JPH0285382A - 腐食制御 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、水性システムによく生じる鉄汚染形成物を除
去する新規な方法に関する。本方法は、水性システムと
鉄及び／又は鉄をベースとする合金材料が接触している
システムにおいて形成された鉄（ＩＩ［）スケール形成
物を取り去り（ｄｉｓｌｏｄｇｅ）及び除去する（ｒｅ
ｍｏｖｅ）手段を提供する。

要約すると、本発明は、芳香族環からぶら下がっている
（ｐθｎｄａｎｔ）少なくとも１個の電子吸引性基を有
する少なくとも１種のオルトジヒドロキシ芳香族化合物
を、水性システム内に導入すると共に該水性システム内
に維持することにより、水性システム内の鉄汚染物を除
去する方法、及び、更に、少なくとも１種のジヒドロキ
シ芳香族化合物をカルシウムスケール抑制剤と組み合わ
せて使用することにより、鉄汚染物の存在下でのカルシ
ウムスケール形成を抑制する方法である。　本発明は、
水性システムから鉄含有金属（ｆｅｒｒｏｕｓ　ｍｅｔ
ａｌｓ）の腐食生成物を効果的に取り去り及び除去する
ことによって、水性システムと接触している鉄含有金属
の腐食生成物を除去する実質的に無毒な方法の使用に関
する。前記しそして特許請求の範囲に記載の方法は、芳
香族環からぶら下がっている少なくとも１つの電子吸引
性基を更に含有する少なくとも１種の隣接対ジヒドロキ
シ、即ちオルト−ジヒドロキシ芳香族化合物の使用を必
要とする。

本発明は、冷却水システムにおけるその使用について説
明される。しかしながら、本発明は、そのように限定さ
れるものではなくて、鉄をベースとする合金材料と接触
している他の水性システム、特にボイラー、熱交換器な
どのような高められたｐＨｓ高温及び／又は高い硬度レ
ベルの状態を呈する制御が困難なシステムに効果的に使
用することができる。

冷却水システムが閉塞することのないようにし、そして
流速及び熱移動を最大とすることにり効率の良いシステ
ムを製造するには、鉄汚染形成物の取り去り及び／又は
除去は冷却水システムにおいては必須である。酸化鉄（
ＩＩＮ）スケールは、これらのシステムにおいて蓄積し
て、その効率を顕著に減少させるすることは知られてい
る。酸化鉄スケールは、特に水性媒体に対する溶解性が
非常に低いという理由で、特に厄介である。故に、鉄ス
ケールを除去すると共にシステムにスケールが蓄積され
ないように維持することができる添加剤に対する要求が
ある。これを有効になすためには、添加剤はシステムに
存在する酸化鉄固体を取り去り及び除去することができ
なければならない。

鉄スケールを除去するための多くの手段が示唆された。

製品が冷却システム等で普通に見出だされる条件下で有
用であるためには、下記の厳しい基準の組み合わせを満
足しなければならない。

■）古いさびスケールの溶解、 ２）高いｐＨのそして高いカルシウム含有率及びマグネ
シウム含有率を持った非常に硬質な水であるの冷却水条
件において普通は不溶性物質である酸化鉄（Ｉ［ｒ）及
び水酸化鉄（ＤＩ）の固体の溶解、３）持続する期間に
わたり鉄（ＩＩＩ）としての新しいさびスケールの形成
を制御することができること、 ４）鉄スケールの固体は他の小さな寸法の位置に閉じ込
められてシステムを詰まらせる傾向があるので、固体の
形成部位からこの固体を単に移動させるだけではなくて
この鉄スケールをシステムから除去することができるこ
と、 ５）高いｐＨ（６，５−９−５）、高い温度（例えば、
ｔｏｏ−１７５’Ｆ）及び／又は過剰のカルシウム、マ
グネシウム及び炭酸イオンの存在と関係しｔ；硬度など
の与えられた不利な条件下に安定である物質又は組成物
を使用すること、 ６）与えられた不利な条件下に可溶性であることができ
る物質を使用すること、 ７）システムの腐食源又はシステムの腐食促進源でない
こと、 ８）低い濃度で鉄を錯化することができること、９）鉄
の存在下に閾値スケール抑制剤の性能を高めることがで
きること、 １０）金属表面を更なる腐食に対して不働態とする保護
酸化物層の形成を促進することができること。

この所望の性質の組み合わせを達成する手段は、冷却水
システムでの鉄スケールの制御において強く容認される
であろうことは容易に分かる。

スケール防止は清浄なシステムを維持するための主目標
であるきべきである。しかしながら、ｐＨＳ温度、濃縮
のサイクル、流速などにおける不注意なシステムの混乱
は、慣用の添加剤の普通の保守投薬量によっては防止さ
れないいくらかの鉄スケールの形成をもたらす。故に、
このような混乱により形成された酸化鉄析出物（ｄｅｐ
ｏｓｉｔｓ）を除去する添加剤に対する要求がある。

鉄スケールを除去するための古典的方法は、酸洗浄又は
機械的清浄による。これらの方法は、処理されるべきシ
ステムの費用のかかる操業停止を必要としそして腐食及
び／又は機械的摩耗による装置の劣化をもたらすので、
望ましくない。冷却水システムの普通の操作中に鉄スケ
ールを除去する手段は、経済性の改善、操作の単純化を
もたらしそして装置の劣化を最少にするであろう。

ポリマー添加剤が冷却水中の鉄スケールを制御するのに
使用された。例えば、米国特許筒３．８９８．０３７号
には、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホ
ン酸のポリマーと不溶性鉄化合物の分散液が記載されて
いる。スルホン化ポリマーもこの目的に使用された［プ
ロン・−インタ・ウォーター・コンファ・エンジ・ソサ
・ウェスト・バー１９７８．３９．２９９　（Ｐｒｏｃ
、−ＩｎシＷａｔｅｒ　Ｃｏｎｆ、　Ｅｎｇ、　Ｓａｃ
、　Ｗｅｓｔ、　Ｐａ、　１９７８．３９．２９９）１
゜これらの分散液は酸化鉄固体が析出するのを防止する
ことができる。しかしながら、それらは酸化鉄（［［）
を溶解せず、冷却水システム中にしばしば存在する硬化
した又は結晶性の析出物を除去するのには有効ではない
。

キレート剤が金属イオン封鎖により酸化鉄スケールを防
止及び除去するのに使用された。酸化鉄スケールを除去
、するのにエチレンジアミン四酢酸が使用された（米国
特許筒２．３９６．９３８号）が、それは過剰のカルシ
ウムの不存在下にのみ、冷却システム等において普通に
起こる条件下でのみ有効である。その使用も又は増加し
た腐食をもたらす。アミノトリメチレンホスホン酸（Ａ
ＴＭＰ）などの有機ホスホネートは、鉄（ＩＩＩ）を封
鎖し、それによりそれをｐＨ＝１０まで可溶性とするこ
とが示されたｔ［デクエスト、テクニカル・バーチン１
−２４フーモンサント、１９７２　（Ｄｅｑｕｅｓｔ。

Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ　１−２４７．
　Ｍｏｎ５ａｎｔｏ、　１９７２）］　。

しかしながら、これらの有機ホスホネートは一般に８又
はそれ以上のｐ）Ｉで高濃度のカルシウムイオンを含む
水中の酸化鉄又は水酸化鉄固体を溶解しないことが知ら
れている。これらの水の状態は冷却水システム等の普通
の操作に典型的なものである。更に、これらの有機ホス
ホネートは高濃度のカルシウムで沈でんし、高い硬度の
水の鉄スケール制御のための使用が排障されることが見
出だされた。蓄積した鉄腐食生成物を取り去り及び除去
しそして、水と鉄又は鉄をベースとする合金材料が接触
しているシステムのこのような生成物の形成を防止する
と共にそれらを分散又は溶解させる手段を得ることが強
く望まれる。

本発明は、水性／鉄又は鉄をベースとする合金界面が存
在するシステム、特に冷却水システム又は熱交換システ
ムにおける鉄腐食生成物の形成物を除去する方法に関し
、従って、システムをこのような生成物から清浄化する
手段を提供する。

本方法は、お互いにオルト位置にある隣接した対をなす
２ｍのヒドロキシル基を有し、芳香族基の水素原子が少
なくとも１個の電子吸引性基により置換されている少な
くとも１種の芳香族化合物をシステムの水性成分内に導
入すると共に該水性成分内に維持することを必要とする
。

本発明は、鉄スケール等を形成する冷却水システムを浄
化するための可溶性添加剤に関する。

電子吸引性基を含むある種のジヒドロキシ芳香族化合物
が前述のような所望の特性のすべてを提供することが予
測を越えて見出された。対になったヒドロキシル基及び
少なくとも１個の電子吸引性基の組合せが、これらのジ
ヒドロキシ芳香族添加剤を、水冷却条件下で望ましくな
い鉄の汚染物固体を有効に除去する能力を有する安定で
かつ可溶性材料として維持するために本質的に重要であ
る。

本発明の方法において使用することを必要とする化合物
は、ここでは隣接した対のヒドロキシ基即ちオルトヒド
ロキシ基並びに芳香族部分に直接結合した少なくとも１
個の電子吸引性基を有する芳香族化合物として記載され
る。ここで使用する用語「対の」又は「オルト」は、２
個のヒドロキシ基が単一のベンゼン環の隣接する炭素原
子上に位置することを意味する。

本発明に従って使用することを必要とする化合物は、対
のヒドロキシル基を含み且つ少なくとも１個の電子吸引
性基を含む芳香族化合物である。

ここで使用する用語「芳香族」は、特に別に示さない限
り、ベンゼン化合物を意味する。用語「電子吸引性基」
は、ここでは、正電荷を強め且つ芳香族基のカルボニウ
ムイオンの安定を損うとして知られている電子吸引誘導
効果を有する基を意味する。適当な電子吸引性基には、
−５ｏ、Ｈ。

ＳＯＲ，Ｓｏ□Ｒ，−Ｎｏ、、−Ｆ、−ＣＩ。

−Ｂ　ｒ、−ＣＨ○、−ＣＯＣＨ３、−ＣＯＲ。

−ＣＯＮＨ，、−ＣＯＮＨＲ，Ｃ０ＮＲ，、−Ｃｏ２Ｈ
，−ＰＯ，Ｈ，等（ここでＲはアルキル基である）が含
まれる。好ましい基はスルホニル、カルボキシル及びニ
トロ基である。本化合物の例は、３．４−ジヒドロキシ
ベンゼンスルホン酸（カテコール−４−スルホン酸）、
４−ニトロ−１゜２−ベンゼンジオール、３．４−ジヒ
ドロキシ安息香酸、４．５−ジヒドａキシ−１，３−ベ
ンゼンジスルホン酸（カテコール−３，５−ジスルホン
酸〕等及び前記酸の塩である。塩は好ましくはアルカリ
及びアルカリ土類金属から形成される。

必要な化合物は次式 ％式％） 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、Ｑは芳香族部
分上で置換された少なくとも１個の電気吸引性基を表し
、そしてヒドロキシル基はベンゼン芳香族Ａｒ基土で対
の位置にある で表すことができる。

これらの芳香族化合物は、公知の水処理用添加剤、例え
ばキレート肩（ｃｈｅｌａｎｔｓ）　、スケール抑制剤
、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤及び／又は腐食抑制剤
及びそれらの混合物、と組合わせて使用してもよい。キ
レート剤の例は、Ｎ、Ｎ、Ｎ’Ｎ′−エチレンジアミン
四酢酸及びＮ、Ｎ、Ｎ’Ｎ′−ビス（２−ヒドロキシベ
ンジル）エチレンジニトリロ−Ｎ、Ｎ’−二酢酸である
。ｐＨ調節剤の例は、鉱酸（例えばＨ２ＳＯ１）、有機
酸（酢ｒｊ１）、塩基（例えばＮａ０Ｈ）及び各種の緩
衝剤（例えばりん酸塩又はほう酸塩）である。スケール
抑制剤の例は、有機ホスホネート、たとえばアミノトリ
メチレンホスホン酸及びヒドロキシエチリデン−１，１
−ジホスホン酸並びにポリアクリレートである。分散剤
の例は、ポリマーを含むカル、ポキシレート及びスルホ
ネートを含む。殺生物剤の例は、塩素−１及び臭素−含
有物質及び第四級アンモニウム塩である。腐食抑制剤の
例は無機酸（即ちりん酸）、有機酸（即ちＨＥ　Ｄ　Ｐ
　Ａ）及びこれらの酸の塩、例えばホスフェート、有機
ホスホネートクロム酸塩及びモリブデン酸塩及び亜鉛塩
である。

冷却水システム等において鉄に基づくスケールを除去す
るための本発明の方法は、水性液中に、少なくとも１種
の上述の対のジヒドロキシ芳香族化合物（単一又は多成
分）を０．１乃至５０．０００　ｐｐｍｂ好ましくはｌ
乃至２０００ｐｐｍ、最も好ましくは５乃至２００ｐｐ
ｍの量で維持することからなる。上記剤をスラグ浄化（
腐食含有システムの急速浄化）に使用する時は、末剤は
通常約５００乃至５０００ｐｐｍの量で使用され、そし
てシステムはｐＨ約６乃至約９．５（好ましくは約６乃
至８）に維持される。システムを鉄汚染物を含まないよ
うに維持することを望む場合は、上記化合物をシステム
内で濃度約２乃至２０　ｐｐｍ５ｐＨ７，５乃至９．５
（好ましくは８以下）に維持する。処理されるシステム
の温度は室温乃至約２００″Ｆ′、好ましくは１６０’
Ｆまで、に維持すべきである。本発明に使用する処理組
成物は、処理剤を含むビケット（ｂｉｑｕｅｔｔｅｓ）
を使用する通常のバイパス供給機により、組成物を別個
に又は−緒にして乾燥混合物として水に添加することに
より、水に添加することができ、又は処理剤成分を含む
水性供給溶液として供給することもできる。

本発明の他の態様は、上記対のジヒドロキシ芳香族化合
物を、上述のような従来のカルシウムスケール抑制剤と
組合わせて使用することである。

かかるスケール抑制剤は、処理すべきシステムが鉄汚染
物を含む時は通常望ましい抑制特性を示さない。一方、
鉄を防止及び除去するために使用する通常の添加剤はカ
ルシウム及び公知カルシウムスケール抑制剤の存在下で
は通常効果的ではない。

例えば有機ホスホネート及びポリアクリレートのような
、在来のカルシウムスケール抑制剤は、処理すべきシス
テムが鉄汚染物を含む時、本発明の対のジヒドロキシ芳
香族剤の存在下で有効に且つ効率的に作用し得ることが
、予測を越えて見出された。−力木発明の芳香族剤は、
カルシウムスケール抑制剤と共に使用した場合に鉄汚染
物を有効に除去することができる。カルシウム抑制剤及
び対のジヒドロキシ芳香族剤は約１＝５０乃至５０：１
１好マシくハ約１＝１０乃至ＩＱ：ｌ、（７）重量比で
使用することができる。カルシウム抑制剤は、処理され
るシステムの液中で約０．１乃至１０　ｐ　ｐｍで維持
するのが最も好ましい。正確な量は存在する汚染物の量
に依存し、日常の実験により決定することができる。

電子吸引性置換基を含むジヒドロキシ芳香族化合物を水
性溶液中で（単独で又は冷却水に対する公知の添加剤と
組合わせて）使用することにより、冷却水システムにお
ける鉄スケールを制御することができる。この結果設備
は障害なしで、最大の流速及び熱移動で、且つ最小の腐
食及び生物学的汚染で維持される。

以下の実施例は専ら説明を目的とするものであり、特許
請求の範囲で規定された本発明を制限することを意味す
るものではない。すべての部及びパーセントは他に特定
しない限り重量による。

実施例１〜ＩＯ 試験水を調製し、９９ｐｐｍのＣ１５０４％１３ｐｐｍ
のＣａＣｌ、、５５ｐｐｍのＭｇ５Ｏい及び１７６ｐｐ
ｍのＮａＨＣＯ，を含ませた。この試験水４８．５ｍｆ
ｆに５．１ｇのＦ　ｅＣＩ　ｓ　・６　Ｈ！０の１．５
ｍ（２の水中溶液を添加した。はげしく撹拌しながら、
ＮａＯＨ（水性）を用いてｐ）（を０．１に調節し、次
いで２時間撹拌した。この結果Ｆ　ｅｏ　（ＯＨ）ｎＨ
ｚｏと思われる鉄含有固体が沈でんした。ｐＨ８，１で
試験溶液５０ｍＱ中１１００ｐｐの（表■に示した）添
加剤を含む第２の溶液を調製した。二つの溶液を一緒に
し、混合物を５４°Ｃ″ｃ１７時間撹拌した。次いで混
合物を０゜１ミクロンの膜を通してろ過し、溶解した鉄
の量を原子吸収によって測定した。結果を表Ｉに示す。

実施例１〜６は本発明のものではなく、比較の目的で含
ませた。

表■ 実施例　　　　添加剤（５０ｐｐｍ）　　溶解した鉄（
ｐｐｍ）■　　　　　　ナシ　　　　　　　０９１２　
エチレンジアミン四酢酸　　　　０．２５３　ジエチレ
ントリアミン五酢酸　　０．６１４　ヒドロキシエチリ
デン−１，１− ジホスホン酸　　　　　　　　　　０．３７５　アミノ
トリメチレンホスホン酸　０．３８６　カテコール　　
　　　　　　　　０．３８７　カテコール−４−スルホ
ン酸　　　　４．８８４−ニトロカテコール　　　　　
　５．３９　カテコール−３，５−ジスルホン酸　６．
８１０　３．４−ジヒドロキシ安息香酸　　　２．３表
■の結果から、本発明の化合物を使用する方法は、同じ
目的で従来使用されて来た公知の代表的な物質よりも、
鉄固体を溶解するためのはるかに優れた手段を提供する
ことは明白である。

実施例１１−１５ 試験水中添加剤５０ｐｐｍの溶液をｐＨ８，１でｌｏｏ
ｏｐｐｍのＦｅｚｅｓ（へ？タイト、粒径−０−１０ミ
クロン）と−緒にした。この混合物を５４°Ｃで１７時
間撹拌し、次いで妨害なしで１時間静置した。深さ５０
％において試料を取出し、原子吸収によりＦｅを分析し
た（ＨＣＩに溶解後）。

結果を表■に示す。実施例１１〜１３は発明のものでは
なく比較の目的で含ませた、 表■ 実施例　　　添加剤（５０ｐｐｍ）　　分散したＦｅｚ
ｅｓ（ｐｐｍ）１１　　　　　　　ナシ　　　　　　　
〈３０１２　　ジエチレントリアミン五酢酸　　〈３０
１３　　アミノトリメチレンホスホン酸　＜３０１４　
　カテコール−４−スルホン酸　　　４６０１５　　カ
テコール−３，５−ジスルホン酸　５８０実施例１６ 秤量した軟鋼のクーポンを気曝した塩水溶液（１％Ｎａ
ＣＩ）上に垂直に２４時間吊すことによって予備腐食せ
しめた。この方法で７００　ｍ　ｇ　ｔｈ１５％の沈で
ん物が生じた。２個の予備腐食したクーポンを９００＋
＋＋＜２の試験溶液を含むだけの高いビーカー中に吊し
Ｉ；。ｐＨ７，０乃至７．５の試験溶液はＣａ”５００
ｐｐｍ、Ｍｇ”１００ｐｐｍ及びＨＣＯ，−５００ｐ　
ｐｍ　（すべてのＣａ　ＣＯｓとして）を含む。この溶
液を２５℃、５００ｒｐｍで、３時間撹拌した。この期
間の終りにクーポンを取り出し５０ｃｍ”のサンプル溶
液を取った。

このサンプルを２ミクロンのろ紙を通してろ過し、ｌ：
ｌのＨＣｌ　２滴で酸性化し、そして原子吸収により全
鉄を分析した。鋼製クーポンを１００℃で１時間乾燥し
、そして秤量した。次いでクーポンを抑制ＨＣＩで清浄
し、水及びアセトンで洗浄し、そして再秤量して沈でん
物の最終重量を決定した。この試験の結果を可溶性鉄及
び沈でん物除去パーセントで表した。

表■ ブランク　　　　　　　　　　　　　　０　　　０　　
　０．１カテコール−４−スルホン酸　　　１．５００
　　　６２　　　７５カテコール−３，５−ジスルホン
酸　１．５００　　　５６　　１１４表■は本発明の化
合物の硬水中のさび除去能力を説明する。

実施例１７〜１９ 炭酸カルシウム閾値抑制剤に対する全鉄干渉試験を次に
示す水中で実施した：ＭｇＳＯ４・７Ｈ，０２６６，１
ｐｐｍ％ＣａＣｌ２２３４．８ｐｐｍ。

Ｃａ　ｓｏ４・３ＡＨ！ｏ　　ｌ　９９−９ｐｐｍＳ９
−９ｐｐ＜９１．５ｐｐｍ及びＮａＨＣＯ３４９８，３
ｐｐｍ。

上記水に対してヒドロキシエチリデン−１，１−ジホス
ホン酸（ＨＥＤＰＡ）１　ｐ　ｐｍを１０１００Ｏのビ
ーカーに添加することによって試験溶液を調製し、次い
で表■に示す量の添加剤を添加し、次いで硫酸第１鉄の
水性溶液から得た第１鉄イオンｔｐｐｍを添加した。溶
液の全容量を７５０１１ａにした。溶液を５０Ｏｒｐｍ
で撹拌し、そして水浴中で６０°Ｃに加熱した。溶液の
ｐＨを監視し、希塩酸を添加してｐＨ７，３以下に維持
した。

所望の温度に達した後、自動滴定器を用いて０゜０６６
Ｎ　　ＮａＯＨを０．３ｍＱ／分の割合で添加し　を二
　。

滴定の間ｐＨの監視を続けた。炭酸カルシウムが沈でん
し始めた時ｐＨの低下又はプラトー状態が観察されｔ；
。この点を臨界ｐＨという。ＨＥＤＰＡのような閾値抑
制剤は臨界ｐＨを増大するように作用し、従って水のス
ケール化傾向を減少せしめる。鉄がＨＥＤＰＡと干渉す
る場合は、臨界ｐＨの減少によって閾値活性の減少が示
される。

結果を表■に示した。実施例１７は本発明のものではな
く、比較の目的で含ませた。

表■ 添加剤濃度に対する臨界ｐｔｔ 実施例　　　　添加剤　　　　　　　釦巴り匝四５ｐｐ
ｍ　ｌＯｐｐｍ１７　　エチレンジアミン四酢酸　　　
８．７０８．７０８．７０８．７０１８　　カテコール
−４−スルホン酸　　　８．７０８．７０８．９５９．
００■９　　カテコール−３，５−ジスルホン酸　８．
７０８．７５９．１０９．００ＨＥＤＰＡは第１鉄イオ
ンが無い時は臨界ｐＨ値９．ｌＯを与え、第１鉄イオン
が存在する時は臨界ｐＨ値８．７０を与え、これは閾値
活性の顕著な損失を示す。従って、臨界ｐＨ値８．７０
は鉄干渉の除去に対する示された添加剤による活性０％
を示し、一方臨界ｐＨ値９．ｌＯは活性１００％を示す
。

表■に示されるように、通常使用されるキレート剤であ
るエチレンジアミン四酢酸は炭酸カルシウムスケール抑
制剤であるＨ　Ｅ　Ｄ’Ｐ　Ａに対する鉄の干渉の除去
には全く効果がない。一方力テコ−ルー４−スルホン酸
又はカテコール−３，５−’；スルホン酸を５ｐｐｍ添
加すると、ＨＥＤＰＡの閾値活性の大部分が回復する。

本発明の主なる特徴及び態様は以下のとおりである。

１、水性システムに水性溶液を導入し、鉄汚染物を含む
該水性システムの一部を除去することより成り、該水性
溶液は、本質的に、水と、式、Ｑ　　（Ａ　ｒ　）−（
ＯＨ）を 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
上の置換基である少なくとも１個の電子吸引性基を表し
、ヒドロキシル基（ＯＨ）は、オ互いにオルト位置にあ
るＡｒ部分上の置換基である、により表される少なくと
も１種のジヒドロキシル芳香族化合物から成り、前記溶
液は前記システム内の前記化合物の濃度が０．１−５０
．０００ｐｐｍとなる量で前記システム内に導入される
ことを特徴とする、水性システムから鉄汚染物を除去す
る方法。

２、ジヒドロキシル芳香族化合物を約ｌ−２０００ｐｐ
ｍの濃度に維持する上記ｌに記載の方法。

３、前記システムが９．５以下のｐＨを有し、そして約
２００″Ｆ以下の温度に維持されている上記ｌに記載の
方法。

４、ジヒドロキシル芳香族化合物を約５００−５０００
０　ｐｐｍの濃度となるように前記システム中に導入し
、前記システムが約６−９．５のｐＨを有する上記ｌに
記載の方法。

５、ＱがＳＯ，Ｈ，Ｃ０ＯＨ，Ｎｏｗ、金属スルホネー
ト塩、金属カルボキシレート塩から選ばれる上記ｌに記
載の方法。

６、ＱがＳ　Ｏｓ　Ｈ、ＣＯＯＨ、Ｎ　Ｏｘ、金属スル
ホネート塩、金属カルボキシレート塩から選ばれる上記
２に記載の方法。

７、ＱがＳ、　Ｏｓ　ＨＳＣＯＯＨ％Ｎ　Ｏ！、金属ス
ルホネート塩、金属カルボキシレート塩から選ばれる上
記３に記載の方法。

８、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３，４−ジヒドロキ
シベンゼンスルホン酸、３．４−ジヒドロキシ安息香酸
、４．５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホン
酸、前記酸の塩及び４−ニトロ−１，２−ベンゼンジオ
ールから選ばれる上記ｌに記載の方法。

９、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３．４−ジヒドロキ
シベンゼンスルホン酸、３．４−ジヒドロキシ安息香酸
、４．５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホン
酸、前記酸の塩及び４−ニトロ−１，２−ベンゼンジオ
ールから選ばれる上記２に記載の方法。

１０、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３．４−ジヒドロ
キシベンゼンスルホンａ、３．４−ジヒドロキシ安息香
酸、４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホ
ン酸、前記酸の塩及び４−二トロー１．２−ベンゼンジ
オールから選ばれる上記３に記載の方法。

１１、前記水性システムが、更に、キレート剤、スケー
ル抑制剤、ｐＨ１１節剤、分散剤、殺生物剤、腐食抑制
剤及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも１種の水
処理剤を含む上記ｌに記載の方法。

１２、前記水性システムが、更に、キレート剤、スケー
ル抑制剤、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤、腐食抑制剤
及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも１種の水処
理剤を含む上記３に記載の方法。

１３、前記水性システムが、更に、キレート剤、スケー
ル抑制剤、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤、腐食抑制剤
及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも１種の水処
理剤を含む上記５に記載の方法。

１４、前記水性システムが、更に、キレート剤、スケー
ル抑制剤、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤、腐食抑制剤
及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも１種の水処
理剤を含む上記７に記載の方法。

１５、水性／鉄又は鉄をベースとする合金界面を与える
システムから固体鉄（ＩＩＩ）腐食生成物を取り除く方
法であって、 本質的に、式、 Ｑ　　（Ａ　ｒ　）−（ＯＨ）ｉ 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
上の置換基である少なくともＩＷＡの電子吸引性基を表
し、各ヒドロキシル基はお互いにオルト位置にある、 により表される少なくとも１種のジヒドロキシ芳香族化
合物から成る水性溶液を前記システムの水性成分に導入
し、該水性成分を前記固体鉄（ＩＩＩ）生成物と接触さ
せ、前記溶液を前記システム内の前記化合物がＯ，１−
５０，ＯＯＯｐｐｍとなる量で前記システム内に導入し
、前記溶液により前記生成物を除去及び／又は溶解させ
、前記腐食生成物を含む前記水性システムの生成物を除
去することを特徴とする方法。

１６、ジヒドロキシル芳香族化合物が約１−２０００　
ｐｐｍの量で存在する上記１５に記載の方法。

１７、Ｑが、−３Ｏ３）（％ｓｏｗＲ，ＳＯＲ。

−ＣＯＯＨ％Ｎｏｚ、−Ｆ　、　−Ｃｌ、　−Ｂ　ｒ、
−ＣＨｏ。

−ＣＯＲ，−ＣＯＮＨ２、−ＣＯＮＨＲ，−ＣＯＮＲ，
、−ＰＯ，Ｈ，、金属スルホネート塩及び金属カルボキ
シレート塩から選ばれ、Ｒがアルキル基である上記１５
に記載の方法。

１８、Ｑが５ｏ３Ｈ，Ｃ０ＯＨ，Ｎｏ、、金属スルホネ
ート塩及び金属カルボキシレート塩から選ばれる上記１
７に記載の方法。

１９、前記システムの前記水性成分が、更に、キレート
剤、スケール抑制剤、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤、
腐食抑制剤及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも
１種の水処理剤を含む上記１５に記載の方法。

２０、前記システムの前記水性成分が、更に、キレート
剤、スケール抑制剤、ｐＨ調節剤、分散剤、殺生物剤、
腐食抑制剤及びそれらの混合物から選ばれる少なくとも
１種の水処理剤を含む上記１８に記載の方法。

２１、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３．４−ジヒドロ
キシベンゼンスルホン酸、３．４−ジヒドロキシ安息香
酸、４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホ
ン酸、前記酸の塩及び４−二トロー１．２−ベンゼンジ
オールから選ばれる上記１５に記載の方法。

２２、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３．４−ジヒドロ
キシベンゼンスルホン酸、３．４−ジヒドロキシ安息香
酸、４．５−ジヒド゛ロキシー１．３−ベンゼンジスル
ホン酸、前記酸の塩及び４−二トロー１．２−ベンゼン
ジオールから選ばれる上記１６に記載の方法。

２３、カルシウムの多い水性システムにおいてカルシウ
ムスケール形成を抑制する方法であって、本質的に、約
ｌ：５〇−約５０：１の重量比のカルシウムスケール抑
制剤と少なくとも１種のジヒドロキシル芳香族化合物か
ら成る溶液を前記水性システムに導入し、該ジヒドロキ
シ芳香族化合物は、式、 Ｑ　　（Ａ　ｒ　）　　（ＯＨ）ｚ 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
上の置換基である少なくセも１個の電子吸引性基を表し
、ヒドロキシル基（ＯＨ）は、オ互いにオルト位置にあ
るＡｒ部分上の置換基である、により表され、そして前
記システム内での該化合物の濃度がＯ，１−５０，００
０−０ｐｐとなる量で導入されることを特徴とする方法
。

２４、ジヒドロキシル芳香族化合物が約１−２０００　
ｐｐｍの量で存在する上記２３に記載の方法。

２５、前記スケール抑制剤が有機ホスホネート類及びポ
リアクリレート類から選ばれる上記２４に記載の方法。

２６、ＱがＳｏ、Ｈ，Ｃ○ＯＨ，Ｎｏ！、金属スルホネ
ート塩及び金属カルボキシレート塩から選ばれる上記２
４に記載の方法。

２７、ＱがＳ　ＯＳ）（、ＣＯＯＨ，Ｎ　Ｏ！、金属ス
ルホネート塩及び金属カルボキシレート塩から選ばれる
上記２５に記載の方法。

２８、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３．４−ジヒドロ
キシベンゼンスルホン酸、３，４−ジヒドロキシ安息香
酸、４，５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホ
ン酸、前記酸の塩及び４−二トロー１．２−ベンゼンジ
オールから選ばれる上記２４に記載の方法。

２９、ジヒドロキシ芳香族化合物が、３，４−ジヒドロ
キシベンゼンスルホン酸、３．４−ジヒドロキシ安息香
酸、４．５−ジヒドロキシ−１，３−ベンゼンジスルホ
ン酸、前記酸の塩及び４−二トロー１．２−ベンゼンジ
オール゛から選ばれる上記２５に記載の方法。

３０、前記スケール抑制剤とジヒドロキシる芳香族化合
物が約１＝ｌＯ乃至約１０：ｌの重量比である上記２９
に記載の方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、水性システムに水性溶液を導入し、鉄汚染物を含む
   該水性システムの一部を除去することより成り、該水性
   溶液は、本質的に、水と、式、Ｑ−（Ａｒ）−（ＯＨ）
   ＿２ 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
   上の置換基である少なくとも１個の電子吸引性基を表し
   、ヒドロキシル基（ＯＨ）は、お互いにオルト位置にあ
   るＡｒ部分上の置換基である、により表される少なくと
   も１種のジヒドロキシル芳香族化合物から成り、前記溶
   液は前記システム内の前記化合物の濃度が０．１−５０
   ，０００ｐｐｍとなる量で前記システム内に導入される
   ことを特徴とする、水性システムから鉄汚染物を除去す
   る方法。 ２、水性／鉄又は鉄をベースとする合金界面を与えるシ
   ステムから固体鉄（III）腐食生成物を取り除く方法で
   あって、 本質的に、式、 Ｑ−（Ａｒ）−（ＯＨ）＿２ 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
   上の置換基である少なくとも１個の電子吸引性基を表し
   、各ヒドロキシル基はお互いにオルト位置にある、 により表される少なくとも１種のジヒドロキシ芳香族化
   合物から成る水性溶液を前記システムの水性成分に導入
   し、該水性成分を前記固体酸化鉄（III）生成物と接触
   させ、前記溶液を前記システム内の前記化合物が０．１
   −５０，０００ｐｐｍとなる量で前記システム内に導入
   し、前記溶液により前記生成物を除去及び／又は溶解さ
   せ、前記腐食生成物を含む前記水性システムの生成物を
   除去することを特徴とする方法。 ３、カルシウムの多い水性システムにおいてカルシウム
   スケール形成を抑制する方法であって、本質的に、約１
   ：５０−約５０：１の重量比のカルシウムスケール抑制
   剤と少なくとも１種のジヒドロキシル芳香族化合物から
   成る溶液を前記水性システムに導入し、該ジヒドロキシ
   芳香族化合物は、式、 Ｑ−（Ａｒ）−（ＯＨ）＿２ 式中、Ａｒはベンゼン芳香族部分を表し、ＱはＡｒ部分
   上の置換基である少なくとも１個の電子吸引性基を表し
   、ヒドロキシル基（ＯＨ）は、お互いにオルト位置にあ
   るＡｒ部分上の置換基である、により表され、そして前
   記システム内での該化合物の濃度が０．１−５０，００
   ０ｐｐｍとなる量で導入されることを特徴とする方法。