JPH0293303A - 流動制御型除振台 - Google Patents
流動制御型除振台Info
- Publication number
- JPH0293303A JPH0293303A JP24381888A JP24381888A JPH0293303A JP H0293303 A JPH0293303 A JP H0293303A JP 24381888 A JP24381888 A JP 24381888A JP 24381888 A JP24381888 A JP 24381888A JP H0293303 A JPH0293303 A JP H0293303A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fluid
- stage
- voltage
- piezoelectric element
- vibration isolation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 30
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 2
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N Tri-2-ethylhexyl trimellitate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC(CC)CCCC)C(C(=O)OCC(CC)CCCC)=C1 KRADHMIOFJQKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- -1 etc. Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005616 pyroelectricity Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000005591 trimellitate group Chemical group 0.000 description 1
- FJFYFBRNDHRTHL-UHFFFAOYSA-N tris(8-methylnonyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound CC(C)CCCCCCCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCCCCCCCC(C)C)C(C(=O)OCCCCCCCC(C)C)=C1 FJFYFBRNDHRTHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明はE R(Electro Rheologic
al)流体を用いた低周波除振機構を組込んだ小型の走
査型トンネル顕微鏡用除振台に関するものである。
al)流体を用いた低周波除振機構を組込んだ小型の走
査型トンネル顕微鏡用除振台に関するものである。
(従来の技術)
走査型トンネル顕微鏡(ScanningTunnel
ingMicroscope以下STMと呼ぶ)は原子
−つ一つを見ることができる顕微鏡である。STMの要
素技術には粗・微動技術、探針製作技術などがあり、そ
の中で除振技術も重要な一要素である。STMの原理は
、導電性の表面同士をその表面上ににじみ出ている原子
雲が重なり合うまで近づけ両者間に電圧を印加するとト
ンネル電流が生ずることに基づく、そこで、一方を先端
径の小さな探針、−方を観察対象とする試料とし、両者
間に流れるトンネル電流が一定となるように探針を上下
させながら試料表面上を走査させ、探針の挙動を電気的
に読取ると試料表面の凹凸情報を得ることができる。ノ
イズとなる振動等の外乱の影響を小さく抑えるためには
、探針−試料間の剛性を高め更に除振台を設けることが
必要である。STM用除振台には磁気浮上型を初めとし
て、I!l在では金属積層型や2段バネ型が主に用いら
れている。金属積層除振台は金属板間にバネあるいはダ
ンパの役割を果たすゴムを幾つか積重ねたもので、操作
性には優れているが共振周波数は約5Hzと除振効果は
小さい2段バネ除振台は金属積層型と比較すると除振効
果には優れているが操作性に劣り空間も要する。例えば
除振台や探針−試料間の共振周波数を各々5Hz、10
kHzとすると外乱から探針−試料間に伝達される値は
5ケタ以上小さいものとなる除振台の共振周波が低けれ
ば低いほど、また探針の剛性が高ければ高いほど良好な
除振効果が得られる。
ingMicroscope以下STMと呼ぶ)は原子
−つ一つを見ることができる顕微鏡である。STMの要
素技術には粗・微動技術、探針製作技術などがあり、そ
の中で除振技術も重要な一要素である。STMの原理は
、導電性の表面同士をその表面上ににじみ出ている原子
雲が重なり合うまで近づけ両者間に電圧を印加するとト
ンネル電流が生ずることに基づく、そこで、一方を先端
径の小さな探針、−方を観察対象とする試料とし、両者
間に流れるトンネル電流が一定となるように探針を上下
させながら試料表面上を走査させ、探針の挙動を電気的
に読取ると試料表面の凹凸情報を得ることができる。ノ
イズとなる振動等の外乱の影響を小さく抑えるためには
、探針−試料間の剛性を高め更に除振台を設けることが
必要である。STM用除振台には磁気浮上型を初めとし
て、I!l在では金属積層型や2段バネ型が主に用いら
れている。金属積層除振台は金属板間にバネあるいはダ
ンパの役割を果たすゴムを幾つか積重ねたもので、操作
性には優れているが共振周波数は約5Hzと除振効果は
小さい2段バネ除振台は金属積層型と比較すると除振効
果には優れているが操作性に劣り空間も要する。例えば
除振台や探針−試料間の共振周波数を各々5Hz、10
kHzとすると外乱から探針−試料間に伝達される値は
5ケタ以上小さいものとなる除振台の共振周波が低けれ
ば低いほど、また探針の剛性が高ければ高いほど良好な
除振効果が得られる。
(発明が解決しようとする課M)
しかしながら、低周波の領域はど除振台の振動振幅が大
きく、2段バネ型でIHz以下まで抑えようとするとバ
ネの全長が長くなり操作性はさらに劣化し、ユニット全
体が大型化してしまう、また。
きく、2段バネ型でIHz以下まで抑えようとするとバ
ネの全長が長くなり操作性はさらに劣化し、ユニット全
体が大型化してしまう、また。
配線等に影響を与えノイズを増やす原因にもなる。
本発明の目的は、従来の除振台よりもSTMユニットに
伝わる振動等の伝達値(ノイズレベル)を小さくするこ
とができかつ小型で操作性の良い除振台を提供するもの
である。
伝わる振動等の伝達値(ノイズレベル)を小さくするこ
とができかつ小型で操作性の良い除振台を提供するもの
である。
(課題を解決するための手段)
探針や試料等で構成されているSTMユニットと除振台
の最上部の金属板ステージ(これを第1ステージとし、
以下上の方から第2ステージ、第3ステージ、・・・・
・・とする)とを固定し、この第1ステージと第2ステ
ージとの間に圧電素子を介する。除振台は第1構成部(
第3ステージまで)と第2構成部(第4ステージ以下)
とから構成され、各々金属積層除振台と同様な形態をと
り更にER流体に浸されている。
の最上部の金属板ステージ(これを第1ステージとし、
以下上の方から第2ステージ、第3ステージ、・・・・
・・とする)とを固定し、この第1ステージと第2ステ
ージとの間に圧電素子を介する。除振台は第1構成部(
第3ステージまで)と第2構成部(第4ステージ以下)
とから構成され、各々金属積層除振台と同様な形態をと
り更にER流体に浸されている。
(作用)
第1ステージと第2ステージとの間の圧電素子は、第1
ステージつまりSTMユニットと第2ステージとの間に
相対変位が生ずるとこの歪みの加速度に比例して電極に
電圧を発生させる。この電圧を信号源としてER流体に
増幅した電圧を印加すると電圧の大きさに応じてER流
体の粘性が変化し、STMユニット、第1ステージおよ
び第2ステージの総重量の慣性力よりもER流体のせん
断変形に対する抵抗力が上回ると第3ステージが一体化
される。このようなER流体の効果を用いて除振台の第
2構成部の共振周波数以下の低周波に対するSTMユニ
ットの変動を抑えることが可能となる。
ステージつまりSTMユニットと第2ステージとの間に
相対変位が生ずるとこの歪みの加速度に比例して電極に
電圧を発生させる。この電圧を信号源としてER流体に
増幅した電圧を印加すると電圧の大きさに応じてER流
体の粘性が変化し、STMユニット、第1ステージおよ
び第2ステージの総重量の慣性力よりもER流体のせん
断変形に対する抵抗力が上回ると第3ステージが一体化
される。このようなER流体の効果を用いて除振台の第
2構成部の共振周波数以下の低周波に対するSTMユニ
ットの変動を抑えることが可能となる。
(実施例)
本実施例の一実施例について図面を参照して説明する。
第1図は本発明における除振台の概略図である。この除
振台はおおまかに第1構成部と第2構成部とから構成さ
れるが除振効果を順序だてて説明するために第2構成部
から始める異にする。
振台はおおまかに第1構成部と第2構成部とから構成さ
れるが除振効果を順序だてて説明するために第2構成部
から始める異にする。
第2図は第2貴構成部の概略を示す。金属板(6゜7.
10.・・・)とバネ9を交互に重ね、周囲をER流体
8で取囲んでいる。ER流体8とは分散媒に微粒子であ
る分散質を混入した溶液で、通常利用されている分散媒
にはシリコーンオイルや鉱油、塩化パラフィン、分散質
には水を吸収させたでんぷんやシリカゲル等がある。最
近では分散媒にトリ2エチルヘキシル・トリメリテート
やトリイソデシル・トリメリテート、分散質にスチレン
とジビニルベンゼンの重合体をベースとしたイオン交換
樹脂を用いた例もある。ER流体8に電圧をかけると粒
子内の電荷は正極に近い側へ負電荷が、負極に近い側へ
正電荷が移動し、粒子はそれぞれ正と負に帯電した側を
くっつけて鎖状に連なる。
10.・・・)とバネ9を交互に重ね、周囲をER流体
8で取囲んでいる。ER流体8とは分散媒に微粒子であ
る分散質を混入した溶液で、通常利用されている分散媒
にはシリコーンオイルや鉱油、塩化パラフィン、分散質
には水を吸収させたでんぷんやシリカゲル等がある。最
近では分散媒にトリ2エチルヘキシル・トリメリテート
やトリイソデシル・トリメリテート、分散質にスチレン
とジビニルベンゼンの重合体をベースとしたイオン交換
樹脂を用いた例もある。ER流体8に電圧をかけると粒
子内の電荷は正極に近い側へ負電荷が、負極に近い側へ
正電荷が移動し、粒子はそれぞれ正と負に帯電した側を
くっつけて鎖状に連なる。
この状態での流体の降伏強さは電界の強さや分散質の濃
度に比例して変わる。図中で例えば外円筒11を正極、
第3ステージ7以下の金属板を負極として、ER流体8
に電圧をかけて適度な粘性をもたせるとダンパの役割を
果たしまた溶液中の浮力によってバネ9の負担も軽減で
きる。この方式によって共振周波数を5)1z以下にす
ることは容易である。
度に比例して変わる。図中で例えば外円筒11を正極、
第3ステージ7以下の金属板を負極として、ER流体8
に電圧をかけて適度な粘性をもたせるとダンパの役割を
果たしまた溶液中の浮力によってバネ9の負担も軽減で
きる。この方式によって共振周波数を5)1z以下にす
ることは容易である。
第3図は第1構成部の概略を示す、第1ステージと第2
ステージとの間に圧電素子5を図のようにずらして取付
ける。圧電素子5は圧力を受けると電圧を生ずるという
圧電効果をもつ0図のように圧縮形ではなくせん断歪み
を利用すると、急激な温度変化によって圧電素子5の分
極の状態が瞬間的に変化してパイロ電気が発生するのを
防ぐことができる。また、STMユニットの重量を利用
することにより、市販の加速度ピックアップよりも低い
周波数を測定でき感度も上げることができる。このよう
な構成における測定周波数の下限は圧電素子5の電気容
量C(F)と電圧増幅器の入力抵抗R(Ω)とで決り、
その遮断周波数fcは次式によって求まる。
ステージとの間に圧電素子5を図のようにずらして取付
ける。圧電素子5は圧力を受けると電圧を生ずるという
圧電効果をもつ0図のように圧縮形ではなくせん断歪み
を利用すると、急激な温度変化によって圧電素子5の分
極の状態が瞬間的に変化してパイロ電気が発生するのを
防ぐことができる。また、STMユニットの重量を利用
することにより、市販の加速度ピックアップよりも低い
周波数を測定でき感度も上げることができる。このよう
な構成における測定周波数の下限は圧電素子5の電気容
量C(F)と電圧増幅器の入力抵抗R(Ω)とで決り、
その遮断周波数fcは次式によって求まる。
fc= 1 / 2 πCR
また、数個の圧電素子を並列に用いた場合の静電容量C
E、電荷9、開放出力電圧eは次式で表わせれる。
E、電荷9、開放出力電圧eは次式で表わせれる。
昨=επd” / 2t (F )
q =2 d33 ma (C)
e = q/CB= 2d、、ma/CB= 4d、、
+nta/ [7cd2(V)ここで、εは誘電率(F
/m)、dは直径(m)、tは厚さ(m) 、 asg
は圧電定数(m/V)、mはSTMユニットと第1ステ
ージ4との総質量(kg)、aは加速度(m/s)であ
る。これらの式から最適な値を選択する。
+nta/ [7cd2(V)ここで、εは誘電率(F
/m)、dは直径(m)、tは厚さ(m) 、 asg
は圧電定数(m/V)、mはSTMユニットと第1ステ
ージ4との総質量(kg)、aは加速度(m/s)であ
る。これらの式から最適な値を選択する。
第1ステージ4と第2ステージ6との間に相対変位が生
ずると、第2ステージ6に加わる慣性力は圧電素子5に
歪みを与え、圧電素子5の電極に加速度に比例した電圧
が発生するこの発生電圧を信号源として増幅した電圧を
ER流体8に印加して第1ステージ4が変動しないよう
に制御する。
ずると、第2ステージ6に加わる慣性力は圧電素子5に
歪みを与え、圧電素子5の電極に加速度に比例した電圧
が発生するこの発生電圧を信号源として増幅した電圧を
ER流体8に印加して第1ステージ4が変動しないよう
に制御する。
制御方法の一例を図4に示す1図4(a)に示すような
信号源が圧電素子5から得られる場合、A位置はSTM
ユニットや第1ステージ4、第2ステージ6の総重量と
第3ステージ7がこれらを押す力が平衡状態の瞬間を表
し、B位置はこの力つまり上述の総重量とこれらの加速
度の積が最大となる瞬間を意味する。前述した通り、圧
電素子5に生ずる電圧は上述の加速度に比例するためで
ある。
信号源が圧電素子5から得られる場合、A位置はSTM
ユニットや第1ステージ4、第2ステージ6の総重量と
第3ステージ7がこれらを押す力が平衡状態の瞬間を表
し、B位置はこの力つまり上述の総重量とこれらの加速
度の積が最大となる瞬間を意味する。前述した通り、圧
電素子5に生ずる電圧は上述の加速度に比例するためで
ある。
STMユニット、第1ステージ4、第2ステージ6が定
位置(一定の高さ)を保つためには、第3ステージ7が
これらを押しあげる力が常に一定でなければならない、
従って、例えばB位置における力と同じ大きさの力が常
時第2ステージ6に加わるように、第3ステージ7の力
不足分をER流体8の粘性力で補う方法を取る。前述の
通り、ER流体8の粘性力は印加電圧に比例する。そこ
で。
位置(一定の高さ)を保つためには、第3ステージ7が
これらを押しあげる力が常に一定でなければならない、
従って、例えばB位置における力と同じ大きさの力が常
時第2ステージ6に加わるように、第3ステージ7の力
不足分をER流体8の粘性力で補う方法を取る。前述の
通り、ER流体8の粘性力は印加電圧に比例する。そこ
で。
図4(b)のように信号源と180度位相の異なる周期
で粘性力が働くようにER流体8にフィードバック電圧
を与えることで、第3ステージ7の慣性力とER流体8
の粘性力との和が常に一定になるように制御し、STM
ユニットに伝わる振動成分を無視できるほど小さな値に
することが可能となる。
で粘性力が働くようにER流体8にフィードバック電圧
を与えることで、第3ステージ7の慣性力とER流体8
の粘性力との和が常に一定になるように制御し、STM
ユニットに伝わる振動成分を無視できるほど小さな値に
することが可能となる。
床面から第3ステージ7へ伝わる振動源は第2構成部を
介して5Hz以下に抑えられ、これに対し印加電圧に対
するER流体8の応答は数m秒の間で起こるので、上述
の制御は容易である。ただし、ER流体に電圧を印加す
る際、正極と負極が接触しないように第5図のように両
者間にマコール等の絶縁材を設けていることを付加して
おく。参考までに、分散媒としてトリ2エチルヘキニル
・トリメリテート、分散質としてイオン交換樹脂を用い
たER流体8の回転体(273rpm)に対するトルク
は0.0:3〜0.8N−m (= X 10kH・m
)まで制御することが可能である。また、図3(b)
で見られるように、ER流体8に印加する電圧の′正極
(例えば第2ステージ6を正極、第3ステージ7を負極
とする)とER流体8との接触面積を大きくとることも
重要なポイントである。探針を試料に接近させる粗動な
どの操作の際は除振台が揺れないように第1構成部およ
び第2構成部のER流体8に比較的高い電圧をかけて除
振台の剛性を高くして操作性の向上を図ることができる
。
介して5Hz以下に抑えられ、これに対し印加電圧に対
するER流体8の応答は数m秒の間で起こるので、上述
の制御は容易である。ただし、ER流体に電圧を印加す
る際、正極と負極が接触しないように第5図のように両
者間にマコール等の絶縁材を設けていることを付加して
おく。参考までに、分散媒としてトリ2エチルヘキニル
・トリメリテート、分散質としてイオン交換樹脂を用い
たER流体8の回転体(273rpm)に対するトルク
は0.0:3〜0.8N−m (= X 10kH・m
)まで制御することが可能である。また、図3(b)
で見られるように、ER流体8に印加する電圧の′正極
(例えば第2ステージ6を正極、第3ステージ7を負極
とする)とER流体8との接触面積を大きくとることも
重要なポイントである。探針を試料に接近させる粗動な
どの操作の際は除振台が揺れないように第1構成部およ
び第2構成部のER流体8に比較的高い電圧をかけて除
振台の剛性を高くして操作性の向上を図ることができる
。
以上のような構成および方法によって、小型で操作性が
良く、更にSTMユニットに伝わる振動等の外乱の影響
を無視できる程小さなものとすることが可能である。
良く、更にSTMユニットに伝わる振動等の外乱の影響
を無視できる程小さなものとすることが可能である。
金属板とバネとを数層重ね、周囲をER流体で取巻いた
構成の除振台によって床面から生ずる振動を5Hz以下
に抑え、更に金属板や圧電素子、バネそしてER流体で
構成される除振台によりSTMユニットへ伝達される振
動等の外乱の影響を無視できる程小さな値にすることを
可能とする。また、以上のような構成をとることによっ
て、操作性が良くかつ小型化が容易となる。
構成の除振台によって床面から生ずる振動を5Hz以下
に抑え、更に金属板や圧電素子、バネそしてER流体で
構成される除振台によりSTMユニットへ伝達される振
動等の外乱の影響を無視できる程小さな値にすることを
可能とする。また、以上のような構成をとることによっ
て、操作性が良くかつ小型化が容易となる。
第1図は本発明の一実施例の概要構成図、第2図は第2
構成部の概略図、第3図は第1構成部の概略図、第4図
は信号源となる圧電素子から出力される電圧と時間の関
係及びサーボ機構によって発生するER流体の粘性力と
時間との関係を夫々示す図、第5図はER流体に電圧を
供給する正極と負極との分岐点を表す図の一例、第6図
は従来の除振台である金i精層型除振台及び2段吊りバ
ネ型除振台の概略図である。 1・・・STMユニット 2・・・電圧増幅器3・・
・サーボ回路 4・・・第1ステージ5・・・圧
電素子 6・・・第2ステージ7・・・第3ス
テージ 8・・・ER流体9.17・・・バネ
lO・・・第4ステージ11・・・外円筒
12,13・・・電源14.15・・・絶縁材
16・・・金属板18・・・パイトンゴム
19・・・マグネット20・・・銅 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之 第2図 第1図 第3図 第 図
構成部の概略図、第3図は第1構成部の概略図、第4図
は信号源となる圧電素子から出力される電圧と時間の関
係及びサーボ機構によって発生するER流体の粘性力と
時間との関係を夫々示す図、第5図はER流体に電圧を
供給する正極と負極との分岐点を表す図の一例、第6図
は従来の除振台である金i精層型除振台及び2段吊りバ
ネ型除振台の概略図である。 1・・・STMユニット 2・・・電圧増幅器3・・
・サーボ回路 4・・・第1ステージ5・・・圧
電素子 6・・・第2ステージ7・・・第3ス
テージ 8・・・ER流体9.17・・・バネ
lO・・・第4ステージ11・・・外円筒
12,13・・・電源14.15・・・絶縁材
16・・・金属板18・・・パイトンゴム
19・・・マグネット20・・・銅 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之 第2図 第1図 第3図 第 図
Claims (3)
- (1)STMユニットを載置する金属基板とその下の金
属板との間に圧電素子を取付け、前記金属板間の相対変
位によって生ずる前記圧電素子の起電圧を信号源とする
、これらの金属板に下から伝わる慣性力をバネの力と前
記信号源と90度位相の異なる増幅電圧を印加されるE
R流体の粘性力とで一定になるように制御する。このよ
うな方法でSTMユニットの位置(高さ)が常に一定に
なるように制御することを特徴とする流動制御型除振台
。 - (2)数枚の金属板の間にバネを挟んだ構成部をER流
体に浸すことにより、溶液中の浮力によるバネの負担の
軽減と適度な一定な電圧を印加されたER流体の弾性力
によるダンパの効果とを図った除振台を付加したことを
特徴とする請求項1記載の流動制御型除振台。 - (3)探針の粗動や試料交換などを行う場合、操作が容
易となるようにER流体に比較的高い電圧を印加して除
振台全体の剛性を高くする方法を付加したことを特徴と
する請求項1記載の流動制御型除振台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24381888A JPH0293303A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 流動制御型除振台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24381888A JPH0293303A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 流動制御型除振台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0293303A true JPH0293303A (ja) | 1990-04-04 |
Family
ID=17109384
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24381888A Pending JPH0293303A (ja) | 1988-09-30 | 1988-09-30 | 流動制御型除振台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0293303A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008014409A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Shimizu Corp | 防振構造 |
JP2009017326A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Audio Technica Corp | マイクロホン |
KR20120037395A (ko) * | 2009-05-28 | 2012-04-19 | 더 리서치 파운데이션 오브 스테이트 유니버시티 오브 뉴욕 | 계측 프로브 및 계측 프로브를 구성하는 방법 |
JP2013511670A (ja) * | 2009-11-20 | 2013-04-04 | イーエイーディーエス、ドイチュラント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 衝撃遮断構造体 |
JP2015222080A (ja) * | 2014-05-22 | 2015-12-10 | 三菱重工業株式会社 | 自立式ラック |
CN108442307A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-08-24 | 广西大学 | 一种层状剪切模型土箱及其箱内土层应变量测量方法 |
WO2022196743A1 (ja) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | 株式会社小糸製作所 | センサシステム |
-
1988
- 1988-09-30 JP JP24381888A patent/JPH0293303A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008014409A (ja) * | 2006-07-06 | 2008-01-24 | Shimizu Corp | 防振構造 |
JP2009017326A (ja) * | 2007-07-06 | 2009-01-22 | Audio Technica Corp | マイクロホン |
KR20120037395A (ko) * | 2009-05-28 | 2012-04-19 | 더 리서치 파운데이션 오브 스테이트 유니버시티 오브 뉴욕 | 계측 프로브 및 계측 프로브를 구성하는 방법 |
JP2012528341A (ja) * | 2009-05-28 | 2012-11-12 | ザ リサーチ ファウンデイション オブ ステイト ユニバーシティー オブ ニューヨーク | 測定プローブ及びその構成方法 |
JP2013511670A (ja) * | 2009-11-20 | 2013-04-04 | イーエイーディーエス、ドイチュラント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング | 衝撃遮断構造体 |
JP2015222080A (ja) * | 2014-05-22 | 2015-12-10 | 三菱重工業株式会社 | 自立式ラック |
CN108442307A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-08-24 | 广西大学 | 一种层状剪切模型土箱及其箱内土层应变量测量方法 |
WO2022196743A1 (ja) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | 株式会社小糸製作所 | センサシステム |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3729888B2 (ja) | 剛性アクチュエータ能動振動絶縁装置 | |
Ginder et al. | Magnetorheological elastomers in tunable vibration absorbers | |
Sadeghipour et al. | Development of a novel electrochemically active membrane and'smart'material based vibration sensor/damper | |
DE69711321T2 (de) | Schwingstabbeschleunigungsmesser und Methode zu seiner Herstellung | |
US5267633A (en) | Electrorheological fluid-applied apparatus, electrorheological fluid-applied vibration controller, and electrorheological fluid-applied fixing apparatus | |
Serrand et al. | Multichannel feedback control for the isolation of base-excited vibration | |
US4197478A (en) | Electronically tunable resonant accelerometer | |
Homeijer et al. | Hewlett packard's seismic grade MEMS accelerometer | |
US20070017758A1 (en) | Magnetorheological damper and use thereof | |
US5780742A (en) | Mechanical resonance, silicon accelerometer | |
JPH0293303A (ja) | 流動制御型除振台 | |
US5396798A (en) | Mechanical resonance, silicon accelerometer | |
CN108731790A (zh) | 高灵敏宽频带压电式mems矢量水听器 | |
JPH04502202A (ja) | 角速度を検出するためのセンサー | |
JP4157393B2 (ja) | 除振装置 | |
Li et al. | A predictive model for electrostatic energy harvesters with impact-based frequency up-conversion | |
Wang et al. | Electrical power generation using dynamic piezoelectric shear deformation under friction | |
Konak et al. | Self-powered discrete time piezoelectric vibration damper | |
Liang et al. | Dynamic output characteristics of piezoelectric actuators | |
EP1166129B1 (en) | Vibrating beam force sensor | |
Liu et al. | A comparative experimental study on structural and interface damping approaches for vibration suppression purposes | |
Kim et al. | Active vibration control and isolation for micromachined devices | |
Wang et al. | Design and characterization of a linear motion piezoelectric microactuator | |
Lim et al. | Vibration control of a CD-ROM feeding system using electro-rheological mounts | |
SHIRAISHI et al. | 3B35 Application of magnetorheological grease to a shear type controllable damper (The 12th International Conference on Motion and Vibration Control) |