JPH03116509A - Thin film magnetic head - Google Patents

Thin film magnetic head

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JPH03116509A
JPH03116509A JP25409089A JP25409089A JPH03116509A JP H03116509 A JPH03116509 A JP H03116509A JP 25409089 A JP25409089 A JP 25409089A JP 25409089 A JP25409089 A JP 25409089A JP H03116509 A JPH03116509 A JP H03116509A
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magnetic
thin film
narrow
core
track
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Toshiki Shimamura
島村 敏規
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Abstract

PURPOSE:To obtain the thin-film magnetic head having a narrow track and with the Barkhausen noise reduced by forming the track with a narrow protrusion partly projecting in the thickness direction of a thin-film magnetic core and making the thickness of the protrusion continuous from the narrow magnetic domain of the core. CONSTITUTION:A magnetic gap is formed at the part opposed to a magnetic recording medium by a first magnetic thin-film core 1 and a second magnetic thin-film core 2 through a nonmagnetic thin film 5, and at least one of the cores has a narrow part 21 in the cross direction of the track at the part opposed to the magnetic recording medium. A narrow protrusion 22 projecting in the thickness direction is provided to the narrow part 21 of at least one of the cores, and the track width WT of the gap 8 is controlled by the width of the protrusion 22. The thickness of the protrusion 22 is controlled so that the protrusion is magnetized in follow-up to the magnetization of the magnetic thin-film part. As a result, the effect of the circulating magnetic domain is effectively avoided, and a narrow-track thin-film magnetic head with the Barkhausen noise reduced is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ヘッド、特に狭トラツク幅を有する薄
膜磁気ヘッドに係わる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to thin film magnetic heads, particularly thin film magnetic heads having narrow track widths.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は薄膜磁気ヘッドに係わり、第1の磁性薄膜コア
と第2の磁性薄膜コアとが磁気記録媒体との対向部にお
いて非磁性薄膜を介して積層されて作動磁気ギャップを
形成するようになされ、少なくとも一方の磁性薄膜コア
が磁気記録媒体との対向部においてトラック幅方向に幅
狭とされた幅狭部を有し、かつさらに少なくとも一方の
磁性薄膜コアの幅狭部にその厚さ方向に突出してこの幅
狭部よりさらに幅狭の凸部が設けられこの凸部の幅によ
って作動磁気ギャップのトラック幅が規制されるように
なされ、この凸部の厚さがこの凸部を有する磁性薄膜部
の磁化に追従する磁化状態となるようにするものであっ
て、このようにすることによって所要の狭小のトランク
幅を有する作動磁気ギャップを、バルクハウゼンノイズ
の発生を効果的に回避できる構成とする。
The present invention relates to a thin-film magnetic head, in which a first magnetic thin-film core and a second magnetic thin-film core are laminated with a non-magnetic thin film interposed therebetween at a portion facing a magnetic recording medium to form an operating magnetic gap. , at least one of the magnetic thin film cores has a narrow part that is narrow in the track width direction at the part facing the magnetic recording medium, and further has a narrow part of the at least one magnetic thin film core in the thickness direction. A convex portion that protrudes and has a narrower width than the narrow portion is provided so that the track width of the working magnetic gap is regulated by the width of the convex portion, and the thickness of the convex portion is determined by the thickness of the magnetic thin film having the convex portion. By doing so, the operating magnetic gap having the required narrow trunk width can be configured to effectively avoid the occurrence of Barkhausen noise. do.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

記録密度の向上を図って狭トラツク化が促進され、これ
に伴って磁気ヘッドの狭トラツク化の研究開発が目ざま
しい。
As recording density is improved, track narrowing is being promoted, and along with this, research and development into narrowing the tracks of magnetic heads is remarkable.

例えば特開昭55−4723号公開公報においては、磁
気ギャップ内に突出して記録時に飽和する再生ギャップ
を構成する凸部を設けて再生時のギャップ長及びトラッ
ク幅を記録時のそれより小にするようにした構造の磁気
ヘッドが提案されている。
For example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 55-4723, a convex portion that protrudes into the magnetic gap and forms a reproduction gap that saturates during recording is provided to make the gap length and track width during reproduction smaller than that during recording. A magnetic head having such a structure has been proposed.

さらにまた特開昭60−95712号公開公報において
もトラック幅を規制するコアの磁気ギャップ部を両側よ
り切り込んで幅狭とした構造のものの開示かある。しか
しながら、このようなバルク型の磁気ヘッドにおいては
充分狭小なトラック幅とすることが難しい。
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-95712 also discloses a structure in which the magnetic gap portion of the core that regulates the track width is cut from both sides to make it narrower. However, in such a bulk type magnetic head, it is difficult to provide a sufficiently narrow track width.

これに比し薄膜型磁気ヘッドにおいては、微細パターン
が形成しやすいことから狭トラツク化の可能性が高まる
。一方、例えば特開昭60−57520号公開公報にお
いては、その薄膜磁気ヘッドにおいて軟磁性薄膜の後方
部のトラック幅方向の長さを大にして磁化容易軸をトラ
ック幅方向に向けることによって高い記録密度において
良好なS/Nを得ることができるようにするものの提案
がなされている。しかしながらこのように薄膜磁気ヘッ
ドの後方部においてトラック幅方向の幅を大にした構造
、すなわち磁気記録媒体との対向部において幅狭とした
ものにおいてもさらにそのトラック幅を数μm以下とい
う狭小なトラック幅とする場合には形状異方性の影響が
生じて所望のすなわち主たる磁化の向きがトラック幅方
向に沿う磁区構造することができなくなってトラック幅
と直交する方向の磁区が支配的になってバルクハウゼン
ノイズが生じ、S/Nの低下を招来して来る。
In contrast, in a thin-film magnetic head, fine patterns can be easily formed, which increases the possibility of narrowing the track. On the other hand, for example, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-57520, in the thin film magnetic head, the length of the rear part of the soft magnetic thin film in the track width direction is increased and the axis of easy magnetization is directed in the track width direction, thereby achieving high recording performance. Proposals have been made to make it possible to obtain a good S/N ratio in terms of density. However, even in a structure in which the width in the track width direction is increased at the rear part of the thin film magnetic head, that is, the width is narrowed at the part facing the magnetic recording medium, the track width is still narrower than several micrometers. In the case of width, the effect of shape anisotropy occurs, and the desired direction of magnetization, that is, the magnetic domain structure along the track width direction, becomes impossible, and the magnetic domain in the direction perpendicular to the track width becomes dominant. Barkhausen noise is generated, leading to a decrease in S/N.

一方例えば電子情報通信学会技術研究報告、信学技報V
o1.88. Na3051988年11月30日発行
、第33頁〜第38頁等においても狭トラツク化の研究
開発がなされているが、この場合においてもそのトラッ
ク幅方向に付いての磁性薄膜の幅を狭小とすることにつ
いての、すなわち2次元的考察がなされているに過ぎな
い。
On the other hand, for example, IEICE Technical Report, IEICE Technical Report V
o1.88. Research and development on narrowing the track is also carried out in Na305, published November 30, 1988, pages 33 to 38, but in this case as well, the width of the magnetic thin film in the track width direction is narrowed. In other words, it is merely a two-dimensional consideration.

従来の薄膜磁気ヘッドの例について説明するに、例えば
第1θ図にその平面図を示し、第11図及び第12図に
第10図のA−A線上及びB−B線上の断面図を示すよ
うに、基体(3)上に第1の磁性薄膜コア(1)と第2
磁性薄膜コア(2)が積層形成され、その磁気記録媒体
との対向面(4)に望んで延在する第1及び第2の各磁
性薄膜コア(1)及び(2)の前方部間にギャップスペ
ーサとなる非磁性薄膜(5)が介在されることによって
作動磁気ギャップgが構成されてなる。(6)は巻線層
で、第1及び第2の各磁性薄膜コア(1)及び(2)は
その後方で互いに磁気的に結合されて上述の作動磁気ギ
ャップg@磁路中に有する閉磁路が構成されて成る。
To explain an example of a conventional thin film magnetic head, for example, FIG. 1θ shows a plan view thereof, and FIGS. The first magnetic thin film core (1) and the second magnetic thin film core (1) are placed on the base (3).
Between the front portions of each of the first and second magnetic thin film cores (1) and (2), the magnetic thin film cores (2) are laminated and extend toward the surface (4) facing the magnetic recording medium. An operating magnetic gap g is formed by interposing a nonmagnetic thin film (5) serving as a gap spacer. (6) is a winding layer, and the first and second magnetic thin film cores (1) and (2) are magnetically coupled to each other behind the winding layer and have the above-mentioned operating magnetic gap g@magnetic closed magnetic field in the magnetic path. It is made up of roads.

この種の薄膜磁気ヘッドを得る方法としては、例えばフ
レームメツキ法が用いられている。このフレームメツキ
法について第13図〜第15図を参照して説明するに、
第13図〜第15図において各A図はそれぞれ各工程に
おける拡大平面図を示し、各B図は各A図のB−B線上
の断面図を示す。基体(3)は、例えばM、o、−Ti
c基板(3八)上に例えばアルミナAl2O3層(3B
)が被着形成されてなる。
As a method for obtaining this type of thin film magnetic head, for example, a frame plating method is used. This frame plating method will be explained with reference to FIGS. 13 to 15.
In FIGS. 13 to 15, each figure A shows an enlarged plan view in each step, and each figure B shows a sectional view taken along the line BB of each figure A. The substrate (3) is, for example, M, o, -Ti
For example, an alumina Al2O3 layer (3B) is placed on the c substrate (38).
) is formed by adhesion.

まず第13図に示すように基体(3)の層(3B)上に
は導電性下地膜(7)例えばTi膜がスパッタ等によっ
て被着形成され、これの上にフォトレジストよりなるレ
ジストフレーム(8)が形成される。このレジストフレ
ーム(8)は最終的に得る第1の磁性薄膜コア(1)の
輪郭に沿って所要の幅に、例えばフォトレジスト層の塗
布パターン露光及び現像によって形成しうる。そしてこ
のレジストフレーム(8)をメツキレジストとして下地
膜(7)上にパーマロイ(Ni−Fe)等の第1の磁性
薄膜(11)をトラック幅方向に磁化容易軸を生じさせ
る磁場印加のもとて電気メツキによって形成する。
First, as shown in FIG. 13, a conductive base film (7) such as a Ti film is deposited on the layer (3B) of the base (3) by sputtering or the like, and a resist frame made of photoresist ( 8) is formed. This resist frame (8) can be formed to a desired width along the outline of the first magnetic thin film core (1) to be finally obtained, for example, by exposing and developing a photoresist layer coating pattern. Using this resist frame (8) as a plating resist, a first magnetic thin film (11) made of permalloy (Ni-Fe) or the like is placed on the base film (7) under the application of a magnetic field to generate an axis of easy magnetization in the track width direction. Formed by electroplating.

第14図に示すように少なくともレジストフレーム(8
)によって囲まれる部分上にレジストカバー(9)を例
えばフォトレジストの塗布、露光、現象によって被着形
成する。そしてこのレジストカバー(9)をエツチング
マスクとしてこれによって覆われていない部分のすなわ
ちレジストフレーム(8)外の第1の磁性薄膜(11)
を除去してレジストフレーム(8)によって囲まれた部
分に第1の磁性薄膜(11)の残部によって第1の磁性
薄膜コア(1)を構成する。その後レジストフレーム(
8)及びレジストカバー(9)を除去し、次いで必要に
応じて外部に露呈した下地膜(7)をエツチング除去す
る。
As shown in FIG. 14, at least the resist frame (8
) A resist cover (9) is deposited on the portion surrounded by (1) by, for example, photoresist coating, exposure, or phenomenon. Then, using this resist cover (9) as an etching mask, the first magnetic thin film (11) in the portion not covered by this, that is, outside the resist frame (8).
is removed, and the remainder of the first magnetic thin film (11) constitutes a first magnetic thin film core (1) in a portion surrounded by the resist frame (8). Then resist frame (
8) and the resist cover (9) are removed, and then, if necessary, the base film (7) exposed to the outside is removed by etching.

その後第15図に示すように、所要の厚さのギャップス
ペーサとなるAt! z O:+等の非磁性薄膜(5)
を第1の磁性薄膜コア(1)上を覆って被着し、さらに
最終的に作動磁気ギャップgを形成する部分以外に例え
ば5i02絶縁層(10)を被着形成し、これの上に導
電層の全面的蒸着、フォトリソグラフィによるパターン
化を順次行って例えば渦巻状のヘッド巻線となる巻線層
(6)を形成する。そしてこの巻線層(6)上を覆って
さらに5i02等の絶縁J! (13)を被着し、パー
マロイ等をスパッタ等によって被着し、フォトリソグラ
フィによって所定のパターンとなして第2の磁性薄膜コ
ア(2)を形成する。この第2の磁性薄膜コア(2)は
、巻線層(6)を横切るように形成され、その後方部に
おいて非磁性ギャップスペーサ層(5)を絶縁層(10
)及び(13)に貫通して穿設した窓(I4)を通じて
その一部が第1の磁性薄膜コア(1)に連接され磁気的
に結合するようになされる。また巻線層(6)の一端上
の絶縁層(13)には窓(15)が穿設されてこれを通
じて一方の端子導電層(16)が被着される。巻線層(
6)の他方の端部例えば外端から他方の端子導電層(1
7)が延在して形成される。そして基体(3)と共にこ
れの上に積層形成された第1及び第2の磁性薄膜コア(
1)及び(2)が鎖線aで示す位置まで前方から研摩さ
れて第14図に示すように磁気媒体との対向面(4)が
形成されて薄膜磁気ヘッドが構成される。
Thereafter, as shown in FIG. 15, At! becomes a gap spacer of the required thickness. Non-magnetic thin film (5) such as z O:+
is deposited over the first magnetic thin film core (1), and further a 5i02 insulating layer (10), for example, is deposited on the part other than the part that will finally form the operating magnetic gap g, and a conductive layer (10) is deposited on this. The layers are sequentially deposited over the entire surface and patterned by photolithography to form a winding layer (6) which becomes, for example, a spiral head winding. This winding layer (6) is then covered with further insulation J! such as 5i02! (13), permalloy or the like is deposited by sputtering or the like, and a predetermined pattern is formed by photolithography to form a second magnetic thin film core (2). This second magnetic thin film core (2) is formed across the winding layer (6), and the non-magnetic gap spacer layer (5) is connected to the insulating layer (10) at the rear of the second magnetic thin film core (2).
) and (13), a part of which is connected to the first magnetic thin film core (1) and magnetically coupled through the window (I4). A window (15) is also formed in the insulating layer (13) on one end of the winding layer (6), through which one terminal conductive layer (16) is applied. Winding layer (
6), for example, from the outer end to the other terminal conductive layer (1
7) is formed by extending. First and second magnetic thin film cores (
1) and (2) are polished from the front to the position indicated by the chain line a, forming a surface (4) facing the magnetic medium as shown in FIG. 14, thereby forming a thin film magnetic head.

このような薄膜磁気ヘッドにおいて、狭トランク化をは
かる場合、その前方部幅WTをトラック幅に応じて幅狭
とするものであるが、この場合上述したフレームメツキ
法により狭トラツクコアを実現するには高アスペクト比
を有するレジストフレーム及びレジストカバー(9)の
形成技術が必要である。従来技術でのアスペクト比(膜
厚/幅)の限界は2〜3程度でありコアの磁気飽和を考
慮してコア厚3μm、つまりフレーム高さ3μmとする
とトラック幅Wアの最小限界は1μm程度となる。
In order to achieve a narrow trunk in such a thin film magnetic head, the front width WT is made narrower in accordance with the track width.In this case, in order to realize a narrow track core using the frame plating method described above, A technique for forming a resist frame and a resist cover (9) having a high aspect ratio is required. The limit of the aspect ratio (thickness/width) in the conventional technology is about 2 to 3. Considering the magnetic saturation of the core, if the core thickness is 3 μm, that is, the frame height is 3 μm, the minimum limit of the track width Wa is about 1 μm. becomes.

またメツキによる成膜はトラック幅によりその前方幅狭
部で組成変化が生し軟磁気特性が得られないことからこ
のような構成による場合、最小トラック幅には限界があ
る。
Furthermore, in film formation by plating, the composition changes in the front narrow portion depending on the track width, and soft magnetic properties cannot be obtained. Therefore, in the case of such a structure, there is a limit to the minimum track width.

またこの種の薄膜磁気ヘッドにおいて、エツチング法に
よるコア形成、すなわち例えばメツキ、蒸着、スパッタ
法等により成膜した磁性薄膜をコア形状を有するマスク
で覆い不必要な部分をエツチングによって取り除く場合
の従来技術における代表的な高精度エツチング方法とし
てのArイオンシャワーエツチングを適用する。これは
加速されたArイオンを被加工物に照射し、弾性衝突に
より被加工物を取り除く方法であるが、この場合Arイ
オンの被加工物の再不着現象を防ぐためにArイオン照
射は被加工物に対して斜めに照射する。このためエツチ
ングマスクすなわちレジストの後退現象(パターンの細
り)が生じエツチング後の被加工物の断面形状は台形と
なる。加えてArイオンシャワーエツチングの選択比す
なわ・ち薄膜コア材のエツチング率とマスク材例えばフ
ォトレジストのエツチング率との比は約1であるために
、Arイオンシャワーエツチングではコア断面形状のア
スペクト比が約0.8程度が限界となってしまう。すな
わちArイオンシャワーエツチングで加工可能な最小ト
ラック幅は現状ではコア厚さの1.25倍以上となる。
In addition, in this type of thin film magnetic head, the conventional technique involves forming a core by an etching method, that is, covering a magnetic thin film formed by plating, vapor deposition, sputtering, etc. with a mask having a core shape and removing unnecessary portions by etching. Ar ion shower etching is applied as a typical high-precision etching method. This is a method in which accelerated Ar ions are irradiated onto the workpiece and the workpiece is removed by elastic collision. irradiate diagonally. As a result, the etching mask or resist recedes (pattern thinning), and the cross-sectional shape of the workpiece after etching becomes trapezoidal. In addition, since the selectivity ratio of Ar ion shower etching, that is, the ratio of the etching rate of the thin film core material to the etching rate of the mask material, for example, photoresist, is approximately 1, the aspect ratio of the core cross-sectional shape is The limit is approximately 0.8. That is, the minimum track width that can be processed by Ar ion shower etching is currently 1.25 times or more the core thickness.

またこの種の薄膜磁気ヘッドにおいては、前述したよう
に狭トラツク化に伴ってバルクハウゼンノイズ等のS/
Nの低下の問題が生じる。これについて第16図を参照
して説明する。第16図においては、はぼ理想的な磁区
構造を示す。すなわち薄膜磁気ヘッドのコアの磁気特性
はコア内に生ずる磁区の影響を大きく受はコア内の磁区
制御が重要な問題である。すなわちその理想的磁区構造
はその主たる磁区の方向が磁束の流れに対して垂直ない
わゆる180°磁壁(61)からなり不必要な環流磁区
(62)が少ないことである。すなわちこの環流磁区は
バルクハウゼンノイズ等のノイズ特性、実効トラック幅
に影響する。
In addition, in this type of thin-film magnetic head, as mentioned above, as the track becomes narrower, S/N noise such as Barkhausen noise increases.
The problem of decreasing N arises. This will be explained with reference to FIG. 16. FIG. 16 shows an almost ideal magnetic domain structure. That is, the magnetic properties of the core of a thin film magnetic head are greatly influenced by the magnetic domains generated within the core, and control of the magnetic domains within the core is an important issue. That is, the ideal magnetic domain structure consists of a so-called 180° domain wall (61) in which the main domain direction is perpendicular to the flow of magnetic flux, and there are few unnecessary circulating magnetic domains (62). That is, this circulating magnetic domain affects noise characteristics such as Barkhausen noise and the effective track width.

通常のこの種の薄膜磁気コア材料においては、そのトラ
ック幅方向に異方性をもたせるようにするもので、例え
ばメツキに際して外部磁界を与えることによってトラッ
ク幅方向に磁気異方性をもたせる方法がとられる。とこ
ろがその前方部の幅WTの狭トラツク化が進むにつれ前
方端の幅狭部の反磁界が増大し、磁束の流れに対して垂
直な180″磁壁が得られ難くなり、またトラック幅方
向の両端に生ずる環流磁区の影響が無視できなくなり狭
トラツク化には限界がある。
Normally, this type of thin film magnetic core material is made to have anisotropy in the track width direction. For example, a method of giving magnetic anisotropy in the track width direction by applying an external magnetic field during plating is known. It will be done. However, as the track width WT at the front part becomes narrower, the demagnetizing field at the narrower part at the front end increases, making it difficult to obtain a 180" domain wall perpendicular to the flow of magnetic flux, and also at both ends in the track width direction. There is a limit to the narrowing of the track because the influence of the circulating magnetic domain that occurs on the ground cannot be ignored.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は上述した薄膜磁気ヘッドにおいてその狭トラツ
ク化に伴うバルクハウゼンノイズの低減化を図って狭ト
ラツク化の促進を図る。
The present invention aims to promote narrowing of the track in the above-mentioned thin film magnetic head by reducing Barkhausen noise that accompanies the narrowing of the track.

(課題を解決するための手段) 本発明においては第1図にその平面図を示し、第2図に
第1図のA−A線上の更に拡大した断面を、第3図に第
1図のB−B線上の断面図を示すように、第1の磁性薄
膜コア(1)と第2の磁性薄膜コア(2)とが磁気記録
媒体との対向部において非磁性薄膜(5)を介して積層
されて作動磁気ギャップgを形成するようになされ、少
なくとも一方の磁性薄膜コア図示の例では両画膜コア(
1)及び(2)が磁気記録媒体との対向部においてトラ
ック幅方向に幅狭とされた幅狭部(21)すなわち副ト
ラツク部を形成し、かつさらに少なくとも一方の磁性薄
膜コア図示の例では第1の磁性薄膜コア(1)の幅狭部
(21)にその厚さ方向に突出して幅狭部(21)の副
トラツク部よりさらに幅狭の凸部(22)が設けられ、
この凸部(22)の幅によって作動磁気ギャップgのト
ラック幅WTが規制されるようになされる。そして特に
この凸部(22)の厚さtがこの凸部(22)が設けら
れた磁性薄膜コア(1)の磁化の向き、すなわち磁区構
造に追従する磁化状態すなわち磁区構造となる厚さで更
にオフトラック特性を勘案した厚さ例えば1μm以下の
0.3μmに選定する。
(Means for Solving the Problems) In the present invention, FIG. 1 shows a plan view thereof, FIG. 2 shows a further enlarged cross section on line A-A in FIG. 1, and FIG. As shown in the cross-sectional view taken along the line B-B, the first magnetic thin film core (1) and the second magnetic thin film core (2) are connected to each other via a nonmagnetic thin film (5) at the part facing the magnetic recording medium. They are stacked to form an actuating magnetic gap g, with at least one magnetic thin film core, in the illustrated example, both film cores (
1) and (2) form a narrow part (21) narrowed in the track width direction in the part facing the magnetic recording medium, that is, a sub-track part, and furthermore, in the illustrated example, at least one of the magnetic thin film cores A convex portion (22) that protrudes in the thickness direction of the first magnetic thin film core (1) and is narrower than the sub-track portion of the narrow portion (21) is provided,
The track width WT of the working magnetic gap g is regulated by the width of the convex portion (22). In particular, the thickness t of this convex portion (22) is such that the direction of magnetization of the magnetic thin film core (1) on which this convex portion (22) is provided, that is, the magnetization state that follows the magnetic domain structure, that is, the thickness that results in a magnetic domain structure. Furthermore, the thickness is selected to be 1 μm or less, for example, 0.3 μm in consideration of off-track characteristics.

〔作用〕[Effect]

上述したように本発明においては、トラック幅W7の規
制を薄膜磁気コアの厚さ方向に一部突出した幅狭の凸部
(22)によって形成するようにしたものであ一部、こ
の凸部(22)の厚さはこの凸部(22)が設けられた
薄膜コアの幅狭部の磁区から連続した条件を保つことの
できる厚さに選定したことによって、これが幅狭となさ
れているにもかかわらず環流磁区による影響を効果的に
回避することができてバルクハウゼンノイズの低減化が
図られた狭トラツク例えば数μm以下例えば1μm以下
におよぶ薄膜磁気ヘッドを構成することができる。
As described above, in the present invention, the track width W7 is regulated by the narrow convex portion (22) partially protruding in the thickness direction of the thin film magnetic core. The thickness of (22) was selected to maintain a continuous condition from the magnetic domain of the narrow part of the thin film core where the convex part (22) is provided, so that the width is made narrower. Nevertheless, it is possible to construct a thin film magnetic head with a narrow track, for example, several micrometers or less, for example, one micrometer or less, which can effectively avoid the influence of circulating magnetic domains and reduce Barkhausen noise.

〔実施例〕〔Example〕

第1図〜第3図を参照して更に本発明の一実施例を説明
する。
An embodiment of the present invention will be further described with reference to FIGS. 1 to 3.

本発明においては第1の磁性薄膜コア(1)と第2の磁
性薄膜コア(2)との積層によって薄膜磁気ヘッドを構
成するものであり、第1図〜第3図において第1O図〜
第12図と対応する部分には同一符号を付して重複説明
を省略する。
In the present invention, a thin film magnetic head is constructed by laminating a first magnetic thin film core (1) and a second magnetic thin film core (2), and FIGS.
Portions corresponding to those in FIG. 12 are designated by the same reference numerals, and redundant explanation will be omitted.

この場合においても第10図〜第12図で説明したよう
にフレームメツキ法あるいは磁性薄膜を全面的に形成し
て後にエツチングによって所要のパターンに形成するこ
とができるものであるが、本発明においてはその磁気記
録媒体との対向部において非磁性薄膜(5)を介して積
層された作動磁気ギャップgを形成する少なくとも一方
の磁性薄膜コア、例えば第1の磁性薄膜コア(1)の前
方の幅狭部(21)にさらに幅狭の凸部(22)を設け
る。この幅狭部(21)におけるトラック幅方向の幅W
は、形状異方性、反磁界、環廂磁区の発生が生じにくい
程度の幅とする。
Even in this case, as explained in FIGS. 10 to 12, it is possible to form a desired pattern by frame plating or by forming a magnetic thin film on the entire surface and later etching it, but in the present invention, At least one magnetic thin film core forming an operating magnetic gap g laminated with a non-magnetic thin film (5) interposed therebetween in the part facing the magnetic recording medium, for example, a narrow width in front of the first magnetic thin film core (1). The portion (21) is further provided with a narrower convex portion (22). Width W in the track width direction at this narrow width portion (21)
The width should be such that shape anisotropy, demagnetizing field, and circumferential magnetic domains are unlikely to occur.

この凸部(22)の形成方法は種々の方法を採り得るも
のであるが、そのつ(つかの例を第4図〜第9図をそれ
ぞれ参照して説明する。第4図〜第9図はそれぞれ副ト
ラツク部(幅狭部(21))の形成部での断面を示す。
Various methods can be used to form the convex portion (22), and one example will be explained with reference to FIGS. 4 to 9, respectively. 1 and 2 respectively show cross sections at the forming portions of the sub-track portions (narrow width portions (21)).

第4図の例においては、第1の磁性薄膜コア(1)のみ
に凸部(22)を設けるようにした場合である。
In the example shown in FIG. 4, the convex portion (22) is provided only on the first magnetic thin film core (1).

この場合先ず第4図Aに示すように最終的に得る第1の
磁性薄膜コア(1)より厚い厚さの磁性薄膜(41)を
基板(3)の下地層(7)上に例えば磁界印加の下に電
気メツキによって全面的に形成する。そしてこの磁性薄
膜(41)上の最終的に凸部(22)を形成する部分に
、エツチングレジスト(50)例えばフォトレジストを
光学的手法すなわちフォトレジストの塗布、露光、現象
によって形成する。第4図Bに示すように、レジスト(
50)をマスクとしてエツチングを行ってレジスト(5
0)下にエツチングがなされない凸部(22)を形成す
るように他部をエツチングする。その後第4図Cに示す
ように、最終的に得る第1の磁性薄膜コア(1)の全体
のパターン形状に同様に例えばフォトレジストより成る
エツチングレジスト(51)を被着形成する。次にこの
レジスト(51)をマスクとして例えばArによるイオ
ンシャワーエツチング等によってレジスト(51)が被
着形成されていない部分の磁性薄膜(41)を除去する
In this case, first, as shown in FIG. 4A, a magnetic thin film (41) having a thickness thicker than the first magnetic thin film core (1) to be finally obtained is placed on the underlayer (7) of the substrate (3) by applying, for example, a magnetic field. It is formed entirely by electroplating under the . Then, an etching resist (50) such as a photoresist is formed on a portion of the magnetic thin film (41) where the convex portion (22) will finally be formed by an optical method, that is, photoresist coating, exposure, and phenomenon. As shown in Figure 4B, the resist (
Etching is performed using resist (50) as a mask to remove resist (50).
0) Etch other parts so as to form a convex part (22) that is not etched below. Thereafter, as shown in FIG. 4C, an etching resist (51) made of, for example, photoresist is similarly deposited over the entire pattern of the first magnetic thin film core (1) finally obtained. Next, using this resist (51) as a mask, the portions of the magnetic thin film (41) to which the resist (51) is not adhered are removed by, for example, ion shower etching using Ar.

その後エツチングレジスト(51)を除去すれば、第4
図りに示すように、所定のパターン第1の磁性薄膜コア
(1)が形成される。
After that, if the etching resist (51) is removed, the fourth
As shown in the figure, a first magnetic thin film core (1) in a predetermined pattern is formed.

このようにして形成された第1の磁性薄膜コア(1)は
、後方が幅広部とされ、前方に幅狭部(21)、すなわ
ち副トラツク部が形成され、これの上に凸部(22)が
形成されて成る。この第1の磁性薄膜コア(1)は例え
ばその厚さTが3μm、凸部の高さtが1μm以下の例
えは0.3μm、幅狭部(21)の幅Wが7〜10μm
、凸部(22)の幅すなわちトラック幅W、を1〜2μ
mになし得る。
The first magnetic thin film core (1) thus formed has a wide part at the rear, a narrow part (21), that is, a sub-track part, at the front, and a convex part (22) on top of this. ) is formed. This first magnetic thin film core (1) has a thickness T of, for example, 3 μm, a height t of a convex portion of 1 μm or less, for example, 0.3 μm, and a width W of a narrow portion (21) of 7 to 10 μm.
, the width of the convex portion (22), that is, the track width W, is 1 to 2μ.
M can be done.

第4図に示した例では、凸部(22)を形成するための
エツチングを行って後に、第1の磁性薄膜コア(1)の
パターニングのエツチングを行った場合であるが、これ
とは逆に第1の磁性薄膜コア(1)のパターニングを行
って後に凸部(22)を形成する肉薄化のエツチングを
行うこともできる。
In the example shown in FIG. 4, etching for patterning the first magnetic thin film core (1) is performed after etching for forming the convex portion (22), but this is the opposite. It is also possible to pattern the first magnetic thin film core (1) first and then perform thinning etching to form the convex portions (22).

また、第4図の例では、全面的に磁性薄膜(41)の形
成を行なった場合であるが、例えばフレームメツキ法に
よって所要のパターンの第1の磁性薄膜コア(1)を最
終的に得る厚さより大に形成し、その後第4図A及びB
で説明した凸部(22)を形成するエツチングを行うこ
ともできる。
In the example shown in FIG. 4, the magnetic thin film (41) is formed on the entire surface, but the first magnetic thin film core (1) with the desired pattern is finally obtained by, for example, a frame plating method. 4. A and B.
It is also possible to perform etching to form the convex portions (22) described in .

また、第1の磁性薄膜コア(1)を、凸部(22)にお
いて異なる磁性材、例えば飽和磁束密度の異なる材料に
よって構成することもできる。この場合の一例を第5図
を参照して説明する。この場合先ず例えば第5図Aに示
すように、フレームメツキ法等によって所要の厚さTの
第1の磁性薄膜コア(1)を形成する。第5図Bに示す
ように、最終的に得る凸部(22)の厚さtを有するコ
ア材層(53)を形成する。第5図Cに示すように、凸
部(22)の形成部にエツチングレジスト(50)を形
成し、第5図りに示すように、これをマスクとしてコア
材層(53)のエツチングを行ってレジスト(50)の
被着部下のみを凸部(22)として残す。
Further, the first magnetic thin film core (1) can be made of different magnetic materials in the convex portion (22), for example, materials with different saturation magnetic flux densities. An example of this case will be explained with reference to FIG. In this case, first, as shown in FIG. 5A, for example, a first magnetic thin film core (1) having a required thickness T is formed by a frame plating method or the like. As shown in FIG. 5B, a core material layer (53) having a thickness t of the convex portion (22) finally obtained is formed. As shown in FIG. 5C, an etching resist (50) is formed in the area where the convex portion (22) is formed, and as shown in the fifth diagram, the core material layer (53) is etched using this as a mask. Only the portion under the resist (50) to which the resist (50) is adhered is left as a convex portion (22).

また、凸部(22)の形成をエツチングによって形成す
る場合に限らず、例えば第6図に示すように、第1の磁
性薄膜(1)の形成前に基板(3)上(例えば基板(3
)上の下地膜(7)上)に予め、最終的に得る凸部(2
2)の形状及び厚さに対応する形状及び厚さの凸部すな
わち枕(54)を例えば下地膜(7)と同材料等によっ
て形成し、これの上に例えばフレームメツキ法によって
所要のパターン及び厚さTの第1の磁性薄膜コア(1)
を形成することによって枕(54)上に凸部(22)が
生ずるようになすことができる。この枕(54)を用い
る場合においてもフレームメツキ法によって所要のパタ
ーンの磁性薄膜コア(1)を形成する場合に限らず、枕
(54)上に磁性薄膜を全面的に形成して後エツチング
によって所要のパターンに形成することもできる。
Further, the formation of the convex portion (22) is not limited to the case where the convex portion (22) is formed by etching. For example, as shown in FIG.
) on the base film (7) on).
A convex portion, that is, a pillow (54) having a shape and thickness corresponding to the shape and thickness of 2) is formed, for example, from the same material as the base film (7), and a desired pattern and pattern are formed thereon by, for example, a frame plating method. First magnetic thin film core (1) with thickness T
By forming a protrusion (22) on the pillow (54). When using this pillow (54), it is not limited to forming a magnetic thin film core (1) with a desired pattern by frame plating, but also by forming a magnetic thin film on the entire surface of the pillow (54) and then etching it. It can also be formed into a desired pattern.

また、凸部(22)及び幅狭部(21)の断面形状も上
述した各図の例に示されるように方形とする場合に限ら
ず、例えば第7図に示すように、幅狭部(21)が両端
に漸次肉薄となるように或いは第8図に示すように凸部
(22)から幅狭部(21)に亘って漸次肉薄となるよ
うにすることもでき、そして、これら形状のコア(1)
を得るに当たっては第6図で説明した手法によってその
枕(54)の断面形状を凸部(22)及び幅狭部(21
)の断面に応じて選定しておくことによって形成できる
In addition, the cross-sectional shapes of the convex portion (22) and the narrow portion (21) are not limited to rectangular shapes as shown in the examples of the figures mentioned above. For example, as shown in FIG. 21) can be made to become gradually thinner at both ends, or from the convex part (22) to the narrow part (21) as shown in FIG. Core (1)
To obtain this, the cross-sectional shape of the pillow (54) is divided into a convex portion (22) and a narrow portion (21) by the method explained in FIG.
) can be formed by selecting the appropriate cross section.

尚、上述した例では第1の磁性薄膜コア(1)の凸部(
22)を形成した場合であるが、第2の磁性薄膜コア(
2)に、あるいは両磁性薄膜コア(1)及び(2)に設
けることもできる。この場合においても第2の磁性薄膜
コア(1)の凸部(22)上において作動磁気ギャップ
の非磁性薄膜(5)を介在させ、かつ第1図〜第3図で
示したように絶縁層(10)、巻線層(6)、絶縁層(
13)等の形成と共に第2の磁性薄膜コア(2)の凸部
(22)の形成部以外に第9図に示すようにSiO□等
の非磁性材(55)を配し、第2の磁性薄膜コア(2)
の形成を行うことによって形成できる。尚、この場合に
おいても枕(55)の断面形状の選定によって第7図及
び第8図で説明したと同様に第2の磁性薄膜コア(2)
についても種々の断面形状をとることができる。
In addition, in the above-mentioned example, the convex portion (
22), but the second magnetic thin film core (
2) or both magnetic thin film cores (1) and (2). In this case as well, the non-magnetic thin film (5) of the operating magnetic gap is interposed on the convex portion (22) of the second magnetic thin film core (1), and an insulating layer is formed as shown in FIGS. 1 to 3. (10), winding layer (6), insulating layer (
13), etc., a non-magnetic material (55) such as SiO□ is arranged as shown in FIG. Magnetic thin film core (2)
It can be formed by forming. In this case as well, by selecting the cross-sectional shape of the pillow (55), the second magnetic thin film core (2)
It is also possible to take various cross-sectional shapes.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述したように本発明においては、トラック幅W7の規
定を薄膜磁気コアの厚さ方向に一部突出した幅狭の凸部
(22)によって形成するようにしたものであり、この
凸部(22)の厚さはこの凸部(22)が設けられた薄
膜コアの幅狭部の磁区から連続した条件を保つことので
きる厚さに選定したことによって、これが幅狭となされ
ているにもかかわらす幅狭とすることによる環流磁区に
よる影響等を効果的に回避することができてバルクハウ
ゼンノイズの低減化が図られた狭トラツク例えば数μm
以下例えば1μm以下におよぶ薄膜磁気ヘッドを構成す
ることができる。
As described above, in the present invention, the track width W7 is defined by the narrow convex portion (22) partially protruding in the thickness direction of the thin film magnetic core. ) was selected to maintain a continuous condition from the magnetic domain in the narrow part of the thin film core where the convex part (22) is provided, even though the width is narrow. A narrow track, for example, several micrometers, can effectively avoid the effects of circulating magnetic domains and reduce Barkhausen noise.
For example, a thin film magnetic head with a thickness of 1 μm or less can be constructed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による薄膜磁気ヘッドの一例の路線的拡
大平面図、第2図及び第3図はそのA−A線及びB−B
線上の、断面図、第4図A−D、及び第5図A−Dはそ
れぞれその製造工程図、第6図〜第9図はそれぞれ磁性
薄膜コア断面図、第1O図は従来の薄膜磁気ヘッドの一
例の路線的拡大断面図、第11図及び第12図はそのA
−A線及びB−B線上の断面図、第13図〜第15図は
その構造工程図、第16図は磁区の説明図である。 (1)及び(2)は第1及び第2の磁性薄膜コア、(2
1)はその幅狭部(副トラツク部’) 、(22)は凸
部である。 第2図 第4 図 第 図 万酪千葎H更コア/l−#u+面図 第6図 第8図 ん主4住j4葵コアめ一郁断面図 第8図 第16図 往来の傭U喫石り紙ヘッドの平面口 笛10図 第12図 第11図 a′二 く 口 手続補正書 平成 2年 7月 日 1、事件の表示 平成 1年 特 許 願 第254090号 3、補正をする者 事件との関係
FIG. 1 is an enlarged plan view of an example of a thin film magnetic head according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are lines A-A and B-B.
4A-D and 5A-D are respective manufacturing process diagrams, FIGS. 6 to 9 are sectional views of the magnetic thin film core, and FIG. 1O is a conventional thin film magnetic Figures 11 and 12 are enlarged cross-sectional views of an example of the head.
13 to 15 are structural process diagrams thereof, and FIG. 16 is an explanatory diagram of magnetic domains. (1) and (2) are first and second magnetic thin film cores, (2)
1) is the narrow part (auxiliary track part'), and (22) is the convex part. Fig. 2 Fig. 4 Fig. Mangyokusenba H Sarakoa/l-#u+ side view Fig. 8 Fig. 4 Aoi core sectional view Fig. 8 Fig. 16 Access to the traffic Plane whistle of the paper head relationship with

Claims (1)

【特許請求の範囲】 第1の磁性薄膜コアと第2の磁性薄膜コアとが磁気記録
媒体との対向部において非磁性薄膜を介して積層されて
作動磁気ギャップを形成するようになされ、 少なくとも一方の磁性薄膜コアが磁気記録媒体との対向
部においてトラック幅方向に幅狭とされた幅狭部を有し
、 さらに少なくとも一方の磁性薄膜コアの上記幅狭部にそ
の厚さ方向に突出して上記幅狭部よりさらにトラック幅
方向に幅狭の凸部が設けられ、該凸部の幅によって上記
作動磁気ギャップのトラック幅が規制されるようになさ
れ、上記凸部はこの凸部を有する磁性薄膜部の磁化状態
に追従する磁化状態となるようにその厚さが選定された
薄膜磁気ヘッド。
[Scope of Claims] A first magnetic thin film core and a second magnetic thin film core are laminated with a nonmagnetic thin film interposed therebetween in a portion facing a magnetic recording medium to form an operating magnetic gap, and at least one The magnetic thin film core has a narrow part that is narrow in the track width direction at the part facing the magnetic recording medium, and the narrow part of at least one of the magnetic thin film cores has the above narrow part that protrudes in the thickness direction. A convex portion narrower in the track width direction than the narrow portion is provided so that the track width of the working magnetic gap is regulated by the width of the convex portion, and the convex portion is a magnetic thin film having the convex portion. A thin film magnetic head whose thickness is selected so that the magnetization state follows the magnetization state of the thin film magnetic head.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH01150212A (en) * 1987-12-07 1989-06-13 Hitachi Ltd Thin-film magnetic head

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