JPH0293074A - グラファイトのwcコーティング方法 - Google Patents
グラファイトのwcコーティング方法Info
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- JPH0293074A JPH0293074A JP24520288A JP24520288A JPH0293074A JP H0293074 A JPH0293074 A JP H0293074A JP 24520288 A JP24520288 A JP 24520288A JP 24520288 A JP24520288 A JP 24520288A JP H0293074 A JPH0293074 A JP H0293074A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/02—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition
- C23C18/12—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
- C23C18/1204—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by thermal decomposition characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
WCコーティンググラファイト及びグラファイトのWC
コーティング方法に関し、グラファイトの耐酸性を改善
することを目的とし、グラファイトをタングステン酸塩
を含む溶液に浸し、乾燥後、高温加熱処理しWC層を形
成する工程を有して構成する。
コーティング方法に関し、グラファイトの耐酸性を改善
することを目的とし、グラファイトをタングステン酸塩
を含む溶液に浸し、乾燥後、高温加熱処理しWC層を形
成する工程を有して構成する。
関し、グラファイトの耐酸性を改善することを目的とす
る。さらにその応用としては、GaAs中のSiを、黒
鉛炉原子吸光装置により、定量するときに用いる、黒鉛
炉原子吸光用グラファイトの耐酸性を改善したWCコー
ティンググラファイトプラントホームとチューブに関す
る。
る。さらにその応用としては、GaAs中のSiを、黒
鉛炉原子吸光装置により、定量するときに用いる、黒鉛
炉原子吸光用グラファイトの耐酸性を改善したWCコー
ティンググラファイトプラントホームとチューブに関す
る。
現在化合物半導体材料としてGaAsが広く用いられて
おり、その不純物濃度、特に、n型ドーパントとしてし
ばしば用いられるSiの濃度を正確に知る必要があり、
簡易・精度の良い分析方法が求められている。
おり、その不純物濃度、特に、n型ドーパントとしてし
ばしば用いられるSiの濃度を正確に知る必要があり、
簡易・精度の良い分析方法が求められている。
(従来の技術]
従来GaAs中のSiを定量するに際し、黒鉛炉原子吸
光法を用いる場合、チューブ及びプラットホームには、
パイロ(グラファイト)コートしたものか、あるいは、
ノンパイロコートのもので原子化を行っていた。
光法を用いる場合、チューブ及びプラットホームには、
パイロ(グラファイト)コートしたものか、あるいは、
ノンパイロコートのもので原子化を行っていた。
しかしながら、GaAs試料を溶解形成するため、測定
試料溶液が塩酸、硝酸等の酸を多く含む本発明はグラフ
ァイトのWCコーティング方法にためチューブ、プラッ
トホームは破損し易い。
試料溶液が塩酸、硝酸等の酸を多く含む本発明はグラフ
ァイトのWCコーティング方法にためチューブ、プラッ
トホームは破損し易い。
実際に試料を測定するときに多数・多量の試料がある場
合、検量線を作成してもチューブ及びプラントホームが
破)員してしまい、実験を続けることが不可能となる。
合、検量線を作成してもチューブ及びプラントホームが
破)員してしまい、実験を続けることが不可能となる。
従って試料を測定するにあたり一連の分析工程で行うこ
とができず、チューブとプラットホームを交換し、さら
に再度検量線を作成しなければならないといった問題を
生していた。
とができず、チューブとプラットホームを交換し、さら
に再度検量線を作成しなければならないといった問題を
生していた。
なお黒鉛炉原子吸光法に用いられるグラファイトチュー
ブ パイロコートグラファイトプラットホームの組み合
わせは、ビvov等(Zh、Pr1kl。
ブ パイロコートグラファイトプラットホームの組み合
わせは、ビvov等(Zh、Pr1kl。
5pectrosk、27,395.1977)により
提案された方式でグラファイトチューブ内に挿入したパ
イロコートグラファイト製のボートからサンプルを原子
化する方式である。
提案された方式でグラファイトチューブ内に挿入したパ
イロコートグラファイト製のボートからサンプルを原子
化する方式である。
本発明は、グラファイトの耐酸性を改善することを目的
とし、特に、黒鉛炉原子吸光法等に用いるグラファイト
の耐酸性を改善し、耐用回数を向上したWCコーティン
ググラファイト及びグラファイトのWCコーティング方
法を提供することにある。
とし、特に、黒鉛炉原子吸光法等に用いるグラファイト
の耐酸性を改善し、耐用回数を向上したWCコーティン
ググラファイト及びグラファイトのWCコーティング方
法を提供することにある。
本発明者は、グラファイトをタングステン酸アルカリ金
属塩と有機酸の混合水溶液に浸し、乾燥後高温加熱処理
しWC層を形成することによって上記目的を達成し得る
ということを見出した。
属塩と有機酸の混合水溶液に浸し、乾燥後高温加熱処理
しWC層を形成することによって上記目的を達成し得る
ということを見出した。
本発明の具体的実施において、黒鉛炉原子吸光用のパイ
ログラファイトチューブにパイロコートグラファイトプ
ラットホームを装着し、タングステン酸ナトリウム(W
5%)とシュウ酸(8%)の混合’t8 ?(1に浸し
、アスピレータで引く程度の減圧とし、1時間放置しグ
ラファイトのボア部に上記ン容?&をしみこませる。放
置後、チューブ゛と)“う・ントホームを取り出し、8
0〜+00°C程度で乾燥した後、2600°Cに加熱
する。以上の操作を3回繰り返し作成する。
ログラファイトチューブにパイロコートグラファイトプ
ラットホームを装着し、タングステン酸ナトリウム(W
5%)とシュウ酸(8%)の混合’t8 ?(1に浸し
、アスピレータで引く程度の減圧とし、1時間放置しグ
ラファイトのボア部に上記ン容?&をしみこませる。放
置後、チューブ゛と)“う・ントホームを取り出し、8
0〜+00°C程度で乾燥した後、2600°Cに加熱
する。以上の操作を3回繰り返し作成する。
上記、タングステン酸アルカリ金属塩としては水溶解性
のタングステン酸ナトリウムの他、タングステン酸リチ
ウム、タングステン酸カリウム等を用い得る。
のタングステン酸ナトリウムの他、タングステン酸リチ
ウム、タングステン酸カリウム等を用い得る。
上記有機酸としてはシュウ酸等を用い得る。
有機酸を混合するのは、タングステン酸化合物が加水分
解を起こさせない安定化のバッファの役割をなすものと
おもわれる。
解を起こさせない安定化のバッファの役割をなすものと
おもわれる。
パイロブラップイトは密度が2.2g/cm3程度であ
るのに、グラファイトは密度が1.5〜2.0g/cm
3程度であり、グラファイトはポロシティが比較的高い
ので、浸漬・乾燥により主に、グラファイトの表面およ
びボアの部分にタングステン酸の化合物が析出する。乾
燥後、グラファイトと前記工程で析出させたタングステ
ン化合物(錯塩、水酸化物等)とを還元性、もしくは、
不活性ガス雲囲気中高温度に加熱しく例えば2600″
CIO秒)還元反応によりタングステンカーバイト(W
C)層を形成する。
るのに、グラファイトは密度が1.5〜2.0g/cm
3程度であり、グラファイトはポロシティが比較的高い
ので、浸漬・乾燥により主に、グラファイトの表面およ
びボアの部分にタングステン酸の化合物が析出する。乾
燥後、グラファイトと前記工程で析出させたタングステ
ン化合物(錯塩、水酸化物等)とを還元性、もしくは、
不活性ガス雲囲気中高温度に加熱しく例えば2600″
CIO秒)還元反応によりタングステンカーバイト(W
C)層を形成する。
上記高温加熱処理により、不純物として含まれるアルカ
リ金属の化合物は蒸発除去される。
リ金属の化合物は蒸発除去される。
上記高温加熱処理温度としてはアルカリ金属の化合物等
の不純物が完全に蒸発除去される温度で行う。
の不純物が完全に蒸発除去される温度で行う。
本発明は、W、WCが塩酸、硝酸等に対する耐酸性が大
きいことを利用したもので、パイロコトグラファイトチ
ューブ:プラットホーム、ノンパイロコートグラファイ
トチューブ:プラットホームと比べて2〜3倍の耐用回
数をもつようになる。
きいことを利用したもので、パイロコトグラファイトチ
ューブ:プラットホーム、ノンパイロコートグラファイ
トチューブ:プラットホームと比べて2〜3倍の耐用回
数をもつようになる。
また、Si測定に際し、WCコートグラファイトチュー
ブ;プラットホームを用いた吸光度、ピーク面積は、ノ
ンパイロコートグラファイトチューブ;プラントホーム
と比較し、パイロコートグラファイトチューブ:プラッ
トホームと同様に多少の増感効果を示している。
ブ;プラットホームを用いた吸光度、ピーク面積は、ノ
ンパイロコートグラファイトチューブ;プラントホーム
と比較し、パイロコートグラファイトチューブ:プラッ
トホームと同様に多少の増感効果を示している。
〔実施例]
(試料溶液の調整)GaAsをテフロン容器中テフロン
棒で粉砕する。GaAs粉末1gにつき濃塩酸5ml、
i4硝酸5mlずつ加え熔解し、50m1に希釈し、測
定試料溶液とする。
棒で粉砕する。GaAs粉末1gにつき濃塩酸5ml、
i4硝酸5mlずつ加え熔解し、50m1に希釈し、測
定試料溶液とする。
(黒鉛炉原子吸光法に用いる耐酸性を改善したWCコー
ティンググラファイトの作成)市販のノンパイロコート
グラファイトチューブにパイロコートグラファイトプラ
ットホームを装着する。これをタングステン酸ナトリウ
ム(W:5%)とシュウ酸(8%)の水溶液に浸し、減
圧下で1時間放置する。放置後、常圧に戻し、80’C
1時間の乾燥後、2600°CIO秒間加熱する。以上
の操作を3回繰り返しWCコートグラファイトチニーブ
及びプラットホームを作成する。
ティンググラファイトの作成)市販のノンパイロコート
グラファイトチューブにパイロコートグラファイトプラ
ットホームを装着する。これをタングステン酸ナトリウ
ム(W:5%)とシュウ酸(8%)の水溶液に浸し、減
圧下で1時間放置する。放置後、常圧に戻し、80’C
1時間の乾燥後、2600°CIO秒間加熱する。以上
の操作を3回繰り返しWCコートグラファイトチニーブ
及びプラットホームを作成する。
黒鉛炉原子吸光装置にWCコートグラファイトチューブ
:ブラットホームを取りつけ、試料20μmを注入し、
表1の実験条件で実施する。
:ブラットホームを取りつけ、試料20μmを注入し、
表1の実験条件で実施する。
表1.黒鉛炉原子吸光法の測定条件
ステフプ 温度 Ramp−Ho1d Ar流量D
ry 140’ C20−10sec 30
0 ml/I[1inAsh 1400 1
−60 300ALomize 2650
0−10 0Cleaning 2700
13 300本Ramp−Ho1d : Dry
の場合、室/!1〜1406Cまで20秒で温度上昇し
、140” Cで10秒保持、他も同様 測定結果を表2に示す。
ry 140’ C20−10sec 30
0 ml/I[1inAsh 1400 1
−60 300ALomize 2650
0−10 0Cleaning 2700
13 300本Ramp−Ho1d : Dry
の場合、室/!1〜1406Cまで20秒で温度上昇し
、140” Cで10秒保持、他も同様 測定結果を表2に示す。
表29表面処理による比較結果(S i40ng/m
l )表面処理 吸光度 ピーク面積 耐用回数(Ab
s、) (Abs、−5) A(比較) 0.057 0.031 100回位
回位化較) 0.091 0.049 120〜1
30回位C(発明) 0.061 0.052 2
00〜300回A;ノンパイロコートグラファイトチュ
ーブ:パイロプラットホーム B;パイロコートグラファイトチューブ:パイロプラン
トホーム C,WCコートグラファイトチューブ:WCコートプラ
ットホーム Abs、−8:absorption−see。
l )表面処理 吸光度 ピーク面積 耐用回数(Ab
s、) (Abs、−5) A(比較) 0.057 0.031 100回位
回位化較) 0.091 0.049 120〜1
30回位C(発明) 0.061 0.052 2
00〜300回A;ノンパイロコートグラファイトチュ
ーブ:パイロプラットホーム B;パイロコートグラファイトチューブ:パイロプラン
トホーム C,WCコートグラファイトチューブ:WCコートプラ
ットホーム Abs、−8:absorption−see。
パイロコート:グラファイトの表面にメタン等の熱分解
により形成された黒鉛ないしグラファイトの層 が向上する効果を奏し、GaAs中のSiのより高感度
で簡易な分析に寄与するところが大きい。
により形成された黒鉛ないしグラファイトの層 が向上する効果を奏し、GaAs中のSiのより高感度
で簡易な分析に寄与するところが大きい。
上記実施例においては、黒鉛炉原子吸光装置に用いる、
黒鉛炉原子吸光用WCコーティンググラフアイドプラ、
トホームとチューブを例に説明したが、他の用途に適応
してもよい。
黒鉛炉原子吸光用WCコーティンググラフアイドプラ、
トホームとチューブを例に説明したが、他の用途に適応
してもよい。
(発明の効果]
以上の説明の様に、本発明により形成されたWCコーテ
ィンググラファイトは酸を多く含む試料溶液においても
チューブとプラットホームが破損することなく、多数の
試料溶液を測定をすることができる。又、パイロ(グラ
ファイト)コートの特長である、試料溶液測定中におけ
る炭化物の形成を抑制することができる。
ィンググラファイトは酸を多く含む試料溶液においても
チューブとプラットホームが破損することなく、多数の
試料溶液を測定をすることができる。又、パイロ(グラ
ファイト)コートの特長である、試料溶液測定中におけ
る炭化物の形成を抑制することができる。
Claims (1)
- グラファイトをタングステン酸塩を含む溶液に浸漬し、
乾燥後、高温加熱処理しタングステンカーバイト(WC
)層を形成する工程を有することを特徴とするグラファ
イトのWCコーティング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24520288A JPH0293074A (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | グラファイトのwcコーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24520288A JPH0293074A (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | グラファイトのwcコーティング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0293074A true JPH0293074A (ja) | 1990-04-03 |
Family
ID=17130144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24520288A Pending JPH0293074A (ja) | 1988-09-29 | 1988-09-29 | グラファイトのwcコーティング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0293074A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107255450A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-10-17 | 中国人民解放军第五七九工厂 | 一种碳化钨合金粉末的筛选方法 |
-
1988
- 1988-09-29 JP JP24520288A patent/JPH0293074A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107255450A (zh) * | 2017-06-16 | 2017-10-17 | 中国人民解放军第五七九工厂 | 一种碳化钨合金粉末的筛选方法 |
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