JPH03134600A - Terminal point of electron beam irradiation device - Google Patents

Terminal point of electron beam irradiation device

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Publication number
JPH03134600A
JPH03134600A JP1271512A JP27151289A JPH03134600A JP H03134600 A JPH03134600 A JP H03134600A JP 1271512 A JP1271512 A JP 1271512A JP 27151289 A JP27151289 A JP 27151289A JP H03134600 A JPH03134600 A JP H03134600A
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JP
Japan
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electron beam
grid
filament
irradiation
electron
Prior art date
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Application number
JP1271512A
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Japanese (ja)
Inventor
Takuya Miyamae
卓也 宮前
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Iwasaki Denki KK
Original Assignee
Iwasaki Denki KK
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To reduce the opening width of an irradiation window without inducing any abnormal electric discharge due to the acceleration voltage by providing a net shaped grid placed on the side surface of a case, in a denting condition toward the inner side of the case. CONSTITUTION:When a grid voltage is charged between a filament 11, a gun structure 12 and a grid 14, and an acceleration voltage is charged between the structure d12 and an irradiation window 3, an electron beam 15 generated by the filament 11 is accelerated in an acceleration space 4 of an electron accelerating tube 2 and irradiates an irradiation object through a metal foil 3a of the window 3. Cross section of the grid 14 is formed to be shape of an arc and is placed in a denting condition toward the inside of a case 13. By this reason, an iso-electric potential curve, which is generated concentrically around the filament 11, is recessed in the direction toward the filament 11 immediately below the grid 14. Therefore, the electrons that tend to progress rectangularly to the iso-electric potential curve actually progress so as to be concentrated in the direction toward the center of electron irradiation, as shown by a dotted line in the figure.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、被処理物に電子線を照射して、架橋・硬化等
の処理をおこなう電子線照射装置のターミナルに関する
ものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a terminal for an electron beam irradiation device that performs treatments such as crosslinking and curing by irradiating a workpiece with an electron beam.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第6図は従来の電子線照射装置における電子線発生部の
概略断面図である。電子線発生部10は、電子線を発生
する円筒状のターミナル1と、ターミナル1によって発
生した電子線を加速する電子加速管2と、電子線を被処
理物に照射する照射窓3とを含むものである。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of an electron beam generating section in a conventional electron beam irradiation device. The electron beam generating unit 10 includes a cylindrical terminal 1 that generates an electron beam, an electron acceleration tube 2 that accelerates the electron beam generated by the terminal 1, and an irradiation window 3 that irradiates the object to be processed with the electron beam. It is something that

ターミナルlは、電子源であるフィラメント(たとえば
、線状陰極)11と、フィラメント11を支持するガン
構造体12と、フィラメント11を支持したガン構造体
12を収納する円筒状のケース13と、ケース13の側
面に設けられた綱目状のグリッド54と力)らなる。
The terminal l includes a filament (for example, a linear cathode) 11 that is an electron source, a gun structure 12 that supports the filament 11, a cylindrical case 13 that houses the gun structure 12 that supports the filament 11, and a case. It consists of a wire-shaped grid 54 provided on the side surface of 13 and a force.

図示しない電源装置により、フィラメント11とガン構
造体12及びグリッド54との間にグリッド電圧が印加
され、ガン構造体12と照射窓3との間に加速用電圧が
印加されると、フィラメント11によって発生した電子
線15は、電子加速管2の加速空間4で加速され、照射
窓3の金属箔3aを介して被処理物に照射される。
When a grid voltage is applied between the filament 11, the gun structure 12, and the grid 54 by a power supply device (not shown), and an acceleration voltage is applied between the gun structure 12 and the irradiation window 3, the filament 11 The generated electron beam 15 is accelerated in the acceleration space 4 of the electron acceleration tube 2 and is irradiated onto the object to be processed through the metal foil 3a of the irradiation window 3.

電子線照射袋1置においては、電子加速管2及びターミ
ナルlの径(ケース13の径)は、加速用電圧の値に応
じて大きくなる。第6図は加速用電圧が低い場合を示す
図であるが、加速用電圧が高い場合には、第7図に示す
ようにターミナル1や電子加速管2の径が大きくなると
共に、被処理物に照射する電子線の幅が大きくなるので
、それに伴い照射窓3の開口部3bの幅Cも大きくなる
In one electron beam irradiation bag, the diameters of the electron accelerating tube 2 and the terminal 1 (the diameter of the case 13) increase in accordance with the value of the acceleration voltage. Fig. 6 shows the case where the accelerating voltage is low, but when the accelerating voltage is high, as shown in Fig. 7, the diameters of the terminal 1 and the electron accelerating tube 2 become larger, and the object to be processed increases. As the width of the electron beam irradiated increases, the width C of the opening 3b of the irradiation window 3 also increases accordingly.

また、ターミナル1と電子加速管2との径の比であるb
 H/ a 1及びす、/axは加速用電圧に依存して
決まり、一般に電子加速管2の径が大きくなると、ター
ミナル1の径も大きくなる。
Also, b is the ratio of the diameters of the terminal 1 and the electron acceleration tube 2.
H/a1 and S,/ax are determined depending on the accelerating voltage, and generally, as the diameter of the electron accelerating tube 2 increases, the diameter of the terminal 1 also increases.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

フィラメント11が発した電子は熱電子として浮遊し、
グリッド電圧によって、四方人力に引き寄せられ、その
うち下方に配置した綱目状のグリッド54を通過したも
のだけが電子線として有効に取り出される。このため電
子線として利用できる電子は、フィラメント11を遊離
した全電子のうちd + / 360度分だけに止まる
。第7図に示すように加速用電圧が高く、電子加速管2
及びターミナル1が大きい場合にも、第6図に示す中I
C・角d1と同じ中心角を持った電子を通過させるため
には、必然的にグリッド54部分の幅及び照射窓3の開
口部3bの幅を大きくしなければならない、ところで、
電子が照射窓3の開口部3bに設けられた金属箔3aを
貫通すると、これにより金属箔3aの温度が上昇するの
で、金属箔3aを取着するための取着部材には、金属箔
3aの昇温を防止するため、たとえば空気や水等による
冷却装置が設けられている。しかしながら、照射窓3の
開口部3bの幅C2が大きくなると、冷却装置によって
金属箔3aの昇温を防止するのが難しくなり、またその
昇温を防止するには製造コストが嵩むという問題がある
The electrons emitted by the filament 11 float as thermoelectrons,
The electron beams are drawn in all directions by the grid voltage, and only those that pass through the wire-shaped grid 54 placed below are effectively extracted as electron beams. Therefore, the number of electrons that can be used as an electron beam is limited to only d + /360 degrees out of all the electrons released from the filament 11. As shown in Fig. 7, the acceleration voltage is high and the electron accelerating tube 2
And even if terminal 1 is large, the middle I shown in Figure 6
In order to allow electrons having the same central angle as the angle d1 to pass through, the width of the grid 54 and the width of the opening 3b of the irradiation window 3 must be increased.By the way,
When electrons penetrate the metal foil 3a provided in the opening 3b of the irradiation window 3, the temperature of the metal foil 3a increases. In order to prevent the temperature from rising, a cooling device using, for example, air or water is provided. However, when the width C2 of the opening 3b of the irradiation window 3 becomes large, it becomes difficult to prevent the temperature of the metal foil 3a from rising with the cooling device, and there is a problem that preventing the temperature rise increases the manufacturing cost. .

また、照射する電子線の中心角d、を維持したままで、
かつ照射窓3の開口部3bの幅C3を広げないで、加速
用電圧を高くするには、第8図に示すように電子加速管
2の径のみを大きくして、ターミナル1の径を大きくし
なければよいのであるが、この方法では印加する加速用
電圧に対するb / aの一般的な比率が崩れることに
なり、異常放電を誘発するおそれがある。
Also, while maintaining the central angle d of the irradiated electron beam,
In addition, in order to increase the acceleration voltage without increasing the width C3 of the opening 3b of the irradiation window 3, only the diameter of the electron accelerating tube 2 is increased and the diameter of the terminal 1 is increased as shown in FIG. It would be fine if it were not done, but with this method, the general ratio of b/a to the applied accelerating voltage would be disrupted, and there is a risk of inducing abnormal discharge.

本発明は上記事情に基づいてなされたものであり、加速
用電圧による異常放電を誘発することなく、照射窓の開
口部の幅を小さくすることができる電子線照射装置のタ
ーミナルを提供することを目的とするものである。
The present invention has been made based on the above circumstances, and aims to provide a terminal for an electron beam irradiation device that can reduce the width of the opening of the irradiation window without inducing abnormal discharge due to the accelerating voltage. This is the purpose.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の目的を達成するための本発明は、電子源であるフ
ィラメントを支持するガン構造体と、該ガン構造体を収
納するケースと、前記フィラメントから電子を取り出す
ために前記ケースの側面に設けられた綱目状のグリッド
とを有する電子線照射装置のターミナルにおいて、前記
グリッドは前記ケースの内側に凹んだ状態で設けられて
むすることを特徴とするものである。
To achieve the above object, the present invention includes a gun structure that supports a filament that is an electron source, a case that houses the gun structure, and a case that is provided on a side of the case to take out electrons from the filament. In the terminal of an electron beam irradiation device having a cross-shaped grid, the grid is provided in a recessed state inside the case.

〔作用〕[Effect]

本発明は前記の構成によって、本来同心円上に発生する
等電位曲線がグリ・ノドの真下におむ1てフィラメント
方向に食い込んだ形状になるため、等電位曲線に対して
垂直に進もうとする電子は、電子線の照射中心方向に集
束するようになる。これにより、照射窓の開口部の幅を
従来のものよりも、小さくすることができる。
With the above-described configuration, the present invention has a shape in which the equipotential curve, which originally occurs on concentric circles, cuts into the direction of the filament, so that the equipotential curve tends to advance perpendicularly to the equipotential curve. The electrons become focused in the direction of the irradiation center of the electron beam. Thereby, the width of the opening of the irradiation window can be made smaller than that of the conventional one.

〔実施例〕〔Example〕

以下に本発明の一実施例を第1図乃至第5図を参照して
説明する。第1図は本発明の一実施例である電子線照射
装置の電子線発生部の概略断面図、第2図は本発明の一
実施例である電子線照射装置の概略断面図である。電子
線照射装置はカーテン状の電子線を発生する電子線発生
部lOと、被処理物に電子線を照射する照射空間を存す
る搬送路20と、電子加速管2の加速空間と搬送路20
内の処理雲囲気とを仕切る金属箔3aを有する照射窓3
とを備える。尚、電子加速管2や搬送路20の側壁等に
はX線が外部へ漏出するのを防ぐために、鉛等の金属p
bによりX線遮蔽が施されている。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 5. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electron beam generating section of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an electron beam irradiation apparatus according to an embodiment of the present invention. The electron beam irradiation device includes an electron beam generation unit IO that generates a curtain-shaped electron beam, a transport path 20 that includes an irradiation space that irradiates the object to be processed with the electron beam, an acceleration space of the electron acceleration tube 2, and the transport path 20.
An irradiation window 3 having a metal foil 3a separating the processing cloud from the inside
Equipped with. Note that the side walls of the electron accelerator tube 2 and the transport path 20 are coated with metal such as lead to prevent X-rays from leaking outside.
X-ray shielding is provided by b.

第3図は円筒状のターミナル1の拡大断面図であり、第
4図はその底面図である。第3図に示すように本実施例
のターミナル1は、綱目状のグリッド14の断面形状が
円弧状に形成され、円筒状のケース13の内側に凹んだ
状態で設けられている。また、第7図に示す従来の電子
線照射装置と同じ加速用電圧を必要とする場合には、照
射角りが同図に示す照射角d2と同し若しくはそれ以上
の値となるように、グリッド14の幅Eを形成する。尚
、図示しないが、照射窓3の近傍は電子線が貫通する際
の金属F!3aの昇温を防止するために水冷されている
。また、本実施例において、従来のものと同一の機能を
有するものには、同一の符号を付することにより、その
詳細な説明を省略する。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of the cylindrical terminal 1, and FIG. 4 is a bottom view thereof. As shown in FIG. 3, in the terminal 1 of this embodiment, the cross-sectional shape of the mesh-like grid 14 is formed into an arc shape, and the terminal 1 is provided in a recessed state inside a cylindrical case 13. In addition, if the same acceleration voltage as the conventional electron beam irradiation device shown in FIG. 7 is required, the irradiation angle should be the same as or larger than the irradiation angle d2 shown in the same figure. A width E of the grid 14 is formed. Although not shown, the area near the irradiation window 3 is a metal F! through which the electron beam passes. 3a is water-cooled to prevent the temperature from rising. Furthermore, in this embodiment, components having the same functions as those of the conventional system are designated by the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted.

図示しない電源装置により、フィラメント11とガン構
造体12及びグリッド14との間にグリッド電圧が印加
され、ガン構造体12と照射窓3との間に加速用電圧が
印加されると、フィラメント11によって発生した電子
線15は、電子加速管2の加速空間4で加速され、照射
窓3の金属箔3aを介して被処理物へに照射される。
When a grid voltage is applied between the filament 11, the gun structure 12, and the grid 14 by a power supply device (not shown), and an acceleration voltage is applied between the gun structure 12 and the irradiation window 3, the filament 11 The generated electron beam 15 is accelerated in the acceleration space 4 of the electron acceleration tube 2, and is irradiated onto the object to be processed through the metal foil 3a of the irradiation window 3.

ところで、従来の電子線照射装置のグリッド54はその
断面が平面状に形成されていたが、本実施例のグリッド
14はその断面が円弧状に形成され、ケース13の内側
に凹んだ状態で設けられている。このため、本来、フィ
ラメント11を中心にして同心円状に発生する等電位曲
線が、第1図に示すようにグリッド14の真下に於いて
フィラメント11方向に食い込むような形となる。この
ため、等電位曲線に対して垂直に進もうとする電子は、
第1図の点線で示すように電子線の照射中心方向に集束
するようにして進行する。したがって、加速用電圧が同
しである場合には、従来の電子線照射装置に比べて、タ
ーミナル1からの電子属箔3aの昇温を防止するための
水等を用いた冷却装置の構造が簡易なものになる。
By the way, the grid 54 of the conventional electron beam irradiation device has a flat cross section, but the grid 14 of this embodiment has an arc cross section and is recessed inside the case 13. It is being Therefore, the equipotential curves, which originally occur concentrically around the filament 11, take a shape that cuts into the direction of the filament 11 directly below the grid 14, as shown in FIG. Therefore, an electron trying to move perpendicular to the equipotential curve is
As shown by the dotted line in FIG. 1, the electron beam advances in a convergent direction towards the irradiation center. Therefore, when the accelerating voltage is the same, the structure of the cooling device using water etc. to prevent the temperature of the electronic metal foil 3a from the terminal 1 from rising is better than that of the conventional electron beam irradiation device. It becomes something simple.

上記の実施例によれば、加速用電圧が同じである場合に
は、従来の電子線照射装置に比べて、照射窓3の開口部
3bの幅Cを狭く形成することができるので、従来の電
子線照射装置に比べて照射窓3の金属箔3aを取着する
ための取着部材の冷却装置が簡易な構造でよく、かつ装
置を廉価なものとすることができる。
According to the above embodiment, when the acceleration voltage is the same, the width C of the opening 3b of the irradiation window 3 can be formed narrower than in the conventional electron beam irradiation device. Compared to an electron beam irradiation device, the cooling device for the attachment member for attaching the metal foil 3a of the irradiation window 3 may have a simple structure, and the device can be made inexpensive.

尚、上記の実施例では、グリッド14の断面形状が円弧
状に形成されている場合について説明したが、これは複
数の平面を組み合わせることにより略円弧状になるよう
に形成してもよい。
In the above embodiment, a case has been described in which the cross-sectional shape of the grid 14 is formed into an arc shape, but it may be formed into a substantially arc shape by combining a plurality of planes.

第5図は上記実施例の変形例を示す電子線発生部の概略
断面図である。第5閏に示す本変形例のターミナルが第
1図に示す電子線発生部のターミナルと異なる点は、本
変形例のターミナルでは、断面形状が平面状に形成され
たグリッド24がケース13の中心方向に凹んだ状態で
設けられてい装置のターミナルと同様の作用・効果を奏
する。
FIG. 5 is a schematic sectional view of an electron beam generating section showing a modification of the above embodiment. The terminal of this modification shown in the fifth leap is different from the terminal of the electron beam generating section shown in FIG. It is provided in a recessed state in the direction and has the same function and effect as the terminal of the device.

したがって、本変形例でも、たとえば第7図に示す加速
用電圧と同等の加速用電圧を必要とする場合に、異常放
電を防止するためにターミナル1の径(ケースの径)と
電子加速管2の径との比は同図に示す従来の電子線照射
装置と同しに形成するが、照射窓3の開口部3bの幅C
は同図に示す照射窓3の開口部3bの幅c2よりも、小
さくすることができる。
Therefore, in this modification, when an acceleration voltage equivalent to the acceleration voltage shown in FIG. 7 is required, the diameter of the terminal 1 (diameter of the case) and the diameter of the electron acceleration tube 2 The width C of the opening 3b of the irradiation window 3 is the same as that of the conventional electron beam irradiation device shown in the figure.
can be made smaller than the width c2 of the opening 3b of the irradiation window 3 shown in the figure.

尚、ターミナル1のケース13とグリッド14又はグリ
ッド24との接合部分は、異常放電を防止するために、
急激な折り曲げをせずに穏やかな曲面状に形成すること
が好ましい。
In addition, the joint part between the case 13 and the grid 14 or the grid 24 of the terminal 1 is
It is preferable to form it into a gently curved shape without making any sharp bends.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明によれば、グリッドることな
く、照射窓の開口部の幅を小さくすることができる電子
線照射装置のターミナルを提供することができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a terminal for an electron beam irradiation device in which the width of the opening of the irradiation window can be reduced without using a grid.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例である電子線照射装置の電子
線発生部の概略断面図、第2図は本発明の一実施例であ
る電子線照射装置の概略断面図、第3図はターミナルの
拡大断面図であり、第4図はその底面図、第5図は上記
実施例の変形例を示す電子線発生部の概略断面図、第6
図乃至第8図は従来の電子線照射装置における電子線発
生部の概略断面図である。 1・・・ターミナル、2・・・電子加速管、3・・・照
射窓、3a・・・金属箔、3b・・・開口源4・・・照
射空間、10・・・電子線発生部、11・・・フィラメ
ント、12・・・ガン構造体、13・・・ケース、14
.24・・・グリッド、20・・・搬送路、A・・・被
処理物。
FIG. 1 is a schematic sectional view of an electron beam generating part of an electron beam irradiation device which is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic sectional view of an electron beam irradiation device which is an embodiment of the present invention, and FIG. is an enlarged sectional view of the terminal, FIG. 4 is a bottom view thereof, FIG. 5 is a schematic sectional view of an electron beam generating section showing a modification of the above embodiment, and FIG.
8 are schematic cross-sectional views of an electron beam generating section in a conventional electron beam irradiation device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Terminal, 2... Electron accelerator tube, 3... Irradiation window, 3a... Metal foil, 3b... Aperture source 4... Irradiation space, 10... Electron beam generation part, DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Filament, 12... Gun structure, 13... Case, 14
.. 24... Grid, 20... Conveyance path, A... Processed object.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電子源であるフィラメントを支持するガン構造体と、該
ガン構造体を収納するケースと、前記フィラメントから
電子を取り出すために前記ケースの側面に設けられた綱
目状のグリッドとを有する電子線照射装置のターミナル
において、前記グリッドは前記ケースの内側に凹んだ状
態で設けられていることを特徴とする電子線照射装置の
ターミナル。
An electron beam irradiation device comprising: a gun structure that supports a filament that is an electron source; a case that houses the gun structure; and a grid-like grid provided on a side surface of the case to extract electrons from the filament. 2. A terminal for an electron beam irradiation device, wherein the grid is recessed inside the case.
JP1271512A 1989-10-20 1989-10-20 Terminal point of electron beam irradiation device Pending JPH03134600A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006201046A (en) * 2005-01-21 2006-08-03 Nhv Corporation Electron beam irradiation device
JP2014526037A (en) * 2011-07-04 2014-10-02 テトラ・ラヴァル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニム Electron beam apparatus and method for manufacturing electron beam apparatus

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