、このような気相エピタキ器ｌや、
ジメチルカドミウムを収容した蒸発器２や、ジエチルテ
ルルを収容した蒸発器３内に水素ガス供給管４より水素
ガスを導入し、該水素ガスに前記水銀や、ジメチルカド
ミウムや、ジエチルテルルを担持させたエピタキシャル
成長用ガスをガス導入管５Ａを通じてエピタキシャル成
長用反応管６内に搬送する。

またキャリアガスとしての水素ガスをガス導入管５Ｂを
通じてエピタキシャル成長用反応管６内に供給する。

これらのガス導入管５＾と５Ｂとは接続箇所Ａで接続さ
れ、ガス導入管５Ｃとなり、更にこのガス４人管５Ｃは
接続箇所Ｂでエピタキシャル成長用反応管６のガス導入
管５Ｄとガス配管接続用継手７を用いて相互に接続され
ている。

〔従来の技術〕 従来のガス配管接続用継手の斜視図を第３図に示し、該
配管接続用継手の断面図を第４図に示す。

第３図、および第４図に示すようにガス通路１１を有す
る石英ガラスで形成された一方のガス配管１２の端部１
３は円板状に加工され、同様にガス通路１４を有する石
英ガラスで形成された他方のガス配管１５の端部１６も
円板状に加工され、上記円板状に加工された一方の端部
１３には円形の溝１７が形成され、°この溝１７内には
弾力性のゴム製の０リング１８がはめ込まれている。

そしてこれら両方のガス配管の端部１３．１６を接　　
触させた後、両方の端部同士をクランプ１９等を用いて
押圧して固定している。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで上記した従来のガス配管接続用継手は、第５図
に示すように相互のガス配管１２．１５の互いのガス通
路１１．１４が一直線に成っていないと、互いのガス配
管が接続できない難点があり、例えば相互のガス通路１
１．１４が一直線になっておらず接続箇所２０で所定の
角度を有する場合には、相互のガス配管同士の接続が不
可能で、ガス配管の接続に於ける自由度が限定される問
題点がある。

上記エピタキシャル成長装置は、多数のガス配管の接続
箇所が必要となるので、このような従来のガス配管接続
用継手では、エピタキシャル成長装置の組立、および設
計に支障をきたす問題がある。また上記エピタキシャル
成長装置は水銀ガスが通過するガス導入管の温度は２５
０℃の高温に保持して、該水銀ガスが凝固しないように
する必要があり、そのため、ガス配管接続用継手も２５
０℃の高温に保つ必要があり、この高温に耐えるガス配
管接続用継手が必要となる。

本発明は上記した問題点を除去し、ガス配管のガス通路
が相互に一直線になっていない場合でも、ガス配管同士
の接続が可能なガス配管接続用継手を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成する本発明のガス配管接続用継手は、第
１図および第２図に示すように、球面状に加工され、ガ
ス通路１１を有する一方のガス配管１２の端部１３と、 該球面状に加工された端部１３に接触可能な凹面を有す
るように加工され、ガス通路１４を有する他方のガス配
管１５の端部１６とより成り、前記球面状に加工された
端部１３、または凹面を有する端部１６のいずれか一方
に閉曲線の溝１７を設けるとともに該溝内に嵌合して弾
性部材１８をはめ込み、前記両者の端部１３．１６間を
互いに押圧手段１９で押圧して固定したことにある。

【作　用〕

本発明の配管接続用継手によれば、第１図および第２図
に示すように、一方のガス配管Ｉ２の球面状の端部１３
が、他方のガス配管１５の凹面状の端部１６内で移動す
るので、相互のガス配管のガス通路１１．１４が一直線
に成らずに、ガス通路の接続箇所が所定の角度を有する
場合でも、上記球面状の端部を凹面状の端部に擦り合わ
せて移動させてガス通路同士の接続が可能となり、ガス
配管の接続の自由度が向上し、エピタキシャル成長装置
に於ける配管接続が容易となり、エピタキシャル成長装
置の組立て、および設計の自由度が向上する。

〔実　施　例〕

以下、図面を用いて本発明の一実施例につき詳細に説明
する。

第１図は本発明の配管接続用継手の斜視図で、第２図は
該配管接続用継手の断面図である。

第１図および第２図に図示するように、本発明のガス配
管接続用継手は、ガス通路１１を有する一方のガス配管
１２の配管の端部１３を球面状に加工するとともに、ガ
ス通路１４を有する他方のガス配管１５の配管端部１６
を前記球面加工した端部１３に擦り合わせ接触可能に凹
面状に加工し、前記球面状に加工した端部１３に円形の
閉曲線の溝１７を設け、該溝内に弾性ゴムよりなる０リ
ング１８をはめ込み、両方の端部１３．１６同士を接触
させて擦り合わせ両者の端部間をクランプ１９を用いて
押圧固定する。

このようにした本発明のガス配管接続用継手によると、
互いに接続すべきガス配管１２．１５のガス通路１１．
１４が相互に一直線に成っていない場合でも、上記相互
の端部間の擦り合わせ箇所で、上記配管の端部をそれぞ
れ斜め方向に移動できるので、ガス配管の接続の自由度
が向上し、エピタキシャル成長装置の組立、および設計
が容易となる。

また上記ガス配管接続用継手は本実施例のように石英ガ
ラスで形成されているので、その周囲を保温性部材で被
覆すると、２５０℃に加熱された水銀蒸気を通過させる
耐熱性で耐腐蝕性の接続用継手が得られる。

また他の実施例としてステンレスを用いて継ぎ手を作る
ことも可能である。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、接続す
べきガス配管のガス通路が相互に一直線に成っていない
場合でも、該ガス配管の端部の擦り合わせ箇所を左右に
移動させて相互のガス配管の通路を接続することが可能
であるので、このようなガス配管接続用継手を用いると
、ガス配管同士の接続の自由度が向上し、エピタキシャ
ル成長装置の組立、および設計が容易となる効果がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のガス配管接続用継手の斜視図、第２図
は本発明のガス配管接続用継手の断面図、第３図は従来
のガス配管接続用継手の斜視図、第４図は従来のガス配
管接続用継手の断面図、第５図は従来のガス配管接続用
継手の不都合を示す状態図である。 第６図は気相エピタキシャル成長装置の模式図である。 図において、 １１．１４はガス通路、１２．１５はガス配管、１３．
１６は端部、１７は溝、１８は０リング、１９はクラン
プを示す。 ｔ＞ｊスを路　　−）７溝 手亮ｅｆ１４πスＪθｔ１Ｉ憂用フ１チの斜セを訂第１
図 手イとを４．ｔｉｚ画？普ｐ１艷ｔｐｎチ４〜ＮＨ力第
２図 ｊ１３ｓ。 ２０＄１１１Ａｎ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　球面状に加工され、ガス通路（１１）を有する一方の
   ガス配管（１２）の端部（１３）と、 該球面状に加工された端部（１３）に接触可能な凹面を
   有するように加工され、ガス通路（１４）を有する他方
   のガス配管（１５）の端部（１６）とより成り、前記球
   面状に加工された端部（１３）、または凹部を有する端
   部（１６）のいずれか一方に閉曲線の溝（１７）を設け
   るとともに該溝内に嵌合して弾性部材（１８）をはめ込
   み、前記両者の端部１３、１６間を互いに押圧手段（１
   ９）で押圧したことを特徴とするガス配管接続用継手。