JPH03116608A - Conductor paste and conductor - Google Patents

Conductor paste and conductor

Info

Publication number
JPH03116608A
JPH03116608A JP25391089A JP25391089A JPH03116608A JP H03116608 A JPH03116608 A JP H03116608A JP 25391089 A JP25391089 A JP 25391089A JP 25391089 A JP25391089 A JP 25391089A JP H03116608 A JPH03116608 A JP H03116608A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductor
paste
alloy
compounds
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25391089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tsuyuki
露木 博
Atsushi Yamada
篤 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP25391089A priority Critical patent/JPH03116608A/en
Publication of JPH03116608A publication Critical patent/JPH03116608A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

PURPOSE:To sufficiently secure adhesion strength of a base and a conductor and avoid aging deterioration of the adhesion strength and reduce generation of warping by specifying the composition of a paste for forming the conductor of the base. CONSTITUTION:The composite of a conductor paste contains Ag or an Ag alloy and Pd, which are fundamental components of a conductor, and more than two kinds of metal oxides of Al, Cu, Sr, Mg and Ca and/or their precursors and further contains vehicles. As examples of the Ag alloy, an Ag-Pd alloy containing Pd by less than 25wt.%, an Ag-Pd alloy or an Ag-Pd-Pt alloy containing Pd by less than 25wt.% and Pt by less than 10wt.%, etc., may be cited. After sintering, oxides of those metals therefore exist near the interface of a conductor 2 and a base 4 and high adhesion strength is permanently obtained by anchor effect, and warping is also prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体集積回路等の素子を実装する配線基板
の導体を形成するためのペーストと、それを焼成した厚
膜導体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a paste for forming a conductor of a wiring board on which elements such as a semiconductor integrated circuit are mounted, and a thick film conductor obtained by firing the paste.

〈従来の技術〉 近年、基板材料と導体とを約1000℃以下の低温で同
時焼成して得られる配線基板の開発が進められている。
<Prior Art> In recent years, the development of wiring boards obtained by co-firing a board material and a conductor at a low temperature of about 1000° C. or lower has been progressing.

このような低温焼成配線基板の基板材料は、アルミナ−
ガラス複合体を主成分としたものである。
The substrate material for such low-temperature fired wiring boards is alumina.
The main component is a glass composite.

一方、導体材料は、従来のWやMoに代り、導通抵抗が
低い(約2mΩ/口)という点て優れるAl、さらに耐
マイグレーション性を改善したAg−Pd合金が用いら
れている。
On the other hand, as the conductor material, instead of the conventional W or Mo, Al, which has an excellent low conduction resistance (approximately 2 mΩ/hole), and an Ag-Pd alloy, which has improved migration resistance, are used.

ところで、焼成前の導体形成用ペーストには、同時焼成
の際に基板のアルミナと反応してスピネルを形成するC
uO等を添加することが試みられている。
By the way, the conductor forming paste before firing contains carbon which reacts with the alumina of the substrate to form spinel during simultaneous firing.
Attempts have been made to add uO and the like.

しかるに、このような導体形成用ペーストをガラス−ア
ルミナ複合体の基板と同時焼成しても、スピネルが極微
量しか生成せず、よって、導体との接着強度を充分に得
ることができない。
However, even if such a conductor-forming paste is co-fired with a glass-alumina composite substrate, only a very small amount of spinel is produced, and therefore sufficient adhesive strength with the conductor cannot be obtained.

特に、初期強度は十分である場合でも、エージング劣化
が生じるため(例えば、1000時間、150℃エージ
ングにより、初期強度3 、 0 Kgf/2mm”か
ら 1 、 5 Kgf/2mm2以下に低下する。)
、十分な接着強度を持続的に得ることができない。
In particular, even if the initial strength is sufficient, aging deterioration occurs (for example, aging at 150°C for 1000 hours reduces the initial strength from 3.0 Kgf/2mm to 1.5 Kgf/2mm2 or less).
, sufficient adhesive strength cannot be obtained continuously.

また、焼成後のソリも大きいものとなる。Further, the warpage after firing becomes large.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、同時焼成による基板と導体との接着強
度を十分に確保し、かつその接着強度がエージング劣化
しにく(、ソリの発生の少ない導体ペーストと導体とを
提供することにある。
<Problems to be Solved by the Invention> The purpose of the present invention is to create a conductive paste that ensures sufficient adhesive strength between a substrate and a conductor through simultaneous firing, and that the adhesive strength is resistant to deterioration due to aging (and that causes less warpage). and conductors.

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記(1)〜(7)の本発明により
達成される。
<Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following inventions (1) to (7).

(1)AgまたはAg合金と、Al1、Cu、Ca、S
r、MgおよびBaの1種以上の金属の金属化合物の酸
化物および/またはその前駆体化合物から選ばれた金属
種の異なる2種以上の化合物(ただし、2種以上の金属
が八β+Cuである場合を除く)とを含有することを特
徴とする導体ペースト。
(1) Ag or Ag alloy, Al1, Cu, Ca, S
Compounds of two or more different metal species selected from oxides of metal compounds of one or more metals r, Mg, and Ba and/or their precursor compounds (provided that two or more metals are 8β+Cu) A conductive paste characterized by containing (excluding cases).

(2)Agと、Pdと、A42、Cu、Ca。(2) Ag, Pd, A42, Cu, and Ca.

Sr、MgおよびBaの1種以上の金属の異なる金属化
合物の酸化物および/またはその前駆体化合物から選ば
れた金属種の異なる2種以上の化合物(ただし、2種以
上の金属がAff+Cuである場合を除()とを含有す
ることを特徴する導体ペースト。
Compounds of two or more different metal species selected from oxides of different metal compounds of one or more of Sr, Mg, and Ba and/or their precursor compounds (provided that two or more metals are Aff+Cu) A conductive paste characterized by containing () and (excluding cases).

(3)前記2種以上の化合物の金属種が、Agおよび/
またはCuと、Ca s S r %M gおよびBa
の1種以上とである上記(1)または(2)に記載の導
体ペースト。
(3) The metal species of the two or more compounds are Ag and/or
or Cu, Ca s S r % M g and Ba
The conductor paste according to (1) or (2) above, which is one or more of the following.

(4)前記2種以上の化合物の含有率が、ペースト組成
物を焼成して導体としたとき、この導体中に酸化物が1
〜12wt%含有される含有率である上記(1)ないし
く3)のいずれかに記載の導体ペースト。
(4) The content of the two or more types of compounds is such that when the paste composition is fired to form a conductor, 1 oxide is present in the conductor.
The conductive paste according to any one of (1) to 3) above, which has a content of ~12 wt%.

(5)前記2種以上の化合物がAgおよびCuを含み、
前記AlおよびCuの酸化物が、アルミン酸銅または、
アルミン酸銅およびアルミナである上記(1)ないしく
4)のいずれかに記載の導体ペースト。
(5) the two or more compounds contain Ag and Cu,
The oxide of Al and Cu is copper aluminate or
The conductor paste according to any one of (1) to 4) above, which is copper aluminate and alumina.

(6)同時焼成により低温焼成セラミックス基板の表面
および/または内部に形成される導体であって、その組
成が、AgまたはAg系合金と、Aρ、Cu、Ca、S
r、MgおよびBaの2種以上の金属(ただし、An+
Cuである場合を除く)の酸化物とを含有することを特
徴とする導体。
(6) A conductor formed on the surface and/or inside of a low-temperature fired ceramic substrate by co-firing, the composition of which is Ag or Ag-based alloy, Aρ, Cu, Ca, S
r, two or more metals of Mg and Ba (however, An+
A conductor characterized by containing an oxide of Cu).

(7)前記2種以上の金属の酸化物の含有率が1〜8w
t%である上記(6)に記載の導体。
(7) The content of the oxides of the two or more metals is 1 to 8w.
The conductor according to (6) above, which is t%.

く具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。Specific composition> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の導体ペーストの組成物は、導体の基本組成とな
るAgまたはAg合金あるいはAgおよびPdと、Al
、Cu、Sr、MgおよびCaの金属酸化物および/ま
たはその前駆体のうちの2種以上(ただし、金属がAl
十Cuのみである場合を除く)とを含み、さらにビヒク
ルとを含むものである。
The composition of the conductor paste of the present invention includes Ag or Ag alloy or Ag and Pd, which is the basic composition of the conductor, and Al
, Cu, Sr, Mg and Ca metal oxides and/or their precursors (however, if the metal is Al
10 Cu), and further includes a vehicle.

ペースト組成物の基本組成はAgであるが、これに代え
て、Agと所望の金属との2元系またはそれ以上の合金
でもよい。 Ag合金の例としては、好ましくは25w
t%以下のPdを含むAg−Pd合金、好ましくは25
wt%以下のPdと、必要に応じ10wt%以下のpt
を含むAg−Pd合金あるいはAg−Pd−Pt合金、
好ましくは10wt%以下のptを含むAg−Pt合金
等を挙げることができる。
Although the basic composition of the paste composition is Ag, it may alternatively be a binary or higher alloy of Ag and a desired metal. As an example of Ag alloy, preferably 25w
Ag-Pd alloy containing t% or less of Pd, preferably 25
Pd below wt% and PT below 10wt% if necessary
Ag-Pd alloy or Ag-Pd-Pt alloy containing
Preferred examples include Ag-Pt alloys containing 10 wt% or less of pt.

このようなAg合金のAg以外の成分、およびその含有
率は、目的に応じて適宜決定される。 例えば、Ag−
Pd合金は、純Agに比べ耐マイグレーション性、耐湿
性に優れている。 この合金のPd含有率が5wt%未
満であると前記効果が少なく、また25wt%を超える
と導体の導電性が悪くなるため、Pd含有率は5〜25
wt%とするのが好ましい。
Components other than Ag in such an Ag alloy and their content are appropriately determined depending on the purpose. For example, Ag-
Pd alloy has better migration resistance and moisture resistance than pure Ag. If the Pd content of this alloy is less than 5 wt%, the above effect will be small, and if it exceeds 25 wt%, the conductivity of the conductor will deteriorate.
It is preferable to set it as wt%.

また、ペースト組成物中にAgと、Pdのような他の金
属が別個に存在していてもよい。
Also, Ag and other metals such as Pd may be present separately in the paste composition.

この場合、後の焼成によりAg合金となる。In this case, an Ag alloy is formed by subsequent firing.

このようなAgまたはAg合金、あるいは、Pdのよう
なAg合金となる金属は、通常、ペースト組成物中に粒
子として存在する。
Such Ag or Ag alloys, or metals that become Ag alloys, such as Pd, are usually present in the paste composition as particles.

AgまたはAg系合金粒子の平均粒径は、0.01〜1
0戸程度とするのが好ましい。
The average particle size of Ag or Ag-based alloy particles is 0.01 to 1
It is preferable to set the number to about 0.

その理由は、平均粒径が0.01μ未満であると導体の
収縮率が大きくなりすぎ、また10μを超えると導体用
ペースト組成物の印刷性、分散性が悪(なるからである
The reason for this is that if the average particle size is less than 0.01 μm, the shrinkage rate of the conductor becomes too large, and if it exceeds 10 μm, the printability and dispersibility of the conductor paste composition will be poor.

また、Ag合金となる金属の粒子、特にPd粒子の平均
粒径は、0.01〜10ps程度とするのが好ましい。
Further, it is preferable that the average particle diameter of the metal particles forming the Ag alloy, particularly the Pd particles, is about 0.01 to 10 ps.

 その理由は、平均粒径が0.01pxr未満であると
上記AgまたはAg合金粒子の場合と同様、収縮率の点
で不十分となり、また10μを超えるとPdの添加によ
る耐マイグレーション性の改善効果が小さくなるからで
ある。
The reason for this is that if the average particle size is less than 0.01pxr, the shrinkage rate will be insufficient, as in the case of the Ag or Ag alloy particles mentioned above, and if it exceeds 10μ, the improvement in migration resistance due to the addition of Pd will occur. This is because it becomes smaller.

本発明の特徴は、ペースト組成物中に、所定の金属の酸
化物および/または焼成により酸化物となる前駆体化合
物の2種以上を含有せしめることにある。
A feature of the present invention is that the paste composition contains two or more types of oxides of predetermined metals and/or precursor compounds that become oxides upon firing.

これにより、焼成後、導体と基板との界面付近に上記の
金属の酸化物が存在し、アンカー効果により高い接着強
度が永続的に得られる。
As a result, after firing, the above metal oxide exists near the interface between the conductor and the substrate, and high adhesive strength can be permanently obtained due to the anchor effect.

特に、導体に素子等を半田付けしたときの半田中のSn
が導体中へ拡散し、これが基板と導体との接着強度を低
下させることがあった場合でも、これに抗して高い接着
強度を維持することができる。
In particular, Sn in the solder when an element etc. is soldered to a conductor.
Even if the adhesive diffuses into the conductor and this may reduce the adhesive strength between the substrate and the conductor, high adhesive strength can be maintained against this.

また、ソリも防止される。Warping is also prevented.

本発明で用いる金属酸化物および/またはその前駆化合
物を構成する金属は、Aρ、Cu、Ca、Mg、Srお
よびBaの2種以上である。。
The metals constituting the metal oxide and/or its precursor compound used in the present invention are two or more of Aρ, Cu, Ca, Mg, Sr, and Ba. .

これら2種以上、すなわちこれらの2〜6種の併用で本
発明の効果が実現する。
The effects of the present invention can be achieved by using two or more of these, ie, 2 to 6 of these in combination.

ただし、Afi+Cuは、本発明者らが特願昭63−8
6396号にて提案しているので本出願では除外する。
However, Afi+Cu was developed by the inventors in Japanese Patent Application No. 63-8.
Since it is proposed in No. 6396, it is excluded in this application.

このような場合、より好ましい組み合わせとしては、(
Afiおよび/またはCu)+(Ca、Sr、Mgおよ
びBaの1〜4種)である。
In such a case, a more preferable combination is (
Afi and/or Cu) + (1 to 4 types of Ca, Sr, Mg, and Ba).

この場合、Al1および/またはCuとしては、Agま
たはAl+Cuが好ましく、Al+Cuが特に好ましい
In this case, as Al1 and/or Cu, Ag or Al+Cu is preferable, and Al+Cu is particularly preferable.

また、Ca、Sr、MgおよびBaの1〜4種としては
、Ca、SrおよびMgの1種以上を必須成分とするも
のが好ましく、特にCaを必須成分とする前記の1〜4
種が好ましい。
Further, as the 1 to 4 types of Ca, Sr, Mg, and Ba, those having one or more of Ca, Sr, and Mg as an essential component are preferable, and in particular, the above 1 to 4 types having Ca as an essential component are preferable.
Seeds are preferred.

AgおよびCuの酸化物としては、アルミン酸銅(Cu
Aff204、CuAl202 )等を挙げることがで
きる。 また、前記一種類に限らず、二種以上、例えば
、アルミン酸銅とアルミナ(α−A jla 203 
)  酸化銅とアルミナ等でもよい。
As Ag and Cu oxides, copper aluminate (Cu
Aff204, CuAl202) and the like. In addition, it is not limited to the one type mentioned above, but two or more types, such as copper aluminate and alumina (α-A jla 203
) Copper oxide and alumina may also be used.

なお、ペースト組成物中にアルミナまたはその前駆体を
必須成分として含む場合には、後の焼成により基板と導
体とが収縮する際の収縮率の整合性が向上し、よって基
板と導体との界面付近のクラックの発生が抑制されると
いう利点がある。
In addition, when alumina or its precursor is included as an essential component in the paste composition, the consistency of the shrinkage rate when the substrate and the conductor shrink during subsequent firing is improved, and the interface between the substrate and the conductor improves. This has the advantage of suppressing the occurrence of cracks in the vicinity.

AgおよびCuの酸化物の前駆体化合物としては、焼成
によりAgおよびCuの酸化物となるものであればいか
なるものでもよく、例えば、CuOとAl1 (OH)
   CuメタルとAg(OH)、等を挙げることがで
きる。
Any precursor compound for Ag and Cu oxides may be used as long as it becomes Ag and Cu oxides by firing, such as CuO and Al1 (OH).
Examples include Cu metal and Ag(OH).

なお、本発明では、最も好適な場合として、Al1およ
びCuを必須とする場合、製造上の簡易性、性状の安定
性等の点から、AgおよびCuの酸化物、特にアルミン
酸銅(CuAg204)としてペースト中に添加されて
いるのがより好ましい。 ただし、Al1およびCuの
酸化物の前駆体化合物であっても、上記問題が生じてな
いものであればこの限りでない。
In addition, in the present invention, in the case where Al1 and Cu are essential, the most preferable case is to use oxides of Ag and Cu, especially copper aluminate (CuAg204), from the viewpoint of ease of production, stability of properties, etc. More preferably, it is added as a paste. However, this does not apply to precursor compounds of Al1 and Cu oxides as long as they do not cause the above problems.

さらに、Ca、Mg、SrおよびBaの2価金属の酸化
物としては、Cab、MgO。
Furthermore, examples of oxides of divalent metals such as Ca, Mg, Sr and Ba include Cab and MgO.

SrO,BaOあるいはこれらの複合酸化物を挙げるこ
とができる。
Examples include SrO, BaO, and composite oxides thereof.

また、これらの前駆体として、水酸化物、炭酸塩、硫酸
塩、硝酸塩、有機塩等も使用可能である。
Further, as these precursors, hydroxides, carbonates, sulfates, nitrates, organic salts, etc. can also be used.

ペースト組成物におけるこのような2種以上の金属酸化
物および/またはその前駆体化合物の含有率は、ペース
ト組成物を焼成して導体としたとき、該導体中に2種以
上の金属の酸化物が1〜12wt%含有するような含有
率であるのが好ましい。
The content of two or more metal oxides and/or their precursor compounds in the paste composition is such that when the paste composition is fired to form a conductor, the content of two or more metal oxides and/or their precursor compounds is It is preferable that the content is 1 to 12 wt%.

その理由は、導体中の酸化物の含有率が1wt%未満で
あると十分な接着強度を永続的に得られず、また12w
t%を超えると導体の導通抵抗が大となり導電性が悪く
なるとともに、半田濡れ性が低下するからである。
The reason for this is that if the content of oxide in the conductor is less than 1wt%, sufficient adhesive strength cannot be permanently obtained;
This is because if it exceeds t%, the conduction resistance of the conductor increases, the conductivity deteriorates, and the solder wettability decreases.

このような含有量にて、2種以上の化合物の添加量比は
任意である。
With such a content, the addition amount ratio of two or more types of compounds is arbitrary.

ただし、より好ましい場合において、AgおよびCuの
含有率としては、焼成後の酸化物量が0.5〜8wt%
、特に2〜8wt%であることが好ましい。
However, in a more preferable case, the content of Ag and Cu is such that the amount of oxides after firing is 0.5 to 8 wt%.
, particularly preferably 2 to 8 wt%.

この場合、八βおよびCu中のAj2含有率は、焼成後
の酸化物量として、Al2が30〜100wt%、特に
40〜60wt%であることが好ましい。
In this case, the content of Aj2 in the 8β and Cu is preferably 30 to 100 wt%, particularly 40 to 60 wt% of Al2, as the amount of oxide after firing.

特に、アルミン酸銅の導体中の含有率が3〜8wt%程
度となるように添加するのが好ましく、またアルミナを
添加する場合には、その導体中の含有率が1〜3wt%
程度となるように添加するのが好ましい。
In particular, it is preferable to add copper aluminate so that the content in the conductor is about 3 to 8 wt%, and when alumina is added, the content in the conductor is 1 to 3 wt%.
It is preferable to add so that the amount of

また、より好ましい場合において、Ca、Mg%Srお
よびBaの1〜4種の含有率としては、焼成後の酸化物
量が0.5〜4wt%であることが好ましい。
In a more preferable case, the content of 1 to 4 of Ca, Mg%Sr, and Ba is preferably such that the amount of oxides after firing is 0.5 to 4 wt%.

この場合、Ca%MgおよびSrの酸化物の1種以上は
、これらのうちの40〜100wt%を占めていること
が好ましく、特に、これらのうちCaが60〜100w
t%を占めていることが好ましい。
In this case, it is preferable that one or more of the oxides of Ca%Mg and Sr account for 40 to 100wt% of these, and in particular, Ca accounts for 60 to 100wt% of these.
It is preferable that it accounts for t%.

このような酸化物ないし前駆体のうち金属種の異なる2
種以上、特にアルミン酸銅と、2価金属酸化物ないし前
駆体は、通常、ペースト中に粉粒体として存在する。
Two different types of metals among these oxides or precursors
The species, especially the copper aluminate and the divalent metal oxide or precursor, are usually present in the paste as powder or granules.

これらの粉粒体の平均粒径は、0.1〜1(鱗程度とす
るのが好ましい。
The average particle size of these powders is preferably 0.1 to 1 (about the size of scales).

その理由は、平均粒径が0.1−未満であ(と基板と導
体との収縮率の整合性向上の効果i十分に得られず、ま
た10戸を超えると、膜の1−性およびエージング劣化
抑制効果が十分にて遣られなくなるからである。
The reason for this is that if the average particle size is less than 0.1, the effect of improving the consistency of the shrinkage rate between the substrate and the conductor cannot be sufficiently obtained, and if the average particle size exceeds 10, the This is because the effect of suppressing aging deterioration is insufficient.

ペースト組成物のビヒクルとしては、二チノ1セルロー
ス、ニドセルロース、アクリル系横用等のバインダー 
テルピネオール、ブチルヵJlビトール等の溶剤、その
細分散剤、活性剤等カ挙げられ、これらのうち任意のも
のが目的に灰じて適宜添加される。
As a vehicle for the paste composition, a binder such as Nitino 1 cellulose, Nido cellulose, or acrylic type Yoyoyo can be used.
Examples include solvents such as terpineol and butyl-bitol, fine dispersants thereof, and activators, and any one of these may be added as appropriate depending on the purpose.

なお一般に、ペースト中の上記ビヒクルの1有率は、1
0〜70wt%程度である。
In general, the proportion of the vehicle in the paste is 1.
It is about 0 to 70 wt%.

また、ペースト中には、導体成分に対し、スラスが含有
されていてもよい。
Further, the paste may contain sludge in relation to the conductor component.

次に、本発明の導体について説明する。Next, the conductor of the present invention will be explained.

第1図は、本発明の導体を有する多贋配!1遍板の部分
断面図である。
FIG. 1 shows a multi-counterfeit circuit containing the conductor of the present invention! It is a partial cross-sectional view of a single plate.

同図に示すように、多層配線基板lは、複数の層を積層
し、焼成により一体化した絶縁体の基板4を有し、この
基板4の内部には、所定パターンの内部導体2が形成さ
れ、この内部導体2が基板4の表面に露出した部分に外
部導体3が形成されている。
As shown in the figure, the multilayer wiring board l has an insulating substrate 4 in which a plurality of layers are laminated and integrated by firing, and internal conductors 2 in a predetermined pattern are formed inside this substrate 4. An outer conductor 3 is formed in a portion where the inner conductor 2 is exposed on the surface of the substrate 4.

基板4の構成材料としては、内、外部導体2.3、抵抗
8とともに同時焼成可能なものとして、アルミナ−ホウ
ケイ酸ガラス、アルミナ−鉛ホウケイ酸ガラス、アルミ
ナ−ホウケイ酸バリウムガラス、アルミナ−ホウケイ酸
カルシウムガラス、アルミナ−ホウケイ酸ストロンチウ
ムガラス、アルミナ−ホウケイ酸マグネシウムガラス等
の酸化物骨材とガラスとを含む低温焼結材料が好ましい
The constituent materials of the substrate 4 include alumina-borosilicate glass, alumina-lead borosilicate glass, alumina-barium borosilicate glass, and alumina-borosilicate glass, which can be fired simultaneously with the inner and outer conductors 2.3 and the resistor 8. Low temperature sintered materials containing glass and oxide aggregates such as calcium glass, alumina-strontium borosilicate glass, alumina-magnesium borosilicate glass, etc. are preferred.

このような基板材料において、ガラスの含有率ハ、 g
 J(: 50〜80wt%程度とするのがよい。
In such a substrate material, the glass content C, g
J(: It is preferable to set it to about 50 to 80 wt%.

内部導体2は、通常多層配線され、基板4の厚さ方向に
形成されたスルーホール5を介して互いに導通されてい
る。
The internal conductors 2 are usually multilayered and electrically connected to each other via through holes 5 formed in the thickness direction of the substrate 4.

外部導体3は、基板4の表面に形成され、チップインダ
クタ、チップコンデンサ等のチップ部品や半導体集積回
路素子、ダイオード等の素子等の表面実装部品7を半田
6により半田付けするためのパッドとして用いられ、あ
るいは抵抗8への導通用として用いられる。
The external conductor 3 is formed on the surface of the substrate 4 and is used as a pad for soldering surface-mounted components 7 such as chip components such as chip inductors and chip capacitors, semiconductor integrated circuit elements, and elements such as diodes with solder 6. or used for conduction to the resistor 8.

なお、この抵抗8を覆うように絶縁被覆層9が形成され
ている。
Note that an insulating coating layer 9 is formed to cover this resistor 8.

本発明の導体は、上記内部導体2および/または外部導
体3に適用される。 即ち、内部導体2および外部導体
3はいずれも基板4と接合しているため、その界面付近
におけるクラックの発生を防止することができるからで
ある。
The conductor of the present invention is applied to the inner conductor 2 and/or the outer conductor 3. That is, since both the inner conductor 2 and the outer conductor 3 are bonded to the substrate 4, it is possible to prevent cracks from occurring near the interface thereof.

なお、外部導体3は、耐マイグレーション性、耐湿性に
優れるAg−Pd合金を主体とする導体とし、内部導体
2は、導電性が良いことを優先させる点でAgを主体と
する導体とするのが好ましい。
Note that the outer conductor 3 is made of a conductor mainly made of Ag-Pd alloy, which has excellent migration resistance and moisture resistance, and the inner conductor 2 is made of a conductor mainly made of Ag, since good conductivity is given priority. is preferred.

また、内部導体2のI!![け、通常5〜20−程度、
外部導体3の膜厚は、通常5〜20μs程度とされる。
Also, I! of the internal conductor 2! ! [Usually about 5 to 20,
The film thickness of the external conductor 3 is usually about 5 to 20 μs.

そして、内部導体および外部導体の導通抵抗は、その組
成にもよるが、−船釣に、前者は2〜10mΩ/口、後
者は、lo〜3omΩ/口程度とするのがよい。
The conduction resistance of the inner conductor and the outer conductor depends on their composition, but for boat fishing, the former is preferably about 2 to 10 mΩ/mouth, and the latter is about 10 to 3 ohmΩ/mouth.

次に、本発明のペースト組成物および導体の製造方法の
好適例について説明する。
Next, preferred examples of the paste composition and conductor manufacturing method of the present invention will be described.

ペースト組成物は、前述したAA粒またはAg系合金粒
あるいはAA粒およびPd粒のような金属粒と、AA、
Cu、Ca%Mg、SrおよびBaの酸化物および/ま
たはその前駆体化合物の粉粒体とを混合し、これにバイ
ンダー 溶剤等のビヒクルを加え、これらを混練してス
ラリー化することにより得ることができる。 ここで、
ペースト組成物の粘度は、3万〜30万cps程度に調
製してお(のがよい。
The paste composition includes metal grains such as the aforementioned AA grains or Ag-based alloy grains or AA grains and Pd grains, and AA,
It can be obtained by mixing oxides of Cu, Ca%Mg, Sr, and Ba and/or their precursor compounds with powder, adding a vehicle such as a binder and solvent, and kneading these to form a slurry. I can do it. here,
The viscosity of the paste composition is preferably adjusted to about 30,000 to 300,000 cps.

このようなペースト組成物を用いて次のような工程によ
り導体が製造される。
A conductor is manufactured using such a paste composition through the following steps.

# fjt、 fa 丹11 し?) * s++−s
、 −s、  + m ry eh、+する。
# fjt, fa tan11 shi? ) *s++-s
, -s, + m ry eh, +.

このグリーンシートは、基板の原材料であるアルミナ粉
末等の骨材とガラス粉末(例えば、ボウケイ酸ガラス)
とを所定量混合し、これにバインダー樹脂、溶剤等を加
え、これらを混練してスラリー化し、例えばドクターブ
レード法により0.1〜0.3mm程度の厚さのグリー
ンシートを所定枚数作製する。
This green sheet is made of aggregate such as alumina powder, which is the raw material for the substrate, and glass powder (for example, borosilicate glass).
A binder resin, a solvent, etc. are added thereto, and the mixture is kneaded to form a slurry. A predetermined number of green sheets having a thickness of about 0.1 to 0.3 mm are produced by, for example, a doctor blade method.

次いで、グリーンシートにパンチングマシーンや金型ブ
レスを用いてスルーホール5を形成し、その後、前記ペ
ースト組成物を各グリーンシート上に例えばスクリーン
印刷法により印刷し、所定パターンの内部および外部導
体層を形成するとともにスルーホール5内に充填する。
Next, through holes 5 are formed in the green sheets using a punching machine or a mold press, and then the paste composition is printed on each green sheet by, for example, screen printing to form internal and external conductor layers in a predetermined pattern. At the same time, the through hole 5 is filled.

また、必要に応じて抵抗体原材料ペースト(例えばRu
 O2、ガラスフリット含有)をスクリーン印刷法等に
より印刷し、抵抗体8を形成する。 なお、この抵抗体
8は、基板と一体焼結する場合に限らず、基板を焼成後
、基板上に印刷、焼成して形成してもよい。
In addition, resistor raw material paste (for example, Ru
O2 (containing glass frit)) is printed by a screen printing method or the like to form the resistor 8. Note that the resistor 8 is not limited to the case where it is integrally sintered with the substrate, but may be formed by printing and baking the substrate after baking the substrate.

次いで、各グリーンシートを重ね合せ、熱プレス(約4
0〜120℃、50〜100100O/cm2)を加え
てグリーンシートの積層体とし、必要に応じて脱バイン
ダー処理、切断用溝の形成等を行う。
Next, overlap each green sheet and heat press (approximately 4
0 to 120° C. and 50 to 100,100 O/cm 2 ) to form a green sheet laminate, and if necessary, the binder is removed, cutting grooves are formed, etc.

その後、グリーンシートの積層体を通常空気中で800
〜1000℃程度の温度で焼成、体化し、基板4に内部
および外部導体が形成された多層配線基板を得る。 導
体中にAl1およびCuの酸化物が含有されているため
、導体と基板との界面付近においてアンカー効果が生じ
、よって、導体と基板との高い接合強度が永続的に得ら
れる。
After that, the green sheet laminate was heated for 800 minutes in normal air.
The multilayer wiring board is fired and formed at a temperature of about 1000°C to obtain a multilayer wiring board in which internal and external conductors are formed on the substrate 4. Since the oxides of Al1 and Cu are contained in the conductor, an anchor effect occurs near the interface between the conductor and the substrate, so that high bonding strength between the conductor and the substrate can be permanently obtained.

その後、所定の表面実装部品7を外部導体3に半田付け
し、絶縁被覆層9を形成して第1図に示す多層配線基板
1が得られる。
Thereafter, a predetermined surface mount component 7 is soldered to the external conductor 3, and an insulating coating layer 9 is formed to obtain the multilayer wiring board 1 shown in FIG. 1.

なお、基板は上記グリーンシート法に代り印刷法により
作製してもよい。
Note that the substrate may be manufactured by a printing method instead of the green sheet method described above.

以上では、本発明を多層配線基板に適用した場合の例を
説明したが、本発明は、これに限らず、同時焼成配線基
板のような単層の基板等にも適用することができる。
Although an example in which the present invention is applied to a multilayer wiring board has been described above, the present invention is not limited to this, but can also be applied to a single layer board such as a co-fired wiring board.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例について説明する。<Example> Hereinafter, specific examples of the present invention will be described.

(本発明例1) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Example 1 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and the mixture was kneaded to form a composition for a conductor. Obtained.

Ag      :100wt% CuAflz 04  :   4wt%Ca(OH)
   :   2wt% (CaO換算)なお、Al、
CuAj2z 04およびCa(OH) は、それぞれ
平均粒径1.0押、2、Opおよび2.o胛の粉末とし
て添加した。
Ag: 100wt% CuAflz 04: 4wt%Ca(OH)
: 2wt% (CaO conversion) In addition, Al,
CuAj2z 04 and Ca(OH) had average particle diameters of 1.0, 2, 2, and 2, respectively. It was added as a powder.

(本発明例2) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Example 2 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and the mixture was kneaded to form a composition for a conductor. Obtained.

Ag       :85wt% Pd       :15wt% AAxOs    :  1wt% Ca(OH)   :  4wt% (CaO換算)な
お、A g 、 P d%A j2203およびCa(
OH) は、それぞれ平均粒径1.0戸、1、Op、1
.5戸および2.0μmの粉末として添加した。
Ag: 85wt% Pd: 15wt% AAxOs: 1wt% Ca(OH): 4wt% (CaO conversion) In addition, Ag, Pd%A j2203 and Ca(
OH) have average particle diameters of 1.0, 1, Op, and 1, respectively.
.. It was added as a powder of 5 and 2.0 μm.

(本発明例3) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Example 3 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and the mixture was kneaded to form a composition for a conductor. Obtained.

Ag          :85wt%Pd     
      :15wt%CuA ρz  04  :
   4wt%Ca(OH)   :  2wt% (
CaO換算)なお、A g P d %Cu A A 
20 gおよびCa (OH)  は、それぞれ平均゛
粒径1.0μ、1.Own、2.0taおよび260μ
の粉末として添加した。
Ag: 85wt%Pd
:15wt%CuA ρz 04 :
4wt%Ca(OH): 2wt% (
CaO conversion) In addition, A g P d %Cu A A
20 g and Ca(OH) had an average particle size of 1.0μ and 1.0μ, respectively. Own, 2.0ta and 260μ
It was added as a powder.

(本発明例4) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
本発明例2と同様に導体用組成物を得た。
(Example 4 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and kneaded to obtain Example 2 of the present invention. A conductor composition was similarly obtained.

Ag−Pd合金(Pd15wt%) :100wt% CuAl1x O4:   4wt% Ca(OH)   :   2wt% (CaO換算)
なお、Ag−Pd合金を、平均粒径1.0戸のAg−P
d合金粒として添加した以外は、上記の粉末を使用した
Ag-Pd alloy (Pd15wt%): 100wt% CuAl1x O4: 4wt% Ca(OH): 2wt% (CaO conversion)
Note that the Ag-Pd alloy is Ag-P with an average particle size of 1.0 mm.
The above powder was used except that it was added as alloy grains.

(本発明例5) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Example 5 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and the mixture was kneaded to form a composition for a conductor. Obtained.

Ag      :85wt% Pd      :15wt% CuAAz 04  :  4wt% Ca(OH)  :  2wt% (CaO換算)Sr
 (OH)z・8Ha O: 1wt%(SrO換算) なお、Agは、平均粒径1.0押のAg粒として、Pd
は、平均粒径1.0戸のPd粒として添加し、Cu A
 j2 * 04は平均粒径2.Opmの粉末として、
Ca (OH)  および5r(OH)、・8H20は
平均粒径2.0μの粉末として添加した。
Ag: 85wt% Pd: 15wt% CuAAz 04: 4wt% Ca(OH): 2wt% (CaO conversion) Sr
(OH)z・8Ha O: 1wt% (SrO conversion)
was added as Pd particles with an average particle size of 1.0 mm, and Cu A
j2*04 is the average particle size 2. As Opm powder,
Ca(OH), 5r(OH), and .8H20 were added as powders with an average particle size of 2.0μ.

(本発明例6) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体・用組成物を得た。
(Example 6 of the present invention) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) are added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for conductors having the following composition, and the mixture is kneaded to form a composition for conductors. I got it.

Ag            :85wt%Pd   
           :15wt%CuO1モルと A!!、(OH)     :  4wt%2モルとの
混合比 Ca(OH)   :1wt% (CaO換算)Mg 
(OH)2  : 1wt% (M g O換算)なお
、Agは、平均粒径1.0戸のAg粒として、Pdは、
平均粒径1.0μのPd粒として添加し、CuO1Al
(OH)   Ca(OH)、およびMg(OH)、は
それぞれ平均粒径2.0−の粉末として添加した。
Ag: 85wt%Pd
:15wt%CuO1 mole and A! ! , (OH): 4 wt% Mixing ratio with 2 moles Ca(OH): 1 wt% (in terms of CaO) Mg
(OH)2: 1wt% (M g O conversion) Note that Ag is Ag grains with an average grain size of 1.0, and Pd is
Added as Pd particles with an average particle size of 1.0μ, CuO1Al
(OH) Ca(OH) and Mg(OH) were each added as powders with an average particle size of 2.0-.

(本発明例7) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(≠ルビネオール)を20〜40M量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Example 7 of the present invention) 20 to 40 M parts of an acrylic resin and a high boiling point solvent (≠ rubineol) are added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a paste composition for a conductor having the following composition, and the mixture is kneaded to form a composition for a conductor. I got it.

Ag             :85wt%Pd  
           :15wt%CuO1モルと Aρ(OH) 2モルとの混合比 a−AIlx O3:  1wt% (α−Al2o3換算) Ca(OH)      :  2wt%(CaO換算
) Mg (OH)      :  0.5wt%(Mg
O換算) Ba (OH)2・8H,O: 0.5wt%(BaO
換算) なお、Ag・は、平均粒径1.0膚のAg粒:2wt% として、Pdは、平均粒径1.0戸のPd粒として添加
し、Cub、Aj2 (OH)Ca (OH)   M
g (OH)  およびBa(OH)   8H20ば
それぞれ平均粒径2.0−の粉末として、α−Al20
3は平均粒径1.5痔の粉末として添加した。
Ag: 85wt%Pd
: 15 wt% Mixing ratio of 1 mole of CuO and 2 moles of Aρ(OH) a-AIlx O3: 1 wt% (in terms of α-Al2O3) Ca(OH): 2 wt% (in terms of CaO) Mg (OH): 0.5 wt% ( Mg
(converted to O) Ba (OH)2.8H, O: 0.5wt% (BaO
(conversion) In addition, Ag is added as Ag particles with an average particle size of 1.0: 2 wt%, Pd is added as Pd particles with an average particle size of 1.0, Cub, Aj2 (OH) Ca (OH) M
g (OH) and Ba(OH) 8H20 respectively as powders with an average particle size of 2.0-
No. 3 was added as a powder with an average particle size of 1.5.

(比較例1) 下記組成の導体用ペースト組成物の顔料100重量部に
対し、ビヒクルとしてアクリル系樹脂および高沸点溶剤
(テルピネオール)を20〜40重量部加え、混練して
導体用組成物を得た。
(Comparative Example 1) 20 to 40 parts by weight of an acrylic resin and a high boiling point solvent (terpineol) were added as a vehicle to 100 parts by weight of the pigment of a conductor paste composition having the following composition, and the mixture was kneaded to obtain a conductor composition. Ta.

Ag      :85wt% Pd      :15wt% なお、Agは、平均粒径1,0戸のAg粒として、Pd
は、平均粒径1.Q−のPd粒として添加した。
Ag: 85 wt% Pd: 15 wt% In addition, Ag is Pd as Ag grains with an average grain size of 1.0
is an average particle size of 1. It was added as Q- Pd grains.

比較例2 上記比較例1にて、Pdの平均粒径を 0.15−とし、A g + P d 100 wt%
に、平均粒径1.5賜のα−ApzOs2wt%を添加
した他は、全く同様にして導体用組成物を得た。
Comparative Example 2 In Comparative Example 1 above, the average particle size of Pd was set to 0.15-, and A g + P d 100 wt%
A conductor composition was obtained in exactly the same manner except that 2 wt % of α-ApzOs having an average particle size of 1.5 mm was added.

上記本発明例1〜7、比較例1のペースト組成物を用い
て、下記方法により導体を有する基板を作製した。
Using the paste compositions of Examples 1 to 7 of the present invention and Comparative Example 1, substrates having conductors were manufactured by the following method.

まず、α−アルミナ:40wt%、ガラス粉末:60w
t%の組成で厚さioo〜300胛のグリーンシートを
作製した(この場合のガラスはAj2z 03−B20
s  S i Oz−MO系、但しM=Ca% BaS
 Sr、Mg) 次に、このグリーンシートにスクリーン印刷により、導
体ペーストを、縮率15%にて、焼成後の寸法が2 m
mX 2 mm、膜厚12±2Pのパッドになるように
印刷した。
First, α-alumina: 40wt%, glass powder: 60w
A green sheet with a thickness of ioo to 300 t% was prepared with a composition of
s Si Oz-MO system, where M=Ca% BaS
(Sr, Mg) Next, a conductive paste was applied to this green sheet by screen printing at a shrinkage rate of 15%, and the size after firing was 2 m.
The pad was printed to have a size of m×2 mm and a film thickness of 12±2P.

次に、基板の機械的強度を得るために、このシートと他
の印刷していないシート数枚とを熱プレスにより積層し
てグリーンシート積層体を得た。
Next, in order to obtain mechanical strength of the substrate, this sheet and several other unprinted sheets were laminated by hot pressing to obtain a green sheet laminate.

その後、この積層体を脱脂後、空気中で温度900℃で
同時焼成して導体を有する基板を作製した。
Thereafter, this laminate was degreased and co-fired in air at a temperature of 900° C. to produce a substrate having a conductor.

得られた各基板について、導体の初期およびエージング
後の接着強度、導体の半田濡れ性およびそり量を調べた
。 その結果を下記表1に示す。
For each of the obtained substrates, the initial adhesion strength of the conductor and after aging, the solder wettability of the conductor, and the amount of warpage were examined. The results are shown in Table 1 below.

なお、接着強度試験はテユボン社の剥離試験に準じた。Note that the adhesive strength test was based on the peel test of Teyubon.

 被着した導体膜の横方向に直径0.8mmの銅線をの
ばし導体膜に重なる部分について半田付けし、その半田
付けの終わる一端からのびた銅線を導体膜被着面にほぼ
垂直でかつ導体膜を剥離する方向に引っ張り試験機を用
いて引っ張り、剥離した時の荷重を読んだ。
Stretch a copper wire with a diameter of 0.8 mm in the horizontal direction of the conductor film and solder the part that overlaps with the conductor film, and then connect the copper wire extending from one end of the soldered end to the conductor film almost perpendicular to the surface to which the conductor film is applied. The membrane was pulled in the direction of peeling using a tensile tester, and the load at the time of peeling was read.

エージングは、150℃の恒温槽に所定時間放置した。For aging, the sample was left in a constant temperature bath at 150°C for a predetermined period of time.

また、半田濡れ性は、各サンプルを230’Cの溶融半
田に約5秒間浸漬し、パッドの濡れ面積率により評価し
た。
Further, solder wettability was evaluated by immersing each sample in molten solder at 230'C for about 5 seconds and evaluating the wetted area ratio of the pad.

さらに、そり量の算出に当っては、基板上に導体を一層
設けたサンプルにて基板を導体を上側に向けて平面上に
平置し、導体設層領域にて、最低高さを示す基板下側の
面と、細孔高さを示す導体上側の面との高さを求めて、
そり量(mm)とした(この時の基板厚みは0.30m
mであった) 上記表1より明らかなように、本発明による導体はいず
れも比較例のそれに比べ、長時間経過しても導体の基板
に対する接着強度の低下が少ない(、ソリが少ないこと
が確認された。
Furthermore, when calculating the amount of warpage, use a sample with one layer of conductors on the board, and place the board flat on a flat surface with the conductor facing upward. Find the height between the lower surface and the upper surface of the conductor, which indicates the pore height,
The amount of warpage (mm) was calculated (the substrate thickness at this time was 0.30 m)
As is clear from Table 1 above, all of the conductors according to the present invention showed less decrease in adhesive strength to the substrate even after a long period of time than those of the comparative examples (and less warpage). confirmed.

〈発明の効果〉 本発明のペースト組成物および導体によれば、焼成後の
導体中に所定の酸化物を含有することにより、基板と導
体との界面にアンカー効果が生じ、長期間にわたりこれ
らの高い接着強度が得られる。
<Effects of the Invention> According to the paste composition and conductor of the present invention, by containing a predetermined oxide in the conductor after firing, an anchoring effect is produced at the interface between the substrate and the conductor, and these properties are maintained for a long period of time. High adhesive strength can be obtained.

また、ソリの発生が少ない。Also, there is less warping.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の導体を有する多層配線基板の部分断
面図である。 符号の説明 1・・・多層配線基板 2・・・内部導体 3・・・外部導体 4・・・基板 5・・・スルーホール 6・・・半田 7・・・表面実装部品 8・・・抵抗 9・・・絶縁被覆層 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社代  理  人
  弁理士   石  井  陽  −同     弁
理士   増  1) 達  哉FIG。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a multilayer wiring board having a conductor according to the present invention. Explanation of symbols 1...Multilayer wiring board 2...Inner conductor 3...Outer conductor 4...Board 5...Through hole 6...Solder 7...Surface mount component 8...Resistance 9...Insulating coating layer Applicant: TDTK Co., Ltd. Representative: Patent attorney: Yo Ishii - Patent attorney: Masu 1) Tatsuya FIG.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)AgまたはAg合金と、Al、Cu、Ca、Sr
、MgおよびBaの1種以上の金属の金属化合物の酸化
物および/またはその前駆体化合物から選ばれた金属種
の異なる2種以上の化合物(ただし、2種以上の金属が Al+Cuである場合を除く)とを含有することを特徴
とする導体ペースト。
(1) Ag or Ag alloy, Al, Cu, Ca, Sr
, two or more compounds of different metal species selected from oxides of metal compounds of one or more metals such as Mg and Ba and/or their precursor compounds (however, in the case where the two or more metals are Al + Cu) A conductive paste characterized by containing (excluding)
(2)Agと、Pdと、Al、Cu、Ca、Sr、Mg
およびBaの1種以上の金属の異なる金属化合物の酸化
物および/またはその前駆体化合物から選ばれた金属種
の異なる2種以上の化合物(ただし、2種以上の金属が Al+Cuである場合を除く)とを含有することを特徴
する導体ペースト。
(2) Ag, Pd, Al, Cu, Ca, Sr, Mg
and oxides of different metal compounds of one or more metals of Ba and/or compounds of two or more different metal types selected from the precursor compounds thereof (excluding cases where the two or more metals are Al + Cu) ) A conductive paste characterized by containing.
(3)前記2種以上の化合物の金属種が、Alおよび/
またはCuと、Ca、Sr、MgおよびBaの1種以上
とである請求項1または2に記載の導体ペースト。
(3) The metal species of the two or more compounds are Al and/or
The conductor paste according to claim 1 or 2, which is Cu and one or more of Ca, Sr, Mg and Ba.
(4)前記2種以上の化合物の含有率が、ペースト組成
物を焼成して導体としたとき、この導体中に酸化物が1
〜12wt%含有される含有率である請求項1ないし3
のいずれかに記載の導体ペースト。
(4) The content of the two or more types of compounds is such that when the paste composition is fired to form a conductor, 1 oxide is present in the conductor.
Claims 1 to 3 wherein the content is ~12 wt%.
A conductor paste as described in any of the above.
(5)前記2種以上の化合物がAlおよびCuを含み、
前記AlおよびCuの酸化物が、アルミン酸銅または、
アルミン酸銅およびアルミナである請求項1ないし4の
いずれかに記載の導体ペースト。
(5) the two or more compounds contain Al and Cu,
The oxide of Al and Cu is copper aluminate or
The conductive paste according to any one of claims 1 to 4, which is copper aluminate and alumina.
(6)同時焼成により低温焼成セラミックス基板の表面
および/または内部に形成される導体であって、その組
成が、AgまたはAg系合金と、Al、Cu、Ca、S
r、MgおよびBaの2種以上の金属(ただし、Al+
Cuである場合を除く)の酸化物とを含有することを特
徴とする導体。
(6) A conductor formed on the surface and/or inside of a low-temperature fired ceramic substrate by co-firing, the composition of which is Ag or Ag-based alloy, Al, Cu, Ca, S
r, two or more metals of Mg and Ba (however, Al+
A conductor characterized by containing an oxide of Cu).
(7)前記2種以上の金属の酸化物の含有率が1〜8w
t%である請求項6に記載の導体。
(7) The content of the oxides of the two or more metals is 1 to 8w.
7. The conductor according to claim 6, wherein the conductor is t%.
JP25391089A 1989-09-29 1989-09-29 Conductor paste and conductor Pending JPH03116608A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25391089A JPH03116608A (en) 1989-09-29 1989-09-29 Conductor paste and conductor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25391089A JPH03116608A (en) 1989-09-29 1989-09-29 Conductor paste and conductor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03116608A true JPH03116608A (en) 1991-05-17

Family

ID=17257752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25391089A Pending JPH03116608A (en) 1989-09-29 1989-09-29 Conductor paste and conductor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03116608A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001035255A (en) * 1999-07-22 2001-02-09 Vacuum Metallurgical Co Ltd Silver superfine particle independently dispersed solution
US6358439B1 (en) * 1991-09-10 2002-03-19 International Business Machines Corporation Copper-based paste containing copper aluminate for microstructural and shrinkage control of copper-filled vias
WO2007046214A1 (en) * 2005-10-20 2007-04-26 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Paste composition and solar battery element using the same

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6358439B1 (en) * 1991-09-10 2002-03-19 International Business Machines Corporation Copper-based paste containing copper aluminate for microstructural and shrinkage control of copper-filled vias
JP2001035255A (en) * 1999-07-22 2001-02-09 Vacuum Metallurgical Co Ltd Silver superfine particle independently dispersed solution
WO2007046214A1 (en) * 2005-10-20 2007-04-26 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Paste composition and solar battery element using the same
KR101031060B1 (en) * 2005-10-20 2011-04-25 도요 알루미늄 가부시키가이샤 Paste composition and solar battery element using the same
JP4949263B2 (en) * 2005-10-20 2012-06-06 東洋アルミニウム株式会社 Paste composition and solar cell element using the same
US8877100B2 (en) 2005-10-20 2014-11-04 Toyo Aluminium Kabushiki Kaisha Paste composition and solar cell element using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0660651B1 (en) Multilayer ceramic circuit substrate, process for producing the same, and electrically conductive material for use in multilayer ceramic circuit substrate
JP3528037B2 (en) Manufacturing method of glass ceramic substrate
KR100922079B1 (en) Multilayer ceramic substrate
JP3826685B2 (en) Manufacturing method of glass ceramic circuit board
JP3517062B2 (en) Copper metallized composition and glass-ceramic wiring board using the same
JP2004047856A (en) Conductive paste and printing method as well as manufacturing method of ceramic multilayer circuit board
KR100744855B1 (en) High Thermal Cycle Conductor System
JP3121822B2 (en) Conductor paste and wiring board
JP3538549B2 (en) Wiring board and method of manufacturing the same
JPH03116608A (en) Conductor paste and conductor
JPH0576795B2 (en)
JP3098288B2 (en) Conductor composition and ceramic substrate using the same
JPH11284296A (en) Wiring board
JP2003040670A (en) High thermal expansion ceramic composition, high thermal expansion ceramic and its manufacturing method, and multilayer wiring substrate and its mounting structure
JP3366479B2 (en) Metallized composition and method for producing wiring board
JP2002084051A (en) Metallized copper composition, low-temperature sintered ceramic wiring board, and method of manufacturing the same
JPH01201090A (en) Metallizing composition for ceramic
JP2001294489A (en) Jointed body of crystallized glass and aluminum nitride sintered compact
JPH01260712A (en) Paste composition and conductor
JP3709062B2 (en) Aluminum nitride wiring board and manufacturing method thereof
JP3830296B2 (en) Manufacturing method of high thermal expansion glass ceramic sintered body
JP3103686B2 (en) Multilayer circuit board
JPH01260711A (en) Paste composition and conductor
JP2892220B2 (en) Manufacturing method of ceramic wiring board
JP3689988B2 (en) Conductive composition and multilayer ceramic substrate