JPH0286643A - 接触光学部材用素材 - Google Patents
接触光学部材用素材Info
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
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- G02B1/043—Contact lenses
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は接触光学部材用の素材、その製造法並びに使用
法に関する。
法に関する。
本発明はこれを要約すると、N−ビニルピロリドン、ビ
ニル単量体及び交叉結合剤から共重合体をつくり、次い
でヒドロゲルをつくった後これを成形、抽出、乾燥して
つくられた接触光学部材の素材に関する。
ニル単量体及び交叉結合剤から共重合体をつくり、次い
でヒドロゲルをつくった後これを成形、抽出、乾燥して
つくられた接触光学部材の素材に関する。
本発明においては接触光学部材は好ましくはコンタクト
・レンズ及び電膜レンズである。
・レンズ及び電膜レンズである。
重合体を基質にしたコンタクト・レンスは種々の方法で
つくることができる。工業的に重要な可能性をもつ一つ
の方法では、素材即ちボタンを先ずつくり、次にこれか
ら機械加工により接触光学部材をつくる。
つくることができる。工業的に重要な可能性をもつ一つ
の方法では、素材即ちボタンを先ずつくり、次にこれか
ら機械加工により接触光学部材をつくる。
ヨーロッパ特許明細書第0.186,789号において
は、N−ビニルピロリドン、N−アルキル−N−ビニル
カルボキシアミド、メタクリレート、及び随時他の単量
体を存在させてつくられた接触光学部材用の交叉結合し
た共重合体の記載があり、これらの共重合体は水溶性の
膨潤剤の存在下においてつくり得ることが述べられてい
る。重合させた後膨潤剤は水で置換えられる。素材は注
形用の成形型中で重合させる(13頁、最終節)か、ま
たは共重合体のシートを打抜く(15頁、14及び15
行)かのいずれかの方法でつくられる。素材を乾燥させ
た後、種々の厚さのコンタクト・レンズを削り出し、研
磨する。
は、N−ビニルピロリドン、N−アルキル−N−ビニル
カルボキシアミド、メタクリレート、及び随時他の単量
体を存在させてつくられた接触光学部材用の交叉結合し
た共重合体の記載があり、これらの共重合体は水溶性の
膨潤剤の存在下においてつくり得ることが述べられてい
る。重合させた後膨潤剤は水で置換えられる。素材は注
形用の成形型中で重合させる(13頁、最終節)か、ま
たは共重合体のシートを打抜く(15頁、14及び15
行)かのいずれかの方法でつくられる。素材を乾燥させ
た後、種々の厚さのコンタクト・レンズを削り出し、研
磨する。
ドイツ特許公開明細書第3,639.186号にはコン
タクト・レンズ用素材の製造法が記載されている。
タクト・レンズ用素材の製造法が記載されている。
素材は注形型中で適当な単量体混合物を重合させること
により膨潤状態でつくられる。膨潤した素材を次に膨潤
剤(水または低級アルコール)で抽出した後乾燥する。
により膨潤状態でつくられる。膨潤した素材を次に膨潤
剤(水または低級アルコール)で抽出した後乾燥する。
乾燥は膨潤した素材を乾燥炉に入れて行い、対応する共
重合体のガラス転移温度以上の、好ましくは102〜1
80℃の高温の親木性膨潤剤流の雰囲気中において、随
時空気または不活性ガスを存在させて恒量によるまで乾
燥した後冷却する。必要に応じ最後に素材を再び恒量に
なるまで乾燥し、デシケータ−に移して、実際に最終的
な機械加工を行ってコンタク]・・レンズにするまでこ
の中に貯蔵する(ドイツ特許公開明細書第3,630.
186号第4欄34〜47行)。
重合体のガラス転移温度以上の、好ましくは102〜1
80℃の高温の親木性膨潤剤流の雰囲気中において、随
時空気または不活性ガスを存在させて恒量によるまで乾
燥した後冷却する。必要に応じ最後に素材を再び恒量に
なるまで乾燥し、デシケータ−に移して、実際に最終的
な機械加工を行ってコンタク]・・レンズにするまでこ
の中に貯蔵する(ドイツ特許公開明細書第3,630.
186号第4欄34〜47行)。
接触光学部材をつくる際に起る問題は重合体マトリ7ク
ス中の内部応力であり、これは成形中、不完全な抽出工
程中及び乾燥中に生じる。内部応力は接触光学部材の不
均一性及び光学的性質の低下の原因になる。公知の接触
光学部材はこの種の損傷を免かれない。
ス中の内部応力であり、これは成形中、不完全な抽出工
程中及び乾燥中に生じる。内部応力は接触光学部材の不
均一性及び光学的性質の低下の原因になる。公知の接触
光学部材はこの種の損傷を免かれない。
本発明においては(a) N−ビニルピロリドン、共重
合可能ビニル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフ
リーラジカル反応開始剤を存在させて共重合させ、 (b)水の中で膨潤させてヒドロゲルをつくり、(C)
このヒドロゲルから素材を成形し、(d)この素材を水
及び/又は低級アルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20〜170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する方法により接触光
学部材の素材を製造することができることが見出だされ
た。
合可能ビニル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフ
リーラジカル反応開始剤を存在させて共重合させ、 (b)水の中で膨潤させてヒドロゲルをつくり、(C)
このヒドロゲルから素材を成形し、(d)この素材を水
及び/又は低級アルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20〜170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する方法により接触光
学部材の素材を製造することができることが見出だされ
た。
本発明の素材から光学的な損傷が認められない歪みのな
い等方的な接触光学部材をつくることができる。
い等方的な接触光学部材をつくることができる。
N−ビニルピロリドン、ビニル単量体及び交叉結合剤か
ら成る共重合体は公知であり、例えばヨローツバ特許明
細方第0.184,729号、ドイツ特許公開明細書第
3,445.093号、米国特許第4,405,849
号及びヨローソパ特許明細書第0.079,720号に
記載されている。
ら成る共重合体は公知であり、例えばヨローツバ特許明
細方第0.184,729号、ドイツ特許公開明細書第
3,445.093号、米国特許第4,405,849
号及びヨローソパ特許明細書第0.079,720号に
記載されている。
共重合可能なビニル単量体は例えばエステル部分の炭素
数か1〜8の脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂肪族のメ
タクリレートであることかできる。
数か1〜8の脂肪族、脂環式、芳香族、芳香脂肪族のメ
タクリレートであることかできる。
これらの例としてはメタクリル酸メチル及びメタクリル
酸ブチルがある。他の好適な単量体の種類は上述のビニ
ルラクタム、特にN−ビニルピロリドンである。
酸ブチルがある。他の好適な単量体の種類は上述のビニ
ルラクタム、特にN−ビニルピロリドンである。
それ自身は公知の単量体の他の例としては、般にアクリ
ル酸またはメタクリル酸のC3〜C12アルキルまたは
シクロアルキルエステル、メタクリル酸、アクリル酸、
(メタ)アクリル酸のモノヒドロキシまたはジヒドロキ
シ−C,−C,−アルキルエステル及びそれらのアルキ
ルエーテル、例えばメタクリル酸2−ヒドロキシエチル
、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2,
3−ジヒドロキ/プロピル、モノアクリル酸1.4−ブ
タンジオル及びメタクリル酸2−エトキシエチル、メタ
クリル酸グリシジル、酢酸ビニル、ラウリン酸ヒニル、
プロピオン酸ヒニル、ヒニルヴアーセート及びメタクリ
ル酸2−オキシエチルがある。
ル酸またはメタクリル酸のC3〜C12アルキルまたは
シクロアルキルエステル、メタクリル酸、アクリル酸、
(メタ)アクリル酸のモノヒドロキシまたはジヒドロキ
シ−C,−C,−アルキルエステル及びそれらのアルキ
ルエーテル、例えばメタクリル酸2−ヒドロキシエチル
、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸2,
3−ジヒドロキ/プロピル、モノアクリル酸1.4−ブ
タンジオル及びメタクリル酸2−エトキシエチル、メタ
クリル酸グリシジル、酢酸ビニル、ラウリン酸ヒニル、
プロピオン酸ヒニル、ヒニルヴアーセート及びメタクリ
ル酸2−オキシエチルがある。
交叉結合剤は例えば(A)(メタ)アクリレート交叉結
合及び/又は(B)ビニルまたはアリル交叉結合剤であ
ることができる。交叉結合剤は(メタ)アクリレート基
の他に、少なくとも1個の同一または相異なるオレフィ
ン型不飽和基を含む化合物であり、これらの化合物はそ
れ自身公知である。
合及び/又は(B)ビニルまたはアリル交叉結合剤であ
ることができる。交叉結合剤は(メタ)アクリレート基
の他に、少なくとも1個の同一または相異なるオレフィ
ン型不飽和基を含む化合物であり、これらの化合物はそ
れ自身公知である。
これらの化合物の中には多官能性アルコールのアクリレ
ートまたはメタクリレート、例えはエチレングリコール
ジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、1.4−ブタンジオールジメ
タクリレート、1.6−ヘキサンシオールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート及びテトラメタク
リレート、メチル−1,5−ベンタンジオールジメタク
リレート、ジヒドロジシクロペンタジェニルモノメタク
リレート、アリルメタクリレート、ビニルメタクリレー
ト、ビスフェノールAジメタクリレート、及び対応する
アクリレートがある。 交叉結合剤(B)は少なくとも
2個の不飽和基(ビニルまたはアリル基)を含んでいる
が、(メタ)アクリルエステル基を含んでいない。この
種の単量体の例はそれ自身公知であり、ブタンジオール
ジヒニルエーテル、ジビニルエチレン尿素、シヒニルプ
ロピレン尿素、アジピン酸ジビニル、ジビニルベンゼン
、フタル酸ジビニル、シアヌール酸トリアリル、イソシ
アヌール酸トリアリル、ジエチレングリコールジアリル
カーボネート、マレイン酸ジアリル、イタコン酸ジアリ
ル、トリメチロールプロパンジアリル及びトリアリルエ
ーテル、トリメリチン酸トリアリル、N、N−ジアリル
メラミン等である。
ートまたはメタクリレート、例えはエチレングリコール
ジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリ
コールジメタクリレート、1.4−ブタンジオールジメ
タクリレート、1.6−ヘキサンシオールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールトリアクリレート及びテトラメタク
リレート、メチル−1,5−ベンタンジオールジメタク
リレート、ジヒドロジシクロペンタジェニルモノメタク
リレート、アリルメタクリレート、ビニルメタクリレー
ト、ビスフェノールAジメタクリレート、及び対応する
アクリレートがある。 交叉結合剤(B)は少なくとも
2個の不飽和基(ビニルまたはアリル基)を含んでいる
が、(メタ)アクリルエステル基を含んでいない。この
種の単量体の例はそれ自身公知であり、ブタンジオール
ジヒニルエーテル、ジビニルエチレン尿素、シヒニルプ
ロピレン尿素、アジピン酸ジビニル、ジビニルベンゼン
、フタル酸ジビニル、シアヌール酸トリアリル、イソシ
アヌール酸トリアリル、ジエチレングリコールジアリル
カーボネート、マレイン酸ジアリル、イタコン酸ジアリ
ル、トリメチロールプロパンジアリル及びトリアリルエ
ーテル、トリメリチン酸トリアリル、N、N−ジアリル
メラミン等である。
溶媒は例えばアルコール、例えばメタノール、エタノー
ル、グリコール、グリコールモノメチルエーテル、また
はジメチルフォルムアミド、ジメチルスル7オキシド、
メチルピロリドン及び多くの他のアルコールであること
ができる。
ル、グリコール、グリコールモノメチルエーテル、また
はジメチルフォルムアミド、ジメチルスル7オキシド、
メチルピロリドン及び多くの他のアルコールであること
ができる。
フリーラジカル反応開始剤は例えば光を光反応開始剤、
例えば2.2−ジメチル−2−フェニルアセトフェノン
、ジェトキシアセトフェノン、1〜ヒドロキシシクロへ
キシルフェニルケトンまたはベンゾインプロピルエーテ
ル チルエーテルと組み合わせたものであることができる[
ジャーナル・オヴ・ラジジエーション畳キユアリング(
J. Radar. Curing)誌14巻(198
7)3号、6〜16頁、及び同誌14巻(、1987)
3号18〜31頁参照]。
例えば2.2−ジメチル−2−フェニルアセトフェノン
、ジェトキシアセトフェノン、1〜ヒドロキシシクロへ
キシルフェニルケトンまたはベンゾインプロピルエーテ
ル チルエーテルと組み合わせたものであることができる[
ジャーナル・オヴ・ラジジエーション畳キユアリング(
J. Radar. Curing)誌14巻(198
7)3号、6〜16頁、及び同誌14巻(、1987)
3号18〜31頁参照]。
また熱的にラジカルを生成する物質、例えば過酸化物ま
たはアゾ化合物、例えば過ピヴアリン酸1ーブチル、過
酸化ジラウロイル、過炭酸ジイソプロピル、過酸化ベン
ゾイル及びアゾジイソブチロニトリルを用いることもで
きる[ツーベン働ワイル(Houben−Weyl)の
メトーデン・デア・オルガニツシエン・ヘミ−(Met
hoden der organischen Che
+lie)第4版、E 20、l−74頁参照1。
たはアゾ化合物、例えば過ピヴアリン酸1ーブチル、過
酸化ジラウロイル、過炭酸ジイソプロピル、過酸化ベン
ゾイル及びアゾジイソブチロニトリルを用いることもで
きる[ツーベン働ワイル(Houben−Weyl)の
メトーデン・デア・オルガニツシエン・ヘミ−(Met
hoden der organischen Che
+lie)第4版、E 20、l−74頁参照1。
本発明に従えば、少なくとも84%、好ましくは90%
の重合体への変化率が得られるまで重合を行うことが好
適である。重合体への変化率を決定するためには、ソッ
クスレー装置中でエタノールを用いて完全に抽出を行い
、I20℃で乾燥して再秤量する。
の重合体への変化率が得られるまで重合を行うことが好
適である。重合体への変化率を決定するためには、ソッ
クスレー装置中でエタノールを用いて完全に抽出を行い
、I20℃で乾燥して再秤量する。
一般に重合は25〜120℃で行われる。重合時間は一
般に30分〜3日である。
般に30分〜3日である。
一般に重合はブロック重合として行われる。
ヒドロゲルをつくるためには、水に関し吸収平衡か得ら
れるまで、温度θ〜80℃、好ましくは25〜50℃に
おいて共重合体を水中で膨潤させる。ブロックの層の厚
さに依存してこれに1〜7日を要する。こうすればヒド
ロゲルは一般に55〜80重量%の水を含む。
れるまで、温度θ〜80℃、好ましくは25〜50℃に
おいて共重合体を水中で膨潤させる。ブロックの層の厚
さに依存してこれに1〜7日を要する。こうすればヒド
ロゲルは一般に55〜80重量%の水を含む。
ヒドロゲルは蒸留水または無機質を除去した水の中でつ
くることが好適である。
くることが好適である。
ヒドロゲルは柔らかい状態にある。
ヒドロゲル上の成形を行うには、鋭い切断装置で切断す
るか打抜きを行い、円筒形の素材をつくることができる
。この素材は例えば直径が14〜約3Qmm,厚さが6
〜約20mmである。
るか打抜きを行い、円筒形の素材をつくることができる
。この素材は例えば直径が14〜約3Qmm,厚さが6
〜約20mmである。
次に水または低級アルコール(メタノールまたはエタノ
ール)を用いて素材の抽出を行うことができる。
ール)を用いて素材の抽出を行うことができる。
素材の抽出は一般に温度20〜80℃、好ましくは25
〜50℃で行われる。
〜50℃で行われる。
好ましくは連続法またはバッチ法により水を置換する方
法で抽出を行う。
法で抽出を行う。
純エタノールで抽出し得る成分の割合がヒドロゲルに関
し0.1重量%より少なくなるまで抽出を続ける。
し0.1重量%より少なくなるまで抽出を続ける。
最終工程においてヒドロゲルの素材を再乾燥する。この
乾燥は最初大気中の相対湿度90〜80%、温度20〜
90℃1対応する露点温度16.4〜87.2℃におい
て開始し、含水量が10〜20重量%に低下するまで続
ける。次に相対湿度を50〜5%、温度を90〜170
℃1対応する露点温度を25〜98℃に変える。
乾燥は最初大気中の相対湿度90〜80%、温度20〜
90℃1対応する露点温度16.4〜87.2℃におい
て開始し、含水量が10〜20重量%に低下するまで続
ける。次に相対湿度を50〜5%、温度を90〜170
℃1対応する露点温度を25〜98℃に変える。
この場合最高4バールまでの高圧をかけることができる
。
。
乾燥時間は材料中における水の拡散速度に依存し、従っ
て素材の厚さに依存している。乾燥工程には全部で最高
6日間必要である。
て素材の厚さに依存している。乾燥工程には全部で最高
6日間必要である。
本発明の素材は等方性をもった構造をしており、著しく
均一な網状構造をもっている。空間的なすべての方向に
おいて材料特性は同じである。素材の残留水分含量はす
べての方向に亙り約0.1〜2重量%、好ましくは0.
5〜1重量%である。
均一な網状構造をもっている。空間的なすべての方向に
おいて材料特性は同じである。素材の残留水分含量はす
べての方向に亙り約0.1〜2重量%、好ましくは0.
5〜1重量%である。
本発明においてはN−ビニルピロリドン、共重合可能ビ
ニル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフリーラジ
カル反応開始剤を存在させて共重合させ、水の中で膨潤
させてヒドロゲルをつくり、このヒドロゲルから素材を
つくり、この素材を水及び/又は低級アルコール水溶液
で抽出し、しかる後温度を20〜+70℃の範囲で上昇
させ、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際
適宜最高4バールの圧力をかけて乾燥することを特徴と
する接触光学部材の素材の製造法が見出だされた。
ニル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフリーラジ
カル反応開始剤を存在させて共重合させ、水の中で膨潤
させてヒドロゲルをつくり、このヒドロゲルから素材を
つくり、この素材を水及び/又は低級アルコール水溶液
で抽出し、しかる後温度を20〜+70℃の範囲で上昇
させ、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際
適宜最高4バールの圧力をかけて乾燥することを特徴と
する接触光学部材の素材の製造法が見出だされた。
本発明の素材は好ましくはコンタクト・レンズに使用さ
れる。
れる。
驚くべきことには、水で膨潤させ、しかる後本発明の条
件下で乾燥するとゲル構造は損傷せず、かえって安定化
する。また驚くべきことにはヒドロゲルの状態で素材を
成形する際に応力が生L7ない。
件下で乾燥するとゲル構造は損傷せず、かえって安定化
する。また驚くべきことにはヒドロゲルの状態で素材を
成形する際に応力が生L7ない。
本発明の素材は旋盤及び研磨機上の加工性が優れており
、特に乾燥状態における中心の厚さが0゜02〜0 、
03n+mの極端に薄いレンズをつくる場合の加工性が
優れている。水の膨潤によりレンズが変化(重量及び寸
法の変化)して柔らかいヒドロゲルのレンズになる過程
は、本発明の素材の場合には素材のすべての空間的な方
向において極めて均に且つ再現性良く進行する。本発明
の素材は均一な網状構造をもっており、異方性を示さな
い。従ってレンズには、比較的長期間かかって摩耗した
後でも、形状及び半径に関し優れた安定性が認められる
。
、特に乾燥状態における中心の厚さが0゜02〜0 、
03n+mの極端に薄いレンズをつくる場合の加工性が
優れている。水の膨潤によりレンズが変化(重量及び寸
法の変化)して柔らかいヒドロゲルのレンズになる過程
は、本発明の素材の場合には素材のすべての空間的な方
向において極めて均に且つ再現性良く進行する。本発明
の素材は均一な網状構造をもっており、異方性を示さな
い。従ってレンズには、比較的長期間かかって摩耗した
後でも、形状及び半径に関し優れた安定性が認められる
。
本発明の素材は医学的な要求に答えることができ、それ
以上清浄化せずに使用できる。
以上清浄化せずに使用できる。
実施例
下記第1表に示す組成の単量体混合物を、密封用の紐を
備えた寸法250 X250 xi3 mmのガラス板
の箱の中に、注意して脱ガスした後窒素雰囲気下におい
てに入れ、6日間紫外線ランプで照射する。
備えた寸法250 X250 xi3 mmのガラス板
の箱の中に、注意して脱ガスした後窒素雰囲気下におい
てに入れ、6日間紫外線ランプで照射する。
この箱を24時間80℃でコンディショニングした後1
40℃で2時間保つ。ガラス板の箱を開き、ガラス板か
ら重合体のブロックをはがす。イオン交換剤により塩を
除いた40℃の流水中で4日間重合体ブロックを膨潤さ
せる。ヒドロゲルが得られる。
40℃で2時間保つ。ガラス板の箱を開き、ガラス板か
ら重合体のブロックをはがす。イオン交換剤により塩を
除いた40℃の流水中で4日間重合体ブロックを膨潤さ
せる。ヒドロゲルが得られる。
中空のパンチを用いて直径22cmの素材をゲルから切
出し、さらに4日間40℃のイオン交換処理した流水中
で処理した。試験のためそれぞれ1mの素材試料を室温
で3日間乾燥した後、126℃で24時間乾燥する。秤
量した素材をソックスレー装置中において3日間エタノ
ールで抽出し、lOOoCで25時間乾燥して秤量する
。各々の場合素材の重量損失は0.05%よりも少なか
った。残りの素材を次のように加工した。
出し、さらに4日間40℃のイオン交換処理した流水中
で処理した。試験のためそれぞれ1mの素材試料を室温
で3日間乾燥した後、126℃で24時間乾燥する。秤
量した素材をソックスレー装置中において3日間エタノ
ールで抽出し、lOOoCで25時間乾燥して秤量する
。各々の場合素材の重量損失は0.05%よりも少なか
った。残りの素材を次のように加工した。
下記の温度/湿度条件をもつ調温、調湿室の中で乾燥す
る。
る。
方法人
0.5 165
90 77.4
80 74.6
70 71.4
50 63.8
40 67.6
< 10 98.0
50 98.0
下記第1表記載の各処方A−Eからこのように加工した
素材の両側を、前面に垂直に削り、研磨した。偏光(透
過光)で検査し、歪みがないことま明らかであった。
素材の両側を、前面に垂直に削り、研磨した。偏光(透
過光)で検査し、歪みがないことま明らかであった。
方法B
72 40 80
35.924 80 <10
250.5 165
<10 98この処理後素材をカリウス(
Car 1us)管に移し、これを密封して24時間4
バールの内圧をかけて126℃の温度に保ち、素材中の
水分を平衡化させる。
35.924 80 <10
250.5 165
<10 98この処理後素材をカリウス(
Car 1us)管に移し、これを密封して24時間4
バールの内圧をかけて126℃の温度に保ち、素材中の
水分を平衡化させる。
下記第1表記載の各処方A−EからこのようLコ加工し
た素材の両側を、前面に垂直に削り、研磨した。偏光で
検査し、歪みがないことは明らかであった。残留水分は
[2,5]%であった。
た素材の両側を、前面に垂直に削り、研磨した。偏光で
検査し、歪みがないことは明らかであった。残留水分は
[2,5]%であった。
本発明の主な特徴及び態様は次の通りである。
1 (a) N−ビニルピロリドン、共重合可能ビニル
単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及び7り−ラジカル
反応開始剤を存在させて共重合させ、(b)水の中で膨
潤させてヒドロゲルをつくり、(c)このヒドロゲルか
ら素材を成形し、(d)この素材を水及び/又は低級ア
ルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20〜170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する方法によってつく
られた接触光学部材の素材。
単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及び7り−ラジカル
反応開始剤を存在させて共重合させ、(b)水の中で膨
潤させてヒドロゲルをつくり、(c)このヒドロゲルか
ら素材を成形し、(d)この素材を水及び/又は低級ア
ルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20〜170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する方法によってつく
られた接触光学部材の素材。
2、重合体への変化率が少なくとも84M量%になるよ
うに共重合を行う上記第1項記載の素材。
うに共重合を行う上記第1項記載の素材。
3、ヒドロゲルの製造は0〜80℃の温度範囲で行われ
る上記第1〜2項記載の素材。
る上記第1〜2項記載の素材。
4、ヒドロゲルの成形はヒドロゲルの切断または打抜き
によって行われる上記第1〜3項記載の素材。
によって行われる上記第1〜3項記載の素材。
5、抽出は20〜80℃の温度範囲で行われる上記第1
〜4項記載の素材。
〜4項記載の素材。
6、抽出可能な成分の割合がヒドロゲルに関し0.1重
量%より少なくなるまで抽出を行う上記第1〜5項記載
の素材。
量%より少なくなるまで抽出を行う上記第1〜5項記載
の素材。
7、乾燥は水分含量が0.1〜5重量%、好ましくは1
〜3重量%になるまで行われる上記第1〜6項記載の素
材。
〜3重量%になるまで行われる上記第1〜6項記載の素
材。
8、乾燥は最初大気中の相対湿度90〜80%、温度2
0〜90℃1露点温度16.4〜87.2℃において開
始され、含水量が10〜20重量%に低下するまで続け
、次に相対湿度50〜5%、温度90〜170℃1露点
温度25〜98℃において最高4バールの高圧をかけて
行われる上記第1〜7項記載の素材。
0〜90℃1露点温度16.4〜87.2℃において開
始され、含水量が10〜20重量%に低下するまで続け
、次に相対湿度50〜5%、温度90〜170℃1露点
温度25〜98℃において最高4バールの高圧をかけて
行われる上記第1〜7項記載の素材。
9、 (a) N−ビニルピロリドン、共重合可能ビニ
ル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフリーラジカ
ル反応開始剤を存在させて共重合させ、(b)水の中で
膨潤させてヒドロゲルをつくり、(C)このヒドロゲル
から素材を成形し、(d)この素材を水及び/又は低級
アルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20−170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する接触光学部材の製
造法。
ル単量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフリーラジカ
ル反応開始剤を存在させて共重合させ、(b)水の中で
膨潤させてヒドロゲルをつくり、(C)このヒドロゲル
から素材を成形し、(d)この素材を水及び/又は低級
アルコール水溶液で抽出し、 (e)シかる後温度を20−170℃の範囲で上昇させ
、相対湿度を90〜5%の範囲で減少させ、この際適宜
最高4バールの圧力をかけて乾燥する接触光学部材の製
造法。
10、コンタクト・レンズをつくるのに上記第1〜8項
記載の素材を使用する方法。
記載の素材を使用する方法。
特許出願人 バイエル・アクチェンゲゼルシャフト
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(a)N−ビニルピロリドン、共重合可能ビニル単
量体及び交叉結合剤を、適宜溶媒及びフリーラジカル反
応開始剤を存在させて共重合させ、 (b)水の中で膨潤させてヒドロゲルをつくり、 (c)このヒドロゲルから素材を成形し、 (d)この素材を水及び/又は低級アルコール水溶液で
抽出し、しかる後 (e)温度を20〜170℃の範囲で上昇させ、相対湿
度を90%〜5%の範囲で減少させ、この際適宜最高4
バールの圧力をかけて、乾燥する、ことによって製造し
うる接触光学部材用の素材。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3823317.7 | 1988-07-09 | ||
DE3823317A DE3823317A1 (de) | 1988-07-09 | 1988-07-09 | Rohlinge fuer kontaktoptische gegenstaende |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0286643A true JPH0286643A (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=6358337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1172116A Pending JPH0286643A (ja) | 1988-07-09 | 1989-07-05 | 接触光学部材用素材 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0350685B1 (ja) |
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