JPH03116001A - Production of grating - Google Patents

Production of grating

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JPH03116001A
JPH03116001A JP25430689A JP25430689A JPH03116001A JP H03116001 A JPH03116001 A JP H03116001A JP 25430689 A JP25430689 A JP 25430689A JP 25430689 A JP25430689 A JP 25430689A JP H03116001 A JPH03116001 A JP H03116001A
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JP
Japan
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magnetic
pattern
grating
resin layer
recording medium
Prior art date
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Pending
Application number
JP25430689A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Kobayashi
寛 小林
Jun Aketo
純 明渡
Fumio Koyama
文夫 小山
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP25430689A priority Critical patent/JPH03116001A/en
Publication of JPH03116001A publication Critical patent/JPH03116001A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To easily and accurately obtain grating patterns of a fine pitch by bringing magnetic colloidal fluid having a sufficiently small particle size of colloidal particles into contact with a magnetic recording medium to generate patterns, laminating and forming a metallic film thereon, then laminating and fixing a transparent resin layer and peeling the resin layer together with the metallic film. CONSTITUTION:The magnetization patterns complying with the grating patterns are formed when the grating patterns are written on the magnetic recording medium 2 by a magnetic head. The magnetic colloidal fluid consisting of colloidal particles of the particle sizes sufficiently smaller than the magnetization patterns gathers to the boundary parts of magnetic domains when the magnetic colloidal fluid 3 is brought into contact with the surface of this magnetic recording medium so as to be stuck thereon. The patterns of the magnetic colloidal fluid 3 of the same pitch as the pitch of the grating patterns are eventually obtd. After the metallic film 4 is laminated and formed on the patterns of such magnetic colloidal fluid, the transparent resin layer 5 is laminated thereon and is solidified; thereafter, the resin layer 5 is peeled together with the metallic film 4 from the magnetic recording medium 2, by which the reflection type surface relief grating having the desired grating patterns are obtd. The surface relief gratings of the reflection type and transmission type are easily obtd. at a low cost in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、空間光変調素子等に応用される回折格子や、
リニヤエンコーダやロータリーエンコーダ、ホログラム
スキャナ用ホログラムディスク、コンピュータホログラ
ム等に応用される格子パターンを作製するための格子作
製方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a diffraction grating applied to a spatial light modulation element, etc.
The present invention relates to a grating manufacturing method for manufacturing a grating pattern applied to linear encoders, rotary encoders, hologram disks for hologram scanners, computer holograms, etc.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

リニヤエンコーダやロータリーエンコーダ等に用いられ
る一定の周期構造を持つ格子パターンや。
A grating pattern with a certain periodic structure used in linear encoders, rotary encoders, etc.

コンピュータホログラムパターン等の不規則な格子パタ
ーンを作製する方法としては、従来からリソグラフィー
法を用いる方法や、レーザー光による干渉露光技術を利
用する方法が知られている。
As methods for producing irregular lattice patterns such as computer hologram patterns, methods using lithography and methods using interference exposure technology using laser light are conventionally known.

ここで、リソグラフィー法による格子の作製方法として
は、例えば、以下の如く行われる。
Here, as a method for producing a grating using a lithography method, for example, it is performed as follows.

先ず、ガラス等の基板上にCr、 A1等の金属を成膜
し、その上にフォトレジストを塗布する。そして、この
ようにして形成されたフォトレジスト層の上に所望の格
子パターンを持ったマスクを介してパターン露光し、フ
ォトレジストを現像後、金属層をエツチング除去して格
子開口部をあけ、最後にフォトレジストを除去して、格
子が作製される。
First, a metal film such as Cr or A1 is formed on a substrate such as glass, and a photoresist is applied thereon. Then, the photoresist layer formed in this way is pattern-exposed through a mask with a desired lattice pattern, and after the photoresist is developed, the metal layer is etched away to form lattice openings, and finally The photoresist is then removed to create a grid.

また、レーザー光による干渉露光技術を利用する方法で
は、上記リソグラフィー法でマスクを用いる代わりに、
ArレーザーやHe−Cdレーザー等のレーザー光束を
三光束用いて、この三光束をフォトレジスト上で干渉さ
せ、その周期的干渉縞によりフォトレジスト層をパター
ン露光する。そして、現像、エツチング、フォトレジス
トの除去の各工程を順に行って、格子を作製する。
In addition, in a method that uses interference exposure technology using laser light, instead of using a mask in the lithography method described above,
Using three laser beams such as an Ar laser or a He-Cd laser, the three beams are caused to interfere on the photoresist, and the photoresist layer is pattern-exposed by the periodic interference fringes. Then, the steps of development, etching, and removal of the photoresist are performed in order to produce a grid.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、上記格子作製方法のうち、リソグラフィー法
による格子作製方法では、光を用いてパターン露光を行
うため、パターンが微細化して例えばピッチが0,3〜
0.4μm以下ともなると1回折が生じ、正確なパター
ン露光ができなくなり、したがって、ある程度以上微細
な格子パターンを持った格子を作製することができない
という欠点がある。
By the way, among the above-mentioned grating manufacturing methods, in the grating manufacturing method using lithography, pattern exposure is performed using light, so the pattern becomes finer and has a pitch of, for example, 0.3~.
When the diameter is less than 0.4 μm, one diffraction occurs, making it impossible to perform accurate pattern exposure.Therefore, there is a drawback that a grating having a finer grating pattern than a certain degree cannot be manufactured.

また、レーザー光による干渉露光技術を利用する方法で
は、干渉パターンを利用するため、干渉により発生させ
得るパターン以外の格子パターンを持った格子を得るこ
とができない、また、光の波長による制限があり、微小
ピッチの作製は困難である。
In addition, since the method using interference exposure technology using laser light uses an interference pattern, it is not possible to obtain a grating with a grating pattern other than the pattern that can be generated by interference, and there are limitations due to the wavelength of the light. , it is difficult to fabricate fine pitch.

本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであって、そ
の目的とするところは、所望の格子パターン、特に、極
めて微細なピッチの格子パターンを持った格子を、容易
且つ確実に得ることができる。新規な格子作製方法を提
供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and its object is to easily and reliably obtain a desired grating pattern, particularly a grating having an extremely fine pitch. can. The object of the present invention is to provide a new method for producing a grid.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するため、本発明による格子作製方法で
は、基体上に石状に形成された磁気記録媒体に磁気ヘッ
ドを用いて所望の格子状の磁化パターンを記録し、この
磁化パターンが記録された磁気記録媒体上に、コロイド
粒子の粒径が上記磁化パターンに比して十分に小さい磁
性コロイド流体を接触させ、磁化パターンに対応した磁
性コロイド流体のパターンを生ぜしめ1次に、この磁性
コロイド流体のパターン上に金属被膜を積層形成した後
、固化していない透明な樹脂層を積層し、上記樹脂層を
固化した後、磁気記録媒体より金属被膜もろとも樹脂層
を剥履して反射型表面レリーフ格子を作製することを特
徴とする。
In order to achieve the above object, the method for producing a lattice according to the present invention uses a magnetic head to record a desired lattice-shaped magnetization pattern on a magnetic recording medium formed in a stone shape on a substrate, and this magnetization pattern is recorded. A magnetic colloidal fluid in which the colloidal particle size is sufficiently smaller than the magnetization pattern is brought into contact with the magnetic recording medium, and a pattern of the magnetic colloidal fluid corresponding to the magnetization pattern is generated. After forming a metal coating on the fluid pattern, an unsolidified transparent resin layer is laminated, and after the resin layer is solidified, both the metal coating and the resin layer are peeled off from the magnetic recording medium to form a reflective type. It is characterized by producing a surface relief grating.

また、上述の格子作製方法において、磁気記録媒体より
金属被膜もろとも樹脂層を剥離した後、さらに金属被膜
を樹脂層から除去して透過型表面レリーフ格子を作製す
ることを特徴とする。
Further, the above-described method for producing a grating is characterized in that after peeling off the resin layer together with the metal coating from the magnetic recording medium, the metal coating is further removed from the resin layer to produce a transmission type surface relief grating.

また、上述の格子作製方法において、磁性コロイド流体
を接触させ、磁化パターンに対応した磁性コロイド流体
のパターンを形成する際に、バイアス磁界を印加するこ
とを特徴とする。
Further, in the above-described grating manufacturing method, a bias magnetic field is applied when bringing the magnetic colloid fluid into contact and forming a pattern of the magnetic colloid fluid corresponding to the magnetization pattern.

ここで、基体には、ガラス基板や樹脂基板、模脂テープ
等が用いられる。基体上に石状に形成される磁気記録媒
体は、Fe2O3等の磁化膜で有っても良く、またCo
−Cr系等の垂直磁化膜を厚さ方向の所定の向きに均一
に磁化したもので有っても良い。
Here, a glass substrate, a resin substrate, a resin tape, or the like is used as the substrate. The magnetic recording medium formed in the shape of a stone on the substrate may be a magnetized film of Fe2O3 or the like, or may be made of a magnetized film of Fe2O3 etc.
It may also be a perpendicularly magnetized film, such as a -Cr-based film, magnetized uniformly in a predetermined direction in the thickness direction.

また、上記磁性コロイド流体は、コロイド粒子の粒径が
磁化パターンに比して十分に小さいもの。
Further, the magnetic colloid fluid has colloid particles whose particle size is sufficiently smaller than the magnetization pattern.

例えば、100〜200人の粒径のものである。For example, a particle size of 100 to 200 people.

上記金属被膜としては、反射型の場合には例えば金が用
いられ、透過型の場合にはケミカルエツチングが容易な
金属材料が用いられる。
As the metal coating, for example, gold is used in the case of a reflective type, and a metal material that can be easily chemically etched is used in the case of a transmission type.

また、上記透明樹脂としては、光硬化性樹脂や熱硬化性
樹脂等が用いられる。
Further, as the transparent resin, a photocurable resin, a thermosetting resin, or the like is used.

また、上記バイアス磁界印加手段としては、永久磁石や
電磁石、電磁コイル等が用いられる。
Further, as the bias magnetic field applying means, a permanent magnet, an electromagnet, an electromagnetic coil, etc. are used.

〔作   用〕[For production]

磁気記録媒体に磁気ヘッドで格子パターンを書き込むと
1面内方向若しくは面垂直方向に磁化された磁区の配列
により、格子パターンに従う磁化パターンが形成される
When a lattice pattern is written on a magnetic recording medium with a magnetic head, a magnetization pattern that follows the lattice pattern is formed by arranging magnetic domains that are magnetized in one plane or in a direction perpendicular to the plane.

磁化パターンの形成された磁気記録媒体の上に、磁化パ
ターンに比して十分に小さい粒径のコロイド粒子による
磁性コロイド流体、例えば上記磁区配列のピッチの1/
10程度の粒径をもつ磁性コロイド流体を接触させ付着
させると、磁性コロイド流体は磁区の境界部分に集まる
ので、結局磁化パターンと同一ピッチの磁性コロイド流
体のパターンが得られる。従って、この磁性コロイド流
体のパターン上に金属被膜を積層形成した後、固化して
いない透明な樹脂層を積層し、上記樹脂層を固化した後
、磁気記録媒体より金属被膜もろとも樹脂層を剥離する
ことにより、所望の格子パターンを有する反射型表面レ
リーフ格子が得られる。
A magnetic colloidal fluid made of colloidal particles having a particle size sufficiently smaller than that of the magnetization pattern is applied onto the magnetic recording medium on which the magnetization pattern is formed, for example, 1/1 of the pitch of the above magnetic domain arrangement.
When magnetic colloidal fluid having a particle size of about 10 mm is brought into contact and adhered, the magnetic colloidal fluid gathers at the boundaries of the magnetic domains, so that a pattern of magnetic colloidal fluid having the same pitch as the magnetization pattern is obtained. Therefore, after laminating a metal film on the pattern of this magnetic colloidal fluid, an unsolidified transparent resin layer is laminated, and after the resin layer is solidified, the resin layer together with the metal film is peeled off from the magnetic recording medium. By doing so, a reflective surface relief grating with the desired grating pattern is obtained.

また、上述のようにして得られた反射型表面レリーフ格
子の金属被膜を、エツチング等により樹脂層から除去す
ることにより、透過型表面レリーフ格子を得ることがで
きる。
Further, by removing the metal coating of the reflective surface relief grating obtained as described above from the resin layer by etching or the like, a transmission type surface relief grating can be obtained.

尚、磁気記録媒体に磁気ヘッドで格子パターンを書き込
む場合、磁気記録媒体として膜厚の所定の向きに均一に
磁化された垂直磁化膜を用い、垂直磁化用の磁気ヘッド
を用いると、記録密度の最大はおよそ250Kbits
/1nch程度まで可能である。
Note that when writing a lattice pattern on a magnetic recording medium with a magnetic head, if a perpendicular magnetization film that is uniformly magnetized in a predetermined direction of the film thickness is used as the magnetic recording medium, and a magnetic head for perpendicular magnetization is used, the recording density will be reduced. The maximum is approximately 250Kbits
/1 nch is possible.

すなわち、1 bitlo、 1 it mとなり、最
小0.1μmピッチで磁区を反転できる。従って、最小
で0.1μmピッチの垂直磁化パターンを磁気ヘッドに
より書き込み形成できる。
That is, it is 1 bitlo, 1 it m, and the magnetic domains can be reversed with a minimum pitch of 0.1 μm. Therefore, a perpendicular magnetization pattern with a minimum pitch of 0.1 μm can be written and formed using a magnetic head.

また、磁気記録媒体としてFe2O,等の磁化膜を用い
面内方向に磁化する場合は、垂直磁化膜を用いる場合程
の高記録密度は得られないが、磁化パターンの作製は極
めて容易となり、特にピッチが1μm以上の格子の作製
には極めて有効である。
In addition, when a magnetized film such as Fe2O is used as a magnetic recording medium and magnetized in the in-plane direction, it is not possible to obtain as high a recording density as when using a perpendicularly magnetized film, but it is extremely easy to create a magnetized pattern, and especially It is extremely effective for producing gratings with a pitch of 1 μm or more.

また、磁気記録媒体に磁性コロイド流体を接触させ、磁
化パターンに対応した磁性コロイド流体のパターンを形
成する際にバイアス磁界を印加した場合には、磁性コロ
イド流体の付着量を大幅に増加することができ、溝の深
い格子の作製が可能となる。
Furthermore, when a magnetic colloidal fluid is brought into contact with a magnetic recording medium and a bias magnetic field is applied when forming a pattern of magnetic colloidal fluid corresponding to a magnetization pattern, the amount of attached magnetic colloidal fluid can be significantly increased. This makes it possible to create lattices with deep grooves.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、本発明を図示の実施例に即して詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to illustrated embodiments.

第1図は本発明による格子作製方法の一例を示す工程説
明図であって、磁気記録媒体としてCo −Cr系等の
垂直磁化膜を用いた例である。ここで。
FIG. 1 is a process explanatory diagram showing an example of a method for producing a grating according to the present invention, and is an example in which a perpendicularly magnetized film such as a Co--Cr system is used as a magnetic recording medium. here.

リニアエンコーダ用の格子等を作製する場合には、例え
ば、第6図に示すように、樹脂テープや長尺ガラス基板
等からなる基体10上に、スパッタリング等により膜厚
0.6μm程度の垂直磁化膜を形成したものを用い、こ
の垂直磁化膜に、磁気ヘッド11により1〜5μm程度
のピッチでN5NS・・・の単周期の磁化パターン12
を書き込む、また、ロータリエンコーダ用の格子を作製
する場合には、第7図に示すように、ガラスや樹脂等か
らなる円板状の基体14上に、スパッタリング等により
膜厚0.6μm程度の垂直磁化膜を形成したものを用い
、この基体上に形成された垂直磁化膜に、磁気ヘッド1
1により1〜5μm程度のピッチでN5NS・・・・・
・の単周期の磁化パターン12を書き込む。
When producing a grid for a linear encoder, for example, as shown in FIG. 6, a perpendicular magnetization film with a thickness of about 0.6 μm is formed by sputtering or the like on a base 10 made of a resin tape, a long glass substrate, or the like. A single period magnetization pattern 12 of N5NS .
In addition, when producing a grating for a rotary encoder, as shown in FIG. A magnetic head 1 is attached to the perpendicular magnetization film formed on the substrate.
N5NS with a pitch of about 1 to 5 μm according to 1.
Write a single-period magnetization pattern 12.

第1図(1)は、上述のテープ状や円板状の基体1上に
形成された垂直磁化膜2に書き込み記録されたN5NS
・・・・・・の単周期の磁化パターンを模式的に示して
おり、図の左右方向はテープ10の長平方向あるいは円
板14の周方向に対応している。ここで、垂直磁化膜2
における小さな矢印が磁化の向きを示しており、第6図
や第7回に示す垂直磁化用の磁気ヘッド11による書き
込みの結果、磁気ヘッドに入力されるクロック信号13
の1,0に応じて磁化方向が垂直磁化膜2の厚み方向に
おいて互いに逆転した微小な磁区の配列、すなわち、垂
直磁化によるN5NS・・・・・・の単周期の磁化パタ
ーンが形成される。尚、この磁化パターンにおける磁区
配列のピッチは、0.1〜0.2μm程度まで小さくす
ることが可能である。
FIG. 1 (1) shows N5NS written and recorded on the perpendicular magnetization film 2 formed on the above-mentioned tape-shaped or disc-shaped substrate 1.
. . . schematically shows a single period magnetization pattern, and the left-right direction in the figure corresponds to the longitudinal direction of the tape 10 or the circumferential direction of the disk 14. Here, the perpendicular magnetization film 2
The small arrow in indicates the direction of magnetization, and as a result of writing by the magnetic head 11 for perpendicular magnetization shown in FIGS. 6 and 7, the clock signal 13 input to the magnetic head
1 and 0, an array of minute magnetic domains whose magnetization directions are mutually reversed in the thickness direction of the perpendicular magnetization film 2, that is, a single period magnetization pattern of N5NS due to perpendicular magnetization is formed. Note that the pitch of the magnetic domain arrangement in this magnetization pattern can be reduced to about 0.1 to 0.2 μm.

次に、第1図(1)に示す如く垂直磁化による磁化パタ
ーンを形成された垂直磁化膜2上に、周知のビッタ−法
を用いて粒径100〜200人程度の磁性コロイド流体
、例えば磁性トナーを付着させると、第1図(2)に示
すように、Fa磁性トナーは垂直磁化膜2に形成された
磁化パターンをなす磁区の墳界部に集まるため、磁化パ
ターンと同ピツチの周期パターンが磁性トナー3により
形成される。
Next, as shown in FIG. 1(1), a magnetic colloidal fluid having a particle size of about 100 to 200 particles, for example, magnetic When the toner is deposited, as shown in FIG. 1 (2), the Fa magnetic toner gathers in the mounds of the magnetic domains forming the magnetization pattern formed on the perpendicular magnetization film 2, so that it forms a periodic pattern with the same pitch as the magnetization pattern. is formed by the magnetic toner 3.

次に5第1図(3)に示すように、磁性トナー3によっ
て形成されたパターン(ビッタ−図形)の上に金等の金
属を蒸着やスパッタリングにより積層し、暦厚2000
人程度の金属被膜4を形成する。
Next, as shown in Figure 1 (3), a metal such as gold is laminated by vapor deposition or sputtering on the pattern (bitter figure) formed by the magnetic toner 3, and a thickness of 2000 mm is deposited.
A metal coating 4 about the size of a human body is formed.

尚、この金属被膜4形成後に、凹凸のみの位相格子とし
てその回折像をamしたところ、明瞭なフランホーファ
ー回折像を得ることができた。
After forming the metal coating 4, when the diffraction image was taken using an ammeter as a phase grating with only irregularities, a clear Fraunhofer diffraction image could be obtained.

次に、第1図(4)に示すように、金属被膜4の形成の
後に、その金属被膜4の上に光硬化性や熱硬化性の透明
樹脂5、例えば光学用エポキシ樹脂を塗布や流し込みに
より積重し、これに紫外線を照射するか熱を加えて硬化
させる。そして、透明樹脂/1!y5の固化後、第1図
(5)に示すように、垂直磁化膜2より金属被膜4もろ
とも樹脂MSを剥離して格子パターンのレプリカを作製
する。この時、金属被膜3は樹脂層5側にきれいに付着
されるため、凹凸の格子パターンを有する反射型表面レ
リーフ格子が得られる。この反射型表面レリーフ格子は
5金属被膜表面の凹凸パターンとして垂直磁化による磁
化パターンが写し取られており、磁化パターンと同じピ
ッチの表面反射型の格子であり1回折パターンも比較的
明瞭なものが得られた。尚、第1図(3)乃至第1図(
5)の工程を繰り返せば同一の反射型表面レリーフ格子
を次々に得ることができる。
Next, as shown in FIG. 1 (4), after forming the metal coating 4, a photocurable or thermosetting transparent resin 5, such as an optical epoxy resin, is applied or poured onto the metal coating 4. The materials are stacked together and cured by irradiating them with ultraviolet light or applying heat. And transparent resin/1! After solidification of y5, as shown in FIG. 1(5), the metal coating 4 and the resin MS are peeled off from the perpendicular magnetization film 2 to produce a replica of the lattice pattern. At this time, since the metal coating 3 is neatly adhered to the resin layer 5 side, a reflective surface relief grating having an uneven grating pattern is obtained. This reflection type surface relief grating has a magnetization pattern due to perpendicular magnetization copied as a concavo-convex pattern on the surface of the metal coating.It is a surface reflection type grating with the same pitch as the magnetization pattern, and the single diffraction pattern is relatively clear. Obtained. In addition, Fig. 1 (3) to Fig. 1 (
By repeating the step 5), the same reflective surface relief grating can be obtained one after another.

ところで、上述の反射型表面レリーフ格子を作製する場
合には、金属被膜材料として金を用いるとよいが、透過
型の回折格子等を作製する場合には、第1図(3)の工
程で1例えば、金の代わりにケミカルエツチングの容易
な金属材料を用いて金属被膜4を形成し、この後、第1
図(4)の工程で透明樹脂層5を積層形成し、樹脂の固
化後、第1図(5)に示すように垂直磁化膜2より金属
被膜4もろとも樹脂層5を剥離し、さらに、エツチング
により金属被膜4を樹脂層5から除去することにより、
第1図(6)に示すような透過型表面レリーフ格子を作
製することができる。
By the way, when producing the above-mentioned reflection type surface relief grating, it is preferable to use gold as the metal coating material, but when producing a transmission type diffraction grating etc., 1. For example, the metal coating 4 is formed using a metal material that can be easily chemically etched instead of gold, and then the first
A transparent resin layer 5 is laminated in the process shown in FIG. 1 (4), and after the resin is solidified, the metal coating 4 and the resin layer 5 are peeled off from the perpendicularly magnetized film 2 as shown in FIG. 1 (5), and further, By removing the metal coating 4 from the resin layer 5 by etching,
A transmission type surface relief grating as shown in FIG. 1(6) can be produced.

さて、以上説明したように、本発明による格子作製方法
によれば、1〜5μmピッチ程度の凹凸パターンからな
る回折格子を非常に簡単に作製でき、平面のみならず曲
面上にも回折格子の作成が可能になる。したがって、本
発明による格子作成方法は、エンコーダ等の格子パター
ンの作成に非常に有効である。
Now, as explained above, according to the grating manufacturing method according to the present invention, a diffraction grating consisting of an uneven pattern with a pitch of about 1 to 5 μm can be manufactured very easily, and a diffraction grating can be created not only on a flat surface but also on a curved surface. becomes possible. Therefore, the grid creation method according to the present invention is very effective in creating grid patterns for encoders and the like.

尚、上述の実施例では。数μmピッチ程度の周期格子を
作成する場合について述べたが、垂直磁化膜2の磁区配
列のピッチは、0.1〜0.2μm程度まで小さくする
ことが可能であるから、より微小なピッチの格子の作成
も可能である。
In addition, in the above-mentioned embodiment. Although we have described the case of creating a periodic grating with a pitch of several micrometers, the pitch of the magnetic domain array of the perpendicularly magnetized film 2 can be reduced to about 0.1 to 0.2 micrometers, so it is possible to create a periodic grating with a pitch of several micrometers. It is also possible to create a grid.

ところで、第1図に示す製造工程によって1反射型や透
過型の表面レリーフ格子を作製することができるが、こ
の方法では、第1図(2)の磁性コロイド流体(例えば
、磁性トナー)3の付着時に。
Incidentally, reflective or transmissive surface relief gratings can be produced by the manufacturing process shown in FIG. upon attachment.

磁性コロイド流体3の付着量が少なく、溝の深い格子を
作成することが難しいという問題が残る。
The problem remains that the amount of magnetic colloidal fluid 3 deposited is small and it is difficult to create a lattice with deep grooves.

そこで、この開運を克服する方法を、第2図に示す実施
例に即して説明する。
Therefore, a method for overcoming this bad luck will be explained based on the embodiment shown in FIG.

第2図は第1図の(2)の工程の別の実施例を示す図で
あって、この例では、垂直磁化膜2に磁気ヘッドにより
N5NS・・・の単周期磁化パターンを記録した後、磁
性コロイド流体3を付着させる際に、永久磁石7を基体
の裏面側に近接させて、バイアス磁界8を印加させなが
ら磁性コロイド流体3を付着させる。このように、磁性
コロイド流体の付着時に、垂直磁化媒体2にバイアス磁
界8を印加すると、垂直磁化媒体2より外部へ出射する
磁束のうち、バイアス磁界8と同じ方向に磁化された部
分(第2図においては上向き磁化の部分)より外部へ出
射する磁束密度が増加する。したノっで、ここに磁性コ
ロイド流体3を付着させるさバイアス磁界8が無いとき
に比べ、大幅に磁性:ロイド流体3の付着量が増加する
。尚、第2図番コ示す例の場合には、上向き磁化の部分
に磁性コ[イド流体が付着する。
FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of the step (2) in FIG. When attaching the magnetic colloidal fluid 3, the permanent magnet 7 is brought close to the back side of the substrate, and the magnetic colloidal fluid 3 is attached while applying a bias magnetic field 8. In this way, when the bias magnetic field 8 is applied to the perpendicularly magnetized medium 2 when the magnetic colloidal fluid is attached, the portion (the second In the figure, the magnetic flux density emitted to the outside increases from the upwardly magnetized portion. As a result, the amount of magnetic colloidal fluid 3 that adheres thereto increases significantly compared to when there is no bias magnetic field 8 that causes the magnetic colloidal fluid 3 to adhere there. In the case of the example shown in the second figure, the magnetic coid fluid adheres to the upwardly magnetized portion.

さて、第2図に示すようにして磁性コロイド4体3によ
る格子パターンを形成した後は、先の第1図(3)乃至
(5)の工程と同様に、金屑被膜4C按層、透明樹脂層
5への転写を行うことにより、凹凸の溝の深い格子パタ
ーンを有する反射型若しくは透過型の表面レリーフ格子
を作製することガできる。このようにして形成された溝
の深い格子は、回折効率が高く、実用上非常に有用とな
る。
Now, after forming the lattice pattern of the four magnetic colloids 3 as shown in FIG. By performing the transfer onto the resin layer 5, it is possible to produce a reflective or transmissive surface relief grating having a grating pattern with deep grooves. A grating with deep grooves formed in this manner has high diffraction efficiency and is very useful in practice.

次に、第3図及び第4図は本発明による格子作製方法の
別の実施例を示す工程説明図であって、磁気記録媒体と
してFe2O,等の面内磁化膜を用い、磁化パターンの
磁化方向を面内方向とした例である。
Next, FIGS. 3 and 4 are process explanatory diagrams showing another embodiment of the grating manufacturing method according to the present invention, in which an in-plane magnetized film such as Fe2O is used as a magnetic recording medium, and the magnetization of the magnetization pattern is This is an example in which the direction is the in-plane direction.

第3図(1)は、テープ状や円板状等に形成されたガラ
スや樹脂等からなる基体1の上に形成された面内磁化膜
2′に、例えば、第6図若しくは第7図に示すように、
磁気ヘッド11により1.0パターンを書き込み記録し
た、面内方向の磁化パターンを模式的に示しており、図
示の小さな矢印が磁化方向を示している。すなわち、磁
気ヘッド11による書き込みの結果、クロック信号13
の1,0に対応して面内磁化方向が互いに逆転した磁区
の配列が形成される。この磁区配列のピッチは、通常1
〜数μmである。尚、図の左右方向はテープ10の長手
方向あるいは円板14の周方向に対応している。
FIG. 3(1) shows, for example, FIG. As shown in
It schematically shows a magnetization pattern in the in-plane direction in which a 1.0 pattern was written and recorded by the magnetic head 11, and the small arrow shown in the figure indicates the magnetization direction. That is, as a result of writing by the magnetic head 11, the clock signal 13
An array of magnetic domains with mutually reversed in-plane magnetization directions is formed corresponding to 1 and 0 of . The pitch of this magnetic domain arrangement is usually 1
~ several μm. Note that the left-right direction in the figure corresponds to the longitudinal direction of the tape 10 or the circumferential direction of the disk 14.

次に、第3図(2)に示す如く面内磁化による磁化パタ
ーンを形成された面内磁化膜2′上に、周知のビッタ−
法を用いて粒径100〜200人程度の磁性コロイド流
体を付着させると、第3図(2)に示すように、磁性コ
ロイド流体3は面内磁化膜2′に形成された磁化パター
ンをなす磁区の境界部に集まるため、磁化パターンと同
ピツチの周期パターンが磁性コロイド流体3により形成
される。
Next, as shown in FIG. 3(2), a well-known bit pattern is applied onto the in-plane magnetized film 2' on which the magnetization pattern is formed by in-plane magnetization.
When a magnetic colloidal fluid with a particle size of about 100 to 200 particles is deposited using the method, the magnetic colloidal fluid 3 forms a magnetization pattern formed on the in-plane magnetized film 2', as shown in FIG. 3(2). Since the particles gather at the boundaries of the magnetic domains, a periodic pattern having the same pitch as the magnetization pattern is formed by the magnetic colloidal fluid 3.

次に、第3図(3)に示すように、磁性コロイド流体に
よって形成されたパターン(ビッタ−図形、の上に金等
の金属を蒸着やスパッタリングにより積石し、層厚20
001程度の金属被M4を形成する。
Next, as shown in FIG. 3 (3), metal such as gold is deposited on the pattern (bitter pattern) formed by the magnetic colloidal fluid by vapor deposition or sputtering, and a layer thickness of 20
A metal covering M4 of approximately 001 is formed.

次に、第3図(3)及び第4図(3)に示すように金属
被膜4を形成した後、第4図(4)に示すように、金属
被膜4の上に光硬化性や熱硬化性の透明樹脂5、例えば
光学用エポキシ樹脂を塗布や流し込みにより積石し、こ
れに紫外線を照射するが熱を加えて硬化させる。そして
、透明樹脂、l1ff5の固化後、第4図(5)に示す
ように、面内磁化膜2′より金属被膜4もろとも樹脂層
5を剥難して格子パターンのレプリカを作製する。この
時、金属被膜3は樹脂層S側にきれいに付着されるため
、凹凸の格子パターンを有する反射型表面レリーフ格子
が得られる。この反射型表面レリーフ格子は、金属被膜
表面の凹凸パターンとして面内磁化による磁化パターン
が写し取られており、磁化パターンと同じピッチの表面
反射型の格子である。尚、第4図(3)乃至第4図(5
)の工程を繰り返せば同一の反射型表面レリーフ格子を
次々に得ることができる。
Next, after forming the metal coating 4 as shown in FIG. 3 (3) and FIG. 4 (3), as shown in FIG. A curable transparent resin 5, for example, an optical epoxy resin, is stacked by coating or pouring, and is irradiated with ultraviolet rays, which is then cured by applying heat. After solidifying the transparent resin, l1ff5, as shown in FIG. 4(5), the metal coating 4 and the resin layer 5 are peeled off from the in-plane magnetized film 2' to produce a replica of the lattice pattern. At this time, since the metal coating 3 is neatly adhered to the resin layer S side, a reflective surface relief grating having an uneven grating pattern is obtained. This reflective surface relief grating is a surface reflective grating in which a magnetization pattern due to in-plane magnetization is copied as an uneven pattern on the surface of a metal coating, and has the same pitch as the magnetization pattern. In addition, Fig. 4 (3) to Fig. 4 (5)
) can be repeated to obtain the same reflective surface relief grating one after another.

ところで、上述の反射型表面レリーフ格子を作製する場
合には、金属被膜材料として金を用いるとよいが、透過
型の回折格子等を作製する場合には、第3図(3)及び
第4図(3)の工程で、例えば、金の代わりにケミカル
エツチングの容易な金属材料を用いて金属被膜4を形成
し、この後、第4図(4)の工程で透明樹脂層5を積層
形成し、樹脂の固化後、第4回(5)に示すように面内
磁化膜2′より金属被膜4もろとも樹脂層5を剥離し、
さらに、エツチングにより金属被膜4を樹脂層5から除
去することにより、第4図(6)に示すような透過型表
面レリーフ格子を作製することができる。
By the way, when producing the above-mentioned reflection type surface relief grating, it is preferable to use gold as the metal coating material, but when producing a transmission type diffraction grating etc., the method shown in Figs. In the step (3), for example, a metal film 4 is formed using a metal material that can be easily chemically etched instead of gold, and then a transparent resin layer 5 is laminated in the step (4) in FIG. After solidifying the resin, as shown in the fourth step (5), the metal coating 4 and the resin layer 5 are peeled off from the in-plane magnetized film 2'.
Furthermore, by removing the metal coating 4 from the resin layer 5 by etching, a transmission type surface relief grating as shown in FIG. 4(6) can be produced.

尚、金属被膜に金を用いた場合には、王水によりエツチ
ングして除去することができる。
In addition, when gold is used for the metal coating, it can be removed by etching with aqua regia.

ところで、第3図、第4図に示す作製工程により、面内
磁化膜2′を用いて格子パターンを作製できるが、この
場合も前述の垂直磁化膜を泪いた場合と同様に、磁性膜
から外部へ発生する磁束は強くなく、その結果、磁性コ
ロイド流体の付着が十分に行われず、深い溝を持った回
折格子の作製が困難であるという問題がある。
By the way, a lattice pattern can be manufactured using the in-plane magnetized film 2' by the manufacturing process shown in FIGS. The magnetic flux generated to the outside is not strong, and as a result, the adhesion of the magnetic colloidal fluid does not occur sufficiently, making it difficult to fabricate a diffraction grating with deep grooves.

そこで、これを改善するための方法として、第5図に示
すように、表面に水平な方向に磁化された面内磁化膜2
′に近接させて永久磁石7を配置し、この永久磁石7に
よりバイアス磁界8を印加させながら磁性コロイド流体
3を付着させる。このように、磁性コロイド流体3の付
着時にバイアス磁界8を印加する・と、面内磁化のうち
、磁化の方向が向き合っている境界より外部へ発散する
磁束密度が増加し、この部分に選択的に磁性コロイド流
体3が付着する。このとき、バイアス磁界なしのときに
比べ、磁性コロイド流体の付着量は大幅に増加する。し
たがって、第5図に示すようにして磁性コロイド流体3
による格子パターンを形成した後に、先の第3図(3)
及び第4図(3)の工程と同様に金属被膜4を積層し、
第4図(4)乃至第4図(5)の工程で透明樹脂層5へ
の転写を行うことにより、凹凸の溝の深い格子パターン
を有する反射型の表面レリーフ格子を作製することがで
き、さらに第4図(6)の工程で金属被膜を除去するこ
とにより、凹凸の溝の深い格子パターンを有する透過型
の表面レリーフ格子を作製することができる。
Therefore, as a method to improve this, as shown in FIG.
A permanent magnet 7 is disposed close to the magnetic colloidal fluid 3 while applying a bias magnetic field 8 using the permanent magnet 7. In this way, when the bias magnetic field 8 is applied when the magnetic colloidal fluid 3 is attached, the magnetic flux density that diverges outward from the boundary where the direction of magnetization is facing increases among the in-plane magnetization, and the magnetic flux density is selectively applied to this part. The magnetic colloidal fluid 3 is attached to the magnetic colloidal fluid 3. At this time, the amount of attached magnetic colloid fluid increases significantly compared to when there is no bias magnetic field. Therefore, as shown in FIG.
After forming the lattice pattern according to the previous figure 3 (3)
Then, a metal coating 4 is laminated in the same manner as in the step of FIG. 4 (3),
By performing the transfer onto the transparent resin layer 5 in the steps shown in FIG. 4(4) to FIG. 4(5), a reflective surface relief grating having a deep grating pattern of uneven grooves can be produced. Further, by removing the metal film in the step of FIG. 4(6), a transmission type surface relief grating having a grating pattern with deep grooves of unevenness can be produced.

さて、以上のようにして形成された溝の深い格子は1回
折効率が高く、実用上非常に有用となる。
Now, the grating with deep grooves formed as described above has a high single diffraction efficiency and is very useful in practice.

尚、第2図及び第5図に示した実施例においては、何れ
もバイアス磁界の印加手段として永久磁石を用いた例を
示したが、永久磁石に限らず、電磁石や電磁コイル等に
よってバイアス磁界を印加することも可能である。
In the embodiments shown in FIGS. 2 and 5, permanent magnets were used as means for applying the bias magnetic field. It is also possible to apply

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、図示の実施例に基づいて説明したように。 As described above based on the illustrated embodiment.

本発明によれば、新規な格子作製方法を提供することが
できる。
According to the present invention, a novel method for producing a grid can be provided.

本発明による格子作製方法では、反射型及び透過型の表
面レリーフ格子を容易且つ確実に且つ低価格で得ること
ができる。特に、磁気記録媒体として垂直磁化膜を用い
、これに垂直磁化用の磁気ヘッドで磁気パターンを書き
込む方法では、最小0.1μmピッチの超微細な格子パ
ターンの作成が実現可能である。これは従来の格子パタ
ーン形成では、X線によるパターン描画で辛うじて可能
であるが、X線描画ではこれに必要なマスクの作製が困
難であり、実際には実現困難である。しかるに。
With the grating manufacturing method according to the present invention, reflective and transmissive surface relief gratings can be obtained easily, reliably, and at low cost. In particular, by using a perpendicular magnetization film as a magnetic recording medium and writing a magnetic pattern thereon with a magnetic head for perpendicular magnetization, it is possible to create an ultra-fine lattice pattern with a minimum pitch of 0.1 μm. In conventional lattice pattern formation, this is barely possible by pattern drawing using X-rays, but with X-ray drawing, it is difficult to produce the mask necessary for this, and it is difficult to actually achieve this. However.

本発明では、上述の如く超微細な格子パターンを持つ格
子の作製を容易に実現することができる。
According to the present invention, it is possible to easily produce a grating having an ultra-fine grating pattern as described above.

また1面内磁化による磁化パターンを形成する場合は、
特に1μm以上のピッチを持つ格子の作製を極めて簡単
にするものである。
In addition, when forming a magnetization pattern by one-plane magnetization,
In particular, it simplifies the production of gratings having a pitch of 1 μm or more.

また9本発明による格子作製方法において、磁性コロイ
ド流体によるパターン形成時にバイアス磁界を印加した
場合には、磁性コロイド流体の付着量を大幅に増加する
ことができる。従って、凹凸の溝の深い格子の作製が可
能となり1回折効率の向上を図ることができ実用上非常
に有用となる。
Furthermore, in the grating manufacturing method according to the present invention, if a bias magnetic field is applied during pattern formation using magnetic colloidal fluid, the amount of adhered magnetic colloidal fluid can be significantly increased. Therefore, it is possible to fabricate a grating with deep uneven grooves, and it is possible to improve the single diffraction efficiency, which is very useful in practice.

また1本発明では、格子パターンを磁気記録媒体に磁気
ヘッドで書き込むため、大面積化も容易であり、さらに
、格子パターンも種々のパターンを容易に実現できる。
Furthermore, in the present invention, since the lattice pattern is written on the magnetic recording medium by a magnetic head, it is easy to increase the area, and furthermore, various lattice patterns can be easily realized.

従って、実施例に示したようなエンコーダ用の格子に限
らず、空間光変調素子用の回折格子等も作製可能であり
、また、コンピュータで計算したホログラムパターンを
磁気ヘッドにより書き込むことにより、コンピュータホ
ログラムパターンを有する位相型ホログラムをも格子と
して容易に作製することができる。
Therefore, it is possible to fabricate not only gratings for encoders as shown in the examples, but also diffraction gratings for spatial light modulators, etc. Also, by writing a hologram pattern calculated by a computer with a magnetic head, computer holograms can be created. A phase-type hologram having a pattern can also be easily produced as a grating.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による格子作製方法の一実施例を示す図
であって、磁気記録媒体に垂直磁化膜を用いた場合の工
程説明図、第2図は第1図の工程において、磁性コロイ
ド流体によるパターン形成時にバイアス磁界を印加した
場合の説明図である。 第3図及び第4図は本発明による格子作製方法の別の実
施例を示す図であって、磁気記録媒体に面内磁化膜を用
いた場合の工程説明図、第5図は第3図の工程において
、磁性コロイド流体によるパターン形成時にバイアス磁
界を印加した場合の説明図である。第6図はテープ状の
基体上に形成された磁気記録媒体への磁化パターンの書
き込み方法の説明図、第7図は円板状の基体上に形成さ
れた磁気記録媒体への磁化パターンの書き込み方法の説
明図である。 1・・・・基体、2・・・・垂直磁化用の磁気記録媒体
、2′・・・・面内磁化用の磁気記録媒体、3・・・・
磁性コロイド流体、4・・・・金属被膜、5・・・・透
明樹脂、7・・・・バイアス磁界印加用の永久磁石、8
・・・・バイアス磁界。 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the grating manufacturing method according to the present invention, and is an explanatory diagram of the process when a perpendicularly magnetized film is used for the magnetic recording medium, and FIG. FIG. 6 is an explanatory diagram when a bias magnetic field is applied during pattern formation using a fluid. 3 and 4 are diagrams showing another embodiment of the grating manufacturing method according to the present invention, and are process explanatory diagrams when an in-plane magnetized film is used in the magnetic recording medium, and FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram when a bias magnetic field is applied during pattern formation using a magnetic colloid fluid in the process of FIG. Fig. 6 is an explanatory diagram of a method of writing a magnetization pattern onto a magnetic recording medium formed on a tape-shaped substrate, and Fig. 7 is an explanatory diagram of a method of writing a magnetization pattern onto a magnetic recording medium formed on a disk-shaped substrate. It is an explanatory diagram of a method. 1...Substrate, 2...Magnetic recording medium for perpendicular magnetization, 2'...Magnetic recording medium for in-plane magnetization, 3...
Magnetic colloidal fluid, 4... Metal coating, 5... Transparent resin, 7... Permanent magnet for applying bias magnetic field, 8
...Bias magnetic field. fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig fig.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、表面レリーフ形の格子パターンを作製する方法であ
って、基体上に層状に形成された磁気記録媒体に磁気ヘ
ッドを用いて所望の格子状の磁化パターンを記録し、こ
の磁化パターンが記録された磁気記録媒体上に、コロイ
ド粒子の粒径が上記磁化パターンに比して十分に小さい
磁性コロイド流体を接触させ、磁化パターンに対応した
磁性コロイド流体のパターンを生ぜしめ、次に、この磁
性コロイド流体のパターン上に金属被膜を積層形成した
後、固化していない透明な樹脂層を積層し、上記樹脂層
を固化した後、磁気記録媒体より金属被膜もろとも樹脂
層を剥離して反射型表面レリーフ格子を作製することを
特徴とする格子作製方法。 2、表面レリーフ形の格子パターンを作製する方法であ
って、基体上に層状に形成された磁気記録媒体に磁気ヘ
ッドを用いて所望の格子状の磁化パターンを記録し、こ
の磁化パターンが記録された磁気記録媒体上に、コロイ
ド粒子の粒径が上記磁化パターンに比して十分に小さい
磁性コロイド流体を接触させ、磁化パターンに対応した
磁性コロイド流体のパターンを生ぜしめ、次に、この磁
性コロイド流体のパターン上に金属被膜を積層形成した
後、固化していない透明な樹脂層を積層し、上記樹脂層
を固化した後、磁気記録媒体より金属被膜もろとも樹脂
層を剥離し、さらに、金属被膜を樹脂層から除去して透
過型表面レリーフ格子を作製することを特徴とする格子
作製方法。 3、請求項1、請求項2記載の格子作製方法において、
磁性コロイド流体を接触させ、磁化パターンに対応した
磁性コロイド流体のパターンを形成する際に、バイアス
磁界を印加することを特徴とする格子作製方法。
[Claims] 1. A method for producing a surface relief lattice pattern, which comprises recording a desired lattice-shaped magnetization pattern on a magnetic recording medium formed in layers on a substrate using a magnetic head; Contacting a magnetic colloidal fluid in which the particle size of colloid particles is sufficiently smaller than that of the magnetization pattern on the magnetic recording medium on which this magnetization pattern is recorded, producing a pattern of the magnetic colloid fluid corresponding to the magnetization pattern, Next, a metal coating is laminated on the magnetic colloidal fluid pattern, an unsolidified transparent resin layer is laminated, and after the resin layer is solidified, the metal coating and the resin layer are removed from the magnetic recording medium. A method for producing a grating characterized by producing a reflective surface relief grating by peeling. 2. A method for producing a surface relief-type lattice pattern, in which a desired lattice-shaped magnetization pattern is recorded on a magnetic recording medium formed in layers on a substrate using a magnetic head, and this magnetization pattern is recorded. A magnetic colloidal fluid whose colloidal particles have a particle size sufficiently smaller than the magnetization pattern is brought into contact with the magnetic recording medium, to produce a pattern of magnetic colloidal fluid corresponding to the magnetization pattern, and then the magnetic colloid is After forming a metal coating over the fluid pattern, an unsolidified transparent resin layer is laminated, and after the resin layer is solidified, the metal coating and the resin layer are peeled off from the magnetic recording medium. A method for producing a grating, characterized in that a coating is removed from a resin layer to produce a transmission type surface relief grating. 3. In the method for producing a grid according to claims 1 and 2,
A method for producing a grating characterized by applying a bias magnetic field when bringing magnetic colloidal fluid into contact and forming a pattern of magnetic colloidal fluid corresponding to a magnetization pattern.
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