JPH03113754A - Production of magneto-optical disk - Google Patents

Production of magneto-optical disk

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JPH03113754A
JPH03113754A JP24865889A JP24865889A JPH03113754A JP H03113754 A JPH03113754 A JP H03113754A JP 24865889 A JP24865889 A JP 24865889A JP 24865889 A JP24865889 A JP 24865889A JP H03113754 A JPH03113754 A JP H03113754A
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JP
Japan
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film
magneto
optical disk
recording
sputtering
Prior art date
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Pending
Application number
JP24865889A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Nanba
義幸 難波
Akira Shioda
明 潮田
Masami Tsutsumi
正巳 堤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03113754A publication Critical patent/JPH03113754A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve a recording sensitivity by specifying the sputtering film forming speed of a recording film. CONSTITUTION:The magneto-optical disk 5 is formed by successively forming a 1st protective film 2, the recording film 3 and a 2nd protective film 4 on a disk substrate 1. The sputtering forming speed of the film 3 of the magneto- optical disk constituted in such a manner is set as low as 0.1 to 6nm/min. The recording film having a high transmittance and low reflectivity is obtd. in this way. Oxidation progresses and the signal quality degrades if the sputtering speed is lower than 0.1nm/min. In addition, too much time is required for the film formation and such film formation is not adequate for mass production. Oxidation is inadequate and the light transmittance is high so that the reforming to the film having the low reflectivity is not possible under the conditions faster than 6nm/min.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光磁気ディスクに関し、 記録感度の優れた光磁気ディスクを実用化することを目
的とし、 案内溝を設けた光ディスク基板上に第1の保護膜、記録
膜、第2の保護膜と順次に形成する光磁気ディスクにお
いて、記録膜のスパッタリング成膜速度を0.1〜6n
m/分とすることを特徴とじて光磁気ディスクの製造方
法を構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding a magneto-optical disk, the purpose of the present invention is to put into practical use a magneto-optical disk with excellent recording sensitivity. In the magneto-optical disk which is formed sequentially with the second protective film, the sputtering deposition rate of the recording film is set to 0.1 to 6n.
m/min.

(産業上の利用分野〕 本発明は記録感度の優れた光磁気ディスクに関する。(Industrial application field) The present invention relates to a magneto-optical disk with excellent recording sensitivity.

光磁気ディスクは記録媒体を垂直磁化している磁性膜で
形成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加え
ながら、レーザ光を照射すると、照射された磁性膜が温
度上昇することによって磁性膜の保磁力が減少して磁化
反転するのを利用し、情報の記録と消去とを行うメモリ
である。
In a magneto-optical disk, the recording medium is made of a perpendicularly magnetized magnetic film, and when a laser beam is irradiated while applying an external perpendicular magnetic field in the direction opposite to the magnetization direction, the temperature of the irradiated magnetic film increases, causing it to become magnetic. This is a memory that records and erases information by utilizing magnetization reversal as the coercive force of the film decreases.

そして、情報の再生は磁性膜にレーザ光を照射した場合
に反射光の偏光面が回転するが、この回転方向が磁性膜
の磁化方向により異なるのを利用して行われている。
Information is reproduced by utilizing the fact that when the magnetic film is irradiated with laser light, the plane of polarization of the reflected light rotates, and the direction of this rotation differs depending on the magnetization direction of the magnetic film.

このように光磁気ディスクは情報の書き換え可能なメモ
リ(t!rasable Memory)である点に特
徴がある。
As described above, the magneto-optical disk is characterized in that it is a memory (t!rasable memory) in which information can be written.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は光磁気ディスクの構成を示すもので、厚さが約
1.2閣のディスク状をしたガラス基板の上にアクリル
酸エステルなどの紫外線硬化樹脂を用いて型形成を行い
、案内溝の付いたディスク基板1が形成されている。
Figure 2 shows the structure of a magneto-optical disk.A mold is formed using an ultraviolet curing resin such as acrylic ester on a disk-shaped glass substrate approximately 1.2 mm thick, and guide grooves are formed. A disk substrate 1 with a mark is formed.

また、ガラス基板を用いずに直接に樹脂注型を行うこと
により案内溝の付いたディスク基板1を形成することも
行われている。
Furthermore, the disk substrate 1 with guide grooves is also formed by direct resin casting without using a glass substrate.

か\るディスク基板1の上に二酸化硅素(Si02)や
窒化硅素(SiJ<)などからなり、厚さが約1000
人の第1の保護膜2をスパッタ法などにより形成し、こ
の上にテルビウム・鉄・コバルト(Tb−Fe−Co)
など希土類金属と遷移金属との非晶質合金よりなり、厚
さが約1000人の記録膜3を同様にスパッタ法などに
より形成し、更にこの上に第1の保護膜2と同様な材質
と厚さの第2の保護膜4を形成して光磁気ディスク5が
形成されている。
On top of the disk substrate 1 is a substrate made of silicon dioxide (Si02), silicon nitride (SiJ<), etc., with a thickness of approximately 1000 mm.
A first protective film 2 is formed by sputtering or the like, and terbium-iron-cobalt (Tb-Fe-Co) is deposited on top of this.
A recording film 3 made of an amorphous alloy of rare earth metals such as rare earth metals and transition metals and having a thickness of approximately 1000 mm is similarly formed by sputtering or the like. A magneto-optical disk 5 is formed by forming a thick second protective film 4.

か\る光磁気ディスク5はレーザ光をレンズによって直
径が1μmの小さなスポットに絞り込み案内溝に沿って
記録膜3を走査することにより情報が記録されている。
Information is recorded on the magneto-optical disk 5 by focusing laser light into a small spot with a diameter of 1 μm using a lens and scanning the recording film 3 along a guide groove.

従って1ビツトの情報記録に要する面積が1μm2程度
で足りる。
Therefore, the area required to record one bit of information is only about 1 μm2.

そのため、1ビツトの情報記録に数10〜数100μm
2の面積が必要な磁気ディスクに較べると遥かに少なく
て済み、従って大容量記録が可能で、情報処理装置のフ
ァイルメモリとして期待されている。
Therefore, it takes several tens to hundreds of micrometers to record one bit of information.
Compared to a magnetic disk, which requires an area of 2,000 yen, the area is much smaller than that of a magnetic disk, and therefore, large-capacity recording is possible, and it is expected to be used as a file memory for information processing devices.

然し、光磁気ディスクは磁気ディスクに較べるとデータ
転送速度が遅いと云う問題がある。
However, magneto-optical disks have a problem in that their data transfer speed is slower than that of magnetic disks.

すなわち、磁気ディスクのデータ転送速度が約3Mバイ
ト/秒であるのに対して0.8Mバイト/秒と遅く、こ
の向上が要望されている。
That is, while the data transfer rate of a magnetic disk is about 3 Mbytes/sec, it is slower at 0.8 Mbytes/sec, and there is a desire to improve this speed.

こ\で、データ転送速度を速くするにはディスクの回転
数を増せばよいが、回転数を増すためにはレーザパワー
が不足し、そのため信号を充分に記録できなくなる。
In order to increase the data transfer speed, it is possible to increase the number of revolutions of the disk, but increasing the number of revolutions requires insufficient laser power, which makes it impossible to record sufficient signals.

すなわち、未飽和記録になってしまう。In other words, unsaturated recording results.

この問題を解決するには記録膜の感度を上げることが必
要である。
To solve this problem, it is necessary to increase the sensitivity of the recording film.

そこで、記録膜の感度を向上する手段として次のような
方法が検討されている。
Therefore, the following method is being considered as a means to improve the sensitivity of the recording film.

■ 記録膜の膜厚を薄くす゛る。■ Decrease the thickness of the recording film.

■ 第1保護膜の屈折率を上げて反射率を下げることに
より記録膜の光吸収を増加させる。
(2) Increase the light absorption of the recording film by increasing the refractive index and lowering the reflectance of the first protective film.

然し、■の記録膜の膜厚を薄くすると透過光量が増すこ
とから、反射膜を第2の保護膜との間に設けることが必
要となるが、この場合は構造が複雑となる以外に、熱伝
導率の低い材料を使用しないと熱が反射膜を通って逃げ
、感度上昇にならないと云う問題がある。
However, if the thickness of the recording film (2) is made thinner, the amount of transmitted light increases, so it becomes necessary to provide a reflective film between it and the second protective film, but in this case, in addition to complicating the structure, Unless a material with low thermal conductivity is used, there is a problem in that heat will escape through the reflective film and sensitivity will not increase.

また、■の第1の保護膜としては現在Si3N4のよう
に屈折率の高い材料が使用されており、ディスクの反射
率は30%程度になっているが、透過率を0として反射
率を10%にまで下げたとしても、必要なレーザパワー
は (1−0,3)/(1−0,1) =0.78となり、
従来よりも22%程度低減できるだけで大幅な改善は望
めない。
Furthermore, materials with a high refractive index such as Si3N4 are currently used as the first protective film in (2), and the reflectance of the disk is approximately 30%. %, the required laser power is (1-0,3)/(1-0,1) = 0.78,
It can only be reduced by about 22% compared to the conventional method, and no significant improvement can be expected.

このように有効な方法は見出されていない。No such effective method has been found.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

以上記したように記録膜の感度を上げる方法として各種
の方法が検討されているが、何れも不充分である。
As described above, various methods have been studied to increase the sensitivity of the recording film, but all of them are insufficient.

そこで、他に悪い影響を及ぼすことなく感度を向上させ
る方法を見出すことが課題である。
The challenge, then, is to find a way to improve sensitivity without adversely affecting others.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の課題は案内溝を設けた光ディスク基板上に第1の
保護膜、記録膜、第2の保護膜と順次に形成する光磁気
ディスクにおいて、記録膜のスパッタリング成膜速度を
0.1〜6nm/分とすることを特徴として光磁気ディ
スクの製造方法を構成することにより解決することがで
きる。
The above-mentioned problem is to reduce the sputtering deposition rate of the recording film to 0.1 to 6 nm in a magneto-optical disk in which a first protective film, a recording film, and a second protective film are sequentially formed on an optical disc substrate provided with a guide groove. This can be solved by configuring the method for manufacturing a magneto-optical disk with the characteristic that the speed is 1/min.

〔作用] 本発明は記録膜の膜質を変えることにより高感度化を実
現するものである。
[Function] The present invention realizes high sensitivity by changing the film quality of the recording film.

すなわち、記録膜は希土類金属と遷移金属金属との非晶
質合金、具体的にはテルビウム・鉄・コバルト(TbF
eCo)、ガドリニウム・鉄・ビスマス(GaFeBi
) +ガドリニウム・鉄(GaFe)などから構成され
ているが、カー回転角が大きなことから多くの場合Tb
FeCo系の非晶質合金が用いられている。
That is, the recording film is made of an amorphous alloy of rare earth metals and transition metals, specifically terbium-iron-cobalt (TbF).
eCo), gadolinium/iron/bismuth (GaFeBi)
) + gadolinium, iron (GaFe), etc., but in many cases Tb is used due to the large Kerr rotation angle.
A FeCo-based amorphous alloy is used.

こ−で、光磁気ディスクの劣化は記録膜の吸湿による酸
化によって生ずることから第2図に示すようにディスク
基板1の上に記録膜3を挟んで第1の保護膜2と第2の
保護膜4を設けることにより酸化を防ぐと共に、保護膜
自体の組成を工夫することにより記録膜の酸化を防いで
いる。
Since deterioration of magneto-optical disks is caused by oxidation due to moisture absorption in the recording film, as shown in FIG. The provision of the film 4 prevents oxidation, and the composition of the protective film itself is devised to prevent oxidation of the recording film.

すなわち、第1および第2の保護膜2,4を二酸化硅素
(SiOz)で構成する代わりに5iOzとテルビウム
(Tb)の固溶体で構成することにより、たとえ湿気が
浸透してきた場合でもTbが酸化することによって記録
膜3の酸化を防いでいる。
That is, by forming the first and second protective films 2 and 4 from a solid solution of 5iOz and terbium (Tb) instead of silicon dioxide (SiOz), even if moisture penetrates, Tb will be oxidized. This prevents the recording film 3 from being oxidized.

このように、従来は記録膜の酸化を防ぎ、記録膜を希土
類金属と遷移金属金属との非晶質合金、具体的にはTb
FeCoのみで構成することを主眼として光磁気ディス
クが構成されていたが、本発明は記録膜を信号品質が低
下しない範囲で酸化したもので構成することにより、光
の透過率が高く、反射率の低い膜に改質するものである
In this way, conventional methods have been used to prevent oxidation of the recording film, and to prepare the recording film using an amorphous alloy of rare earth metals and transition metals, specifically Tb.
Magneto-optical disks have been constructed primarily from FeCo, but in the present invention, the recording film is oxidized to the extent that signal quality does not deteriorate, resulting in high light transmittance and high reflectance. This modifies the film to have a low

然し、この酸化を酸素分圧を高めて行う場合は記録膜の
明瞭な酸化が生じて品質が劣化する。
However, when this oxidation is carried out by increasing the oxygen partial pressure, clear oxidation of the recording film occurs and quality deteriorates.

そこで、本発明は従来に較べてスパッタ速度を極端に遅
くして膜形成を行うことにより光透過率が高く、反射率
の低い記録膜を実現するものである。
Therefore, the present invention realizes a recording film with high light transmittance and low reflectance by forming the film at an extremely low sputtering speed compared to the conventional method.

すなわち、従来のスパッタ速度は15〜20nm/分の
値が採られているが、スパッタガス圧は従来のま\とし
、スパッタ速度だけを0.1〜60m/分と遅くし、時
間をかけて膜形成を行うことにより僅かながら酸化を進
行させて改質を行う。
In other words, the conventional sputtering speed is 15 to 20 nm/min, but the sputtering gas pressure remains the same as before, and only the sputtering speed is slowed to 0.1 to 60 m/min. By forming a film, oxidation progresses slightly and modification is performed.

ニーで、スパッタ速度を0.1〜6nm/分と限定する
理由はO,lnm /分よりも遅い場合は酸化が進んで
信号品質が低下すると共に、膜形成に時間を要しすぎて
量産に適さないからであり、また5nmZ分よりも速い
条件では酸化が不充分で光透過率が高く、反射率の低い
膜に改質しないからである。
The reason why the sputtering speed is limited to 0.1 to 6 nm/min is that if it is slower than 0.1 nm/min, oxidation will progress and the signal quality will deteriorate, and it will take too much time to form the film, making it difficult to mass produce. This is because it is not suitable, and also because if the oxidation rate is faster than 5 nmZ, the oxidation will be insufficient and the film will not be modified into a film with high light transmittance and low reflectance.

C実施例〕 実施例1ニ ガラス基板の上に紫外線硬化形の樹脂を型形成して案内
溝をもつディスク基板を作り、この上に高周波スパッタ
法によりTb−3iO□膜を90nmの厚さに形成して
第1の保護膜とした。
Example C] Example 1 A disk substrate with guide grooves was made by molding an ultraviolet curable resin on a glass substrate, and a Tb-3iO□ film was formed to a thickness of 90 nm on this by high-frequency sputtering. This was used as the first protective film.

スパッタ条件はアルゴン(Ar)ガス圧は0.2Paま
たスパッタ電力は0.8 KWである。
The sputtering conditions were as follows: argon (Ar) gas pressure was 0.2 Pa, and sputtering power was 0.8 KW.

次に、同様に高周波スパッタ法によりTbFeCo膜を
90nmの厚さに成膜して記録膜を作った。
Next, a TbFeCo film was formed to a thickness of 90 nm by high frequency sputtering in the same manner to form a recording film.

このスパッタ条件は、Arガス圧は1.OPa、またス
パッタ電力は0.I KWとし、この条件でスパッタ速
度は2nm/分であった。
This sputtering condition is such that the Ar gas pressure is 1. OPa, and sputtering power is 0. The sputtering speed was 2 nm/min under these conditions.

次に、この上にTb  5iOz膜を90nmの厚さに
形成して第2の保護膜とした。
Next, a Tb 5iOz film was formed thereon to a thickness of 90 nm to form a second protective film.

形成条件は第1の保護膜の場合と同じであり、このよう
にして光磁気ディスクを形成した。
The formation conditions were the same as those for the first protective film, and a magneto-optical disk was formed in this manner.

比較例1: 記録膜の形成条件が異なる以外は実施例1と全く同様に
して光磁気ディスクを形成した。
Comparative Example 1: A magneto-optical disk was formed in exactly the same manner as in Example 1 except that the conditions for forming the recording film were different.

記録膜の形成条件はArガス圧は1.OPa、スパッタ
電力はIKWであり、スパッタ速度は20nm/分であ
った。
The conditions for forming the recording film are: Ar gas pressure is 1. OPa, sputtering power was IKW, and sputtering speed was 20 nm/min.

第1表は本発明を適用した実施例1によるTbFeCo
膜の膜質と従来の比較例1による膜質とを比較したもの
である。
Table 1 shows TbFeCo according to Example 1 to which the present invention is applied.
The film quality of the film and the film quality of the conventional comparative example 1 are compared.

第1表 表から判るように本発明の実施により透過率がか高く、
反射率が小で、また密度の低い記録膜が生じているのが
判る。
As can be seen from Table 1, by implementing the present invention, the transmittance is high;
It can be seen that a recording film with low reflectance and low density is formed.

次に、第1図は実施例の光磁気ディスクと比較例の光磁
気ディスクについて二次高調波が最小となる書き込みパ
ワーと線速との関係を示すものである。
Next, FIG. 1 shows the relationship between the writing power and the linear velocity at which the second harmonic is minimized for the magneto-optical disk of the example and the magneto-optical disk of the comparative example.

同図に示す比較例7において、線速か9.6m/秒の状
態(回転数が180Orpmで半径が51胴の位置)で
は二次高調波パワーは5.6mWであり、この二次高調
波パワーを実施例6に適用すると線速は18 m7秒(
3370rpmで半径が5Lmmの位置)となり、同じ
二次高調波パワーで約1.9倍の高速化が達成できるこ
とが判る。
In Comparative Example 7 shown in the figure, the second harmonic power is 5.6 mW at a linear velocity of 9.6 m/sec (rotation speed is 180 Orpm and radius is 51 mm); When power is applied to Example 6, the linear velocity is 18 m7 seconds (
At 3370 rpm, the radius is 5 Lmm), and it can be seen that a speed increase of about 1.9 times can be achieved with the same second harmonic power.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上記したように、従来に較べてスパッタ速度を遅くし
て記録膜の膜形成を行って光磁気ディスクを形成する本
発明の実施により記録感度が向上し、そのため高速回転
が可能となる。
As described above, by carrying out the present invention in which a magneto-optical disk is formed by forming a recording film at a slower sputtering speed than in the past, recording sensitivity is improved and high-speed rotation becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は光磁気ディスクの線速と二次高調波パワーとの
関係図、 第2図は光磁気ディスクの構成を示す断面図、である。 図において、 2は第1の保護膜、    3は記録膜、4は第2の保
護膜、 である。
FIG. 1 is a diagram showing the relationship between linear velocity and second harmonic power of a magneto-optical disk, and FIG. 2 is a sectional view showing the structure of the magneto-optical disk. In the figure, 2 is a first protective film, 3 is a recording film, and 4 is a second protective film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  案内溝を設けた光ディスク基板上に第1の保護膜,記
録膜,第2の保護膜と順次に形成する光磁気ディスクに
おいて、記録膜のスパッタリング成膜速度を0.1〜6
nm/分とすることを特徴とする光磁気ディスクの製造
方法。
In a magneto-optical disk in which a first protective film, a recording film, and a second protective film are sequentially formed on an optical disc substrate provided with a guide groove, the sputtering deposition rate of the recording film is set to 0.1 to 6.
1. A method for manufacturing a magneto-optical disk, characterized in that the speed is nm/min.
JP24865889A 1989-09-25 1989-09-25 Production of magneto-optical disk Pending JPH03113754A (en)

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