JPH03142786A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH03142786A
JPH03142786A JP1281284A JP28128489A JPH03142786A JP H03142786 A JPH03142786 A JP H03142786A JP 1281284 A JP1281284 A JP 1281284A JP 28128489 A JP28128489 A JP 28128489A JP H03142786 A JPH03142786 A JP H03142786A
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fet
effect transistor
gate
nodal point
type mos
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Yasuhiro Takai
康浩 高井
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Abstract

PURPOSE:To suppress the reduction of an H output accompanying the operation of a peripheral circuit during a data H output period by connecting an FET, which defines a control signal as a gate input, serially to an FET with high ability which defines a data signal as a gate input, making this FET parallel to the FET with low ability, which defines the data signal as the gate input, and connecting the gate nodal point of an output transistor with a power supply line. CONSTITUTION:When the peripheral circuit is operated and a nodal point VCC1 is fluctuated, a nodal point VCC2 is also fluctuated. However, since an integration circuit with a large time constant is formed by the high ON resistance of an FET Q5 and the gate capacity of an FET Q1, the rapid fluctuation of the nodal point VCC1 is absorbed and fluctuation is suppressed at a gate nodal point N1 of the FET Q1. Further, since the nodal point VCC3 as the drain of the FET Q1 is connected through parasitic resistors R1 and R3 to the nodal point VCC1, the fluctuation of the nodal point VCC3 caused by the operation of the peripheral circuit is suppressed and the current ability of the Q1 does not depend on the VCC3. Thus, since the ability of the FET Q1 is not almost lowered regardless of the fluctuation in the nodal point VCC1, the reduction of an H output level at an output terminal OUT can be decreased.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は半導体記憶装置に関し、特にN型MOS電界効
果トランジスタにより高レベルを出力するデータ出力バ
ッファを有する半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a data output buffer that outputs a high level using an N-type MOS field effect transistor.

[従来の技術] 従来、この種の半導体記憶装置は、データ出力バッファ
にN型エンハンスメント型MOS電界効果トランジスタ
(以下、FETと略記する)を用いて、これにより高レ
ベル(以下、Hと略記する)を出力する。即ち、データ
の入出力を共通の端子に割り当てる半導体記憶装置にお
いて、出力トランジスタとしてP型MOSFETを用い
た場合、入出力共通端子に電源電圧以上の電圧をかける
とP型M OS F E Tがラッチアップ現象を起こ
し、素子の破壊に至るためN型MOSFETを用いる。
[Prior Art] Conventionally, this type of semiconductor memory device uses an N-type enhancement type MOS field effect transistor (hereinafter abbreviated as FET) as a data output buffer, thereby achieving a high level (hereinafter abbreviated as H). ) is output. That is, when a P-type MOSFET is used as an output transistor in a semiconductor memory device that allocates data input and output to a common terminal, when a voltage higher than the power supply voltage is applied to the input/output common terminal, the P-type MOSFET latches. An N-type MOSFET is used because this causes an up phenomenon that leads to destruction of the element.

第2図は従来例の半導体記憶装置である。φH2φLは
内部記憶セルから読み出されたデータにしたがって変化
するデータ信号、Ql、Q2.Q4はN型MOSFET
、Q3はP型MO5FET、Glはインバータ、OUT
はデータ出力端子、R1゜R2,R3は配線寄生抵抗、
VCCO,VCCI。
FIG. 2 shows a conventional semiconductor memory device. φH2φL are data signals Ql, Q2 . Q4 is N type MOSFET
, Q3 is P-type MO5FET, Gl is inverter, OUT
is the data output terminal, R1゜R2, R3 are wiring parasitic resistances,
VCCO, VCCI.

vCC2,vCC3は電R線における節点、Nl。vCC2 and vCC3 are nodes on the electric R line, Nl.

N2は節点、CLは外部負荷容量、R4はプルアップ抵
抗、R5はプルダウン抵抗、vCCは外部電源である。
N2 is a node, CL is an external load capacitor, R4 is a pull-up resistor, R5 is a pull-down resistor, and vCC is an external power supply.

第4図は第2図に示した回路の要部の各信号波形を示す
ものである。
FIG. 4 shows signal waveforms of the main parts of the circuit shown in FIG. 2.

次に第2図の回路の動作について第4図を参照して説明
する。
Next, the operation of the circuit shown in FIG. 2 will be explained with reference to FIG. 4.

まず、データ読み出しが許可されていなければ、データ
信号φH2φLはともにHである(t1期間)。
First, if data reading is not permitted, both data signals φH2φL are at H (period t1).

この時、節点Nl、N2は共に低レベル(以下、Lと略
記する)となり、FETQI、Q2は共にオフとなるた
め、データ出力端子OUTは高インピーダンスで、抵抗
R4,R5、負荷容量CLにより構成される外部回路に
より与えられる電位となる。次に、データ読み出しが許
可されると、読みだされたデータがLならば、データ信
号φLがLとなり、データ信号φHはHである。この時
、インバータG1により節点N2がHとなりFETQ2
がオンになるので、外部負荷容量CLに蓄えられていた
電荷はFETQ2を介して接地線に放電され、データ出
力端子OUTはLとなる。また読み出されたデータがH
ならば、データ信号φHがLとなり、データ信号φしは
Hである(t2期間)。この時、FETQ3.Q4によ
り構成されたインバータにより節点N1がHとなり、F
ETQIがオンになるので、外部負荷容量CLはFET
QIを介して電源線から充電され、データ出力端子OU
TはHになる。ここで、FETQIはN型のエンハンス
メント型で、節点N1は高いトランジスタ能力な持つF
ETQ3を介して電源線と接続されているのて電源レベ
ルである。従って、データH出力の時節点N1の電位を
V(Nl)、FETQIの入力しきい値電圧をVTとす
ると、データ出力端子OUTの電位V(OUT)はV(
Nl)−VT以上にはならない。更に、上記外部回路に
おいて、プルアップ抵抗R4、プルダウン抵抗R5より
データ出力端子OUTがそれぞれ外部電源、接地線に接
続されているのでFETQIが電流を流し続けることに
より、データ出力端子OUTはHを保っている。節点V
CC3の電位をV (vCC3)とすると、データ出力
端子OUTがHを保っているときには、 V(Nl)< V(vCC3)+ VT・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・(1)だから、FETQIは
飽和領域で動作しており、FETQIが流す電流工はそ
のトランジスタ能力をβとすると、 β I=    (V(Nl)−V(OUT)−VT)2・
・・・・−(2)て表される。即ち、FETQIが流す
電流は節点N1の電位に強く依存し、 (1)式の成立
する限り節点VCC3の電位には依存しない。
At this time, nodes Nl and N2 are both at a low level (hereinafter abbreviated as L), and FETs QI and Q2 are both turned off, so the data output terminal OUT is high impedance and is composed of resistors R4, R5, and load capacitance CL. This is the potential given by the external circuit. Next, when data reading is permitted, if the read data is L, the data signal φL becomes L and the data signal φH becomes H. At this time, the node N2 becomes H due to the inverter G1, and the FET Q2
is turned on, the charge stored in the external load capacitor CL is discharged to the ground line via the FET Q2, and the data output terminal OUT becomes L. Also, the read data is H
If so, the data signal φH becomes L, and the data signal φH becomes H (period t2). At this time, FETQ3. The inverter configured by Q4 causes node N1 to become H, and F
Since ETQI is turned on, the external load capacitance CL is
Charged from the power supply line via QI, data output terminal OU
T becomes H. Here, FETQI is an N-type enhancement type, and node N1 is an FET with high transistor performance.
The power level is connected to the power line via ETQ3. Therefore, if the potential of node N1 at the time of data H output is V(Nl), and the input threshold voltage of FETQI is VT, the potential V(OUT) of data output terminal OUT is V(
Nl) - VT. Furthermore, in the above external circuit, the data output terminal OUT is connected to the external power supply and the ground line through the pull-up resistor R4 and the pull-down resistor R5, respectively, so that the data output terminal OUT is kept at H as FETQI continues to flow current. ing. Node V
Assuming that the potential of CC3 is V (vCC3), when the data output terminal OUT maintains H, V (Nl) < V (vCC3) + VT...
・・・・・・・・・・・・(1) Therefore, FETQI is operating in the saturation region, and the current flowing through FETQI is β I= (V(Nl)− V(OUT)-VT)2・
...-(2) It is expressed as. That is, the current flowing through FETQI strongly depends on the potential of node N1, and does not depend on the potential of node VCC3 as long as equation (1) holds true.

また、データ出力端子にHな出力するとき、FETQ 
1がオフ状態から急に電流を流すため、電源線に寄生す
るインダクタンス成分によって、出力トランジスタに接
続している電源線のレベルが急激に降下し、このレベル
変動(以下、電源ノイズと記す)により周辺回路が誤動
作する。そのためレイアウト上、出力トランジスタ用の
電源線と周辺回路用の電源線を分離して走行させ、その
配線抵抗と寄生容量により形成される積分回路によりノ
イズを吸収することにより、電源ノイズによる周辺回路
の誤動作を防いでいた。
Also, when outputting H to the data output terminal, FETQ
1 suddenly flows current from the off state, the level of the power supply line connected to the output transistor drops rapidly due to the inductance component parasitic to the power supply line, and this level fluctuation (hereinafter referred to as power supply noise) causes Peripheral circuits malfunction. Therefore, due to the layout, the power supply line for the output transistor and the power supply line for the peripheral circuit are run separately, and the noise is absorbed by the integration circuit formed by the wiring resistance and parasitic capacitance. This prevented malfunctions.

[発明が解決しようとする課題] 上述した従来の半導体記憶装置は、データ出力端子にH
な出力する出力トランジスタのゲート節点が高い能力を
持つFETを介して周辺回路と共通の電源線と接続され
ているので、データ出力端子にHが出力されているとき
、周辺回路が動作すると、その電源線のレベルが低下し
、出力トランジスタゲート節点が低下するため、出力ト
ランジスタの能力が低下し、H出力レベルが低下する。
[Problems to be Solved by the Invention] The conventional semiconductor memory device described above has an H
Since the gate node of the output transistor that outputs a signal is connected to the power supply line common to the peripheral circuit through a FET with high performance, when the peripheral circuit operates when H is output to the data output terminal, the Since the level of the power supply line is lowered and the output transistor gate node is lowered, the ability of the output transistor is lowered and the H output level is lowered.

このため出力論理レベルが反転するという欠点がある。This has the disadvantage that the output logic level is inverted.

[発明の従来技術に対する相違点コ 上述した従来の半導体記憶装置に対し、本発明はデータ
信号をゲート入力とする高い能力のFETと直列にコン
トロール信号をゲート入力とするFETを接続し、これ
とデータ信号をゲート入力とする低い能力のFETを並
列にして、出力トランジスタのゲート節点と電源線を接
続することによって、データH出力期間中の周辺回路の
動作に伴うH出力の低下を抑えるという相違点を有する
[Differences between the invention and the prior art] In contrast to the conventional semiconductor memory device described above, the present invention connects a high-capacity FET that receives a data signal as a gate input in series with an FET that receives a control signal as its gate input. The difference is that by paralleling low-performance FETs that use data signals as gate inputs and connecting the gate node of the output transistor to the power supply line, the drop in H output due to the operation of peripheral circuits during the data H output period is suppressed. Has a point.

[課題を解決するための手段] 本発明の半導体記憶装置は、出力部に設けられてドレイ
ンが電源線に接続された第1のN型MOS電界効果トラ
ンジスタと、ソースが電源線に接続されデータ信号がゲ
ートに入力される第2のP型MOS電界効果トランジス
タと、ソースが接地線に接続されデータ信号がゲートに
入力される第3のN型MOS電界効果トランジスタとを
備え、第2のP型電界効果トランジスタと第3のN型M
OS電界効果トランジスタのドレインを第1のN型MO
S電界効果トランジスタのゲート入力としたデータ出力
バッファを有する半導体記憶装置において、第2のP型
MOS電界効果トランジスタのソースと電源線との間に
第4のP型MOS電界効果トランジスタを介装し、デー
タ信号に対して遅延したコントロール信号を当該第4の
P型MO8電界効果トランジスタのゲート入力とする一
方、ゲートがデータ信号にソースが電源線にドレインが
第1のP型MOS電界効果トランジスタのゲートにそれ
ぞれ接続されて第2および第4のP型MO5電界効果ト
ランジスタより能力が低い第5のP型MOS電界効果ト
ランジスタを設けたことを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device of the present invention includes a first N-type MOS field effect transistor provided in an output section and having a drain connected to a power supply line, and a first N-type MOS field effect transistor having a source connected to a power supply line and transmitting data. The second P-type MOS field-effect transistor includes a second P-type MOS field-effect transistor whose gate receives a signal, and a third N-type MOS field-effect transistor whose source is connected to a ground line and whose gate receives a data signal. type field effect transistor and the third N type M
The drain of the OS field effect transistor is connected to the first N-type MO
In a semiconductor memory device having a data output buffer as a gate input of an S field effect transistor, a fourth P type MOS field effect transistor is interposed between the source of the second P type MOS field effect transistor and a power supply line. , the control signal delayed with respect to the data signal is input to the gate of the fourth P-type MO8 field effect transistor, while the gate is the data signal, the source is the power supply line, and the drain is the first P-type MOS field effect transistor. The present invention is characterized in that fifth P-type MOS field effect transistors each having a lower capability than the second and fourth P-type MO5 field effect transistors are connected to the gates thereof.

[実施例コ 次に本発明について図面を参照して説明する。[Example code] Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例である。尚、以下前述した第
2図の従来の半導体記憶H置と同一の部分には同一の符
号を付して説明する。Q5.  Q6はP型MOSFE
Tである。FETQ6のトランジスタ能力はFETQ3
のそれとほぼ同等でFETQ5のトランジスタ能力はF
ETQ3.Q6のそれと比較し低いものとする。即ち、
FETQ5のオン抵抗は、直列に接続されたFETQ3
.Q6のオン抵抗と比較して大きいものとする。φはQ
6のコントロール信号でデータ信号φHがHの時コント
ロール信号φはLで、データ信号φHがLになってから
一定時間後にコントロール信号φがHになるものとする
FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. Hereinafter, the same parts as those of the conventional semiconductor memory H arrangement shown in FIG. 2 will be described with the same reference numerals. Q5. Q6 is P type MOSFE
It is T. The transistor capacity of FETQ6 is FETQ3
It is almost the same as that of FETQ5, and the transistor capacity of FETQ5 is F
ETQ3. It is lower than that of Q6. That is,
The on-resistance of FETQ5 is the same as that of FETQ3 connected in series.
.. It is assumed that the on-resistance is larger than that of Q6. φ is Q
When the data signal φH is H in the control signal 6, the control signal φ is L, and the control signal φ becomes H after a certain period of time after the data signal φH becomes L.

第3図は第1図に示した回路の要部の各信号波形を示す
ものである。第1図の回路の動作について第3図を参照
して説明する。
FIG. 3 shows signal waveforms of the main parts of the circuit shown in FIG. 1. The operation of the circuit shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIG.

まず、データの読み出しが許可されてない時、データ信
号φHがHであるため、前述のようにコントロール信号
φはしである(t1期間)。この時FETQ6はオンし
ているが、FETQ3.Q5がオフで、Q4がオンして
いるので、節点NlはLで、データ出力端子OUTが高
インピーダンスである。ここで読み出しが許可され、H
データが読み出されるとデータ信号φHがLとなり、Q
3がオン、Q4がオフとなるため高いトランジスタ能力
を持ち、低抵抗のFETQ3.Q6の直列回路によって
節点Nlは急速に充電されHとなり、FETQIにより
データ出力端子OUTにHが出力される(t2期間)。
First, when data reading is not permitted, the data signal φH is H, so the control signal φ is high as described above (period t1). At this time, FETQ6 is on, but FETQ3. Since Q5 is off and Q4 is on, the node Nl is at L and the data output terminal OUT is at high impedance. Read is allowed here and H
When data is read, data signal φH becomes L, and Q
Since FET Q3.3 is on and Q4 is off, it has high transistor performance and low resistance. The node Nl is rapidly charged to H by the series circuit of Q6, and H is outputted to the data output terminal OUT by FETQI (period t2).

この時FETQ5も同時にオンするが、FETQ5の能
力は低く高抵抗のため、節点N1の充電には余り寄与し
ない。
At this time, FETQ5 is also turned on at the same time, but since FETQ5 has low capability and high resistance, it does not contribute much to charging of node N1.

データ信号φHがLになってから一定時間後にφがHに
なると、FETQ6がオフするため、Hの節点N1は高
いオン抵抗のFETQ5のみを介して電源線VCC2と
つながっている(t4期間)。
When φ becomes H after a certain period of time after data signal φH becomes L, FET Q6 turns off, so H node N1 is connected to power supply line VCC2 only via FET Q5 with high on-resistance (period t4).

この期間に周辺回路が動作し、節点VCCIが変動する
と節点VCC2も変動するが、FETQ5の高いオン抵
抗とFETQIのゲート容量により時定数の大きい積分
回路を形成しているため、節点VCCIの急激な変動は
吸収され、FETQlのゲート節点N1の変動は抑えら
れる。更に、FETQIのトレインである節点VCC3
は寄生抵抗R1,R3を介して節点VCCIに接続され
ているため、周辺回路の動作による節点VCC3の変動
は抑えられ、しかもQlの電流能力はVCC3には依存
しない。従ってFETQIの能力は節点vcciの変動
にも係わらずほとんど低下しないため、出力端子OUT
におけるH出力レベルの低下を大幅に軽減することがで
きる。
During this period, when the peripheral circuit operates and node VCCI fluctuates, node VCC2 also fluctuates, but because the high on-resistance of FETQ5 and the gate capacitance of FETQI form an integrating circuit with a large time constant, the sudden change in node VCCI The fluctuation is absorbed, and the fluctuation of the gate node N1 of FET Ql is suppressed. Furthermore, the node VCC3 which is the train of FETQI
is connected to node VCCI via parasitic resistors R1 and R3, so fluctuations in node VCC3 due to operations of peripheral circuits are suppressed, and the current capability of Ql does not depend on VCC3. Therefore, the ability of FETQI hardly decreases despite the fluctuation of node vcci, so the output terminal OUT
It is possible to significantly reduce the decrease in the H output level.

第5図は前記コントロール信号φを発生する回路の例で
ある。DLは信号遅延素子、G2はノアゲートである。
FIG. 5 shows an example of a circuit that generates the control signal φ. DL is a signal delay element, and G2 is a NOR gate.

本回路により、データ信号φHに基づいて第3図に示す
ようにコントロール信号φを発生することができる。
This circuit can generate the control signal φ as shown in FIG. 3 based on the data signal φH.

[発明の効果コ 以上説明したように本発明は、Hを出力した一定時間後
に高い能力のトランジスタを遮断し、低い能力のトラン
ジスタでのみデータ出力端子にHを出力するトランジス
タのゲート節点をHに保つことにより、周辺回路による
急激な電源変動ノイズによるH出力レベルの低下を大幅
に軽減できる効果がある。
[Effects of the Invention] As explained above, the present invention shuts off high-capacity transistors after a certain period of time after outputting H, and sets the gate node of the transistor that outputs H to the data output terminal of only low-capacity transistors to H. This has the effect of significantly reducing the drop in the H output level due to sudden power fluctuation noise caused by peripheral circuits.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示す回路図、第2図は従来
例を示す回路図、第3図は第1図に示す回路の要部の信
号波形図、第4図は第2図に示す回路の要部の信号波形
図、第5図は本発明の一実施例におけるコントロール信
号を発生する回路の回路図である。 φH2φL・・・・・・・内部記憶セルから読み出され
たデータに従って変 化するデータ信号、 φ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ Ql、  G2.  G4 ・ ・コントロール信号、 ・・・N型MOS F E T、 G3.  G5.  G6 ・ G1 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ G2 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ DL  ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ OUT  ・ ・ ・ ・ ・ ・ R1,R2,R3・ ・P型MOSFET、 ・インバータ、 ・ノアゲート、 ・信号遅延素子、 ・データ出力端子、 ・配線寄生抵抗、 VCGO,VCCI。 VCC2,VCC3・・・・電源線における節点、Nl
、  N2◆ CL  ・ ・ ・ ・ R4・ ◆ ・ ◆ R5・ ◆ ・ ・ VCC・ ◆ ◆ ・節点、 ・外部負荷容量、 ・プルアップ抵抗、 ・プルダウン抵抗、 ・外部電源。
Fig. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a circuit diagram showing a conventional example, Fig. 3 is a signal waveform diagram of main parts of the circuit shown in Fig. 1, and Fig. 4 is a circuit diagram showing a conventional example. FIG. 5 is a circuit diagram of a circuit for generating control signals in an embodiment of the present invention. φH2φL... Data signal that changes according to data read from the internal storage cell, φ・ ・ ・ ・ ・ ・ Ql, G2. G4 ・・Control signal, ・N-type MOS FET, G3. G5. G6 ・ G1 ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ G2 ・ ・ ・ ・ ・ DL ・ ・ ・ ・ ・ ・ OUT ・ ・ ・ ・ ・ ・ R1, R2, R3 ・ ・P-type MOSFET, ・Inverter, ・Noah gate,・Signal delay element, ・Data output terminal, ・Wiring parasitic resistance, VCGO, VCCI. VCC2, VCC3... Nodes in the power supply line, Nl
, N2◆ CL ・ ・ ・ ・ R4 ◆ ・ ◆ R5 ◆ ・ ・ VCC ◆ ◆ ・Node, ・External load capacitance, ・Pull-up resistor, ・Pull-down resistor, ・External power supply.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  出力部に設けられてドレインが電源線に接続された第
1のN型MOS電界効果トランジスタと、ソースが電源
線に接続されデータ信号がゲートに入力される第2のP
型MOS電界効果トランジスタと、ソースが接地線に接
続されデータ信号がゲートに入力される第3のN型MO
S電界効果トランジスタとを備え、第2のP型電界効果
トランジスタと第3のN型MOS電界効果トランジスタ
のドレインを第1のN型MOS電界効果トランジスタの
ゲート入力としたデータ出力バッファを有する半導体記
憶装置において、第2のP型MOS電界効果トランジス
タのソースと電源線との間に第4のP型MOS電界効果
トランジスタを介装し、データ信号に対して遅延したコ
ントロール信号を当該第4のP型MOS電界効果トラン
ジスタのゲート入力とする一方、ゲートがデータ信号に
ソースが電源線にドレインが第1のP型MOS電界効果
トランジスタのゲートにそれぞれ接続されて第2および
第4のP型MOS電界効果トランジスタより能力が低い
第5のP型MOS電界効果トランジスタを設けたことを
特徴とする半導体記憶装置。
A first N-type MOS field effect transistor provided in the output section and having a drain connected to a power supply line, and a second PMOS field effect transistor having a source connected to the power supply line and having a data signal input to its gate.
type MOS field effect transistor and a third N type MO whose source is connected to the ground line and whose gate is inputted with a data signal.
A semiconductor memory having a data output buffer comprising an S field effect transistor, and the drains of the second P type field effect transistor and the third N type MOS field effect transistor are input to the gate of the first N type MOS field effect transistor. In the device, a fourth P-type MOS field-effect transistor is interposed between the source of the second P-type MOS field-effect transistor and the power supply line, and a control signal delayed with respect to the data signal is transmitted to the fourth P-type MOS field-effect transistor. The gate is connected to the data signal, the source is connected to the power supply line, and the drain is connected to the gate of the first P-type MOS field-effect transistor. A semiconductor memory device characterized in that a fifth P-type MOS field effect transistor having a lower capability than an effect transistor is provided.
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