JPH03128931A - 酸化防止基を有するポリエーテルポリマー及びその製造法 - Google Patents
酸化防止基を有するポリエーテルポリマー及びその製造法Info
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- JPH03128931A JPH03128931A JP26746889A JP26746889A JPH03128931A JP H03128931 A JPH03128931 A JP H03128931A JP 26746889 A JP26746889 A JP 26746889A JP 26746889 A JP26746889 A JP 26746889A JP H03128931 A JPH03128931 A JP H03128931A
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Landscapes
- Polyethers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明ば、ゴム或いばプラスチック等の高分子材料にお
いて、高分子酸化防止剤として有用なポリエーテルポリ
マー及びその製造法に関する。
いて、高分子酸化防止剤として有用なポリエーテルポリ
マー及びその製造法に関する。
(従来の技術)
ゴム或いはプラスチック等の高分子材料は、その酸化劣
化を抑制するため、酸化防止剤が通常添加されているが
、高温下では主として揮発や表面移行によって、その酸
化防止効果が失われる場合が多い。これを防止する方法
の1つとして、酸化防止作用を有する基をもつモノマー
を重合し、高分子化させることが考えられる。
化を抑制するため、酸化防止剤が通常添加されているが
、高温下では主として揮発や表面移行によって、その酸
化防止効果が失われる場合が多い。これを防止する方法
の1つとして、酸化防止作用を有する基をもつモノマー
を重合し、高分子化させることが考えられる。
その際、エピクロルヒドリンゴムなどポリエーテル系の
材料には、相溶性の観点からポリエーテル系の高分子酸
化防止剤が望ましい。
材料には、相溶性の観点からポリエーテル系の高分子酸
化防止剤が望ましい。
しかしながら、側鎖に酸化防止作用をもつポリエーテル
ポリマーはこれまで殆んど開示されておらず、唯一つ低
分子量のポリ4−ヒドロキシ−35−ジt−ブチルフェ
ニルグリシジルチオエーテルがあるのみである(T、
Fujisawa ら、 J、 Polym。
ポリマーはこれまで殆んど開示されておらず、唯一つ低
分子量のポリ4−ヒドロキシ−35−ジt−ブチルフェ
ニルグリシジルチオエーテルがあるのみである(T、
Fujisawa ら、 J、 Polym。
Sci、、 Part Bユ2.557(1974))
。
。
(発明が解決しようとする課題)
しかるに、上記ポ゛リマーでは、文献記載の如く、エポ
キシ化合物の高重合触媒であるジエチル亜鉛水系の触媒
を用いても高重合体は得られない。
キシ化合物の高重合触媒であるジエチル亜鉛水系の触媒
を用いても高重合体は得られない。
その原因の1つとしてフェノール性水酸基又はチオエー
テル基が高重合反応を阻害していることが考えられる。
テル基が高重合反応を阻害していることが考えられる。
(課題を解決するための手段)
以上の点に鑑み本発明者らは酸化防止効果の劣化しない
高分子酸化防止剤を得る目的で鋭意検討した。その結果
側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有する特定
のグリジルエーテルを特定の触媒の存在下で重合させた
ポリエーテルポリマーが上記目的を十分満足し得ること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
高分子酸化防止剤を得る目的で鋭意検討した。その結果
側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有する特定
のグリジルエーテルを特定の触媒の存在下で重合させた
ポリエーテルポリマーが上記目的を十分満足し得ること
を見出し、本発明を完成するに至ったものである。
すなわち、本発明は、繰返し単位が下記式(1)で表わ
され、80℃において0.1%のクロロベンゼン溶液で
測定した還元粘度が0.1から3の範囲であることを特
徴とする側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有
するポリエーテルポリマー(1)である。
され、80℃において0.1%のクロロベンゼン溶液で
測定した還元粘度が0.1から3の範囲であることを特
徴とする側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有
するポリエーテルポリマー(1)である。
ffcHz CHO)−
(1)
また本発明は、下記式(TI)で表わされる化合物4−
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニルグリシジ
ルエーテルを下記一般式(i)〜(1v)から選ばれる
有機錫化合物(A)とリン酸アルキルエステル(B)と
の熱縮合生成物である触媒の存在下に重合さセることを
特徴とする側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を
有するポリエーテルポリマーの製造法である。
ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニルグリシジ
ルエーテルを下記一般式(i)〜(1v)から選ばれる
有機錫化合物(A)とリン酸アルキルエステル(B)と
の熱縮合生成物である触媒の存在下に重合さセることを
特徴とする側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を
有するポリエーテルポリマーの製造法である。
Ra5nX、−、(i)
(但し、(i)式において、Rは置換基を有していても
よい炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、シぐ
ロアルキル基、アリール基及びアラルキル基より選ばれ
る基、Xはハロゲン原子、ア=6 ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基及びリ
ン酸の部分エステル残基から選ばれる原子又は基であり
、aは1〜4を示す整数である。aが2以上のときRは
同一でも異なっていてもよく、またaが1又は2のとき
、Xは同一でも異なっていてもよい。) Rb S n Oc (
ii )(但し、(11)弐においてRは前記と同しで
ある。
よい炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、シぐ
ロアルキル基、アリール基及びアラルキル基より選ばれ
る基、Xはハロゲン原子、ア=6 ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基及びリ
ン酸の部分エステル残基から選ばれる原子又は基であり
、aは1〜4を示す整数である。aが2以上のときRは
同一でも異なっていてもよく、またaが1又は2のとき
、Xは同一でも異なっていてもよい。) Rb S n Oc (
ii )(但し、(11)弐においてRは前記と同しで
ある。
bば1又は2であり、bが1のときCは3/2であり、
bが2のときCは1である。また、(11)式化合物は
(i)式化合物と錯体を猛威していてもよい。) R’ −(R2S n OS n R2? R’
(iii )(但し、(iii )式において、
Rは前記と同しであり、R1は前記のR又はXと同しで
ある。また、2個のR1は同一でも異なっていてもよい
。)(R’3S n) a X’
(iv)(但し、(iv )式において、R1ば前
記のR1と同しであり、少くとも1個は前記Rから選ば
れる基である。XI は炭酸基、リンの酸素酸基2 リ
ン酸の部分エステル残基、多塩基性カルボン酸基。
bが2のときCは1である。また、(11)式化合物は
(i)式化合物と錯体を猛威していてもよい。) R’ −(R2S n OS n R2? R’
(iii )(但し、(iii )式において、
Rは前記と同しであり、R1は前記のR又はXと同しで
ある。また、2個のR1は同一でも異なっていてもよい
。)(R’3S n) a X’
(iv)(但し、(iv )式において、R1ば前
記のR1と同しであり、少くとも1個は前記Rから選ば
れる基である。XI は炭酸基、リンの酸素酸基2 リ
ン酸の部分エステル残基、多塩基性カルボン酸基。
多価アルコール残基から選ばれる基である。dはXI
の塩基度に対応する1より大きい数である。)本発明の
ポリマーの原料モノマーである」二記式(TI)の化合
物は本出願人の出願に係る新規の物質である(特願昭6
3−282852号)。この化合物は、2,6−ジーt
−ブチルヒドロキノンとエピクロルヒドリンとを公知の
方法により第4級塩基性塩及び塩基の存在下で反応させ
ることによって合成することができる。
の塩基度に対応する1より大きい数である。)本発明の
ポリマーの原料モノマーである」二記式(TI)の化合
物は本出願人の出願に係る新規の物質である(特願昭6
3−282852号)。この化合物は、2,6−ジーt
−ブチルヒドロキノンとエピクロルヒドリンとを公知の
方法により第4級塩基性塩及び塩基の存在下で反応させ
ることによって合成することができる。
本発明は、本出願人の米国特許第3,773,694号
明細書に記載された特定の有機錫化合物(A)とリン酸
アルキルエステル(B)との熱縮合生成物が上記式(n
)の化合物であるエポキシドの開環重合用触媒として選
択的に作用し、生成ポリマーも側鎖に立体障害フェノー
ル型酸化防止性基をもつ高機能性ポリマーとして非常に
有効であることを見出したことに基づいている。
明細書に記載された特定の有機錫化合物(A)とリン酸
アルキルエステル(B)との熱縮合生成物が上記式(n
)の化合物であるエポキシドの開環重合用触媒として選
択的に作用し、生成ポリマーも側鎖に立体障害フェノー
ル型酸化防止性基をもつ高機能性ポリマーとして非常に
有効であることを見出したことに基づいている。
本発明の触媒成分である上記(i)〜(iv )式の有
機錫化合物(A)の具体的な例としては以下のものを挙
げることができる。
機錫化合物(A)の具体的な例としては以下のものを挙
げることができる。
一般式(i)に属する化合物としては、(Czll、)
tsn、 (C611s)4Sn、 (Cl13)as
nF、 (C4119)、5n(J!(Ctl3)ss
nBr、 (CsH+J3SnCβ、(C1l:+)z
SnFz(C4H9) zsnc jl!2. (C1
Jz3)zsnBrz、 (Cyc j2 。
tsn、 (C611s)4Sn、 (Cl13)as
nF、 (C4119)、5n(J!(Ctl3)ss
nBr、 (CsH+J3SnCβ、(C1l:+)z
SnFz(C4H9) zsnc jl!2. (C1
Jz3)zsnBrz、 (Cyc j2 。
C6+11 +)zsnlz、 (C4HJSnF3.
(C6H13)SnCA! 3(CeH+7):+
5nOCOCl13.(Call+7)zSn(OCO
C17113s)z一般式(ii)に属する化合物とし
ては、(Cth)zSnOl(Ctl(、)zSnO,
(CeH+7)zsn。
(C6H13)SnCA! 3(CeH+7):+
5nOCOCl13.(Call+7)zSn(OCO
C17113s)z一般式(ii)に属する化合物とし
ては、(Cth)zSnOl(Ctl(、)zSnO,
(CeH+7)zsn。
(C6H5) zsno、 CH35n0372. C
4tlqSnO3zzなどが挙げられ、また一般式(i
)と一般式(ii )の化合物の錯体の例としては、 (CHz)SnO・(CzHs)zSnBrz。
4tlqSnO3zzなどが挙げられ、また一般式(i
)と一般式(ii )の化合物の錯体の例としては、 (CHz)SnO・(CzHs)zSnBrz。
(CI(3)SnO・(CH3) zSnCz 21C
H3((Ctlz) zsno) 2CI+3 ・(C
H3) zSnBrzなどが挙げられる。
H3((Ctlz) zsno) 2CI+3 ・(C
H3) zSnBrzなどが挙げられる。
一般式(iii )に属する化合物としては、(Ctl
+) 3SnO3n (CHa) 3.CR(C411
,)zsnO3n (C4Hq)Cjl!(C113C
OO) (C6Hs)Sn (C6H5) (CHzC
OO)などが挙げられる。
+) 3SnO3n (CHa) 3.CR(C411
,)zsnO3n (C4Hq)Cjl!(C113C
OO) (C6Hs)Sn (C6H5) (CHzC
OO)などが挙げられる。
一般式(iv)に属する化合物としては、((CH3)
zsn) 2CO31((C411,)3Sn ’J
CO31(Ctll、)zSnOP(0) (OCe
H+q)z+ ((CaH+7)zSr+) 3PO4
(C4■、)asnOcHzcHzO3n (Ctll
、)3゜[Ctl2−CH?。
zsn) 2CO31((C411,)3Sn ’J
CO31(Ctll、)zSnOP(0) (OCe
H+q)z+ ((CaH+7)zSr+) 3PO4
(C4■、)asnOcHzcHzO3n (Ctll
、)3゜[Ctl2−CH?。
C00Sn(C4H1〉3
などが挙げられる。
本発明の触媒を構成する他の成分であるリン酸アルキル
エステル(B)としては、下記一般式(III)で表わ
される正リン酸の完全若しくは部分エステルが特に好ま
しく用いられる。
エステル(B)としては、下記一般式(III)で表わ
される正リン酸の完全若しくは部分エステルが特に好ま
しく用いられる。
(R20)IP−〇 (I)(但し
、(III)式において、R2は水素若しくは炭素数2
以上のアルキル基、アルケニル基又はシ0 クロアルキル基であり、少なくともR2のうち1個は水
素原子以外の基である。) 上記(Ul)式の具体的な例としては、(Czlls)
iPOn、 (C3117)IrO2,(Cnllq)
:+PO4゜(C++tl+t)*POn、 (Ctl
z=CII C11z)3POa、 (C611z)
3Po4(C+2 C112CIIZ) aPo4.
(C112C311s) 3PO4。
、(III)式において、R2は水素若しくは炭素数2
以上のアルキル基、アルケニル基又はシ0 クロアルキル基であり、少なくともR2のうち1個は水
素原子以外の基である。) 上記(Ul)式の具体的な例としては、(Czlls)
iPOn、 (C3117)IrO2,(Cnllq)
:+PO4゜(C++tl+t)*POn、 (Ctl
z=CII C11z)3POa、 (C611z)
3Po4(C+2 C112CIIZ) aPo4.
(C112C311s) 3PO4。
(C2115)211PO,、(C4,l+9)2HP
O4,(C4H9)lIZPO4などが挙げられる。
O4,(C4H9)lIZPO4などが挙げられる。
本発明の触媒は、上記有機錫化合物(八)とリン酸アル
キルエステル(B)との混合物を150〜300℃の温
度範囲で加熱することによって縮合生成物として得られ
る。溶媒は必要があれば使用してもよい。上記(A)成
分と(B)成分は通常含まれる錫原子とリン原子との比
で1;10〜1o:1の範囲になるように用いられる。
キルエステル(B)との混合物を150〜300℃の温
度範囲で加熱することによって縮合生成物として得られ
る。溶媒は必要があれば使用してもよい。上記(A)成
分と(B)成分は通常含まれる錫原子とリン原子との比
で1;10〜1o:1の範囲になるように用いられる。
上記触媒生成反応において、(A) e、分及び(B)
成分の種類に従って種々の比較的簡単な物質が縮合反応
で生成脱離する。得られた縮合物は縮合度の種々の段階
で同曲とする活性を示す。
成分の種類に従って種々の比較的簡単な物質が縮合反応
で生成脱離する。得られた縮合物は縮合度の種々の段階
で同曲とする活性を示す。
最適の縮合度は、(八)成分と(B)成分の種類と比率
によって異なるが、それらは実験的に容易に定めること
ができる。縮合物は、一般に初期においては、ヘキザン
、ベンゼンなどの?容媒に可?容であるが、縮合反応の
進行によって不溶化する。
によって異なるが、それらは実験的に容易に定めること
ができる。縮合物は、一般に初期においては、ヘキザン
、ベンゼンなどの?容媒に可?容であるが、縮合反応の
進行によって不溶化する。
本発明のポリマー(1)は、上記縮合生成物を触媒とし
て(IIJ)式化合物4−ヒト゛Iコ4−シー35−ジ
ーt−ブチルフェニルグリシジルエーテルを溶媒の存在
下又は非存在下にO〜80℃T:1J11常撹拌又は振
盪下で重合させることによって得られる。触媒の使用量
は原料モノマー100重量部に対して0.01〜3.0
重量部の範囲が適当である。
て(IIJ)式化合物4−ヒト゛Iコ4−シー35−ジ
ーt−ブチルフェニルグリシジルエーテルを溶媒の存在
下又は非存在下にO〜80℃T:1J11常撹拌又は振
盪下で重合させることによって得られる。触媒の使用量
は原料モノマー100重量部に対して0.01〜3.0
重量部の範囲が適当である。
反応の際反応系の水分は可能な限り低くすることが望ま
しい。
しい。
生成ポリマーは、80℃において0.1%のクロロベン
ゼン溶液で測定した還元粘度が0,1から3の範囲、好
ましくは0.5から3の範囲のものが適当である。0.
1以下では、酸化防止剤として用いる際、揮発表面移行
或いは抽出等が生ずるおそれがあり、1分な効果が得ら
れない。
ゼン溶液で測定した還元粘度が0,1から3の範囲、好
ましくは0.5から3の範囲のものが適当である。0.
1以下では、酸化防止剤として用いる際、揮発表面移行
或いは抽出等が生ずるおそれがあり、1分な効果が得ら
れない。
(発明の効果)
本発明のポリマーは、新規な立体障害フ、二ノール型酸
化防止性基をもつグリシジルエーテルをモノマーとし、
特定の触媒を用いて重合させることによって得られる、
側鎖に酸化防止性基を有する新規なポリエーテルポリマ
ーであり、高分子星酸化防止剤とし“(有用な高機能ポ
リマーである。
化防止性基をもつグリシジルエーテルをモノマーとし、
特定の触媒を用いて重合させることによって得られる、
側鎖に酸化防止性基を有する新規なポリエーテルポリマ
ーであり、高分子星酸化防止剤とし“(有用な高機能ポ
リマーである。
(実施例)
実施例1
(J)4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニ
ルグリシジルエーテルの台底 撹拌器、温度計、窒素導入口と出口とを備えた31フラ
スコに、2.6−ジー 1−ブチルヒドロキノン320
g、 エピク1コルヒドリン1200g及びトリエ
チルベンジルアンモニウムクロリド6.6gを加え、5
8〜61℃に保ちながら窒素気流下48%水酸化すl・
リウム水溶液144gを2時間で滴下し、滴下後更に6
時間この温度に保持した。
ルグリシジルエーテルの台底 撹拌器、温度計、窒素導入口と出口とを備えた31フラ
スコに、2.6−ジー 1−ブチルヒドロキノン320
g、 エピク1コルヒドリン1200g及びトリエ
チルベンジルアンモニウムクロリド6.6gを加え、5
8〜61℃に保ちながら窒素気流下48%水酸化すl・
リウム水溶液144gを2時間で滴下し、滴下後更に6
時間この温度に保持した。
反応後!慮過し、濾液から水層を分lTi1[L、た後
これを′a縮すると395gの柚状物質が得られた。こ
3 れをベンゼンをン容離?夜としてアルくすでカラムクロ
マトグラフィーを行ない、ベンゼン溶離液を濃縮してガ
スクロマトグラフィー純度95%の生績体328gを得
た(粗状率82%)。これをr1ヘキサンで3回再結晶
してガスクロマトグラフィー純度99%以上の結晶17
2gを得た(収率43%)。融点55.0〜56.0℃
ONMR(CDCA3 、TMS内部規準〉δ1.44
(18H,t−C4)L )62.75〜415(
5H,グリシジル基)64.80(II−1,水酸基) δ6.80(2H,芳香族) IR(KBr) ν011 3430cm(2)ポリ
エーテルポリマーの製造 撹拌器、温度計及び草留装置をイ」シた三ツロフラスコ
にジブチル錫オキサイド12.5g、)リブチルホスフ
ェート26.6 gを入れ、窒素気流下に撹拌しなから
250℃で20分間加熱して留出物を留去させ、残留物
として固体状の縮を物質を得た。このものを触媒として
以下の重合を行った。
これを′a縮すると395gの柚状物質が得られた。こ
3 れをベンゼンをン容離?夜としてアルくすでカラムクロ
マトグラフィーを行ない、ベンゼン溶離液を濃縮してガ
スクロマトグラフィー純度95%の生績体328gを得
た(粗状率82%)。これをr1ヘキサンで3回再結晶
してガスクロマトグラフィー純度99%以上の結晶17
2gを得た(収率43%)。融点55.0〜56.0℃
ONMR(CDCA3 、TMS内部規準〉δ1.44
(18H,t−C4)L )62.75〜415(
5H,グリシジル基)64.80(II−1,水酸基) δ6.80(2H,芳香族) IR(KBr) ν011 3430cm(2)ポリ
エーテルポリマーの製造 撹拌器、温度計及び草留装置をイ」シた三ツロフラスコ
にジブチル錫オキサイド12.5g、)リブチルホスフ
ェート26.6 gを入れ、窒素気流下に撹拌しなから
250℃で20分間加熱して留出物を留去させ、残留物
として固体状の縮を物質を得た。このものを触媒として
以下の重合を行った。
1イ
内容量50mj!のガラス製アンプルの内部を窒素置換
し、上記触媒59mgと水分10ppm以下の」−記4
−ヒドロキシー3,5−ジーt−ブチルフェニルグリシ
ジルエーテルの25%ヘンゼン溶液20 m Eを仕込
み、封管後アンプルを振盪しなから30℃で120時間
反応さセた。
し、上記触媒59mgと水分10ppm以下の」−記4
−ヒドロキシー3,5−ジーt−ブチルフェニルグリシ
ジルエーテルの25%ヘンゼン溶液20 m Eを仕込
み、封管後アンプルを振盪しなから30℃で120時間
反応さセた。
反応後反応物をヘキサン500mj!中に投入してポリ
マーを析出させ、ヘートサンを傾斜除去し、減圧乾燥し
てポリマー’(1)4.1gを得たく収率83%〉。
マーを析出させ、ヘートサンを傾斜除去し、減圧乾燥し
てポリマー’(1)4.1gを得たく収率83%〉。
このポリマー(1)の80℃において0、I%クロロベ
ンゼン溶液で測定した還元粘度は2.14であった・ NMR(CI)CA3.TMS内部規準)δ1.34.
(18H,t−C,H9〉64.66(IH,水酸基
) δ6.67(2H,芳香族〉 IR(KI3r) Van 3610cm実施例
2 実施例1においてベンセンの代りにテトうしトロフラン
を用いた以外は実施例1(2)と同様に反応させて、ポ
リマー3.8gを得た(収率77%)。
ンゼン溶液で測定した還元粘度は2.14であった・ NMR(CI)CA3.TMS内部規準)δ1.34.
(18H,t−C,H9〉64.66(IH,水酸基
) δ6.67(2H,芳香族〉 IR(KI3r) Van 3610cm実施例
2 実施例1においてベンセンの代りにテトうしトロフラン
を用いた以外は実施例1(2)と同様に反応させて、ポ
リマー3.8gを得た(収率77%)。
このポリマーの80℃において0.1%クロロベンゼン
溶液で測定した還元粘度は0.98であった。
溶液で測定した還元粘度は0.98であった。
実施例3
実施例1で得たポリエーテルポリマー(1)の酸化防止
機能を調べるために、下記のようにポリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル(Mn−2000、以下PEG
−Mという。)に添加してその熱分解温度を測定した。
機能を調べるために、下記のようにポリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル(Mn−2000、以下PEG
−Mという。)に添加してその熱分解温度を測定した。
理学電機0粉製示差熱天秤rPTc−3Jを使用し、空
気雰囲気中、昇温速度10℃/minの測定条件で行っ
た。
気雰囲気中、昇温速度10℃/minの測定条件で行っ
た。
すなわち、夫々ポリマー(1)5mg、10mgをヘン
ゼン5 m 12に溶解させた溶液中に、PEG−Ml
、gを添加し、室温で乾燥して、0.5%(+>添加の
試料A、1.0%(1)添加の試料Bを得た。
ゼン5 m 12に溶解させた溶液中に、PEG−Ml
、gを添加し、室温で乾燥して、0.5%(+>添加の
試料A、1.0%(1)添加の試料Bを得た。
試料A、試料Bの熱分解開始温度は夫々164”C,]
70℃であった。一方、無添加のP E GMの熱分解
開始温度は135℃であった。
70℃であった。一方、無添加のP E GMの熱分解
開始温度は135℃であった。
比較例
夫々4−ヒトlヨー1−シー3.5−ジーt−フ゛チル
トルエン(BHT)5mg、I Omgをヘンゼン5m
Aに溶解させた溶液中に、r)EG−Mlgを添加し、
室温で乾燥して、0,5%B II T添加の試料C,
1,0%BIT添加の試料りを得た。
トルエン(BHT)5mg、I Omgをヘンゼン5m
Aに溶解させた溶液中に、r)EG−Mlgを添加し、
室温で乾燥して、0,5%B II T添加の試料C,
1,0%BIT添加の試料りを得た。
試料C1試料りの熱分解開始温度は夫々151’C,1
54℃であった。
54℃であった。
上記の実施例3及び比較例の試験結果により、本発明の
ポリエーテルポリマーが、一般に良好な酸化防止剤とし
て知られるB I−I Tと比較して、優れた酸化防止
能を有し、高分子量酸化防止剤として有用であることが
分る。
ポリエーテルポリマーが、一般に良好な酸化防止剤とし
て知られるB I−I Tと比較して、優れた酸化防止
能を有し、高分子量酸化防止剤として有用であることが
分る。
Claims (2)
- (1)繰り返し単位が下記式( I )で表わされ、80
℃において0.1%のクロロベンゼン溶液で測定した還
元粘度が0.1から3の範囲であることを特徴とする側
鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有するポリエ
ーテルポリマー。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) - (2)下記式(II)で表わされる化合物4−ヒドロキシ
−3,5−ジ−t−ブチルフェニルグリシジルエーテル
を下記一般式(i)〜(iv)から選ばれる有機錫化合
物とリン酸アルキルエステルとの熱縮合生成物である触
媒の存在下に重合させることを特徴とする請求項1に記
載の側鎖に立体障害フェノール型酸化防止性基を有する
ポリエーテルポリマーの製造法。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) RaSnX_4_−_a(i) (但し、(i)式において、Rは置換基を有していても
よい炭素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、シク
ロアルキル基、アリール基及びアラルキル基より選ばれ
る基、Xはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アシルオキシ基及びリン酸の部分エステル残基か
ら選ばれる原子又は基であり、aは1〜4を示す整数で
ある。aが2以上のときRは同一でも異なっていてもよ
く、またaが1又は2のとき、Xは同一でも異なってい
てもよい。) RbSnOc(ii) (但し、(ii)式においてRは前記と同じである。b
は1又は2であり、bが1のときcは3/2であり、b
が2のときcは1である。 また、(ii)式化合物は(i)式化合物と錯体を形成
していてもよい。) ▲数式、化学式、表等があります▼(iii) (但し、(iii)式において、Rは前記と同じであり
、R^1は前記のR又はXと同じである。 また、2個のR^1は同一でも異なっていてもよい。) (R^1_3Sn)_dX^1(iv) (但し、(iv)式において、R^1は前記のR^1と
同じであり、少なくとも1個は前記Rから選ばれる基で
ある。X^1は炭酸基、リンの酸素酸基、リン酸の部分
エステル残基、多塩基性カルボン酸基、多価アルコール
残基から選ばれる基である。dはX^1の塩基度に対応
する1より大きい数である。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26746889A JPH03128931A (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 酸化防止基を有するポリエーテルポリマー及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26746889A JPH03128931A (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 酸化防止基を有するポリエーテルポリマー及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03128931A true JPH03128931A (ja) | 1991-05-31 |
JPH0579245B2 JPH0579245B2 (ja) | 1993-11-01 |
Family
ID=17445263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26746889A Granted JPH03128931A (ja) | 1989-10-13 | 1989-10-13 | 酸化防止基を有するポリエーテルポリマー及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03128931A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107531894A (zh) * | 2015-08-26 | 2018-01-02 | 赢创德固赛有限公司 | 某些聚合物作为电荷存储器的用途 |
US10957907B2 (en) | 2015-08-26 | 2021-03-23 | Evonik Operations Gmbh | Use of certain polymers as a charge store |
-
1989
- 1989-10-13 JP JP26746889A patent/JPH03128931A/ja active Granted
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2018524412A (ja) * | 2015-08-26 | 2018-08-30 | エボニック デグサ ゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH | 電荷貯蔵体としての特定のポリマーの使用 |
US10756348B2 (en) | 2015-08-26 | 2020-08-25 | Evonik Operations Gmbh | Use of certain polymers as a charge store |
US10957907B2 (en) | 2015-08-26 | 2021-03-23 | Evonik Operations Gmbh | Use of certain polymers as a charge store |
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JPH0579245B2 (ja) | 1993-11-01 |
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