JPH03105317A - 液晶表示パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は液晶表示パネルに関し、特に透過型液晶表示パ
ネルの改良に関する。

（口〉従来の技術 従来の液晶パネルは第３図に示す如く、ガラス基板（１
１）（１２）と、ガラス基板（１１）上に形成した透明
電極（１３）と、ガラス基板（１２）に設けた遮光膜く
１４）と、遮光膜（１４〉上に設けた絶縁！（１５）と
、絶縁層（１５）上に形成した透明電極（１６）と、透
明電極（１３）（１６）上に設けた配向膜（１７）と、
液晶（１８）とから構成される． 透明電極（１３）はガラス基板（ｌ１）上に透明なＩＴ
Ｏ膜を蒸着させ、文字、図形、符号等の形状に形成され
る。配向膜（１７〉は透明電極（１３）上に液晶分子を
一方向に揃えて並べるために形成される。

一方遮光膜（ｌ４〉は表示パターン以外の領域からの光
を遮光するためにガラス基板（１２）上にＣｒ等の金属
を蒸着等の手段を用いて形成され、フォトリソグラフィ
ーにより点灯電極部となる部分をエッチング除去して形
成される。更に絶縁膜（１５）は遮光膜〈１４）とガラ
ス基板（ｌ２〉上にＳｉｎｓ等の無機物質を用いて、デ
ィップまたは蒸着によって形成される。複数の透明電極
（１６）は絶縁層（ｌ５）上に透明なＩＴＯ膜を蒸着さ
せて透明電極（１３）と対応する様に形成され、その面
上に液晶分子を一方向に揃え並べるために配向膜（１７
）が形成される。この様に遮光膜（１４）を設けること
により、表示パターン以外の領域からの光の漏れを防ぐ
ことができる．上述した同様の技術が特開昭５０−１１
４９９５号公報に記載されている。

（ハ）発明が解決しようとする課題 従来の表示パネルではＮｉ　，　Ｃｒ等の金属材料から
なる遮光膜とガラス基板との界面で遮光膜、即ちＮｉ　
，　Ｃｒ等の金属の表面が鏡面となり周囲（外部）の光
がその鏡面に反射して視認性が著しく低下する問題があ
った。

特に表示領域において、Ｎｉ　，　Ｃｒ等の表面の鏡面
作用によって表示領域の光よりも強い反射光が発生し表
示コントラストを著しく低下させるために大きな、問題
となっている。上述したＮｉ　，　Ｃｒ等からなる遮光
膜は鏡面作用が著しいが、樹脂からなる遮光膜はＣｒ，
Ｎｉよりも鏡面作用は低下するが樹脂においてもやはり
鏡面となり視認性が低下する問題があった。

（二）課題を解決するための手段 本発明は上述した課題に鑑みて為されたものであり、一
対のガラス基板上に表示すべき所望形状の透明電極が形
成され、前記表示透明電極を除く平面領域部を遮光する
ために遮光膜が形成され、前記一対のガラス基板間に液
晶が封入されてなる液晶表示パネルにおいて、前記透明
電極を除く前記ガラス基板表面を凹凸状に形成したこと
を特徴とする。

（ネ）作用 この様に本発明に依れば、透明電極を除くガラス基板表
面を凹凸状に形成することにより、周囲（外部）光が入
射されてもその入射光は凹凸状表面で乱反射され、遮光
膜の鏡面による入射光の鏡面反射を著しく抑制すること
ができる。その結果、遮光膜の鏡面をほとんど無くずこ
とができる．即ち、遮光膜の光沢の発生を防止すること
ができる。

（へ）実施例 以下に第１図に示した実施例に基づいて本発明の液晶表
示パネルを説明する。

本発明の液晶表示パネルは第１図に示す如く、一対のガ
ラス基板（ＬＡ）（ＩＢ）と、ガラス基板ＣＩＡ）（Ｉ
Ｂ〉上に形成された所望形状の透明電極＜２Ａ）（２Ｂ
）と、一方の透明電極（２Ａ〉以外の領域のガラス基板
（ＩＡ〉表面に形成された凹凸部（３Ａ）と、凹凸部（
３Ａ）上に形成された遮光膜（８）と、ガラス基板（Ｉ
Ａ）　（ＩＢ〉上に塗布された配向膜（４Ａ）（４Ｂ）
と、ガラス基板（ＩＡ）（ＩＢ）の外面に配置された偏
光板（５Ａ）（５Ｂ）と、ガラス基板（ＬＡ）（　ＬＢ
）を封止材（６）で封止しその空間内に注入された液晶
（７〉とから構成されてなる． ガラス基板（ＩＡ）　（ＩＢ）としてはソーダ系ガラス
とホウ珪酸系ガラスとの２種類のが大別され、本実施例
ではナトリウムイオンを発しないホウ珪酸系ガラス基板
を用いるとする． ガラス基板（ＬＡ）（ＩＢ）上にはＩＴＯ等によって所
望形状の透明電極（２Ａ）（２Ｂ＞が形成される．この
透明電極（２Ａ）（２Ｂ）は第１図からは明らかにされ
ないが数字、文字等を表示する表示領域部とその表示領
域部から延在され外部回路との接続を行うための引回し
線が形成されている。

本発明の特徴は一方のガラス基板（ＩＡ）上に形成され
た一方の透明電極（２Ａ）以外のガラス基板（ＩＡ〉表
面を凹凸部状（３Ａ）に形成し且つその凹凸部＜３Ａ）
上に遮光膜（８）を形成するところにある。即ち、一方
の表示電極および引回し線Ｔｔｓｉを含む透明電極（２
Ａ〉が形成される領域のみをフラット面とし、それ以外
の全領域に凹凸部（３Ａ〉を形成しその凹凸部（３Ａ）
上に遮光膜（８）を形成するものである。

一方のガラス基板（ＩＡ〉の表面に形成する凹凸部（３
Ａ〉は本実施例ではガラス基板〈ＩＡ）表面をエッチン
グすることで形成するものとする。

本実施例において、ガラス基板（ＩＡ）表面に形成され
る凹凸部（３Ａ）は次の様に形成される。

先ずガラス基板（ＩＡ）全面上にＩＴＯをスパッタ等に
より付着し、ＩＴＯを塩化第２鉄を含む塩酸系のエッチ
Ｎントを用いてエッチングし所望形状の透明電極（２Ａ
）を形成する， 次に透明ｔ極（２Ａ）上には先のエッチングレジストが
’Ａされており、その状態でガラス基板（１Ａ）の表面
をフッ酸等を用いてエッチングして凹凸部（３Ａ）を形
成する。フッ酸でガラス基板（ＩＡ）をエッチングする
際には反主面はレジストあるいは治具等により被覆保護
されてエッチングされることはない． 第２図は上述した方法によって８の字セグメントのコモ
ン電極が形成された基板を示す平面図であり、表示１！
極（２Ａ’）およびその引回し線＜２Ａ”〉からなる透
明電極（２Ａ）の表面はフラット面であり、その他の領
域は点で示す如く凹凸（３Ａ）に形成されている。

一方、その凹凸（３Ａ）上には上述した様に光を遮光す
るための遮光膜ク８）が形成される，遮光膜（８）はＮ
ｉ，Ｃｒ等の金属あるいは黒色顔料を含んだ樹脂等が代
表されるが、本実施例ではＮｉを用いるものとする。

Ｎｉの遮光膜（８）は凹凸（３Ａ〉を形成した後、スバ
ッタ、又は蒸着により基板〈ＩＡ〉全面にＮｉ膜を形成
し、透明電極（２Ａ〉上のＮｉ膜をエッチング除去して
形成される（斜線領域部）。透明電極（２Ａ〉上のＮｉ
膜をエッチングするとき、表示電極および引回し電極よ
りなる透明電極（２Ａ）より若干大きくエッチングして
その透明電極（２Ａ）と遮光膜ク８）とがシュートしな
い様にすき間を形戒する。このすき間によって光の漏れ
はほとんどないがより光を遮光する場合にはすき間に遮
光用の樹脂（９〉を充填するかあるいは他方のガラス基
板（ＩＢ）側に遮光膜（図示しない）を形成すればよい
。このとき、遮光膜が形成される他方のガラス基板（１
Ｂ）上は凹凸状に形成されるものとする． ところで他方のガラス基板（ＩＢ＞上には表示すべき透
明電極（２Ｂ）が周知の方法によって形成されている． 夫々のガラス基板（ＩＡ）（ＩＢ）の表面にはポリイミ
ド、ボリアミド等の有機高分子材からなる配向膜（４Ａ
）（４Ｂ）が形成される．その配向膜（４Ａ）（４Ｂ）
は周知の方法により液晶分子を揃えるための配向処理が
施されている。本実施例では液晶（７〉分子が９０゜ツ
イストされる様に配向処理が行われている。

夫々のガラス基板（ＩＡ）（ＩＢ）はエボキシあるいは
シリコン樹脂等のシール材ク６）によってその周端部の
一部（注入孔）を残してシールされ、その後、注入孔よ
り液晶（７〉が注入され注入孔が封止されることで表示
パネルが完成される。

尚、ガラス基板（ＩＡ＞（ＩＢ）の外面には光を偏光す
るため偏光板（５Ａ）　（５Ｂ＞がネガ表示を行うべき
方向で配置されている． 本発明でもっとも重要な点は上述した一方のガラス基板
（ＩＡ）の透明電極〈２Ａ〉が形成された以外の領域表
面に凹凸部（３Ａ）を形成し且つその凹凸部（３Ａ）に
遮光膜（８）を形成することもさることながら、その凹
凸部（３Ａ）の粗さにある。

凹凸部（３Ａ〉は表示パネルに入射される周囲（外部）
の入射光を乱反射させ遮光膜（８）の鏡面で反射する光
量を最小限に抑制する必要があるため、凹凸部（３Ａ）
はできるだけ積極的に粗くする必要性がある。

更に述べると凹凸部（３Ａ〉はガラス基板（ＬＡ＞（Ｉ
Ｂ）と遮光膜（８）の夫々の屈折率の差を考慮して全反
射の臨界角となる様に凹凸部（３Ａ）の粗さが設定され
る。凹凸部（３Ａ）は粗い程パネルに入射される周囲（
外部）の光はその凹凸（３Ａ）界面で乱反射され、パネ
ルの凹凸部（３Ａ）領域において周囲（外部）の入射光
は著しく減衰されることになる。

従って凹凸部（３Ａ）が形成された領域即ち、遮光膜（
８）が形成された遮光領域に第１図に示す如く、矢印Ａ
の外部入射光が入射されたとしても凹凸部（３Ａ）の表
面によって乱反射され遮光膜（８）表面の鏡面による反
射を著しく防止することができる。

即ち、遮光膜（８）表面の光沢を無くすことができ表示
コントラストを向上することが可能となる。

斯る本発明に依れば、ガラス基板（ＩＡ）上に形成され
た透ＨＪｉ電極（２Ａ）以外の領域を凹凸（３Ａ〉とし
、且つその凹凸部（３Ａ）上に遮光膜（８〉を形成する
ことにより、表示パネルに入射される周斯（外部）の光
はその凹凸面で乱反射されろことになる。その結果、遮
光膜（８）表面の鏡面による反射を防止することができ
、点灯時において表示領域と遮光膜表面との光のコント
ラストの差を明確にすることができる。即ち、遮光膜（
８〉の鏡面作用が無くなるためその表面の光沢をほとん
ど無くすことができる． 本実施例ではガラス基板（ＬＡ）（ＩＢ）にホウ珪酸系
ガラスを用いたがソーダ系ガラスを用いても本発明を容
易に遂行できることはいうまでもない。この場合、凹凸
部（３Ａ〉を形成した後に基板（ＩＡ）をＳｉｏ，等の
絶縁物で被覆すればよい． ｛ト｝発明の効果 以上に詳述した如く、本発明に依れば、一方のガラス基
板上に形成された透明電極（２Ａ）以外の領域を凹凸状
とし且つその凹凸上に遮光膜を形成することにより、表
示パネルに入射される外部（周囲）の光は凹凸面で乱反
射され、遮光膜の表面の鏡面による乱反射を防止するこ
とができる．その結果、点灯時において、表示領域の光
量と遮光膜によって反射される光量との強弱を著しく明
確に設定することが実現でき、視認性を著しく向上する
ことができる利点を有する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例を示す断面図、第２図は本実施
例で用いる平面図、第３図は従来例を示す断面図である
。 （ＬＡ）（ＩＢ＞・・・ガラス基板、　（２Ａ）（２Ｂ
）・・・透明電極、　（３Ａ〉・・・凹凸部、　（４Ａ
）（４Ｂ）・・・配向膜、　（５Ａ）（５Ｂ）・・・偏
光板、　（６）・・・封止材、　（７〉・・・液晶、（
８）・・・遮光膜。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対のガラス基板上に表示すべき所望形状の透明
   電極が形成され、前記表示透明電極を除く平面領域部を
   遮光するために遮光膜が形成され、前記一対のガラス基
   板間に液晶が封入されてなる液晶表示パネルにおいて、 前記透明電極を除く前記ガラス基板表面を凹凸状に形成
   したことを特徴とする液晶表示パネル。
2. （２）前記凹凸は前記遮光膜が形成される前記ガラス基
   板に形成されることを特徴とする請求項１記載の液晶表
   示パネル。
3. （３）前記凹凸は外部光を乱反射させる粗さを有したこ
   とを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。