JPH0278690A - ミオ イノシトール誘導体の製法 - Google Patents
ミオ イノシトール誘導体の製法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は ミオイノシトール−1,2−サイクリック、
4.5−)リボスフエート。ミオイノシトール−1,4
,5−トリホスフェート、ミオイノシトール−2,4,
5−トリホスフェート、ミオイノシトール−4−ホスフ
エート,ミオイノシトール−5−ホスフエート,ミオイ
ノシトール1.3.4−)リホスフエートの製法に関す
る(口)従来の技術と発明が解決しようとする問題点 ミオイノシトール1.2−サイクリック、4゜5−トリ
ホスフェートは細胞内には存在することが知られている
が化学合成はされてなかったので化学合成をすること。
4.5−)リボスフエート。ミオイノシトール−1,4
,5−トリホスフェート、ミオイノシトール−2,4,
5−トリホスフェート、ミオイノシトール−4−ホスフ
エート,ミオイノシトール−5−ホスフエート,ミオイ
ノシトール1.3.4−)リホスフエートの製法に関す
る(口)従来の技術と発明が解決しようとする問題点 ミオイノシトール1.2−サイクリック、4゜5−トリ
ホスフェートは細胞内には存在することが知られている
が化学合成はされてなかったので化学合成をすること。
ミオイノシトール1,4.5−.2,4.5−、!、3
.4−トリホスフェート、ミオイノシトール4−.5−
、ホスフェートは0合成はされているが容易につくる方
法が見出されていないので、確実に純粋につくる方法を
見出すこと(ハ)問題点を解決するための手段 本発明の方法は 3.6−ジベンシルーミオイノシトー
ルー4.5−ビス(ジベンジルホスフェート)ないし、
これに類似した化合物を出発原料とすれば目的とする3
つの化合物が容易に合成できることを示すものである。
.4−トリホスフェート、ミオイノシトール4−.5−
、ホスフェートは0合成はされているが容易につくる方
法が見出されていないので、確実に純粋につくる方法を
見出すこと(ハ)問題点を解決するための手段 本発明の方法は 3.6−ジベンシルーミオイノシトー
ルー4.5−ビス(ジベンジルホスフェート)ないし、
これに類似した化合物を出発原料とすれば目的とする3
つの化合物が容易に合成できることを示すものである。
ミオイノシトール1.2−サイクリック、4゜5−トリ
ホスフェートを製造するには l の1.2位の水酸基
に、メチルピリジニウム、ジクロルホスフェートを作用
させたのち接触還元すれば目的物が得られる。
ホスフェートを製造するには l の1.2位の水酸基
に、メチルピリジニウム、ジクロルホスフェートを作用
させたのち接触還元すれば目的物が得られる。
イノシトール1,4.5−トリホスフェートを合成する
には1位をトリアルキルシリル化する。
には1位をトリアルキルシリル化する。
ついで2位をベンゾイル基で保護したのち、1位のトリ
アルキルシリル基を除去し1位の水酸基をジベンジルホ
スホリル化する。1位のホスホリル化は三塩化リン、ベ
ンジルアルコール、t−ブチルヒドロパーオキシドの反
応又は、テトラベンジルピロホスフェートを用いる方法
がよい。2位のベンゾイル基を除去後接触還元するとミ
オイノシトール1,4.5−トリホスフェートが得られ
るミオイノシトール−2,4,5−トリホスフェートを
得るには3,6−ジペンジルー4.5−ビス(ジベンジ
ルホスホリル リルーミオイノシトールの2位をジベンジルホスホリル
化する。ついで接触還元すればよい。
アルキルシリル基を除去し1位の水酸基をジベンジルホ
スホリル化する。1位のホスホリル化は三塩化リン、ベ
ンジルアルコール、t−ブチルヒドロパーオキシドの反
応又は、テトラベンジルピロホスフェートを用いる方法
がよい。2位のベンゾイル基を除去後接触還元するとミ
オイノシトール1,4.5−トリホスフェートが得られ
るミオイノシトール−2,4,5−トリホスフェートを
得るには3,6−ジペンジルー4.5−ビス(ジベンジ
ルホスホリル リルーミオイノシトールの2位をジベンジルホスホリル
化する。ついで接触還元すればよい。
出発原料(1)の3.6−位はベンジルと限らずメトキ
シベンジル、アリル、クロチル等でもよい。又4,5位
のジベンジルホスホリル基は.ジ(β−シアノエチル)
ホスホリル等でもよい。ベンジル、メトキシベンジル基
は接触還元で除去できる。クロチル、アリル基はt−ブ
チルアルコールのNa塩とDMSO,ついで酸で処理す
る等の方法で除去する。β−シアノエチル基は か性ソ
ーダの水−メタノール液のようなアルカリで除去できる
。
シベンジル、アリル、クロチル等でもよい。又4,5位
のジベンジルホスホリル基は.ジ(β−シアノエチル)
ホスホリル等でもよい。ベンジル、メトキシベンジル基
は接触還元で除去できる。クロチル、アリル基はt−ブ
チルアルコールのNa塩とDMSO,ついで酸で処理す
る等の方法で除去する。β−シアノエチル基は か性ソ
ーダの水−メタノール液のようなアルカリで除去できる
。
ミオイノシトール−1.4.5−トリホスフェートは又
次の方法によって合成することもできる。3.6−ジ
ペンジルー4.5−ジアリルミオミノシトールにアルコ
キシメチルハライドを作用させて3,6−ジペンジルー
4.5−ジアリル−1−アルコキシメチル−ミオイノシ
トールをつくる。ベンジルプロミドを作用させて2位を
ベンジル化後.1位のアルコキシメチル基を除去,4。
次の方法によって合成することもできる。3.6−ジ
ペンジルー4.5−ジアリルミオミノシトールにアルコ
キシメチルハライドを作用させて3,6−ジペンジルー
4.5−ジアリル−1−アルコキシメチル−ミオイノシ
トールをつくる。ベンジルプロミドを作用させて2位を
ベンジル化後.1位のアルコキシメチル基を除去,4。
5位のアリル基を常法にしたがって脱離させて2、3.
6−トリベンジルーミオイノシトールをつくりリン酸化
,接触還元によりミオイノシトール−1.4.5−)リ
ホスフエートを合成する。
6−トリベンジルーミオイノシトールをつくりリン酸化
,接触還元によりミオイノシトール−1.4.5−)リ
ホスフエートを合成する。
アルコキシメチルハロイドとしてはメトキシメチルクロ
イド、メトキシエトキシメチルクロリド等が用いられる
。
イド、メトキシエトキシメチルクロリド等が用いられる
。
1、2位をシクロヘキシリデン又はインプロピリデンの
ような2官能性基で保護したミオイノシトールに,ジク
ロルテトライソプロビルジシロキサンを作用させるとほ
ぼ選択的に3.4位がテトライソプロピルジシロキシル
で保護された化合物15が得られる。15を原料とすれ
ば 他の方法で得るよりも容易にミオイノシトール 4
−、5−ホスフエート,ミオイノシトールl,3.4−
トリホスフェートが得られることがわかった次に実施例
により本発明の方法をのべる。
ような2官能性基で保護したミオイノシトールに,ジク
ロルテトライソプロビルジシロキサンを作用させるとほ
ぼ選択的に3.4位がテトライソプロピルジシロキシル
で保護された化合物15が得られる。15を原料とすれ
ば 他の方法で得るよりも容易にミオイノシトール 4
−、5−ホスフエート,ミオイノシトールl,3.4−
トリホスフェートが得られることがわかった次に実施例
により本発明の方法をのべる。
実施例!。
ミオイノシトール−1.2−サイクリック−4、5−ト
リスホスフェート 0°C下ピ下ピンジン2にメチルジクロロホスフェート
(23,ul、0.231mmol)を加え15分間撹
拌する。3.6−0−ジベンジルミオイノシトール4.
5−ビス(ベンジルホスフェ−))l (0,136m
mo l)を加え室温下1時間撹拌する。ピリジンを減
圧下除去しCHC1,10m1を加え、飽和食塩水(1
5m I X 2 )で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。CHCl、を除去し、クルード257mgを得
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(1N開溶媒
;CHC1,、MeOH=5 : 1)によりピリジニ
ウム3.6−ジベンジル−ミオイノシトール−2−(サ
イクリック)−4.5−ビス(ベンジルホスフェート)
2,156mg単離した。
リスホスフェート 0°C下ピ下ピンジン2にメチルジクロロホスフェート
(23,ul、0.231mmol)を加え15分間撹
拌する。3.6−0−ジベンジルミオイノシトール4.
5−ビス(ベンジルホスフェ−))l (0,136m
mo l)を加え室温下1時間撹拌する。ピリジンを減
圧下除去しCHC1,10m1を加え、飽和食塩水(1
5m I X 2 )で洗浄し無水硫酸ナトリウムで乾
燥する。CHCl、を除去し、クルード257mgを得
た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー(1N開溶媒
;CHC1,、MeOH=5 : 1)によりピリジニ
ウム3.6−ジベンジル−ミオイノシトール−2−(サ
イクリック)−4.5−ビス(ベンジルホスフェート)
2,156mg単離した。
2 (0.193mmol)をMeOH−8.0(4:
1)10mgに溶かし酢酸アンモニウム298mgを加
え.さらに5%Pd−Cを400mgを加え水素置換し
て常圧,室温下1日撹拌する。Pd−Cを徐き.水を減
圧下で除くとオイル状物320mgを得た。ワットマン
CC−31(55g)のセルロースゲルを用いてカラム
クロマトグラフィーより,イノシトール1.2−サイク
リック−4.5−トリスホス7エー)3 77mg(
オイル状)を単離した。再結晶(H80−アセトン)に
よりパウダー状の結晶32mg (1次)を得た。
1)10mgに溶かし酢酸アンモニウム298mgを加
え.さらに5%Pd−Cを400mgを加え水素置換し
て常圧,室温下1日撹拌する。Pd−Cを徐き.水を減
圧下で除くとオイル状物320mgを得た。ワットマン
CC−31(55g)のセルロースゲルを用いてカラム
クロマトグラフィーより,イノシトール1.2−サイク
リック−4.5−トリスホス7エー)3 77mg(
オイル状)を単離した。再結晶(H80−アセトン)に
よりパウダー状の結晶32mg (1次)を得た。
’)INMP(0.0)( 270MH. )1=3.
87. 、、(ddd, J++ 3−++ s=1.
7Hz. Jn s−n−=10Hz. Jus−p
=4)1.、H3)、3.89(dd,J□−、、、=
7.5H., J.、−、□=7.5L。
87. 、、(ddd, J++ 3−++ s=1.
7Hz. Jn s−n−=10Hz. Jus−p
=4)1.、H3)、3.89(dd,J□−、、、=
7.5H., J.、−、□=7.5L。
11− >、 3. 95(ddd, J.+s−++
4=8. 4Hz, Ju a−plo. IHz,
Hs )。
4=8. 4Hz, Ju a−plo. IHz,
Hs )。
4、 14(ddd, J++ − − 、=9.2H
.、HA )、 4− 33(ddd, Jl−++
*=5Hz、Jilt−P=13.4H2. )I+>
4.68(m,Hs)”PNMR(D.0)(270M
H.)1、68ppm(tイク’Itり本7エートのP
)、i5.1ppm,15.3ppm(4,5−ビス本
スフエートのP) [13”D=−11(C=1.0.H,0)実施例2。
.、HA )、 4− 33(ddd, Jl−++
*=5Hz、Jilt−P=13.4H2. )I+>
4.68(m,Hs)”PNMR(D.0)(270M
H.)1、68ppm(tイク’Itり本7エートのP
)、i5.1ppm,15.3ppm(4,5−ビス本
スフエートのP) [13”D=−11(C=1.0.H,0)実施例2。
3、6−ジペンジルー4.5−ビス(ジベンジルホスホ
リル)−ミオイノシトール1,o.5g(0.57ミリ
モル)をとリジン10mlにとかし.01Cでトリエチ
ルシリルクロリド0.127g (0.86ミリモル)
を滴下する。滴下後室温で3時間撹拌する。減圧でピリ
ジンを除去後静和酸性硫酸ソーダ 次いで水で洗浄後.
硫酸ソーダで乾燥する。溶媒を除去し残渣をカラムクロ
マトグラフにかけて1−トリエチルシリル−3.6−ジ
ペンジルー4,5−ビス(ジベンジルホスホリル)−ミ
オイノシトール4 0.54g (95%)を得る。
リル)−ミオイノシトール1,o.5g(0.57ミリ
モル)をとリジン10mlにとかし.01Cでトリエチ
ルシリルクロリド0.127g (0.86ミリモル)
を滴下する。滴下後室温で3時間撹拌する。減圧でピリ
ジンを除去後静和酸性硫酸ソーダ 次いで水で洗浄後.
硫酸ソーダで乾燥する。溶媒を除去し残渣をカラムクロ
マトグラフにかけて1−トリエチルシリル−3.6−ジ
ペンジルー4,5−ビス(ジベンジルホスホリル)−ミ
オイノシトール4 0.54g (95%)を得る。
融点210”C
実施例3。
化合物4の0.2gを無水ピリジン5mlに溶解し.0
@Cでベンゾイルクロリド0.6gを加える。触媒量の
ジメチルアミノピリジンを加え。
@Cでベンゾイルクロリド0.6gを加える。触媒量の
ジメチルアミノピリジンを加え。
室温で10時間反応させる。エーテル抽出.水洗浄,乾
燥,溶媒留去後 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フにかけて,1−)ジエチルシリル−3.5ージベンジ
ル−4.5−ビス(ジベンジルホスホリル)−2−ベン
ゾイル−ミオイノシトール5の0.22gを得た。 融
点781C実施例4。
燥,溶媒留去後 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フにかけて,1−)ジエチルシリル−3.5ージベンジ
ル−4.5−ビス(ジベンジルホスホリル)−2−ベン
ゾイル−ミオイノシトール5の0.22gを得た。 融
点781C実施例4。
化合物5の0.06gをクロロホルム少量に溶解し,8
0%酢酸3mlを加える。トシル酸0。
0%酢酸3mlを加える。トシル酸0。
022gを加えて室温で3時間撹拌する。クロロホルム
抽出,水洗浄,重炭酸ソーダ水洗浄.水洗浄,乾燥.溶
媒除去後残渣を薄層板単離して3、5−ジベンジル−4
,5−ビス(ジベンジルホスホリル)−2−ベンゾイル
−ミオイノシトール6の0.033gを得る。融点13
3°C実施例5、 化合物6の3 0mgに無水テトラヒドロフラン2ml
,ピリジン50μmを加え.−78”Cで3塩化リンフ
mgを加え1.5時間反応後.ベンジルアルコール9m
gを加えて1.5時間反応後、t−ブチルハイドロパー
オキシ20mgを加え−78’Cから室温に昇温しで1
.5時間反応させた。エーテル抽出、飽和酸性性硫酸ソ
ーダ水溶液、水、飽和酸性炭酸ソーダ水、水で順次洗浄
。
抽出,水洗浄,重炭酸ソーダ水洗浄.水洗浄,乾燥.溶
媒除去後残渣を薄層板単離して3、5−ジベンジル−4
,5−ビス(ジベンジルホスホリル)−2−ベンゾイル
−ミオイノシトール6の0.033gを得る。融点13
3°C実施例5、 化合物6の3 0mgに無水テトラヒドロフラン2ml
,ピリジン50μmを加え.−78”Cで3塩化リンフ
mgを加え1.5時間反応後.ベンジルアルコール9m
gを加えて1.5時間反応後、t−ブチルハイドロパー
オキシ20mgを加え−78’Cから室温に昇温しで1
.5時間反応させた。エーテル抽出、飽和酸性性硫酸ソ
ーダ水溶液、水、飽和酸性炭酸ソーダ水、水で順次洗浄
。
乾燥、溶媒除去後、残渣を薄層板を用いて3.5−ジベ
ンジル−2−ベンゾイル−1,4,5−トリス(ジベン
ジルホスホリル)−ミオイノシトール7の25mgを得
た。
ンジル−2−ベンゾイル−1,4,5−トリス(ジベン
ジルホスホリル)−ミオイノシトール7の25mgを得
た。
実施例6゜
化合物7の18mgをメタノール1ml中ソジウムメト
キシド3 Qmgと先に室温で3時間反応させる。エー
テル5mlを加え、酸性硫酸ソーダ、水で洗浄、乾燥、
溶媒除去後 残渣を薄層板にかけて3.5−ジベンジル
−1,4,5−トリス(ベンジルホスホリル)−ミオイ
ノシトール8の13mgを得た・ 実施例7゜ 化合物8の13mgと酢酸アンモニウム25mgをメタ
ノール3mlと水0.7mlの混合溶媒に溶解し、5%
パラジウム−カーボン10mgを加え、100気圧水素
ガスを用いて接触還元する。5時間ご触媒を室温で濾過
し母液を濃縮する。
キシド3 Qmgと先に室温で3時間反応させる。エー
テル5mlを加え、酸性硫酸ソーダ、水で洗浄、乾燥、
溶媒除去後 残渣を薄層板にかけて3.5−ジベンジル
−1,4,5−トリス(ベンジルホスホリル)−ミオイ
ノシトール8の13mgを得た・ 実施例7゜ 化合物8の13mgと酢酸アンモニウム25mgをメタ
ノール3mlと水0.7mlの混合溶媒に溶解し、5%
パラジウム−カーボン10mgを加え、100気圧水素
ガスを用いて接触還元する。5時間ご触媒を室温で濾過
し母液を濃縮する。
これをメタノールに溶解しアンモニア−メタノールに溶
解しアンモニア−メタノール溶液を加えて室温で一夜撹
拌した。溶媒除去後、セルロースカラムを用いて精製し
てミオイノシトール−1,4,5−トリホスフェート9
のアンモニウム塩5mgを得た。
解しアンモニア−メタノール溶液を加えて室温で一夜撹
拌した。溶媒除去後、セルロースカラムを用いて精製し
てミオイノシトール−1,4,5−トリホスフェート9
のアンモニウム塩5mgを得た。
実施例8゜
化合物4の0.050g (0,050mmo +)に
無水テトラヒドロフラン3ml無水ピリジン0.1ml
を加え、N、気流中、−78@Cに冷却しその中にPC
I、0.014g (0,10mmo1)を加え1.5
時間反応後BnOHO,032g (0,3mmo I
)を1.5時間反応差せる。続いてt−ブチルバーオキ
シド0.018g(0,2mmol)を加え −78”
Cから室温まで温度を上げ1.5時間反応させる。反応
終了後エーテルを加え抽出、飽和KH5O,水で洗浄、
水洗浄、NaHCOs溶液洗浄、水洗浄後有機層をNa
tSO4で乾燥、溶媒を留去後 残渣を薄層板単離で3
.6−ジペンジルー2.4.5−1−リス(ジベンジル
ホスホリル)−1−トリエチルシリル−ミオイノシトー
ルlOを得る。
無水テトラヒドロフラン3ml無水ピリジン0.1ml
を加え、N、気流中、−78@Cに冷却しその中にPC
I、0.014g (0,10mmo1)を加え1.5
時間反応後BnOHO,032g (0,3mmo I
)を1.5時間反応差せる。続いてt−ブチルバーオキ
シド0.018g(0,2mmol)を加え −78”
Cから室温まで温度を上げ1.5時間反応させる。反応
終了後エーテルを加え抽出、飽和KH5O,水で洗浄、
水洗浄、NaHCOs溶液洗浄、水洗浄後有機層をNa
tSO4で乾燥、溶媒を留去後 残渣を薄層板単離で3
.6−ジペンジルー2.4.5−1−リス(ジベンジル
ホスホリル)−1−トリエチルシリル−ミオイノシトー
ルlOを得る。
10 0.059mg (0,044mmo l)をM
o0H4: H*01溶液 10m1に溶解させる。そ
の中に5%Pd−Co、121g酢酸アンモニウム0.
060gを加えH,(常温)、室温で2昼夜反応させる
。反応終了後5%Pd−Cを濾過し水で洗浄する。溶媒
を除去後 残渣をCC−31セルロースカラムで単離す
る。CC−314、Og (n−PrOH7:NH,
OH3:H,01)で溶出させてミオイノシトール−2
゜4.5−トリホスフェート18.5mgを得た。
o0H4: H*01溶液 10m1に溶解させる。そ
の中に5%Pd−Co、121g酢酸アンモニウム0.
060gを加えH,(常温)、室温で2昼夜反応させる
。反応終了後5%Pd−Cを濾過し水で洗浄する。溶媒
を除去後 残渣をCC−31セルロースカラムで単離す
る。CC−314、Og (n−PrOH7:NH,
OH3:H,01)で溶出させてミオイノシトール−2
゜4.5−トリホスフェート18.5mgを得た。
(収率6 N H3塩で80%)
実施例9゜
3.6−ジペンジルー4.5−ジアリル−ミオイノシト
ール100+++g(e、227m5+ol)とジブチ
ルチンオキシド59a+g(0,238m5+o l
)をメタノールに溶解させ1時間還流しメタノールを留
去する。続いてジメチルホルムアシドに溶解させ、別の
容器で調製したメトキシメチルのトリメチルアミンの塩
(メトキシメチルクロイド1.14mmolとトリエチ
ルアミン1.14+ms+olを直接混ぜて作る)を加
えて50°Cで8時間撹拌する。後処理して 11 5
8.1mg(5B)を得た。
ール100+++g(e、227m5+ol)とジブチ
ルチンオキシド59a+g(0,238m5+o l
)をメタノールに溶解させ1時間還流しメタノールを留
去する。続いてジメチルホルムアシドに溶解させ、別の
容器で調製したメトキシメチルのトリメチルアミンの塩
(メトキシメチルクロイド1.14mmolとトリエチ
ルアミン1.14+ms+olを直接混ぜて作る)を加
えて50°Cで8時間撹拌する。後処理して 11 5
8.1mg(5B)を得た。
NMR2,38−2,682,88−3,883,28
3,88−4,384,38−4,784,78−5,
145,14−6,137,2実施例10゜ 11 83++gを0MF2a+1にとかしNaH7a
+g、BnC116s1を加えて室温で4時間撹拌する
。エーテル−水を加えて分液、水洗、乾燥後溶媒除去、
残液をシリカゲルプレートで分離して、2,3.6−)
リベンジルー4.5−ジアリル−1−メトキシメチル−
ミオイノシトール 1260mgを得た。
3,88−4,384,38−4,784,78−5,
145,14−6,137,2実施例10゜ 11 83++gを0MF2a+1にとかしNaH7a
+g、BnC116s1を加えて室温で4時間撹拌する
。エーテル−水を加えて分液、水洗、乾燥後溶媒除去、
残液をシリカゲルプレートで分離して、2,3.6−)
リベンジルー4.5−ジアリル−1−メトキシメチル−
ミオイノシトール 1260mgを得た。
実施例11゜
12 60mgを0.1N1(CI−MeOH溶液1.
5mlに溶かし500Cで3時間撹拌後 KO)I−M
eOHで中和し、酢酸エチル−水で分液、洗浄、乾燥、
溶媒除去後プレート上で分離して2.3.6−ドリベン
ジルー4.5−ジアリル−ミオイノシトール 13 3
8mgを得た1 3 38rtrgヲトリフェニルホス
フインロジウムクロリ ド 25mg、DMBCo
10mgをlOχaq、エタノーノし中で2時間過熱還
流させる。水−酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥、濃縮乾
固してノープロプエル体を得た。これを0.1−NHC
I/#/−ル中で 20分間過熱、還流後酢酸エチルー
水で抽出し乾燥、濃縮後カラムクロマトグラフにかけて
2,3.6−トリベンジルーミオイノシトール18mg
を得た。
5mlに溶かし500Cで3時間撹拌後 KO)I−M
eOHで中和し、酢酸エチル−水で分液、洗浄、乾燥、
溶媒除去後プレート上で分離して2.3.6−ドリベン
ジルー4.5−ジアリル−ミオイノシトール 13 3
8mgを得た1 3 38rtrgヲトリフェニルホス
フインロジウムクロリ ド 25mg、DMBCo
10mgをlOχaq、エタノーノし中で2時間過熱還
流させる。水−酢酸エチルで抽出、水洗、乾燥、濃縮乾
固してノープロプエル体を得た。これを0.1−NHC
I/#/−ル中で 20分間過熱、還流後酢酸エチルー
水で抽出し乾燥、濃縮後カラムクロマトグラフにかけて
2,3.6−トリベンジルーミオイノシトール18mg
を得た。
実施例12゜
1.2−シクロへキシリデンミオイノシトール5g(0
,019mmof)をビリジンニ溶解すセ、共沸Lf、
:後0@Cに冷却しジクロロテトライソプロビルジシロ
キサン7cc(0,022mmol)を加え室温で一晩
撹拌する。後処理して1.2−シクロへキシリデン−3
,4−(テトライソプロビルジシロキシル)−ミオイノ
シトール 14 7.68mg(80χ)を得た。
,019mmof)をビリジンニ溶解すセ、共沸Lf、
:後0@Cに冷却しジクロロテトライソプロビルジシロ
キサン7cc(0,022mmol)を加え室温で一晩
撹拌する。後処理して1.2−シクロへキシリデン−3
,4−(テトライソプロビルジシロキシル)−ミオイノ
シトール 14 7.68mg(80χ)を得た。
Rf O,5(塩化メチレン:メタノール=30:l)
実施例13゜ 14 2g(3,98+nmol)をピリジンに溶解さ
−tt、o”cで塩化ベンゾイル0.46m1(3,9
8mmol)を加え、室温で一晩撹拌する。後処理して
5位がベンゾイル化された化合物 15 1.64mg
(68%>を得た。
実施例13゜ 14 2g(3,98+nmol)をピリジンに溶解さ
−tt、o”cで塩化ベンゾイル0.46m1(3,9
8mmol)を加え、室温で一晩撹拌する。後処理して
5位がベンゾイル化された化合物 15 1.64mg
(68%>を得た。
Rf O,5(酢酸エチル:へキチン=I:IO)実施
例14゜ 15 0.51g(0,84mmol)の共沸をした後
、テトラヒドロフラン25+++1とピリジン51を加
える。
例14゜ 15 0.51g(0,84mmol)の共沸をした後
、テトラヒドロフラン25+++1とピリジン51を加
える。
−78°Cに冷却後三塩化リン290*l(3,34n
o++ol)を加え同室温で2時rtI撹拌する。同温
でベンジルアルコール1.04+5l(0,01mmo
l)を加え更に3時間撹拌する。同温度でtert−ブ
チルハイドロパーオキシド0192a+1(6,69m
mol)を加える。室温で1時間撹拌した。後処理して
l、2〜シクロヘキシリデン−3,4−(テトライソプ
ロビルジシロキシル)−6−ペンゾイルー5−ジベンジ
ルホスホリル−ミオイノシトール16557.5mg(
9H)を得た。
o++ol)を加え同室温で2時rtI撹拌する。同温
でベンジルアルコール1.04+5l(0,01mmo
l)を加え更に3時間撹拌する。同温度でtert−ブ
チルハイドロパーオキシド0192a+1(6,69m
mol)を加える。室温で1時間撹拌した。後処理して
l、2〜シクロヘキシリデン−3,4−(テトライソプ
ロビルジシロキシル)−6−ペンゾイルー5−ジベンジ
ルホスホリル−ミオイノシトール16557.5mg(
9H)を得た。
元素分析 計算値 C62,33H7,32実測値
61.98 7.57実施例15゜ 16 36mg(0,042+imol)を予めアルミ
ナゲルを′°過したクロロホルム0.8ccに溶解させ
る。トシル酸−水和物0.8mg(0,04mmol)
とエチレングリコール2.43声+(0,042a+m
ol)のクロロホルム溶液0.4ccを滴下する。室温
で6時間撹拌する。後処理して1.2−シクロへキシリ
デンのはずれた化合物17を得た。
61.98 7.57実施例15゜ 16 36mg(0,042+imol)を予めアルミ
ナゲルを′°過したクロロホルム0.8ccに溶解させ
る。トシル酸−水和物0.8mg(0,04mmol)
とエチレングリコール2.43声+(0,042a+m
ol)のクロロホルム溶液0.4ccを滴下する。室温
で6時間撹拌する。後処理して1.2−シクロへキシリ
デンのはずれた化合物17を得た。
NMRO,9−1,152,75−2,954,68−
4,753,754,154,214,434,674
,654,844,935,686,8−8,17実施
例16゜ 17 31mg(0,039mg*ol)をテトラヒド
ロフランに溶解させた後 トリエチルアミンのフッ化水
素塩(0,19ンそル)を加えて室温で6.5時間撹拌
するa後処理して6−ペンゾイルー5−ジベンジルホス
ホウルーミオイノシトール18ヲ得た。
4,753,754,154,214,434,674
,654,844,935,686,8−8,17実施
例16゜ 17 31mg(0,039mg*ol)をテトラヒド
ロフランに溶解させた後 トリエチルアミンのフッ化水
素塩(0,19ンそル)を加えて室温で6.5時間撹拌
するa後処理して6−ペンゾイルー5−ジベンジルホス
ホウルーミオイノシトール18ヲ得た。
NMR3,523,703,984,084,45−4
,755,005,046,026,83−8,12 IR”””’ 3250c+a−’ 1700cm−’
1@@c、−+実施例17゜ 1871mg(0,13ma+ol)を酢酸アンモニウ
ム40mg(0,531mo l )をメタノール10
ccと水3ccの混合溶媒に溶解させる。5χPd−C
を加えて水素雰囲気下で1日撹拌する。触媒を濾去しメ
タノール−アンモニア溶液を加え室温で1日撹拌する。
,755,005,046,026,83−8,12 IR”””’ 3250c+a−’ 1700cm−’
1@@c、−+実施例17゜ 1871mg(0,13ma+ol)を酢酸アンモニウ
ム40mg(0,531mo l )をメタノール10
ccと水3ccの混合溶媒に溶解させる。5χPd−C
を加えて水素雰囲気下で1日撹拌する。触媒を濾去しメ
タノール−アンモニア溶液を加え室温で1日撹拌する。
後処理してミオイノシトール−5−ホスフェ−1,19
23+wg(61χ)を得た。
23+wg(61χ)を得た。
NMR3,583,743,79−3,894,051
923a+g(o、o89a+mol)を水に溶解させ
た後 H◆型のイオン交換樹脂を通す。酸性を示すフラ
クションを集めて熱をかけずに濃縮する。これをメタノ
ールに溶解させた後0°Cでシクロヘキシルアミン9*
l(0,156mmol)を加え室温で一晩撹拌する。
923a+g(o、o89a+mol)を水に溶解させ
た後 H◆型のイオン交換樹脂を通す。酸性を示すフラ
クションを集めて熱をかけずに濃縮する。これをメタノ
ールに溶解させた後0°Cでシクロヘキシルアミン9*
l(0,156mmol)を加え室温で一晩撹拌する。
アルコールを留去し最結晶を行った。収量7mg(20
χ) 融点1770C(分解) lit 209−11
’C(分解)実施例18゜ 15 1.91g(3,14mmol)のベンゼン共沸
の後 アルゴン雰囲気下テトラヒドロフラン3Qmlを
加える。−78°Cに冷却後ブチルリチウム2.5cc
(3,77mmol、1.51N)を滴下し直ちにテト
ラベンジルピロリン酸2. l1g(3,93mmol
)を加えた。06C”r−1,5時間撹拌後処理して1
.2−シクロへキシリデン−3,4−テトライソプロビ
ルジシロキシル ゾイル−6−シベンジルホスホリルーミオイノシトール
201.27g(47χ) NMR O.75−2.00 4.07 4.19 4
.21 4.38 4.51 4.694、89 5.
08 5.29 6.83−8.10IRt.、al+
1720cm−’ 1250cm−’実施例19。
χ) 融点1770C(分解) lit 209−11
’C(分解)実施例18゜ 15 1.91g(3,14mmol)のベンゼン共沸
の後 アルゴン雰囲気下テトラヒドロフラン3Qmlを
加える。−78°Cに冷却後ブチルリチウム2.5cc
(3,77mmol、1.51N)を滴下し直ちにテト
ラベンジルピロリン酸2. l1g(3,93mmol
)を加えた。06C”r−1,5時間撹拌後処理して1
.2−シクロへキシリデン−3,4−テトライソプロビ
ルジシロキシル ゾイル−6−シベンジルホスホリルーミオイノシトール
201.27g(47χ) NMR O.75−2.00 4.07 4.19 4
.21 4.38 4.51 4.694、89 5.
08 5.29 6.83−8.10IRt.、al+
1720cm−’ 1250cm−’実施例19。
2 0 0、23g(0.26mmol)をアルミナ
ゲルを通したクロロホルムに溶解させるエチレングリコ
ール15711+0.281111101)とトシル酸
7.5a+g(o.o4ma+ol)を加え室温で4時
間撹拌する。後処理して3.4−テトラインプロとルジ
シロキシルー5ーベンゾイル−6−シベンジルホスホリ
ルーミオイノシトール2 1 0、17g(83χ)
を得た。
ゲルを通したクロロホルムに溶解させるエチレングリコ
ール15711+0.281111101)とトシル酸
7.5a+g(o.o4ma+ol)を加え室温で4時
間撹拌する。後処理して3.4−テトラインプロとルジ
シロキシルー5ーベンゾイル−6−シベンジルホスホリ
ルーミオイノシトール2 1 0、17g(83χ)
を得た。
NMR O.75−1.13 3.28 3.75−3
.85 3.81 4.03 4.214、22 4.
69 4.73 4.92 4.97 5.01 5.
40 6.87−8 05実施例20。
.85 3.81 4.03 4.214、22 4.
69 4.73 4.92 4.97 5.01 5.
40 6.87−8 05実施例20。
トリエチルアミンのフッ化水素塩(0.4mn+ol)
のテトラヒドロ7ラン溶液に2 1 0.1g(0.
13mmol)を加えて一晩撹拌後 溶媒を留去する。
のテトラヒドロ7ラン溶液に2 1 0.1g(0.
13mmol)を加えて一晩撹拌後 溶媒を留去する。
これをカラムクロマトグラフィーで精製すると5−ベン
ゾイル−6−シベンジルホスホリルーミオイノシトール
2 2 62a+g(90χ)を得た。
ゾイル−6−シベンジルホスホリルーミオイノシトール
2 2 62a+g(90χ)を得た。
NMR 3.59 3.76 3.98 4.13 4
.59 4.69 4.82 4.924、98 5.
26 6.65−8.05実施例21。
.59 4.69 4.82 4.924、98 5.
26 6.65−8.05実施例21。
2 2 62mg(0. 11mn+ol)と酢酸アン
モニウム35mg(0. 45+amol )をメタノ
ール4ccと水Iceの混合溶媒に溶解させる。5χP
d−c 12mgを加えて水素雰囲気下で4時間撹拌す
る。触媒を濾去し母液を濃縮する、これをメタノールに
溶解させアンモニアメタノール溶液を加えて室温で一晩
撹拌する。後処理してミオイノシトール−4−ホスフェ
ート2328mg(85%)を得た。
モニウム35mg(0. 45+amol )をメタノ
ール4ccと水Iceの混合溶媒に溶解させる。5χP
d−c 12mgを加えて水素雰囲気下で4時間撹拌す
る。触媒を濾去し母液を濃縮する、これをメタノールに
溶解させアンモニアメタノール溶液を加えて室温で一晩
撹拌する。後処理してミオイノシトール−4−ホスフェ
ート2328mg(85%)を得た。
NMR 3.43 3.53 3.62−3.72 4
.05 4.08−4.20”PNMR 2.09 実施例22。
.05 4.08−4.20”PNMR 2.09 実施例22。
1 4 7、68g(0.015mmof)を触媒量
ノ4ーシメfールアミノピリジンをピリジンに溶解させ
る。0°Cでベンゾイルクロリド10.6+sl(0.
092a++wol )を加え室温で2日間撹拌する。
ノ4ーシメfールアミノピリジンをピリジンに溶解させ
る。0°Cでベンゾイルクロリド10.6+sl(0.
092a++wol )を加え室温で2日間撹拌する。
後処理して14の5.6−ベンゾイル体 2 4 9.
61mg(88χ)を得た。
61mg(88χ)を得た。
Rftt 0.2 (酢酸エチル:ヘキサン=1:3
0)実施例23。
0)実施例23。
2 4 34++g(0.048mmol)を予めア
ルミナケルを通したクロロホルムlccに溶解させる。
ルミナケルを通したクロロホルムlccに溶解させる。
エチレングリコール2. 8# 1 (0. 0511
110 1 )とトシル酸−水和物5ffig(0.0
26auiol)を加え室温で3時間かくはんする。
110 1 )とトシル酸−水和物5ffig(0.0
26auiol)を加え室温で3時間かくはんする。
後処理して3.4−テトライソプロビルジシロキシフレ
−5,6−ジベンシイルーミオイノシトール2 5
29+ag(97%)を得た。融点150−154・C
実施例24。
−5,6−ジベンシイルーミオイノシトール2 5
29+ag(97%)を得た。融点150−154・C
実施例24。
2 5 40mg(0.063mmol>をピリジン
に溶解させ共沸を行う。00Cでメントキシアセチルク
ロリド18pi(0.076mmol)を加えて同温度
で1.5時間撹拌する。後処理して25の1位メントキ
シアセチル体2 6 41、8mg(80りを得た。
に溶解させ共沸を行う。00Cでメントキシアセチルク
ロリド18pi(0.076mmol)を加えて同温度
で1.5時間撹拌する。後処理して25の1位メントキ
シアセチル体2 6 41、8mg(80りを得た。
実施例25。
2 5 1、43g(2.27m−ρl)をピリジン
に溶解させ共沸を行う.01Cでトリエチルクロロシラ
ン0. 5cc(2.95mmol)を加え室温で一晩
撹拌した。後処理して25の1位トリエチルシリル体
2 7 1.6g(952)を得た。
に溶解させ共沸を行う.01Cでトリエチルクロロシラ
ン0. 5cc(2.95mmol)を加え室温で一晩
撹拌した。後処理して25の1位トリエチルシリル体
2 7 1.6g(952)を得た。
NMR O.42−1.30 2.67 3.85 3
.98 4.0? 4.34 5.455、86 7.
25−8.00 実施例26。
.98 4.0? 4.34 5.455、86 7.
25−8.00 実施例26。
2 6 41mg(0.05mmol)をピリジンに溶
解させ共沸を行ったご 4−ジメチルアミノビリン、ベ
ンゾイルクロリド、エチルジイソプロピlレアミンを加
え室内で撹拌する。後処理して26の2位ベンゾイル体
2 8 45mg(98X)をW な。
解させ共沸を行ったご 4−ジメチルアミノビリン、ベ
ンゾイルクロリド、エチルジイソプロピlレアミンを加
え室内で撹拌する。後処理して26の2位ベンゾイル体
2 8 45mg(98X)をW な。
NMRO,55−1,932,883,063,864
,03,893,974,14−4,204,445,
495,535,635,655,89−5,927,
26−8,14 実施例27゜ 27 8mg(0,011mn+ol)をピリジンに溶
解させ4−ジメチルアミノピリジン、塩化ベンゾイル、
エチルジイソブロピルアミアを過剰に加え室温で撹拌す
る。後処理して27の2位のベンゾイル体29 6.6
mg(66z)を得た。
,03,893,974,14−4,204,445,
495,535,635,655,89−5,927,
26−8,14 実施例27゜ 27 8mg(0,011mn+ol)をピリジンに溶
解させ4−ジメチルアミノピリジン、塩化ベンゾイル、
エチルジイソブロピルアミアを過剰に加え室温で撹拌す
る。後処理して27の2位のベンゾイル体29 6.6
mg(66z)を得た。
NMRO,4−1,154,054,194,355,
555,825,907,3−8,2 実施例28゜ 28 15mg(0,016++n+ol)をジメチル
ホルムアミドに溶解させる。ヒドラジン−水和物の水溶
液(06024mmol)を加え室温で7時間撹拌する
。後処理して3.4−テトライソプロピルジシロキシル
−2,5,6−トリベンゾイルーミオイノシトール30
12.3mgを得た。
555,825,907,3−8,2 実施例28゜ 28 15mg(0,016++n+ol)をジメチル
ホルムアミドに溶解させる。ヒドラジン−水和物の水溶
液(06024mmol)を加え室温で7時間撹拌する
。後処理して3.4−テトライソプロピルジシロキシル
−2,5,6−トリベンゾイルーミオイノシトール30
12.3mgを得た。
NMRO,72−1,423,544,1−4,224
,405,635,755,917,3−8,15 実施例29゜ 30 284mg(0,286n++++ol)をテト
ラヒト07ランに溶解させ、トリエチルアミンのフッ化
水素塩(0,014m1oりを加え室温で撹拌する。後
処理して2.5.6−トリベンゾイルーミオイノシトー
ル31 145mg(76K)を得た。
,405,635,755,917,3−8,15 実施例29゜ 30 284mg(0,286n++++ol)をテト
ラヒト07ランに溶解させ、トリエチルアミンのフッ化
水素塩(0,014m1oりを加え室温で撹拌する。後
処理して2.5.6−トリベンゾイルーミオイノシトー
ル31 145mg(76K)を得た。
元素分析 計算値 C65,85% H4,91%実測
値 62.56 5.05実施例30゜ −29383n+g(0,45mmo、I )を8oz
酢酸水溶液に溶解させた後 トシル酸−水和物170m
g(0,90mmol)を加え室温で1時間撹拌する。
値 62.56 5.05実施例30゜ −29383n+g(0,45mmo、I )を8oz
酢酸水溶液に溶解させた後 トシル酸−水和物170m
g(0,90mmol)を加え室温で1時間撹拌する。
後処理して 29の1位トリエチルシリル基が脱離した
30284mg(85X)を得た。融点 175−1
76” C元素分析 計算値 C63,73% H6,
86%62、57 6.94 実施例31゜ 31 116mg(o、2tn+5ol)をベンジンに
溶解させ共沸を行う。アルゴン雰囲気下テトラヒト07
ラン 12ccとピリジン3ccを加える。−78@C
に冷却しジフェニルホスホロクロリダイト 340*I
(1,65m■O1)のテトラヒドロフラン溶液をゆっ
くり滴下する。同室温で2.5時間撹拌後tert−ブ
チルハイドロパーオキシド 450# I(3,3mm
ol )を加える。温度を室温にしながら3時間撹拌す
る。後処理して l。
30284mg(85X)を得た。融点 175−1
76” C元素分析 計算値 C63,73% H6,
86%62、57 6.94 実施例31゜ 31 116mg(o、2tn+5ol)をベンジンに
溶解させ共沸を行う。アルゴン雰囲気下テトラヒト07
ラン 12ccとピリジン3ccを加える。−78@C
に冷却しジフェニルホスホロクロリダイト 340*I
(1,65m■O1)のテトラヒドロフラン溶液をゆっ
くり滴下する。同室温で2.5時間撹拌後tert−ブ
チルハイドロパーオキシド 450# I(3,3mm
ol )を加える。温度を室温にしながら3時間撹拌す
る。後処理して l。
3.4−トリス(ジフェニルホスホリン)2,5.6−
トリベンゾイ/レ−32186B(66%>を得たNM
R5,145,255,585,826,136,53
実施例32゜ 31 20mg(0,04mmol)をヘンインに溶解
させ共沸を行う。アルゴン雰囲気下テトラヒト07ラン
1.6ccとピリジン0.4ccを加える。−78・C
に冷却後ジアニシルホスホロクロリダイト 59声1(
0,28m■ol)のテトラヒドロフラン溶液をゆっく
り滴下する。−78°Cで1時間撹拌後動ert−ブチ
ルハイドロパーオキシド78*1(0,57+smol
)を加える。徐々に室温を戻しながら4時間撹拌する。
トリベンゾイ/レ−32186B(66%>を得たNM
R5,145,255,585,826,136,53
実施例32゜ 31 20mg(0,04mmol)をヘンインに溶解
させ共沸を行う。アルゴン雰囲気下テトラヒト07ラン
1.6ccとピリジン0.4ccを加える。−78・C
に冷却後ジアニシルホスホロクロリダイト 59声1(
0,28m■ol)のテトラヒドロフラン溶液をゆっく
り滴下する。−78°Cで1時間撹拌後動ert−ブチ
ルハイドロパーオキシド78*1(0,57+smol
)を加える。徐々に室温を戻しながら4時間撹拌する。
後処理して1,3.4−トリス(ジフニルホスホリン)
−2,5,6−トリベンゾイルーミオイノシトール 3
322.9mg
−2,5,6−トリベンゾイルーミオイノシトール 3
322.9mg
Claims (5)
- (1)一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ (Rはベンジル,メトキシベンジル,アリル,クロチン
をあらわし、P′はジベンジルホスホリル,ジ(シアノ
エチルホスホリルをあらわす)であらわされる化合物を
原料としてアルキルジクロルホスフェートのアミン塩を
作用させることを特徴とするミオイノシトール(1,2
−サイクリツク,4,5)トリホスフェートの製法 - (2)特許請求の範囲(1)の一般式(1)の化合物の
1位にジアルキルシリル基を導入後、2位にアシル,ベ
ンジル,メキシンベンジル,アリル又はクロチル基を導
入した後1位にリン酸基を導入することを特徴とするミ
オイノシトール(1,4,5)トリホスフェートの製造
法 - (3)特許請求の範囲(1)の一般式(1)の1位にジ
アルキルシリル基を導入後2位にホスホリル基を導入す
る工程を含むミオイノシトール(2,4,5)トリスホ
スフエートの製造法 - (4)3,6−ジベンジル−4,5−ジアリル−ミオイ
ノシトールにアルコキシメチルハライドを作用させて、
1位の水酸基にアルコキシメチル化することを特徴とす
るミオイノシトール−1,4,5−トリホスフェートの
製法 - (5)1,2位を2官能基で保護したミオイノシトール
にテトライソプロピルジシロキシル基を作用させること
を特徴とするミオイノシトール4−,ホスフェート,ミ
オイノシトール−5−ホスフエート,ミオイノシトール
−1,3,4−トリホスフェートの製法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23118288A JPH0278690A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | ミオ イノシトール誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23118288A JPH0278690A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | ミオ イノシトール誘導体の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0278690A true JPH0278690A (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=16919608
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23118288A Pending JPH0278690A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | ミオ イノシトール誘導体の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0278690A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8611183B2 (en) | 2007-11-07 | 2013-12-17 | Schlumberger Technology Corporation | Measuring standoff and borehole geometry |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP23118288A patent/JPH0278690A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8611183B2 (en) | 2007-11-07 | 2013-12-17 | Schlumberger Technology Corporation | Measuring standoff and borehole geometry |
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