JPH0279292A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH0279292A
JPH0279292A JP63231232A JP23123288A JPH0279292A JP H0279292 A JPH0279292 A JP H0279292A JP 63231232 A JP63231232 A JP 63231232A JP 23123288 A JP23123288 A JP 23123288A JP H0279292 A JPH0279292 A JP H0279292A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
voltage
signal
input
dynamic ram
Prior art date
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Pending
Application number
JP63231232A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Nozoe
敦史 野副
Kazumasa Yanagisawa
一正 柳沢
Hitoshi Miwa
仁 三輪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63231232A priority Critical patent/JPH0279292A/en
Publication of JPH0279292A publication Critical patent/JPH0279292A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To contrive low energy consumption and a high speed by providing a capacitor having specific electrostatic capacity between the input node of a voltage generating circuit and the ground potential of the circuit, and temporarily increasing an input voltage at the beginning of the operating condition of a voltage generating circuit. CONSTITUTION:In a Bi.CMOS dynamic type RAM, etc., to provide a voltage generating circuit VG and to adopt a power source switching system, a capacitor C1 having the specific electrostatic capacity between the input node of a voltage generating circuit VG and the ground potential of the circuit is provided, and at the beginning of the operating condition of the voltage generating circuit VG, the absolute value of the input voltage is temporarily increased. Thus, since the rising of the output voltage of the voltage generating circuit VG can be made faster, as a result, the operation of the input circuit of an address buffer, etc., can be made faster, and by adopting the power source switching system, the access time of the Bi.CMOS dynamic type RAM, etc., can be made faster while the low energy consumption is being promoted.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、91−CMOSダイナ文ツク型RAM (Rand
ose Access Memory )等に利用して
特に有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, such as a 91-CMOS dynamic RAM (Rand
The present invention relates to a technique that is particularly effective when used in applications such as access memory.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ダイナミック型メモリセルが格子状に配置されてなるメ
モリアレイを基本構成とするダイナミック型RAMがあ
る。
There is a dynamic RAM whose basic configuration is a memory array in which dynamic memory cells are arranged in a grid.

ダイナミック型RAMについては、例えば、特開昭60
−185291号公報等に記載されている。
Regarding dynamic RAM, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 60
-185291, etc.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本m発明者等は、この発明に先立って、上記ダイナミッ
ク型RAMの周辺回路を、バイポーラトランジスタ及び
CMOS (相補型MO5)により構成したいわゆるB
i・CMOSダイナミック型RAMを開発した。また、
このようなりj−CMOSダイナミック型RAMの低消
費電力化をさらに推進するため、アドレス入力回路等の
定電流源を構成するバイポーラトランジスタに所定のベ
ース電圧を供給するための電圧発生回路を、Bl・CM
OSダイナミック型RAMが選択状態とされるとき選択
的に動作状態とするいわゆる電源スイツチ方式を開発し
た。
Prior to the present invention, the inventors of the present invention had developed a so-called B-type RAM in which the peripheral circuit of the dynamic RAM was constructed of bipolar transistors and CMOS (complementary MO5).
Developed i-CMOS dynamic RAM. Also,
In order to further reduce the power consumption of j-CMOS dynamic RAM, a voltage generation circuit for supplying a predetermined base voltage to a bipolar transistor that constitutes a constant current source in an address input circuit, etc. CM
We have developed a so-called power switch method that selectively puts the OS dynamic RAM into the active state when it is in the selected state.

第5図には、上記電源スイツチ方式を採るB1・CMO
SMOSダイナミツAMのロウアドレスバッファRAB
の部分的な回路図が示されている。
Figure 5 shows a B1/CMO that uses the above power switch method.
SMOS DYNAMITSU AM row address buffer RAB
A partial circuit diagram is shown.

第5図において、Bi・CMOSダイナミック型RAM
のロウアドレスバッファRABは、複数ヒツトのXアド
レス信号AXO等に対応して設けられる複数の単位アド
レスバッファUABO等を含む、これらの単位アYレス
バッファは、バイポーラトランジスタ(以下、単にトラ
ンジスタと称する)T2を基本構成とする入力回路IC
と、差動トランジスタT3・T4を基本構成とする電流
スイッチ回路C8とを含む、電流スイッチ回路C8は、
さらにトランジスタT7〜T9及び抵抗R4〜R6から
なる複数の定電流源を含む、これらの定電流源には、電
圧発生回路VGから所定のベース電圧vbが供給される
In Fig. 5, Bi CMOS dynamic RAM
The row address buffer RAB includes a plurality of unit address buffers UABO, etc. provided in response to multiple hits of the X address signal AXO, etc. These unit address buffers are bipolar transistors (hereinafter simply referred to as transistors). Input circuit IC whose basic configuration is T2
The current switch circuit C8 includes a current switch circuit C8 having a basic configuration of differential transistors T3 and T4.
Furthermore, a predetermined base voltage vb is supplied from the voltage generation circuit VG to these constant current sources including a plurality of constant current sources made up of transistors T7 to T9 and resistors R4 to R6.

電圧発生回路vGは、その出力ノードと回路の接地電位
との間に設けられるトランジスタT1を含む、このトラ
ンジスタTIには、2個のダイオードDI及びB2から
なるクランプ回路と、NチャンネルMOSFETQI 
2が並列形態に設けられる。また、トランジスタT1の
ベースと出力ノード及び回路の接地電位との間には、抵
抗R2及びR3がそれぞれが設けられる。電圧発生回路
VGの出力ノードは、さらにNチャンネルMO3FET
QII及び抵抗R1を介して、回路の電源電圧に結合さ
れる。上記MO3FETQI 1のゲートには、内部制
御信号aeが供給され、MOSFETQ12のゲートに
は、上記内部制御信号aeのインバータ回路N1による
反転信号が供給される。ここで、内部制御信号aeは、
B i −CMOSダイナミック型RAMが選択状態と
されるとき、選択的にハイレベルとされる。
The voltage generating circuit vG includes a transistor T1 provided between its output node and the ground potential of the circuit.
2 are provided in parallel configuration. Furthermore, resistors R2 and R3 are provided between the base of the transistor T1 and the output node and the ground potential of the circuit, respectively. The output node of the voltage generation circuit VG is further connected to an N-channel MO3FET.
It is coupled to the circuit power supply voltage via QII and resistor R1. The internal control signal ae is supplied to the gate of the MO3FETQI 1, and the inverted signal of the internal control signal ae by the inverter circuit N1 is supplied to the gate of the MOSFETQ12. Here, the internal control signal ae is
When the B i -CMOS dynamic RAM is brought into a selected state, it is selectively set to a high level.

Bi・CMOSダイナミック型RAMが選択状態とされ
上記内部制御信号asがハイレベルとされるとき、MO
3FETQI 1がオン状態とされる。このため、電圧
発生回路VGは動作状態となり、例えば1.5 Vat
 (ココ”t’、vBEはNPN型トランジスタのベー
ス・エミッタ電圧を示す)とされるような安定したベー
ス電圧vbを形成する。
When the Bi-CMOS dynamic RAM is in the selected state and the internal control signal as is set to high level, the MO
3FET QI 1 is turned on. For this reason, the voltage generating circuit VG is in an operating state, and for example, the voltage is 1.5 Vat.
(Here t', vBE indicates the base-emitter voltage of an NPN transistor.) A stable base voltage vb is formed.

これにより、ロウアドレスバッファRAB等の電流スイ
ッチ回路C8が動作状態とされる。一方、Bi・CMO
Sダイナミック型RAMが非選択状態とされ上記内部制
御信号aeがロウレベルとされると、MOSFETQI
 1はオフ状態とされ、代わってMO3FETQI 2
がオン状態とされる。
As a result, the current switch circuit C8 such as the row address buffer RAB is brought into operation. On the other hand, Bi・CMO
When the S dynamic type RAM is in a non-selected state and the internal control signal ae is set to low level, MOSFET QI
1 is turned off and MO3FETQI 2 is turned off instead.
is turned on.

したがって、電圧発生回路VCは非動作状態となり、ベ
ース電圧vb゛は回路の接地電位に固定される。このた
め、ロウアドレスバッファRAB等に設けられる多数の
単位アドレス入力回路において、電流スイッチ回路C8
の差動トランジスタT3・T4及び出カニミッタフォロ
ワ回路に流される無駄な動作電流が停止される。その結
果、Bi・CMOSダイナミック型RAMの待機時にお
ける低消費電力化が推進される。
Therefore, the voltage generating circuit VC becomes inactive, and the base voltage vb' is fixed at the ground potential of the circuit. Therefore, in a large number of unit address input circuits provided in the row address buffer RAB, etc., the current switch circuit C8
The wasteful operating current flowing through the differential transistors T3 and T4 and the output limiter follower circuit is stopped. As a result, the power consumption of the Bi-CMOS dynamic RAM during standby can be reduced.

ところが、上記のような電源スイツチ方式を採るB1・
CMOSダイナミック型RAMには、次のような問題点
があることが本願発明者等によって明らかとなった。す
なわち、電圧発生回路VCの出力ノードn2には、周知
のように、トランジスタTlのコレクタ領域やトランジ
スタT7〜T9のベース領域に存在する寄生容量C3が
結合される。したがって、第4図に示されるように、電
圧発生回路VCの出力電圧すなわちベース電圧Vbの立
ち上がりが緩慢となる。このため、ロウアドレスバッフ
アRAB等の電流スイッチ回路csの動作が遅れ、結果
的にBi・CMOSダイナミック型RAMのアクセスタ
イムの高速化が制限されるものである。
However, the B1, which uses the power switch method as described above,
The inventors of the present application have discovered that the CMOS dynamic RAM has the following problems. That is, as is well known, the parasitic capacitance C3 present in the collector region of the transistor Tl and the base regions of the transistors T7 to T9 is coupled to the output node n2 of the voltage generating circuit VC. Therefore, as shown in FIG. 4, the output voltage of the voltage generating circuit VC, that is, the base voltage Vb rises slowly. Therefore, the operation of the current switch circuit cs such as the row address buffer RAB is delayed, and as a result, the speeding up of the access time of the Bi-CMOS dynamic RAM is limited.

この発明の目的は、選択的に動作状態とされる電圧発生
回路の出力電圧の立ち上がりを速めることにある。この
発明の他の目的は、電圧発生回路を備えかつ電源スイツ
チ方式を採るB L −CMOSダイナミック型RAM
等のアクセスタイムを高速化することにある。
An object of the present invention is to speed up the rise of the output voltage of a voltage generating circuit that is selectively activated. Another object of the present invention is to provide a B L-CMOS dynamic RAM equipped with a voltage generation circuit and employing a power switch system.
The aim is to speed up the access time of etc.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろ
う。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、電圧発生回路を備えかつ電源スイツチ方式を
採るBi・CMOSダイナミック型RAM等において、
電圧発生回路の入力ノードと回路の接地電位との間に所
定の静電容量を持つキャパシタを設け、電圧発生回路が
動作状態とされる当初に、その入力電圧の絶対値を一時
的に大きくするものである。
In other words, in Bi/CMOS dynamic RAM, etc., which is equipped with a voltage generation circuit and uses a power switch method,
A capacitor with a predetermined capacitance is provided between the input node of the voltage generation circuit and the ground potential of the circuit, and the absolute value of the input voltage is temporarily increased when the voltage generation circuit is put into operation. It is something.

〔作  用〕[For production]

上記した手段によれば、電圧発生回路の出力電圧の立ち
上がりを高速化できるため、結果的にアドレスバッファ
等の入力回路の動作を高速化できる。これにより、電源
スイツチ方式を採ることでその低消費電力化を推進しつ
つ、Bi・CMOSダイナミック型RAM等のアクセス
タイムを高速化できる。
According to the above-mentioned means, the rise of the output voltage of the voltage generation circuit can be made faster, and as a result, the operation of input circuits such as address buffers can be made faster. As a result, by adopting the power switch method, it is possible to reduce the power consumption and speed up the access time of Bi/CMOS dynamic RAM and the like.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、この発明が通用されたBi・CMOSダイ
ナミック型RAMの一実施例のブロック図が示されてい
る。また、第1図には、第2図のBi・CMOSダイナ
ミック型RAMのロウアドレスバッファRABの一実施
例の部分的な回路図が示され、第3図には、第2図のB
1・CMOSダイナミック型RAMの一実施例の信号波
形図が示されている。これらの図に従って、この実施例
のBi・CMOSダイナミック型RAMの構成と動作の
概要ならびにその特徴について説明する。
FIG. 2 shows a block diagram of an embodiment of a Bi-CMOS dynamic RAM to which the present invention is applied. Further, FIG. 1 shows a partial circuit diagram of an embodiment of the row address buffer RAB of the Bi CMOS dynamic RAM shown in FIG. 2, and FIG.
1. A signal waveform diagram of an embodiment of a CMOS dynamic RAM is shown. According to these figures, an overview of the configuration and operation of the Bi-CMOS dynamic RAM of this embodiment and its characteristics will be explained.

なお、第1図の回路素子ならびに第2図の各ブロックを
構成する回路素子は、公知の半導体集積回路の製造技術
により、特に制限されないが、単結晶シリコンのような
1個の半導体基板上に形成される。第1図において、チ
ャンネル(バックゲート)部に矢印が付加されるMOS
FETはPチャンネル型であり、矢印の付加されないN
チャンネルMO3FETと区別して示される。また、図
示されるバイポーラトランジスタは、すべてNPN型ト
ランジスタである。
Note that the circuit elements in FIG. 1 and the circuit elements constituting each block in FIG. It is formed. In Figure 1, an arrow is added to the channel (back gate) section of the MOS.
The FET is a P-channel type, and the N
It is shown separately from the channel MO3FET. Furthermore, all the illustrated bipolar transistors are NPN type transistors.

この実施例の81・CMOSダイナミック型RAMは、
入出力端子の配列が従来のスタティック型RAMと同一
となるように設計されることで、いわゆる擬似スタティ
ック型RAM形態とされる。
The 81 CMOS dynamic type RAM of this embodiment is as follows:
By designing the arrangement of input/output terminals to be the same as that of a conventional static type RAM, the RAM has a so-called pseudo-static type RAM configuration.

したがって、ロウアドレス信号すなわちXアドレス信q
AXo〜AXi及びカラムアドレス信号すなわちYアド
レス信号AYO〜AYjは、それぞれ別個の外部端子を
介して入力される。Bi・CMOSダイナミック型RA
Mには、制御信号として、チップイネーブル信号CE、
 ライトイネーブル信号WE及び出力′イネーブル信号
OEが供給され、さらにリフレッシェ動作を制御するた
めのりフレッシェ制御信号RFが供給声れる。これらの
アドレス信号及び制御信号ならびに入出力データは、E
CLレベルとされ、その信号振幅は例えば0.8vとさ
れる。このため、Bi・CMOSダイナミック型RAM
のロウアドレスバッファRAB。
Therefore, the row address signal, that is, the X address signal q
AXo to AXi and column address signals, that is, Y address signals AYO to AYj, are each input via separate external terminals. Bi/CMOS dynamic RA
M has a chip enable signal CE, as a control signal.
A write enable signal WE and an output enable signal OE are supplied, and a refresh control signal RF for controlling the refresh operation is further supplied. These address signals, control signals, and input/output data are
The signal is set to the CL level, and its signal amplitude is set to, for example, 0.8V. For this reason, Bi CMOS dynamic RAM
row address buffer RAB.

カラムアドレスバッファCAB、データ入出力回路I1
0及びタイミング発生回路TGは、ECLレベルの入力
信号をMOSレベルに変換しまたMOSレベルの出力信
号をECLレベルに変換するためのレベル変換回路を含
む。
Column address buffer CAB, data input/output circuit I1
0 and timing generation circuit TG includes a level conversion circuit for converting an input signal of ECL level to MOS level and converting an output signal of MOS level to ECL level.

この実施例のB i −CMOSダイナミック型RAM
において、各アドレスバッファ及びデータ入出力回路I
lo等は、後述するように、一対の差動トランジスタを
基本構成とするレベル判定回路と、このレベル判定回路
の相補出力信号を伝達する一対の出力エミッタフォロワ
回路とからなる電流スイッチ回路を含む。これらのレベ
ル判定回路及び出カニミッタフォロワ回路には、バイポ
ーラトランジスタを基本構成とする定電流源がそれぞれ
設けられ、またこれらの定電流源を構成するトランジス
タに所定のベース電圧を供給するための電圧発生回路が
それぞれ設けられる。この実施例において、上記電圧発
生回路は、Bi・CMOSダイナミック型RAMが選択
状態とされることで、選択的に動作状態とされる。言い
換えると、電圧発生回路VCは、Bi・CMOSダイナ
ミック型RAMが非選択状態とされる間、その動作が停
止される。したがって、この間、アドレス信号及びλカ
データに対応して設けられる比較的多数の電流スイッチ
回路は、動作電流が切断され、その動作が停止される。
B i -CMOS dynamic RAM of this embodiment
, each address buffer and data input/output circuit I
As will be described later, the LO etc. include a current switch circuit consisting of a level determination circuit whose basic configuration is a pair of differential transistors, and a pair of output emitter follower circuits that transmit complementary output signals of this level determination circuit. These level determination circuits and output limiter follower circuits are each provided with a constant current source whose basic configuration is a bipolar transistor, and a voltage for supplying a predetermined base voltage to the transistors that constitute these constant current sources. A generating circuit is provided respectively. In this embodiment, the voltage generating circuit is selectively brought into operation when the Bi-CMOS dynamic RAM is brought into the selected state. In other words, the operation of the voltage generating circuit VC is stopped while the Bi-CMOS dynamic RAM is in the non-selected state. Therefore, during this time, the operating current of a relatively large number of current switch circuits provided corresponding to the address signal and the λ card data is cut off, and the operation thereof is stopped.

このため、この実施例のBi・CMOSダイナミック型
RAMは、待機時における消費電力が大幅に削減される
Therefore, in the Bi-CMOS dynamic RAM of this embodiment, power consumption during standby is significantly reduced.

第2図において、Bi・CMOSダイナミック型RAM
は、特に制限されないが、対称的に配置される2個のメ
モリアレイMARYO及びMARYlと、これらのメモ
リアレイに対応して設けられるセンスアンプ5APO,
5API及び5ANO,5ANIならびにカラムスイッ
チC5O及びC5lとを含む。
In Figure 2, Bi CMOS dynamic RAM
includes, but is not particularly limited to, two memory arrays MARYO and MARYl arranged symmetrically, and a sense amplifier 5APO provided corresponding to these memory arrays.
5API, 5ANO, 5ANI and column switches C5O and C5l.

メモリアレイMARYO及びMARYIは、垂直方向に
平行して配置される複数のワード線と、水平方向に平行
して配置される複数の相補データ線ならびにこれらのワ
ード線と相補データ線の交点に格子状に配置される複数
のダイナミック型メモリセルとをそれぞれ含む。
Memory arrays MARYO and MARYI have a plurality of word lines arranged in parallel in the vertical direction, a plurality of complementary data lines arranged in parallel in the horizontal direction, and a grid pattern at the intersections of these word lines and complementary data lines. and a plurality of dynamic memory cells arranged in the memory cells.

メモリアレイMARYO及びMARYIを構成するワー
ド線は、対応するロウアドレスデコーダRADO及びR
A、DIに結合され、択一的に選択状態とされる。
Word lines constituting memory arrays MARYO and MARYI are connected to corresponding row address decoders RADO and R.
It is coupled to A and DI and is alternatively set in a selected state.

ロウアドレスデコーダRAD(lびRADlには、特に
制限されないが、ブリロウアドレスデコーダPRADか
ら所定のプリデコード信号が供給される。ロウアドレス
デコーダRADO及びRADlは、これらのプリデコー
ド信号に従って、対応するメモリアレイMARYO,,
及びMARYIの対応するワード線を択一的にハイレベ
ルの選択状態とする。
The row address decoders RAD (l and RADl) are supplied with a predetermined predecode signal from the pre-row address decoder PRAD, although this is not particularly limited. The row address decoders RADO and RADl decode the corresponding memory according to these predecode signals. Array MARYO,,
and MARYI are alternatively set to a high level selected state.

プリロウアドレスデコーダPRADには、特に制限され
ないが、ロウアドレスパンツ7RABから最上位ビット
を除くlビア)の相補内部アドレス信号axQ〜axi
−1(ここで、例えば非反転内部アドレス信号axQと
反転内部アドレス信号aX了λあわせて相補内部アドレ
ス信号互JOのように表す、以下同じ)が供給される。
The pre-row address decoder PRAD includes, but is not particularly limited to, complementary internal address signals axQ to axi of the row address pants 7RAB (1 via excluding the most significant bit).
-1 (here, for example, the non-inverted internal address signal axQ and the inverted internal address signal aX λ are expressed as complementary internal address signals JO; the same applies hereinafter).

また、タイミング発生回路TGからタイミング信号φX
が供給される。プリロウアドレスデコーダPRADは、
上記タイミング信号φXがハイレベルとされることで、
選択的に動作状態とされる。この動作状態において、ブ
リロウアドレスデコーダPRADは、上記相補内部アド
レス信号上xQ〜axL−1を所定の組み合わせでデコ
ードし、上記プリデコード信号を形成して、ロウアドレ
スデコーダRADに供給する。
Also, a timing signal φX is output from the timing generation circuit TG.
is supplied. The pre-row address decoder PRAD is
By setting the timing signal φX to high level,
Selectively activated. In this operating state, the burrow address decoder PRAD decodes the complementary internal address signals xQ to axL-1 in a predetermined combination, forms the predecode signal, and supplies it to the row address decoder RAD.

ロウアドレスバッファRABには、特に制限されないが
、外部端子AXO〜AXIを介してl+1ビツトのXア
ドレス信号AXO〜AXiが供給されるとともに、リフ
レッシュアドレスカウンタRFCからt+1ビットのり
フレフシエアドレス信号arQ〜ariが供給される。
Although not particularly limited, the row address buffer RAB is supplied with l+1 bits of X address signals AXO to AXi via external terminals AXO to AXI, and is supplied with t+1 bits of refresher address signals arQ to AXi from the refresh address counter RFC. ari is supplied.

また、タイミング発生回路TGから、タイミング信号φ
ce及びφrefが供給される。ここで、タイミング信
号φcsは、チップイネーブル信号CEがロウレベルと
されBi・CMOSダイナミック型RAMが選択状態と
されるとき、選択的に所定のタイ文ングでハイレベルと
される。また、タイミング信号φrefは、リフレッシ
ェ制御信号RFがロウレベルとされBi・CMOSダイ
ナミック型RAMがリフレッシュモードとされるとき、
選択的にハイレベルとされる。
Also, a timing signal φ is output from the timing generation circuit TG.
ce and φref are supplied. Here, the timing signal φcs is selectively set to a high level at a predetermined timing when the chip enable signal CE is set to a low level and the Bi-CMOS dynamic type RAM is placed in a selected state. Further, the timing signal φref is set when the refresh control signal RF is set to low level and the Bi/CMOS dynamic type RAM is placed in the refresh mode.
Selectively set to high level.

この実施例において、ロウアドレスバッファRABは、
特に5IIrR,されないが、・上記タイミング信号φ
ce及びφrefを受けるタイミング設定回路TSと、
Xアドレス信号AXO−AXiに対応して設けられるi
+1個の単位アドレスバッファとを含む。
In this embodiment, the row address buffer RAB is
In particular, 5IIrR, but not the above timing signal φ
a timing setting circuit TS receiving ce and φref;
i provided corresponding to the X address signal AXO-AXi
+1 unit address buffer.

ロウアドレスバッファRABのタイミング設定回路TS
は、特に制限されないが、第1図に示されるように、遅
延用めキャパシタC2を中心とする遅延回路DLIと、
同様に遅延用のキャパシタC3を中心とする遅延回路D
L2とを含む、タイミング発生回路TGから供給される
タイミング信号φceは、遅延回路DLIによって遅延
された後、内部信号dceとして、ノアゲート回路N0
G1及びN OC,2の一方の入力端子に供給される。
Timing setting circuit TS of row address buffer RAB
Although not particularly limited, as shown in FIG. 1, a delay circuit DLI centered on a delay capacitor C2;
Similarly, a delay circuit D centered around a delay capacitor C3
The timing signal φce supplied from the timing generation circuit TG, including L2, is delayed by the delay circuit DLI and then output as the internal signal dce to the NOR gate circuit N0.
G1 and one input terminal of NOC,2.

ノアゲート回路N0G2の他方の入力端子にはター  
イミング発生回路TGからタイミング信号φr’efが
供給され、ノアゲート回路N0G1の他方の入力端子に
は上記タイミング信号φrafの反転信号が供給される
。上記内部信号dceは、遅延回路DL2によってさら
に遅延された後、内部信号d2として、ノアゲート回路
N0G3の一方の入力端子に供給される。ノアゲート回
路N0G3の他方の入力端子には、上記タイミング信号
φCeの反転信号が供給される。
The other input terminal of the NOR gate circuit N0G2 has a tar
A timing signal φr'ef is supplied from the timing generation circuit TG, and an inverted signal of the timing signal φraf is supplied to the other input terminal of the NOR gate circuit N0G1. The internal signal dce is further delayed by the delay circuit DL2 and then supplied to one input terminal of the NOR gate circuit N0G3 as the internal signal d2. The other input terminal of the NOR gate circuit N0G3 is supplied with an inverted signal of the timing signal φCe.

これらのことから、ノアゲート回路N0G1の出力信号
すなわち反転内部制御信号rgは、Bi・CMOSダイ
ナミック型RAMがリフレフシェモードで選択状態とさ
れタイミング信号φrefがハイレベルとされてから上
記内部信号dceがハイレベルとされるまでの間、ハイ
レベルとされる。また、ノアゲート回路N0G2の出力
信号すなわち反転内部制御信号xgは、Bi・CMOS
ダイナミック型RAMが通常の動作モードで選択状態と
されタイミング信号φrefがロウレベルとされてから
上記内部信号dceがハイレベルとされるまでの間、ハ
イレベルとされる。さらに、ノアゲート回路N0G3の
出力信号すなわち内部制御信号asは、Bi・CMOS
ダイナミック型RAMが選択状態とされタイミング信号
φceがハイレベルとされてから上記内部信号d2がハ
イレベルとされるまでの間、−時的にハイレベルとされ
る。これらの反転内部制御信号rg及びxgならびに内
部制御信号aeは、後述するように、各単位アドレスバ
ッファのゲート制御信号として共通に供給される。
From these facts, the output signal of the NOR gate circuit N0G1, that is, the inverted internal control signal rg, is set to the internal signal dce after the Bi/CMOS dynamic RAM is selected in the refresh mode and the timing signal φref is set to high level. Until it is set to high level, it is set to high level. In addition, the output signal of the NOR gate circuit N0G2, that is, the inverted internal control signal
The dynamic RAM is set to a selected state in the normal operation mode and the timing signal φref is set to a low level until the internal signal dce is set to a high level. Furthermore, the output signal of the NOR gate circuit N0G3, that is, the internal control signal as, is a Bi.CMOS
After the dynamic RAM is selected and the timing signal φce is set to a high level until the internal signal d2 is set to a high level, the internal signal d2 is temporarily set to a high level. These inverted internal control signals rg and xg and internal control signal ae are commonly supplied as gate control signals to each unit address buffer, as will be described later.

ロウアドレスバッファRABの各単位アドレスバッファ
は、第1図の単位アドレスバッファUABOに代表して
示されるように、トランジスタT2を基本構成とする入
力回路ICと、差動トランジスタT3・T4を基本構成
とする電流スイッチ回路C8とをそれぞれ含む、また、
クロックドインバータ形態とされる2組のゲート回路G
XP。
Each unit address buffer of the row address buffer RAB, as represented by the unit address buffer UABO in FIG. and a current switch circuit C8, and
Two sets of gate circuits G configured as clocked inverters
XP.

GXN及びGRP、GRNと、ラッチLP、LNならび
にアドレスドライバADP、ADNをそれぞれ含む、さ
らに、この実施例のロウアドレスバッファRABの単位
アドレスバッフアバ、電流スイッチ回路C8の定電流源
を構成するトランジスタT7〜T9(第2のバイー−ラ
トランジスタ)に所定のベース電圧vbを供給する電圧
発生回路VGをそれぞれ含む。
The transistor T7 includes GXN, GRP, GRN, latches LP, LN, and address drivers ADP, ADN, respectively, and also constitutes a unit address buffer of the row address buffer RAB of this embodiment and a constant current source of the current switch circuit C8. -T9 (second bailer transistor) each includes a voltage generating circuit VG that supplies a predetermined base voltage vb.

以下、単位アドレスバッファUABOを例に、この実施
例のB1・CMO≦ダイナミック型RAMのロウアドレ
スバッファRABの単位アドレスバッファの説明を進め
る。
Hereinafter, the unit address buffer of the row address buffer RAB of the dynamic RAM will be explained using the unit address buffer UABO as an example.

第1図において、外部端子AXOを介して入力されるE
CLレベルのXアドレス信号A X Oi!、入力回路
ICを構成するトランジスタT2のベースに供給される
。゛トランジスタT2のエミッタと回路の接地電位との
間には、それぞれ異なるコンダクタンスを有し上記内部
制御信号asに従って選択的に有効とされる2個の定電
流源が並列形態に設けられる。BL−CMOSダイナミ
ック型RAMが非選択状態とされ内部制御信号aeがロ
ウレベルとされるとき、トランジスタT2のエミッタ負
荷は大きくされる。また、Bi・CMOSダイナミック
型RAMが選択状態とされ内部制御信号asが一時的に
ハイレベルとされるとき、トランジスタT2のエミッタ
負荷は小さくされる。その結果、Bi・CMOSダイナ
ミック型RAMの非選択時における入力回路ICの消費
電力が削減されるとともに、選択時における入力回路I
Cの動作が高速化される。
In Fig. 1, E input via external terminal AXO
CL level X address signal A X Oi! , is supplied to the base of the transistor T2 constituting the input circuit IC. Two constant current sources having different conductances and selectively enabled according to the internal control signal as are provided in parallel between the emitter of the transistor T2 and the ground potential of the circuit. When the BL-CMOS dynamic RAM is in a non-selected state and the internal control signal ae is set to a low level, the emitter load of the transistor T2 is increased. Further, when the Bi-CMOS dynamic RAM is selected and the internal control signal as is temporarily set at high level, the emitter load of the transistor T2 is reduced. As a result, the power consumption of the input circuit IC when the Bi-CMOS dynamic RAM is not selected is reduced, and the power consumption of the input circuit IC when the Bi-CMOS dynamic RAM is selected is reduced.
The operation of C is sped up.

入力回路ICの出力信号すなわちトランジスタT2のエ
ミッタ電圧は、電流スイッチ回路csを構成するトラン
ジスタT3のベースに供給される。
The output signal of the input circuit IC, that is, the emitter voltage of the transistor T2, is supplied to the base of the transistor T3 that constitutes the current switch circuit cs.

このトランジスタT 3と差動形態とされるトランジス
タT4のベースには、所定の参照電位Vrが供給される
。差動ドランジスクT3・T4の共通結合されたエミッ
タと回路の接地電位との間には、トランジスタT7及び
抵抗R4からなる定電流源が設けられる。トランジスタ
1゛7のベースには、後述する電圧発生回路VGから、
所定のベース電圧vbが供給される。このベース電圧v
bは、後述するように、Bi・CMOSダイナミック型
RAMが非選択状態とされるときほぼ回路の接地電位の
ようなロウレベルとされ、Bi・CMOSダイナミック
型RAMが選択状態とされ上記内部制御信号aeが一時
的にハイレベルとされることで、例えばNPN)ランジ
スタのベース・エミッタ電圧VF3Eの1.5倍すなわ
ち1.5VBEとされる。差動トランジスタT3・T4
は、上記内部制御信号aeが一時的にハイレベルとされ
ベース電圧vbが1、5 V BEとされることで選択
的に動作状態とされ、上記参照電位Vrを論理スレッシ
ホルトレベルとしてXアドレス信号AXOのレベルを剪
定するレベル判定回路として機能する。
A predetermined reference potential Vr is supplied to the base of a transistor T4 which is differentially connected to the transistor T3. A constant current source consisting of a transistor T7 and a resistor R4 is provided between the commonly coupled emitters of the differential transistors T3 and T4 and the ground potential of the circuit. The base of the transistor 1-7 is connected to a voltage generating circuit VG, which will be described later.
A predetermined base voltage vb is supplied. This base voltage v
As will be described later, when the Bi-CMOS dynamic RAM is in a non-selected state, b is at a low level similar to the ground potential of the circuit, and when the Bi-CMOS dynamic RAM is in a selected state, the internal control signal ae is set to a low level. By temporarily setting the voltage to a high level, the voltage becomes 1.5 times the base-emitter voltage VF3E of an NPN transistor, that is, 1.5VBE. Differential transistor T3/T4
is selectively activated by temporarily setting the internal control signal ae to a high level and setting the base voltage vb to 1.5 V BE, and sets the reference potential Vr to the logic threshold level to set the X address. It functions as a level determination circuit that prunes the level of signal AXO.

差動トランジスタT3・T4のコレクタ電位は、特に制
限されないが、トランジスタT5及びT6からなる出カ
ニミンクフォロワ回路を介して出力され、反転内部信号
xO及び非反転内部信号xOとされる。トランジスタT
5及びT6のエミッタと回路の接地電位との間には、ト
ランジスタT8と抵抗R5及びトランジスタT9と抵抗
R6からなる定電流源がそれぞれ設けられる。これらの
トランジスタT8及びT9のベースには、上記ベース電
圧vbが共通に供給される。これにより、トランジスタ
T5及びT6を基本構成とする出力エミッタフォロワ回
路は、Bi・CMOSダイナミック型RAMが選択状態
とされ上記内部制御信号aeが一時的にハイレベルとさ
れることで、選択的に有効状態とされる。
Although not particularly limited, the collector potentials of the differential transistors T3 and T4 are outputted via an output follower circuit including transistors T5 and T6, and are used as an inverted internal signal xO and a non-inverted internal signal xO. transistor T
Constant current sources each consisting of a transistor T8 and a resistor R5, and a transistor T9 and a resistor R6 are provided between the emitters of the transistors T5 and T6 and the ground potential of the circuit. The base voltage vb is commonly supplied to the bases of these transistors T8 and T9. As a result, the output emitter follower circuit, which has the basic configuration of transistors T5 and T6, is selectively enabled by setting the Bi CMOS dynamic RAM to a selected state and temporarily setting the internal control signal ae to a high level. state.

このように、各アドレス信号に対応して設けられる多数
の単位アドレスバッファにおいて、電流スイッチ回路の
差動トランジスタ又は出力エミッタフォロワ回路に動作
電流を供給する定電流源が選択的に動作状態とされるこ
とで、B i −CMOSダイナミック型RAMの待機
時における消費電力が著しく削減される。
In this way, in a large number of unit address buffers provided corresponding to each address signal, the constant current source that supplies operating current to the differential transistor of the current switch circuit or the output emitter follower circuit is selectively activated. As a result, the power consumption of the B i -CMOS dynamic RAM during standby is significantly reduced.

ところで、各単位アドレスバッフ1に設けられる電圧発
生回路VGは、特に制限されないが、その出力ノードn
2と回路の接地電位との間に設けられるトランジスタT
l(第1のバイポーラトランジスタ)を基本構成とする
。このトランジスタT1には、2個のダイオードD1及
びB2からなるクランプ回路と、NチャンネルMOS 
F ETQ12が並列形態に設けられる。また、トラン
ジスタT1のベースと上記出力ノードn2及び回路の接
地電位との間には、抵抗R2(第1の抵抗手段)及び抵
抗R3(第2の抵抗手段)がそれぞれ設けられる。さら
に、電圧発生回路VGの入力ノードn1と上記出力ノー
ドn2との間には、NチャンネルMO5FETQII 
 (スイッチ手段)が設けられる。また、上記人力ノー
ドn1と回路の電源電圧及び接地電位との間には、抵抗
R1(第3の抵抗手段)及びキャパシタC1がそれぞれ
設けられる。MO5FETQI 1のゲートには、上記
内部制御信号aeが供給され、MOS F ETQ 1
2のゲートには、上記内部制御信号aeのインバータ回
路Nlによる反転信号が供給される。
By the way, although the voltage generating circuit VG provided in each unit address buffer 1 is not particularly limited, its output node n
2 and the ground potential of the circuit.
The basic configuration is 1 (first bipolar transistor). This transistor T1 includes a clamp circuit consisting of two diodes D1 and B2, and an N-channel MOS
FETQ12 is provided in parallel configuration. Further, a resistor R2 (first resistor means) and a resistor R3 (second resistor means) are provided between the base of the transistor T1, the output node n2, and the ground potential of the circuit, respectively. Furthermore, an N-channel MO5FET QII is connected between the input node n1 of the voltage generation circuit VG and the output node n2.
(switch means) is provided. Further, a resistor R1 (third resistance means) and a capacitor C1 are provided between the human power node n1 and the power supply voltage and ground potential of the circuit, respectively. The above-mentioned internal control signal ae is supplied to the gate of MO5FETQI 1, and the MOSFETQI 1
The gate of No. 2 is supplied with an inverted signal of the internal control signal ae by the inverter circuit Nl.

Bi・CMOSダイナミック型RAMが非選択状態とさ
れ上記内部@御信号aeがロウレベルとされるとき、M
O3FETQI 1はオフ状態とされ、MO5FETQ
I 2がオン状態とされる。したがって、第3図に示さ
れるように、電圧発生回路VGの出力ノードn2は、回
路の接地電位のようなロウレベルに固定される。このと
き、キャパシタCIは、抵抗R1を介してチャージされ
るため、電圧発生回路VGの入力ノードn1は、回路の
電源電圧Vccのようなハイレベルとされる。
When the Bi CMOS dynamic RAM is in a non-selected state and the internal @ control signal ae is set to low level, M
O3FETQI 1 is turned off and MO5FETQ
I2 is turned on. Therefore, as shown in FIG. 3, the output node n2 of the voltage generating circuit VG is fixed at a low level such as the ground potential of the circuit. At this time, since the capacitor CI is charged via the resistor R1, the input node n1 of the voltage generating circuit VG is set to a high level like the power supply voltage Vcc of the circuit.

Bi・CMOSダイナミック型RAMが選択状態とされ
上記内部制御信号aeが一時的にハイレベルとされると
き、キャパシタC1に蓄積された電荷は、キャパシタC
1と電圧発生回路VGの出力ノードn2に結合される寄
生容量C3との静電容量比に応じてチャージシェアされ
る。その結果、電圧発生回路VCの出力ノードn2は、
−旦急速に比較的高いレベルに引き上げられた後、ベー
ス電圧vbとして必要な所定のレベルすなわち1.5V
BHに収束し、安定化される。その結果、ベース電圧v
bの立ち上がり時間t1は、第4図に示される従来のB
i・CMOSダイナミック型RAMのベース電圧vbの
立ち上がり時間t2に比較して著しく短縮される。これ
により、電流スイッチ回路CSの動作が高速化され、結
果的にBi・CMOSダイナミック型RAMのアクセス
タイムが高速化される。
When the Bi-CMOS dynamic RAM is selected and the internal control signal ae is temporarily set to a high level, the charge accumulated in the capacitor C1 is transferred to the capacitor C.
1 and the parasitic capacitance C3 coupled to the output node n2 of the voltage generating circuit VG. As a result, the output node n2 of the voltage generation circuit VC is
- the required predetermined level as the base voltage vb, i.e. 1.5V, after being rapidly raised to a relatively high level;
It converges to BH and is stabilized. As a result, the base voltage v
The rise time t1 of b is the same as that of the conventional B shown in FIG.
This is significantly shortened compared to the rise time t2 of the base voltage vb of the i-CMOS dynamic RAM. This speeds up the operation of the current switch circuit CS, and as a result, speeds up the access time of the Bi-CMOS dynamic RAM.

電流スイッチ回路CSの非反転出力信号xOは、上述の
反転内部制御信号xgがハイレベルとされる間に、ゲー
ト回路GXPを介してラッチLPに反転して伝達される
。ラッチLPは、上記反転内部制御信号Xgがロウレベ
ルとされまた内部制御01号xiがハイレベルとされる
ことで、ラッチ状態とされる。ラッチLPの出力信号は
、アドレスドライバADPによってさらに反転され、非
反転内部アドレス信号axQとしてプリロウアドレスデ
コーダPRADに供給される。同様に、電流スイッチ回
路CSの反転出力信号xOは、上記反転内部制御信号7
Tがハイレベルとされる間に、ゲート回路GXNを介し
てラッチLNに反転して伝達される。ラッチLNは、上
記反転内部制御信号7丁がロウレベルとされまた内部制
御信号xjiがハイレベルとされることで、ラッチ状態
とされる。
The non-inverted output signal xO of the current switch circuit CS is inverted and transmitted to the latch LP via the gate circuit GXP while the above-mentioned inverted internal control signal xg is at a high level. The latch LP is brought into a latched state when the inverted internal control signal Xg is set to a low level and the internal control signal 01 xi is set to a high level. The output signal of latch LP is further inverted by address driver ADP and supplied to pre-row address decoder PRAD as non-inverted internal address signal axQ. Similarly, the inverted output signal xO of the current switch circuit CS is the inverted internal control signal 7.
While T is set to high level, it is inverted and transmitted to latch LN via gate circuit GXN. The latch LN is brought into a latched state when the inverted internal control signal 7 is set to a low level and the internal control signal xji is set to a high level.

ラッチLNの出力信号は、アドレスドライバADNによ
ってさらに反転され、反転内部アドレス信号axQとし
てプリロウアドレスデコーダPRADに供給される。
The output signal of latch LN is further inverted by address driver ADN and supplied to pre-row address decoder PRAD as inverted internal address signal axQ.

Bi・CMOSダイナミック型RAMがリフレッシエモ
ードとされ、上記反転内部制御信号xgに代わって反転
内部制御信号rgがハイレベルとされるとき、単位アド
レスバッファUABOは、リフレッシュアドレスカウン
タRFCから供給されるリフレッシュアドレス信号ar
Qを選択する。
When the Bi-CMOS dynamic RAM is set to the refresher mode and the inverted internal control signal rg is set to high level instead of the inverted internal control signal xg, the unit address buffer UABO receives the refresh signal supplied from the refresh address counter RFC. address signal ar
Select Q.

そして、これらのアドレス信号をもとに、上記非反転内
部アドレス信号axQ及び反転内部アドレス信号axQ
を形成し、プリロウアドレスデコーダPRADに供給す
る。
Based on these address signals, the non-inverted internal address signal axQ and the inverted internal address signal axQ are
is formed and supplied to the pre-row address decoder PRAD.

@2図において、リフレッシュアドレスカウンタRFC
は、特に制限されないが、タイミング発生回路TOから
供給されるタイミング信号φrcに従って歩進動作を行
い、上記リフレッシュアドレス信号arQ〜ariを形
成する。
@2 In figure 2, refresh address counter RFC
Although not particularly limited, performs a stepping operation in accordance with a timing signal φrc supplied from a timing generation circuit TO to form the refresh address signals arQ to ari.

一方、メモリアレイMARYO及びMARYIを構成す
る相補データ線は、その一方において、対応するセンス
アンプ5APO及びSAP 1の対応するm位置路に結
合される。また、その他方において、対応するセンスア
ンプ5ANO及び5AN1の対応する単位回路に結合さ
れ、さらに対応するカラムスイッチC8O及びCSIの
対応する単位回路に結合される。
On the other hand, complementary data lines constituting memory arrays MARYO and MARYI are coupled on one side to corresponding m-position paths of corresponding sense amplifiers 5APO and SAP1. On the other hand, it is coupled to corresponding unit circuits of corresponding sense amplifiers 5ANO and 5AN1, and further coupled to corresponding unit circuits of corresponding column switches C8O and CSI.

センスアンプ5APO及び5APIは、メモリアレイM
ARYO及びMARYIの各相補データ線に対応して設
けられる複数の単位回路を含む。
Sense amplifiers 5APO and 5API are connected to memory array M
It includes a plurality of unit circuits provided corresponding to each complementary data line of ARYO and MARYI.

これらの単位回路は、特に制限されないが、そのベース
及びドレインが互いに交差結合されさらに対応する相補
データ線の非反転信号線及び反転信号線に結合される1
対のPチャンネルMO3FETをそれぞれ含む、これら
のMOSFETの共通結合されたソースは、図示されな
い共通ソース線SPに共通結合され、さらにPチャンネ
ル型の駆動MO3FETを介して回路の電源電圧に結合
される。上記駆動MO3FETのゲートには、タイミン
グ発生回路TOからタイミング信号φpaの反転信号が
供給される。
These unit circuits include, but are not particularly limited to, circuits whose bases and drains are cross-coupled to each other and further coupled to the non-inverting signal line and the inverting signal line of the corresponding complementary data line.
The commonly coupled sources of these MOSFETs, each including a pair of P-channel MO3FETs, are commonly coupled to a common source line SP, not shown, and are further coupled to the power supply voltage of the circuit via a P-channel drive MO3FET. The gate of the drive MO3FET is supplied with an inverted signal of the timing signal φpa from the timing generation circuit TO.

同様に、センスアンプ5ANO及び5AN11*、メモ
リアレイMARYO及びMARYIに対応して設けられ
る複数の単位回路を含む、これらの単位回路は、特に制
限されないが、そのベース及びドレインが互t)に交差
結合されさらに対応する相補データ線の非反転信号線及
び反転信号線に結合される1対のNチャンネルMO3F
ETをそれぞれ含む、これらのMOSFETの共通結合
されたソースは、図示されない共通ソース線SNに共通
結合され、さらにNチャンネル型の駆動MO3FETを
介して回路の接地電位に結合される。上記駆動MO3F
ETのゲートには、上記タイミング信号φpaが供給さ
れる。
Similarly, these unit circuits, including a plurality of unit circuits provided corresponding to the sense amplifiers 5ANO and 5AN11* and the memory arrays MARYO and MARYI, have their bases and drains cross-coupled to each other, although this is not particularly limited. and a pair of N-channel MO3Fs further coupled to the non-inverting signal line and the inverting signal line of the corresponding complementary data line.
The commonly coupled sources of these MOSFETs, each including ET, are commonly coupled to a common source line SN, not shown, and further coupled to the ground potential of the circuit via an N-channel drive MO3FET. Above drive MO3F
The timing signal φpa is supplied to the gate of ET.

これにより、センスアンプ5APO及び5AP1の各単
位回路に設けられる一対のPチャンネルMO3FETと
センスアンプ5ANG及び5AN1の対応する単位回路
に設けられる一対のNチャンネルMO8FETは、1個
の単位増幅回路を構成する。これらの単位増幅回路は、
上記タイミング信号φpaがハイレベルとされ共通ソー
ス線SP及びSNに回路の電源電圧及び接地電位が供給
されることによりて、選択的に動作状態とされる。
As a result, a pair of P-channel MO3FETs provided in each unit circuit of sense amplifiers 5APO and 5AP1 and a pair of N-channel MO8FETs provided in corresponding unit circuits of sense amplifiers 5ANG and 5AN1 constitute one unit amplifier circuit. . These unit amplifier circuits are
When the timing signal φpa is set to high level and the power supply voltage and ground potential of the circuit are supplied to the common source lines SP and SN, the circuit is selectively brought into an operating state.

この動作状態において、各単位増幅回路は、メモリアレ
イMARYO及びMARYIの選択されたワード線に結
合される複数のメモリセルから対応する相補データ線を
介して出力される微小読み出し信号を増幅し、ハイレベ
ル又はロウレベルの2値読み出し信号とする。
In this operating state, each unit amplifier circuit amplifies the minute read signal output from the plurality of memory cells coupled to the selected word line of the memory arrays MARYO and MARYI via the corresponding complementary data line, and A binary read signal of level or low level is used.

カラムスイッチC8O及びC5Iは、特に制限されない
が、メモリアレイMARYO及びMARYlの各相補デ
ータ線に対応して設けられる複数の単位回路を含む、こ
れらの単位回路は、特に制限されないが、各相補データ
線と書き込み相補共通データ線W100L又はWIOI
Lあるいは里100R又はWIOIR(ここで、例えば
非反転信号線W100Lと反転信号線W100Lをあわ
せて書き込み相補共通データ線W100Lのように表す
、以下同じ)との間に設けられる1対のスイッチMO3
FETをそれぞれ含む、隣接する単位回路のスイッチM
OSFETのゲートはそれぞれ共通結合され、カラムア
ドレスデコーダCADから対応する書き込みデータ線選
択信号が供給される。これにより、メモリアレイMAR
YO及びMARYIの相補データ線は、Bi・CMOS
ダイナミック型RAMが書き込みモードとされ対応する
上記書き込みデータ線選択信号が択一的にハイレベルと
されることで2組ずつ同時に選択され、対応する書き込
み相補共通データ線W100L及びWIOILあるいは
WlooR及びWIOIRに選択的に結合される。
Column switches C8O and C5I include, but are not particularly limited to, a plurality of unit circuits provided corresponding to each complementary data line of memory arrays MARYO and MARYl. and write complementary common data line W100L or WIOI
A pair of switches MO3 provided between L, 100R, or WIOIR (here, for example, the non-inverted signal line W100L and the inverted signal line W100L are collectively expressed as a write complementary common data line W100L, the same applies hereinafter).
Switches M of adjacent unit circuits each including a FET
The gates of the OSFETs are commonly coupled, and a corresponding write data line selection signal is supplied from a column address decoder CAD. This allows memory array MAR
Complementary data lines of YO and MARYI are Bi/CMOS
When the dynamic RAM is set to write mode and the corresponding write data line selection signal is alternatively set to high level, two sets are simultaneously selected and the corresponding write complementary common data lines W100L and WIOIL or WlooR and WIOIR are selected. Selectively combined.

カラムスイッチC8O及びCSIの各単位回路は、さら
に回路の接地電位と読み出し相補共通データ線R100
L又はRIOILあるいはR100R又はRIOIRと
の間に直列形態に設けられる2対のNチャンネ゛ルMO
5FETをそれぞれ含む、このうち、1対のMOSFE
Tは、そのゲートがメモリアレイMARYO及びMAR
YIの対応する相補データ線の非反転信号線及び反転信
号線にそれぞれ結合されることで、増幅MO8FETと
して機能する。また、他の1対のMOSFETは、その
ゲートが隣接する単位回路の同様な1対のNチャンネル
MO3FETのゲートに共通結合され、カラムアドレス
デコーダCADから対応する読み出しデータ線選択信号
がそれぞれ供給されることで、スイッチMO3FETと
して機能する。これにより、メモリアレイMARYO及
びMARYlの相補データ線は、Bi・CMOSダイナ
ミック型RAMが読み出しモードとされ対応する上記読
み出しデータ線選択信号が択一的にハイレベルとされる
ことで2組ずつ同時に選択され、読み出し相補共通デー
タ線R100L及びRIOILあるいは盈100R及び
RIOIRに選択的に接続される。
Each unit circuit of column switch C8O and CSI is further connected to the ground potential of the circuit and the read complementary common data line R100.
Two pairs of N-channel MOs provided in series between L or RIOIL or R100R or RIOIR
Of these, one pair of MOSFEs each containing 5FETs.
T has its gates connected to memory arrays MARYO and MAR
By being coupled to the non-inverted signal line and the inverted signal line of the corresponding complementary data line of YI, it functions as an amplifying MO8FET. Further, the gates of the other pair of MOSFETs are commonly coupled to the gates of a similar pair of N-channel MO3FETs in the adjacent unit circuits, and corresponding read data line selection signals are supplied from the column address decoder CAD, respectively. Thus, it functions as a switch MO3FET. As a result, two sets of complementary data lines of memory arrays MARYO and MARYl are simultaneously selected by setting the Bi CMOS dynamic RAM to the read mode and setting the corresponding read data line selection signal to a high level alternatively. and are selectively connected to the read complementary common data lines R100L and RIOIL or the line 100R and RIOIR.

つまり、この実施例のダイナミック型RAMには、書き
込み用の相補共通データ線と読み出し用の相補共通デー
タ線が別個に2組ずつ設けられ、メモリアレイMARY
O及びMARYIの相補データ線はそれぞれ2組ずつ選
択され、書き込み用又は読み出し用の相補共通データ線
に選択的に接続される。このとき、書き込み用の相補共
通データ線は、カラムスイッチC5O又はC3Iの対応
するスイッチMOSFETを介して、選択された相補デ
ータ線に直接的に結合される。ところが、読み出し用の
相補共通データ線は、カラムスイッチC8O又はC81
の対応する上記増幅MO3FETのゲートを介して、選
択された相補データ線に間接的に結合される。これによ
り、読み出し用相補共通データ線の信号振幅が制限され
、Bi・CMOSダイナミック型RAMの読み出し動作
が高速化される。
That is, in the dynamic RAM of this embodiment, two sets of complementary common data lines for writing and two sets of complementary common data lines for reading are separately provided, and the memory array MARY
Two sets of O and MARYI complementary data lines are each selected and selectively connected to a complementary common data line for writing or reading. At this time, the complementary common data line for writing is directly coupled to the selected complementary data line via the corresponding switch MOSFET of column switch C5O or C3I. However, the complementary common data line for reading is connected to the column switch C8O or C81.
is indirectly coupled to the selected complementary data line through the gate of the corresponding amplifying MO3FET. This limits the signal amplitude of the complementary common data line for reading, and speeds up the reading operation of the Bi-CMOS dynamic RAM.

カラムアドレスデコーダCADには、ブリカラムアドレ
スデコーダPCADから所定のプリデコード信号が供給
される。カラムアドレスデコーダCADは、これらのプ
リデコード信号に従って、対応する上記書き込みケータ
線選択信号又は読み出しデータ線選択信号を択一的にハ
イレベルの選択状態とする。
A predetermined predecode signal is supplied to the column address decoder CAD from the column address decoder PCAD. The column address decoder CAD selectively sets the corresponding write data line selection signal or read data line selection signal to a high level selection state according to these predecode signals.

ブリカラムアドレスデコーダPCADには、特に制限さ
れないが、カラムアドレスバッファCABから最上位ビ
ットを11<jビットの相補内部アドレス信号ayQ〜
ayj−1が供給され、タイミング発生回路TGからタ
イミング信号φyが供給される。ブリカラムアドレスデ
コーダPCADは、上記タイミング信号φyがハイレベ
ルとされることで、選択的に動作状態とされる。この動
作状態において、ブリカラムアドレスデコーダPCAD
は、上記相補内部アドレス信号ayO〜ayj−1を所
定の組み合わせでデコードし、上記プリデコード信号を
形成して、カラムアドレスデコーダCADに供給する。
Although not particularly limited, the column address decoder PCAD receives the most significant bit from the column address buffer CAB as a complementary internal address signal ayQ of 11<j bits.
ayj-1 is supplied, and a timing signal φy is supplied from the timing generation circuit TG. The virtual column address decoder PCAD is selectively put into an operating state when the timing signal φy is set to a high level. In this operating state, the Bricolumn address decoder PCAD
decodes the complementary internal address signals ayO to ayj-1 in a predetermined combination to form the predecoded signal and supplies it to the column address decoder CAD.

カラムアドレスバッファCABは、外部端子AYO〜A
Yjを介して供給されるj+1ピットのYアドレス信号
AYO〜AYjを保持し、これらのアドレス信号をもと
に、相補内部アドレス信号ayQ〜ayjを形成する。
Column address buffer CAB connects external terminals AYO to A
It holds Y address signals AYO to AYj of j+1 pits supplied via Yj, and forms complementary internal address signals ayQ to ayj based on these address signals.

このうち、最上位ビットの相補内部アドレス信号ayJ
は、メインアンプMAO及びMAIに供給され、その他
の相補内部アドレス信号ayQ〜ayj−1は、前述の
ように、ブリカラムアドレスデコーダPCADに供給さ
れる。この実施例において、カラムアドレスバッファC
ABは、上記ロウアドレスバッファRABと同様に、Y
アドレス信号AYO〜AYjに対応して設けられるJ 
+ l mの単位アドレスバッファを含む、これらの単
位アドレスバッファは、第1図に示されるロウアドレス
バッファRABの単位アドレスバッファと同様に、内部
制御信号aeすなわちタイミング信号φcoに従って選
択的に動作状態とされかつ動作状態とされる当初におい
てその入力電圧が一時的に高くされる電圧発生回路VG
を含む、その結果、カラムアドレスバッファCABの各
単位アドレスバッファに含まれる電流スイッチ回路は、
その高速動作を妨げられることなく、低消費電力化が図
られる。
Of these, the complementary internal address signal ayJ of the most significant bit
are supplied to the main amplifiers MAO and MAI, and the other complementary internal address signals ayQ to ayj-1 are supplied to the virtual address decoder PCAD as described above. In this example, column address buffer C
AB is similar to the above row address buffer RAB, and Y
J provided corresponding to address signals AYO to AYj
These unit address buffers, including the unit address buffers of +lm, can be selectively brought into operation according to the internal control signal ae, that is, the timing signal φco, similar to the unit address buffers of the row address buffer RAB shown in FIG. A voltage generating circuit VG whose input voltage is temporarily increased when the voltage is initially put into an operating state.
As a result, the current switch circuit included in each unit address buffer of column address buffer CAB is
Low power consumption can be achieved without hindering high-speed operation.

カラムスイッチC8OによってメモリアレイMARYO
の2組の相槌データ線が選択的に接続される書き込み相
補共通データ線W100L及び光101Lならびに読み
出し相補共通データ線R100L及びRIOILは、そ
の一方がメインアンプMAOに結合され、その他方がメ
インアンプMA1に結合される。同様に、カラムスイッ
チC8lによってメモリアレイMARYIの2組の相補
データ線が選択的に接続される書き込み相補共通データ
線W100R及びWIOIRならびに読み出し相補共通
データ線且100R%びRIOIRは、その一方がメイ
ンアンプMAOに結合され、その他方がメインアンプM
ALに結合される。
Memory array MARYO by column switch C8O
One of the write complementary common data lines W100L and light 101L and the read complementary common data lines R100L and RIOIL to which the two sets of complementary data lines are selectively connected is coupled to the main amplifier MAO, and the other is coupled to the main amplifier MA1. is combined with Similarly, write complementary common data lines W100R and WIOIR and read complementary common data lines 100R% and RIOIR, to which two sets of complementary data lines of memory array MARYI are selectively connected by column switch C8l, are connected to the main amplifier. connected to MAO, and the other side is main amplifier M
Coupled to AL.

メインアンプMAO及びMAIは、特に制限されないが
、それぞれ2個のライトアンプ及びリードアンプを含む
、このうち、メインアンプMAOに設けられる第1のラ
イトアンプの出力端子は、書き込み相補共通データ線−
WlooLに結合され、第2のライトアンプの出力端子
は、書き込み相補共通データ線W100Rに結合される
。同様に、メインアンプMALに設けられる第1のライ
トアンプの出力端子は、書き込み相補共通データ線光1
01Lに結合され、第2のライトアンプの出力端子は、
書き込み相補共通データ1QWIoIRに結合される。
Main amplifiers MAO and MAI each include two write amplifiers and two read amplifiers, although they are not particularly limited. Of these, the output terminal of the first write amplifier provided in main amplifier MAO is connected to the write complementary common data line -
WlooL, and the output terminal of the second write amplifier is coupled to write complementary common data line W100R. Similarly, the output terminal of the first write amplifier provided in the main amplifier MAL is connected to the write complementary common data line light 1.
01L, and the output terminal of the second light amplifier is
Coupled with write complementary common data 1QWIoIR.

これらのライトアンプの入力端子には、データ入出力回
路I10から、書き込み信号wmが共通に供給される。
A write signal wm is commonly supplied to the input terminals of these write amplifiers from the data input/output circuit I10.

また、その制御端子には、タイミング発生回路TGから
タイミング信号φwaが共通に供給され、ロウアドレス
バッファRAB及びカラムアドレスバッファCABから
最上位ビットの相補内部アドレス信号axi及び見yj
が共通に供給される。
Further, the timing signal φwa from the timing generation circuit TG is commonly supplied to the control terminal, and complementary internal address signals axi and yj of the most significant bit are supplied from the row address buffer RAB and the column address buffer CAB.
is commonly supplied.

これらのことから、メインアンプMAOの第1のライト
アンプは、上記タイミング信号φW3がハイレベルとさ
れかつ相補内部アドレス信号aXl及びayjがともに
論理′″0″とされることで選択的に動作状態とされ、
メインアンプMAOの第2のライトアンプは、タイミン
グ信号φwaがハイレベルとされかつ相補内部アドレス
信号aXi及びayjがそれぞれ論理“1”及び論理“
−0”とされることで選択的に動作状態される。同様に
、メインアンプMAIの第1のライトアンプは、上記タ
イミング信号φwaがハイレベルとされかつ相補内部ア
、ドレス信号axi及び土yjがそれぞれ論理“0″及
び論理“1″″とされることで選択的に動作状態とされ
、メインアンプMAIの第2のライトアンプは、タイミ
ング信号φWaがノ1イレベルとされかつ相補内部アド
レス信号axl及び土yjがともに論理“1″とされる
ことで選択的に動作状態とされる。この動作状態におし
〜て、各ライトアンプは、上記書き込み信号wmに従つ
た相補書き込み信号を形成し、対応する書き込み相補共
通データ線W100L、WIOILある(、%はWlo
oR,WIOIRにそれぞれ伝達する。
For these reasons, the first write amplifier of the main amplifier MAO is selectively put into the operating state when the timing signal φW3 is set to high level and the complementary internal address signals aXl and ayj are both set to logic ``0''. It is said that
In the second write amplifier of the main amplifier MAO, the timing signal φwa is set to high level, and the complementary internal address signals aXi and ayj are set to logic "1" and logic "", respectively.
Similarly, the first write amplifier of the main amplifier MAI is activated when the timing signal φwa is set to high level and the complementary internal address, address signal axi and sat yj are set to the high level. The second write amplifier of the main amplifier MAI is selectively activated when the timing signal φWa is set to logic "0" and logic "1", respectively, and the complementary internal address signal When both axl and yj are set to logic "1", the device is selectively put into operation. In this operating state, each write amplifier forms a complementary write signal according to the write signal wm, and there are corresponding write complementary common data lines W100L and WIOIL (% is Wlo
The information is transmitted to oR and WIOIR, respectively.

その結果、メモリアレイMARYOあるG)はMARY
Iの選択された2個のメモリセルのいずれか一方に対す
る書き込み動作が行われる。
As a result, the memory array MARYO (G) is MARY
A write operation is performed on one of the two memory cells selected by I.

一方、メインアンプMAOに設けられる第1のリードア
ンプの入力端子は、読み出し相補共通データ線R100
Lに結合され、第2のリードアンプの入力端子は、読み
出し相補共通データ線RE00Rに結合される。′同様
に、メインアンプMAlに設けられる第1のリードアン
プの入力端子は、読み出し相補共通データ線RIOIL
に結合され、第2のリードアンプの入力端子は、読み出
し相補−共通データ線RIOIRに結合される。これら
のリードアンプの出力信号は、読み出し信号線rmを介
して、択一的にデータ入出力回路I10に伝達される。
On the other hand, the input terminal of the first read amplifier provided in the main amplifier MAO is connected to the read complementary common data line R100.
The input terminal of the second read amplifier is coupled to the read complementary common data line RE00R. 'Similarly, the input terminal of the first read amplifier provided in the main amplifier MAl is connected to the read complementary common data line RIOIL.
The input terminal of the second read amplifier is coupled to the read complementary-common data line RIOIR. The output signals of these read amplifiers are alternatively transmitted to the data input/output circuit I10 via the read signal line rm.

各リー・ドアンプの制御端子には、タイミング発生回路
TGからタイミング信号φraが共通に供給され、ロウ
アドレスバッファRAB及びカラムアドレスバッファC
ABから最上位ビットの相補内部アドレス信号axi及
びayjが共通に供給される。
A timing signal φra is commonly supplied from the timing generation circuit TG to the control terminal of each read amplifier, and the row address buffer RAB and column address buffer C
Complementary internal address signals axi and ayj of the most significant bit are commonly supplied from AB.

これらのことから、メインアンプMAOの第1のリード
アンプは、上記タイミング信号φraがハイレベルとさ
れかつ相補内部アドレス信号1xl及びayjがともに
論理“0″とされることで選択的に動作状態とされ、メ
インアンプMAOの第2のリードアンプは、タイミング
信号φraがハイレベルとされかつ相補内部アドレス信
号1x翫及びayjがそれ°ぞれ論理“1”及び論理“
0”とされることで選択的に動作状態とされる。同様に
、メインアンプMALの第1のリードアンプは、上記タ
イミング信号φraがハイレベルとされかつ相補内部ア
ドレス信号上xi及びayjがそれぞれ論理“O′″及
び論理“1“とされることで選択的に動作状態とされ、
メインアンプMALの第2のリードアンプは、タイミン
グ信号φraがハイレベルとされかつ相補内部アドレス
信号axi及びayjがともに論理“1”とされること
で選択的に動作状態とされる。この動作状態において、
各リードアンプは、対応する読み出し相補共通データ線
且100L、ユl0ILあるいは且100R,RIOI
Rを介して伝達される2値読み出し信号をさらに増幅し
、読み出し信号線rmを介してデータ入出力回路110
に伝達する。その結果、メモリアレイMARYOあるい
はM、AJ?Y1の選択された2個のメモリセルのいず
れか一方の記憶データに従った読み出し信号がデータ入
出力回路I10に択一的に伝達される。
For these reasons, the first read amplifier of the main amplifier MAO is selectively put into the operating state when the timing signal φra is set to high level and the complementary internal address signals 1xl and ayj are both set to logic "0". Then, in the second read amplifier of the main amplifier MAO, the timing signal φra is set to high level, and the complementary internal address signals 1x and ayj are set to logic "1" and logic ", respectively.
Similarly, the first read amplifier of the main amplifier MAL is set to a high level when the timing signal φra is set to high level and the complementary internal address signals xi and ayj are set to a high level. It is selectively activated by being set to logic “O′” and logic “1”;
The second read amplifier of the main amplifier MAL is selectively activated when the timing signal φra is set to high level and the complementary internal address signals axi and ayj are both set to logic "1". In this operating state,
Each read amplifier has a corresponding read complementary common data line 100L, 10IL or 100R, RIOI.
The binary read signal transmitted through R is further amplified, and the data input/output circuit 110 is transmitted through the read signal line rm.
to communicate. As a result, memory array MARYO or M, AJ? A read signal according to the stored data of one of the two selected memory cells of Y1 is selectively transmitted to the data input/output circuit I10.

データ入出力回路I10は、特に制限されないが、デー
タ入カバソファ及びデータ出力バッファを含む、このう
ぢ、データ入カバソファは、上述のロウアドレスバッフ
ァRABと同様な入力回路tCと電流スイッチ回路C8
ならびに電圧発生回路VGとを含む、電圧発生回路VC
は、タイミング発生回路TGから供給されるタイミング
信号φceに従って選択的に動作状態とされる。データ
入出力回路I10のデータ出カバソファには、タイミン
グ発生回路TGから、タイミング信号φOeが供給され
る。
The data input/output circuit I10 includes, but is not particularly limited to, a data input buffer sofa and a data output buffer.
and a voltage generation circuit VC including a voltage generation circuit VG.
is selectively brought into operation according to the timing signal φce supplied from the timing generation circuit TG. A timing signal φOe is supplied from the timing generation circuit TG to the data output buffer of the data input/output circuit I10.

データ入出力回路110のデータ人カバソファは、Bi
・CMOSダイナミック型RAMが書き込みモードとさ
れかつ上記タイミング信号φC6がハイレベルとされる
ことで、選択的に動作状態とされる。この動作状態にお
いて、データ入カバソファは、データ入出力端子DIO
を介して供給されるECLレベルの書き込みデータをM
OSレベルの書き込み信号に変換し、上記書き込み信号
線wmを介してメインアンプM A’ 0及びMAIの
ライトアンプに供給する。
The data person cover sofa of the data input/output circuit 110 is Bi
- The CMOS dynamic RAM is set to write mode and the timing signal φC6 is set to a high level, thereby selectively being put into an operating state. In this operating state, the data input cover sofa has the data input/output terminal DIO.
M
It is converted into an OS level write signal and supplied to the main amplifier M A' 0 and the write amplifier of MAI via the write signal line wm.

一方、データ入出力回路I10のデータ出カバソファは
、Bi・CMOSダイナミック型RAMが読み出しモー
ドとされかつ上記タイミング信号φOeがハイレベルと
されることで、選択的に動作状態とされる。この動作状
態において、データ出カバソファは、上記読み出し信号
線rmを介して出力される読み出しデータを、データ入
出力端子DIOを介して外部に送出する。
On the other hand, the data output cover sofa of the data input/output circuit I10 is selectively brought into operation by setting the Bi.CMOS dynamic type RAM in the read mode and setting the timing signal φOe to a high level. In this operating state, the data output cover sofa sends read data outputted via the read signal line rm to the outside via the data input/output terminal DIO.

タイミング発生回路TGは、外部から制御信号として供
給されるチンブイネーブル信号GE、 ラ各種のタイミ
ング信号を形成し、ダイナミック型RAMの各回路に供
給する。
The timing generation circuit TG forms various timing signals such as a chimble enable signal GE which is supplied as a control signal from the outside, and supplies them to each circuit of the dynamic RAM.

以上のように、この実施例のBi・CMOSダ・Cナミ
ック型RA Mは、アドレスバッファやデータ入出力回
路I10に設けられ、ECLレベルで供給されるアドレ
ス信号あるいは入力データのレベル判定動作を行う多数
の電流スイッチ回路を含む。これらの電流スイッチ回路
は、バイポーラトランジスタとそのエミンタ側に設けら
れる抵抗手段とからなる定電流源をそれぞれ含み、また
これらの定電流源を構成するバイポーラトランジスタに
所定のベース電圧vbを供給する電圧発生回路VGをそ
れぞれ含む。この実施υすにおいて、電圧発生回路VG
は、その出力ノードri 2と回路の接地電位との間に
設けられるバイポーラトランジスタTlと、このトラン
ジスタTIのベースと上記出力ノードn2及び回路の接
地電位との間にそれぞれ設けられる抵抗R2及びR3な
らびにその人力ノードn1と上記出力ノードn2との間
に設けられ内部制御値qaeに従って選択的にオン状態
とされるFJチャンネルMO3FETQI lとを合む
、さらに、電圧発生回路VGの上記入力ノードn1と回
路の電源電圧との間には抵抗R1が設けられ、入力ノー
ドn1と回路の接地電位との間には所定の静電容量を持
つキャパシタCtが設けられる。Bi−cMosダイナ
ミック型RAMが非選択状態とされ上記内部制御信号a
eがロウレベルとされるとき、電圧発生回路VCの出力
電圧すなわちベース電圧vbは回路の接地電位のような
ロウレベルとされ、キャパシタCIは、抵抗R1を介し
て回路の電源電圧にチャージされる。Bl・CMOSダ
イナミック型RAMIJ<選択状態とされ内部制御信号
aeがハイレベルとされると、電圧発生回路VGの入力
重圧はチャージシェアによって一時的に高くされる。こ
のため、その出力信号すなわちベース電圧vbは急速に
立ち上がり、これによって電流スイッチ回路の動作が高
速化される。その結果、Bi・CMOSダイナミック型
RAMは、電源スイツチ方式を採ることによって低消費
電力化が図られるとともに、アクセスタイムの高速化が
図られる。
As described above, the Bi/CMOS/C-namic RAM of this embodiment is provided in the address buffer and data input/output circuit I10, and performs a level judgment operation of the address signal or input data supplied at the ECL level. Contains multiple current switch circuits. These current switch circuits each include a constant current source consisting of a bipolar transistor and a resistance means provided on its emitter side, and a voltage generator that supplies a predetermined base voltage vb to the bipolar transistor constituting these constant current sources. Each includes a circuit VG. In this implementation, the voltage generation circuit VG
includes a bipolar transistor Tl provided between its output node ri2 and the circuit ground potential, resistors R2 and R3 provided between the base of this transistor TI and the output node n2 and the circuit ground potential, respectively; The FJ channel MO3FET QI1 is provided between the manual node n1 and the output node n2 and is selectively turned on according to the internal control value qae, and the input node n1 of the voltage generating circuit VG and the circuit A resistor R1 is provided between the input node n1 and the power supply voltage, and a capacitor Ct having a predetermined capacitance is provided between the input node n1 and the ground potential of the circuit. The Bi-cMos dynamic RAM is in a non-selected state and the internal control signal a
When e is set to a low level, the output voltage of the voltage generating circuit VC, that is, the base voltage vb, is set to a low level similar to the ground potential of the circuit, and the capacitor CI is charged to the power supply voltage of the circuit via the resistor R1. When Bl.CMOS dynamic type RAMIJ<selected state and the internal control signal ae is set to high level, the input pressure of the voltage generating circuit VG is temporarily increased by charge sharing. Therefore, the output signal, that is, the base voltage vb, rises rapidly, thereby speeding up the operation of the current switch circuit. As a result, the Bi-CMOS dynamic RAM achieves lower power consumption and faster access time by adopting the power switch method.

以上の本実施例に示されるように、この発明を81・C
MOSダイナミック型RAM等の半導体集積回路装置に
適用することで、次のような効果が得られる。すなわち
、 (11電源スイッチ方式を採るBi・CMOSダイナミ
ック型RAM等において、電圧発生回路の入力ノードと
回路の接地電位との間に所定の静電容量を持つキャパシ
タを設け、電圧発生回路が動作状態とされる当初に、そ
の入力電圧を一時的に高くすることで、電圧発生回路の
出力電圧の立ち上がりを高速化できるという効果が得ら
れる。
As shown in the above embodiment, this invention
By applying the present invention to a semiconductor integrated circuit device such as a MOS dynamic RAM, the following effects can be obtained. In other words, (11) In a Bi/CMOS dynamic RAM that adopts the power switch method, a capacitor with a predetermined capacitance is provided between the input node of the voltage generation circuit and the ground potential of the circuit, and the voltage generation circuit is in the operating state. By temporarily increasing the input voltage at the beginning of the voltage generation circuit, it is possible to achieve the effect that the rise of the output voltage of the voltage generation circuit can be made faster.

(2)上記11)項により、アドレスバッファやデータ
入出力回路等に含まれる電流スイッチ回路の動作を高速
化できるという効果が得られる。
(2) Item 11) provides the effect of speeding up the operation of current switch circuits included in address buffers, data input/output circuits, and the like.

(3)上記(1)項及び(2)項により、電源スイツチ
方式を採ることでその低消費電力化を図りつつ、B1・
CMOSダイナミック型RAM等のアクセスタイムを高
速化できるという効果が得られる。
(3) According to items (1) and (2) above, B1.
The effect of speeding up the access time of CMOS dynamic RAM, etc. can be obtained.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図におい
て、電圧発生回路VGは、複数の単位アドレスバッファ
等によって共有することもよい。この場合、電圧発生回
路VCの駆動能力を大きくするため、出カニミッタフォ
ロワ回路を付加する゛ことが効果的である。電圧発生回
路VCが動作状態とされる当初において、その入力電圧
を回路の電源電圧より高くする必要がある場合、例えば
キャパシタC1の接地電位側電極の電位を一時的にブー
ストすることもよい、この場合、スイッチ用MO5FE
TQI 1は、入力側に設けられる必要はない。電圧発
生回路VGの具体的な回路構成や、動作状態とされる当
初においてその入力電圧を一時的に高める方法ならびに
ベース電圧vbの電圧値等は、種々の実施形態を採りう
る。また、回路の電源電圧は、回路の接地電位側を負の
電源電圧とすることで、接地電位としてもよいし、パイ
ポーラトラジジスタ及びMOSFETの導電型を入れ換
えることでその極性を反転することもできる。第2図に
おいて、Bi・CMOSダイナミック型RAMは、4組
以上のメモリアレイを持つこともよいし、アドレスマル
チプレクス方式を採るものであってもよい、また、複数
ビットの記憶データを同時に入出力するいわゆる多ビツ
ト構成とされることもよい。データ入出力回路I10に
設けられる電圧発生回路VCは選択的に動作状態とする
必要はないし、逆にタイミング発生回路TGやその他の
回路に設けられる電圧発生面1i18VGもあわせて選
択的に動作状態としてもよい。さらに、第1図に示され
るロウアドレスバッファRABの具体的な回路構成や、
第2図に示されるダイナミック型!?AMのブロック構
成及び各制御信9−やアドレス信号の組み合わせ等、種
々の実施形態を採りうる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples (although it is possible to make various changes without departing from the gist of the invention). For example, in FIG. 1, the voltage generation circuit VG may be shared by a plurality of unit address buffers, etc. In this case, in order to increase the driving capability of the voltage generation circuit VC, an output limiter follower circuit may be used. When the voltage generating circuit VC is initially put into operation, if it is necessary to make its input voltage higher than the circuit's power supply voltage, for example, it is effective to add It may also be possible to temporarily boost the MO5FE for the switch.
TQI 1 does not need to be provided on the input side. The specific circuit configuration of the voltage generating circuit VG, the method of temporarily increasing its input voltage at the beginning of the operating state, the voltage value of the base voltage vb, etc. may take various embodiments. In addition, the power supply voltage of the circuit can be set to the ground potential by setting the ground potential side of the circuit to a negative power supply voltage, or the polarity can be reversed by switching the conductivity types of the bipolar transistor and MOSFET. can. In Figure 2, the Bi-CMOS dynamic RAM may have four or more memory arrays, may employ an address multiplex method, and may simultaneously input and output multiple bits of storage data. It is also possible to adopt a so-called multi-bit configuration. The voltage generation circuit VC provided in the data input/output circuit I10 does not need to be selectively put into the operating state, and conversely, the voltage generation circuit 1i18VG provided in the timing generation circuit TG and other circuits is also selectively put into the operating state. Good too. Furthermore, the specific circuit configuration of the row address buffer RAB shown in FIG.
Dynamic type shown in Figure 2! ? Various embodiments can be adopted, such as the AM block configuration and combinations of each control signal 9- and address signals.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその7J′景となった利用分野であるBL・CMOS
ダイナミック型RAMに通用した場合について説明した
が、それに限定されるものではなく、例えば、Bt−C
MOSスタティック型RAMやその他の各種半導体記憶
装置ならびにメモリ内蔵型の論理集積回路等にも通用で
きる0本発明は、少なくとも選択的に動作状態とされる
電圧発生回路を備える各種の半導体Ma回路装置に広く
通用できる。
The above explanation mainly describes the invention made by the present inventor in BL/CMOS, which is the application field that became the 7J's vision.
Although we have explained the case where it is applicable to dynamic RAM, it is not limited thereto. For example, Bt-C
The present invention can also be applied to MOS static RAMs, various other semiconductor storage devices, and logic integrated circuits with built-in memories. Can be widely used.

(発明の効果〕 本願において開示゛される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。すなわち、電圧発生回路を備えかつ電源スイツチ
方式を採るBi・CMOSダイナミック型RAM等にお
いて、例えば電圧発生回路の入力ノードと回路の接地電
位との間に所定の静電容量を持つキャパシタを設け、電
圧発生回路が動作状態とされる当初にその入力電圧を一
時的に高くすることで、その出力電圧の立ち上がりを高
速化できる。これにより、アドレスバッファやデータ入
出力回路等に含まれる電流スイッチ回路の動作を高速化
できるため、電源スイツチ方式を採ることでその低消費
電力化を図りつつ、Bl・CM OSダイナミック型R
A M等のアクセスタイムを高速化できる。
(Effects of the Invention) The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are as follows.In other words, the Bi- In a CMOS dynamic RAM, for example, a capacitor with a predetermined capacitance is provided between the input node of the voltage generation circuit and the ground potential of the circuit, and the input voltage is temporarily set when the voltage generation circuit is put into operation. By increasing the power supply voltage, the rise of the output voltage can be made faster.This can speed up the operation of current switch circuits included in address buffers, data input/output circuits, etc. Bl/CM OS dynamic type R while aiming for low power consumption
Access time for AM, etc. can be sped up.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明が通用されたB t −CMOSダ
イナミック型RAMのロウアドレスバッフ1の一実施例
を示す回路図、 第2図は、第1図のロウアドレスバッファを含むBi・
CMOSダイナミック型RAMの一実施例を示すブロッ
ク図、 第3図は、第2図のB t ’ CMOSダイナミック
型RAMの一実施例を示す信号波形図、第4図は、この
発明に先立って本願発明者等が開発したBi・CMOS
ダイナミック型RAMの一例を示す信号波形図、 第5r:!Je;t:、第4図(7)B l ・CMO
5l’4+i yり型RAMのロウアドレスバッファの
一例を示す回路図である。 RAB・・・ロウアドレスバッファ、TS・・・タイミ
ング設定回路、DABO・・・単位アドレスバッファ、
DLI〜DL2・・・遅延回路、IC・・・入力回路、
C3・・・電流スイッチ回路、VG−・・電圧発生回路
、GXP、GXN。 GRP、GRN・・・ゲート回路、LP、LN・・・ラ
ッチ回路、ADP、ADN・・・アドレスドライバ、Q
1〜Q2・・・PチャンネルMO3FETSQl 1〜
Q12・・・NチャンネルMO3FET%T1〜Tll
・・・NPN型バイポーラトランジスタ、N’l〜N6
・・・CMOSインバータ回路、NAGI〜NAG2・
・・ナントゲート回路、N001〜N0G3・・・ノア
ゲート回路、D1〜D2・・・ダイオード、01〜C3
・・・キャパシタ、Cs・・・寄生容量、R1〜R6・
・・抵抗。 MARYO,MARYI・・・メモリアレイ、5APO
,5AP1.5ANO,5ANI・・・センスアンプ、
C3O,C5I・・・カラムスイッチ、CAD・・・カ
ラムアドレスデコーダ、RADO,RADI・・・ロウ
アドレスデコーダ、PCAD・・・ブリカラムアドレス
デコーダ、PRAD・・・ブリロウアドレスデコーダ、
CAB・・・カラムアドレスバッファ、RAB・・・ロ
ウアドレスバッファ、RFC・・・リフレッシユ 。 アドレスカウンタ、MAO,MAI・・・メインアンプ
、Ilo・・・データ入出力回路、TG・・・タイミン
グ発生回路。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a row address buffer 1 of a B t -CMOS dynamic RAM to which the present invention is applied, and FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of the CMOS dynamic RAM; FIG. 3 is a signal waveform diagram showing an embodiment of the Bt' CMOS dynamic RAM of FIG. 2; and FIG. Bi/CMOS developed by the inventors
Signal waveform diagram showing an example of dynamic RAM, 5th r:! Je;t:, Fig. 4 (7) B l ・CMO
FIG. 5 is a circuit diagram showing an example of a row address buffer of a 5l'4+i y type RAM. RAB...Row address buffer, TS...Timing setting circuit, DABO...Unit address buffer,
DLI~DL2...delay circuit, IC...input circuit,
C3...Current switch circuit, VG-...Voltage generation circuit, GXP, GXN. GRP, GRN...gate circuit, LP, LN...latch circuit, ADP, ADN...address driver, Q
1~Q2...P channel MO3FETSQl 1~
Q12...N channel MO3FET%T1~Tll
...NPN type bipolar transistor, N'l~N6
...CMOS inverter circuit, NAGI~NAG2・
...Nant gate circuit, N001-N0G3...Nor gate circuit, D1-D2...Diode, 01-C3
... Capacitor, Cs... Parasitic capacitance, R1 to R6.
··resistance. MARYO, MARYI...Memory array, 5APO
, 5AP1.5ANO, 5ANI... sense amplifier,
C3O, C5I... Column switch, CAD... Column address decoder, RADO, RADI... Row address decoder, PCAD... Bri column address decoder, PRAD... Bri row address decoder,
CAB...Column address buffer, RAB...Row address buffer, RFC...Refresh. Address counter, MAO, MAI...main amplifier, Ilo...data input/output circuit, TG...timing generation circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、所定の制御信号に従って選択的に動作状態とされ所
定の入力電圧をもとに所定の出力電圧を形成する電圧発
生回路を具備し、かつ上記電圧発生回路が動作状態とさ
れる当初において上記入力電圧の絶対値が一時的に大き
くされることを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記電圧発生回路は、その出力ノードと回路の接地
電位との間に設けられる第1のバイポーラトランジスタ
と、上記第1のバイポーラトランジスタのベースと上記
出力ノード及び回路の接地電位との間にそれぞれ設けら
れる第1及び第2の抵抗手段と、その入力ノードと上記
出力ノードとの間に設けられ上記制御信号に従って選択
的にオン状態とされるスイッチ手段とを含むものであっ
て、上記入力ノードと回路の電源電圧との間には第3の
抵抗手段が設けられ、上記入力ノードと回路の接地電位
との間には、所定の静電容量を持つキャパシタが設けら
れるものであることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の半導体集積回路装置。 3、上記半導体集積回路装置は、Bi・CMOSダイナ
ミック型RAMであって、上記電圧発生回路は、上記B
i・CMOSダイナミック型RAMが選択状態とされる
とき、アドレス入力回路の定電流源を構成する第2のバ
イポーラトランジスタに対して所定のベース電圧を選択
的に供給するためのものであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項又は第2項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. A voltage generating circuit is provided which is selectively brought into an operating state according to a predetermined control signal and forms a predetermined output voltage based on a predetermined input voltage, and the voltage generating circuit is in an operating state. A semiconductor integrated circuit device characterized in that the absolute value of the input voltage is temporarily increased at the beginning of the input voltage. 2. The voltage generating circuit has a first bipolar transistor provided between its output node and the ground potential of the circuit, and a base of the first bipolar transistor and the output node and the ground potential of the circuit. The device includes first and second resistor means provided respectively, and a switch means provided between the input node and the output node and selectively turned on according to the control signal, the switch means being selectively turned on according to the control signal, A third resistance means is provided between the node and the power supply voltage of the circuit, and a capacitor having a predetermined capacitance is provided between the input node and the ground potential of the circuit. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1. 3. The semiconductor integrated circuit device is a Bi-CMOS dynamic RAM, and the voltage generation circuit is the B
When the i-CMOS dynamic RAM is brought into a selected state, a predetermined base voltage is selectively supplied to the second bipolar transistor constituting the constant current source of the address input circuit. A semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2.
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