JPH0291632U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0291632U JPH0291632U JP16904488U JP16904488U JPH0291632U JP H0291632 U JPH0291632 U JP H0291632U JP 16904488 U JP16904488 U JP 16904488U JP 16904488 U JP16904488 U JP 16904488U JP H0291632 U JPH0291632 U JP H0291632U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- airtight
- sealing member
- roll
- loading
- sealing
- Prior art date
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- Granted
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 14
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims 3
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図は、本考案の一実施例である真空含浸装
置のシール構造の一部欠截斜視図、第2図は、第
1図の真空含浸装置のシール構造の一部分を示す
一部欠截斜視図、第3図は、第1図の真空含浸装
置のシール構造の一部欠截断面図、第4図は、第
3図の〜線における端面図、第5図は、第1
図のシール構造を装着した連続真空含浸装置の断
面図、第6図は、第1図の〜線における端面
図、第7図は、第2の実施例の真空含浸装置のシ
ール構造の縦断面図、第8図は、従来の真空含浸
装置のシール構造の断面図である。 符号の説明、1……連続真空含浸装置、10…
…含浸液槽、12,12a,12b……枠体、1
5……開口、20……気密ロール、22……固定
シール部材、26……可動シール部材、30……
空気ばね、60,66……側部シール部材、61
,62……シール部。
置のシール構造の一部欠截斜視図、第2図は、第
1図の真空含浸装置のシール構造の一部分を示す
一部欠截斜視図、第3図は、第1図の真空含浸装
置のシール構造の一部欠截断面図、第4図は、第
3図の〜線における端面図、第5図は、第1
図のシール構造を装着した連続真空含浸装置の断
面図、第6図は、第1図の〜線における端面
図、第7図は、第2の実施例の真空含浸装置のシ
ール構造の縦断面図、第8図は、従来の真空含浸
装置のシール構造の断面図である。 符号の説明、1……連続真空含浸装置、10…
…含浸液槽、12,12a,12b……枠体、1
5……開口、20……気密ロール、22……固定
シール部材、26……可動シール部材、30……
空気ばね、60,66……側部シール部材、61
,62……シール部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 1 真空室の搬出入口において1対の気密ロール
を対向させ、気密ロールの端部の側方において固
定シール部材を前記搬出入口の開口縁に気密状態
で取付け、固定シール部材の気密ロール側におい
て可動シール部材を空気ばねを介して支持し、前
記固定シール部材に可動シール部材の側面が摺動
可能に密接すると共にその内面が前記気密ロール
の端面に密接するようにし、固定シール部材と可
動シール部材により気密ロールの端面と前記開口
縁との間を気密状態にしたことを特徴とする真空
装置のシール構造。 2 真空室の搬出入口において1対の気密ロール
を対向させ、気密ロールの側方において、軸方向
に伸びる複数の側部シール材を間隔を介して前記
搬出入口の開口縁に取付け、これら側部シール材
の側面が気密ロールの周面に密接するようにした
ことを特徴とする真空装置のシール構造。 3 請求項2記載の複数の側部シール材を配設し
たことを特徴とする請求項1記載の真空装置のシ
ール構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988169044U JPH0717378Y2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 真空装置のシール構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988169044U JPH0717378Y2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 真空装置のシール構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0291632U true JPH0291632U (ja) | 1990-07-20 |
JPH0717378Y2 JPH0717378Y2 (ja) | 1995-04-26 |
Family
ID=31458759
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988169044U Expired - Lifetime JPH0717378Y2 (ja) | 1988-12-26 | 1988-12-26 | 真空装置のシール構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717378Y2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
-
1988
- 1988-12-26 JP JP1988169044U patent/JPH0717378Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0717378Y2 (ja) | 1995-04-26 |