JPH027579B2 - - Google Patents

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JPH027579B2
JPH027579B2 JP8878685A JP8878685A JPH027579B2 JP H027579 B2 JPH027579 B2 JP H027579B2 JP 8878685 A JP8878685 A JP 8878685A JP 8878685 A JP8878685 A JP 8878685A JP H027579 B2 JPH027579 B2 JP H027579B2
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hydroxy
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JP8878685A
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Noriaki Okamura
Toshimi Nishama
Yoshio Okamoto
Koichi Ikeda
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Teijin Ltd
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Teijin Ltd
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、光学活性な4−ヒドロキシ−1(E)−
ヨード−1−オクテン類の製造法に関する。更に
詳細には本発明はプロスタグランジン類の合成中
間体として有用な光学活性体である4−ヒドロキ
シ−1(E)−ヨードオクタ−1−エン類の製造法に
関する。
<従来技術とその問題点> 天然プリスタグランジン類は生物学的および薬
理学的に高度な活性を持つ局所ホルモンとして知
られており、それ故にそれらの誘導体に関する研
究も数多く行なわれている。天然型プロスタグラ
ンジン類の中でもプロスタグランジンE1は強い
血小板凝集抑制作用、血管拡張作用等を有し、臨
床への応用が始まつている。
プロスタグランジンE1の誘導体としては、16
位に水酸基を有する下記式 で表わされる15−デオキシ−16−ヒドロキシ−16
−メチルプロスタグランジンE1メチルエステル
が知られている〔テトラヘドロン・レターズ
(Tetrahedron Letters)、48巻、4217〜4220ペー
ジ(1975)〕。この誘導体は優れた抗潰瘍作用を有
することが知られており、なかでも16位がS−配
置のものがラセミ体より4倍高活性であることが
知られている〔アール・パツポ(R.Pappo)ら、
ケミストリー・バイオケミストリー・アンド・フ
アーマコロジカル・アクテイビテイ・オブ・プロ
スタグランジン(Chemistry、Biochemistry
and Pharmacological Activity of
Prostaglandin)、ペルガモンプレス(Parmagon
Press)、17〜26ページ(1979)〕。
かかる16位がS−配置の誘導体は、下記フロー
シート−1で示される方法によつて製造される。
フローシート−1 この製造法では、プロスタグランジンのW鎖の
原料化合物として式9〜の光学活性な4−置換−4
−ヒドロキシ−1(E)−リチウムオクタ−1−エン
類を用いており、かかる光学活性な原料化合物
は、上記の製造法によれば、多粒の工程を要し、
かつ高価な光学分割剤である(−)1−ナフチル
アミンを多量に用いるものである。更に(S)体
と(R)体は別個に製造する必要があり工業的に
優れた製造法とは言い難い。
他の製造法としては、例えばフロシート−2で
示される方法がある〔テトラヘドロン、レターズ
(Tetrahedron Letters)、48巻、4217〜4220ペー
ジ(1975)〕。
フローシート−2 かかる合成法は、式11の4−置換−4−ヒドロ
キシ−1−ヨードオクタ−1−エン類をW鎖の原
料として用いる方法であり、優れた製造法であ
る。しかしながら、式11の化合物で、光学活性な
4−置換−4−ヒドロキシ−1−ヨードオクタ−
1−エン類を用いた例は知られていない。
<発明の目的> 本発明者らは、15−デオキシ−16−ヒドロキシ
プロスタグランジン類の有用な合成原料となり得
る光学活性な4−ヒドロキシ−1(E)−ヨードオク
タ−1−エン類の製造法であつて、光学収率が高
く、またトータル収率も高く工業的に有利な4−
ヒドロキシ−1(E)−ヨードオクタ−1−エン類の
製造法を見出すべく鋭意研究した。そして光学活
性ポリメタクリル酸エステルが芳香環を構造中に
含む光学活性異性体混合物を効率よく光学分割す
ると云う知見から、4−ヒドロキシ−1(E)−ヨー
ドオクタン−1−エン類の水酸基をベンゾエート
誘導体または構造中にフエニル基を含むシリルエ
ーテル誘導体とし、該誘導体を光学活性ポリメタ
クリル酸エステルを用いて光学分割することによ
り、光学活性な4−ヒドロキシ−1(E)−ヨードオ
クタ−1−エン類が効率よく得ることができるこ
とを見出し本発明に到達した。
<発明の構成及び効果> 本発明は、下記式〔〕 〔式中、Rは水素原子、メチル基、エチル基また
はビニル基を表わす。R′は置換もしくは非置換
のベンゾイル基またはSiR1R2R3を表わす。ここ
でR1は水素原子、炭素数1から4までのアルコ
キシ基、または炭素数1から8までの炭化水素基
を表わし、R2、R3はそれぞれ炭素数1から8ま
での炭化水素基を表わし、かつR1、R2、R3の少
なくとも1つには、その構造中にベンゼン環が含
有されるものとする。〕 で表わされる4−ヒドロキシ−1(E)−ヨードオク
タ−1−エンのシリルエーテル誘導体を光学活性
ポリメタクリル酸エステルを用いて光学分割し、
更に必要に応じて脱保護反応に付すことを特徴と
する下記式〔〕 〔式中、Rは上記定義に同じ。Aは水素原子また
はR′を表わす。ここでR′は上記定義に同じ。*
は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1(E)−ヨ
ードオクタ−1−エン類の製造法である。
本発明において、光学分割に供される上記式
〔〕で示される4−ヒドロキシ−1(E)−ヨード
オクタ−1−エン類において、Rは水素原子、メ
チル基、エチル基、またはビニル基を表わす。
R′は置換もしくは置換のベンゾイル基または
SiR1R2R3を表わす。ここでR1は水素原子、炭素
数1から4までのアルコキシ基、または炭素数1
から8までの炭化水素基を表わし、R2、R3はそ
れぞれ炭素数1から8までの炭化水素基を表わ
し、かつR1、R2、R3の少なくとも1つには、そ
の構造中にベンゼン環が含有される。
R′が置換ベンゾイル基であるときの例として
は、例えば、o−メトキシベンゾイル基、m−メ
トキシベンゾイル基、p−メトキシベンゾイル基
などのアルコキシ基で置換されたベンゾイル基;
o−ブロムベンゾイル基、m−ブロムベンゾイル
基、p−ブロムベンゾイル基、o−クロルベンゾ
イル基、m−クロルベンゾイル基、p−クロルベ
ンゾイル基、ジクロルベンゾイル基、o−フルオ
ルベンゾイル基、m−フルオルベンゾイル基、p
−フルオルベンゾイル基などのハロゲン原子で置
換されたベンゾイル基;o−ヒドロキシベンゾイ
ル基、m−ヒドロキシベンゾイル基、p−ヒドロ
キシベンゾイル基などのヒドロキシ基で置換され
たベンゾイル基;o−メチルベンゾイル基、m−
メチルベンゾイル基、p−メチルベンゾイル基、
p−エチルベンゾイル基などのアルキル基で置換
されたベンゾイル基等がある。R′がSiR1R2R3
あるときの例としては、例えばトリ(フエニルも
しくはベンジル)シリル基;ジフエニルメチルシ
リル基、ジフエニルエチルシリル基、t−ブチル
フエニルシリル基、ジベンジルメチルシリル基、
ジベンジルエチルシリル基などのジ(フエニルも
しくはベンジル)アルキルシリル基;ジメチルフ
エニルシリル基、ベンジルジメチルシリル基、ジ
エチルフエニルシリル基などの(フエニルもしく
はベンジル)ジアルキルシリル基;メチルフエニ
ルビニルシリル基、メチルベンジルビニルシリル
基などのアルキルビニル(フエニルもしくはベン
ジル)シリル基;メチルフエニルシリル基、メチ
ルベンジルシリル基、t−ブチルフエニルシリル
基などのアルキル(フエニルもしくはベンジル)
シリル基;t−ブチルメトキシフエニルシリル
基、t−ブチルエトキシフエニルシリル基、t−
ブチルプロポキシフエニルシリル基、t−ブチル
ブトキシフエニルシリル基、t−ブチルメトキシ
ベンジルシリル基などのアルコキシアルキル(フ
エニルもしくはベンジル)シリル基;p−トリル
ジメチルシリル基、p−トリルエチルシリル基な
どのp−トリルジアルキルシリル基;ジ(フエニ
ルもしくはベンジル)シリル基;ジメチルフエネ
チルシリル基、ジエチルフエネチルシリル基など
のジアルキルフエネチルシリル基等がある。
本発明においては、特にジメチルフエニルシリ
ル基、ジフエニルメチルシリル基が好ましく用い
られる。
本発明の製造法における原料化合物である
〔〕のうちR′がSiR1R2R3であるシリルエーテル
誘導体は下記式〔〕 〔式中、Rは水素原子またはメチル基またはエチ
ル基またはビニル基を表わす。〕 で表わされるホモアリルアルコール類と下記式
〔〕 R1R2R3SiX ………〔〕 〔式中、R1、R2、R3は式〔〕に同じ。Xはハ
ロゲン原子を表わす。〕 で表わされるモノハロゲン化シラン誘導体を用い
て、それ自体公知の方法〔テイー・ダブリユー・
グリーネ(T.W.Greene)、プロテクテイブ・グ
ループ・イン・オルガニツク・シンセシイス
(Protective Group in Organic Synthesis)
1981、ジヨン・ウイリー・アンド・サンズ
(JOHN WILEY & SONS)、ニユー・ヨーク
(New York)〕によつて製造することができる。
また原料化合物〔〕のうちR′が置換もしく
は非置換のベンゾイル基であるベンゾエート誘導
体は上記式〔〕で表わされるホモアリルアルコ
ール類と置換もしくは非置換の塩化ベンゾイルを
用いて公知の方法〔ダブリユー・エツチ・オカム
ラ(W.H、Okamura)5、ジヤーナル・オブ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイー(J.
Am.Chem.Soc.)、107、1041(1985)〕によつて製
造することができる。
また、上記式〔〕で示されるホモアリルアル
コール類は例えば、フローシート−3で示される
特開昭52−27751号公報記載の方法を参考にして
製造することができるが、他のいかなる方法を用
いても構わない。
フローシート−3 本発明において用いられる光学活性ポリメタク
リル酸エステルのエステル基の例としては例えば
トリフエニルメチル基、ジフエニル(2−ピリジ
ル)メチル基、ジフエニル(4−ピリジル)メチ
ル基などがあげられる。そして、これらは相当す
るメタクリル酸エステルをトルエン中キラルなア
ニオン開始剤、例えば(−)−スパルテインとフ
ルオレニルリチウムとの錯体や(−)−2,3−
ジメトキシ−1,4−ビスジメチルアミノブタン
とN−置換アニリンのリチウムアミドとの錯体を
用いて重合させると得られる。この生成ポリマー
は左右どちらか一方巻きに偏つたらせん構造をと
りながら生成したため側鎖光学活性基を持たない
にもかかわらず、顕著な旋光性を示し光学分割に
使用されるものである。
本発明においては、かかる光学活性ポリメタク
リル酸エステルを用いて4−ヒドロキシ−1(E)−
ヨードオクタ−1−エン類の光学異性体を光学分
割する具体的手段・方法は、何ら限定されるもの
ではなく、公知のいかなる手段・方法を採用して
よい。例えば、光学活性ポリメタクリル酸エステ
ルをシリカゲル、アルミナ、セルロースなど、好
ましくは通常のシリル化処理したシリカゲルに担
持させ、これをカラムに充填し、ヘキサンなどの
無極性溶媒や、水、メタノール、アセトニトリ
ル、イソプロピルアルコールなどの極性の高い溶
媒またはそれらを適当な比率で混合した溶媒を用
いて、光学活性異性体を分割することができる。
以上の如くして、種々のプロスタグランジン類
の合成中間体となり得る下記式〔〕 〔式中、A′は置換もしくは非置換のベンゾイル
基またはSiR1R2R3を表わす。ここでR1、R2、R3
は式〔〕に同じ。Rは式〔〕に同じ。*は光
学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性な4−ヒドロキシ−1(E)−
ヨードオクタ−1−エン類を高い光学収率で効率
よく製造することができる。
また下記式〔〕 〔式中、Rは式〔〕に同じ。*は不斉炭素原子
を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1(E)−ヨ
ードオクタ−1−エン類は脱保護反応に付すこと
によつて得られる。すなわち、上記式〔〕で表
わされる誘導体のうちシリルエーテル誘導体から
はテトラブチルアンモニウムフロリドやフツ化水
素−ピリジンや酢酸−テトラヒドロフラン−水混
合液などを用いた通常の脱保護反応にかけること
によつて容易に得ることができる。また上記式
〔〕で表わさる誘導体のうちベンゾエート誘導
体からはメタノール溶媒中1%の水酸化ナトリウ
ムを加えて加水分解することによつて得られる。
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明す
る。
実施例 1 (+)−ポリメタクリル酸トリフエニルメチル
を3−アミノプロピルトリメトキシシラン処理し
た大孔径シリカゲル(粒子径10μ、孔径1000〜
4000Å)に25wt%担持させて、キラルな固定相
を調製し、これを長さ25cm、内径0.46cmのカラム
に充填した。
メタノールを溶離液とし、4−ジメチルフエニ
ルシリルオキシ−1(E)−ヨード−4−メチルオク
タ−1−エン(ラセミ体)0.5μlを15℃流速0.5
ml/分で上記カラムに通した。クロマトグラフと
しては日本分光TRIROTARを用い検出器とし
ては日本分光UV−100−(波長254nm)を使
用して光学分割した。得られた流出パターンを第
1図に示した。本発明の光学分割により(−)体
が先に流出し、次いで(+)体が流出する。
(−)体 〔α〕19 D−2.4゜(C=3.6、クロロホル
ム)(1E、3S)−4−ヒドロキシ−1−ヨード
−4−メチルオクタ−1−エン (+)体:〔α〕21 D+2.3゜(C=3.3、クロロホルム

(1E、3R)−4−ヒドロキシ−1−ヨード−4
−メチルオクタ−1−エン 実施例 2 (−)−ポリメタクリル酸ジフエニル−2−ピ
リジルメチルを用い、4−ジメチルフエニルシリ
ルオキシ−1(E)−ヨード−4−メチルオクタ−1
−エン(ラセミ体)0.5μlを実施例1と同様にし
て光学分割した。得られた流出パターンを第2図
に示した。本発明の光学分割により、(+)体が
先に流出し、次いで(−)体が流出する。
【図面の簡単な説明】
第1図は(+)−ポリメタクリル酸トリフエニ
ルメチル(実施例1)を用いたときの4−ジメチ
ルフエニルシリルオキシ−1(E)−ヨード−4−メ
チルオクタ−1−エン(ラセミ体)の流出パター
ンを示す。第2図は(−)−ポリメタクリル酸ジ
フエニル−2−ピリジルメチル(実施例2)を用
い、4−ジメチルフエニルシリルオキシ−1(E)−
ヨード−4−メチルオクタ−1−エン(ラセミ
体)の流出パターンを示す。これらの図において
横軸は時間を表わす。また各図のクロマトグラム
において上段は日本分光DIP−181C旋光度計を用
いて波長365nmで測定した旋光度を表わす。さ
らに下段は日本分光UV−100UV検出器を用い
て波長254nmで測定したUV吸収を示す。4−ジ
メチルフエニルシリルオキシ−1(E)−ヨード−4
−メチルオクタ−1−エンの光学活性体は実施例
1に示す通り旋光度の値が小さく流出パターンを
旋光度によるクロマトグラムに明確に示すことが
できなかつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記式〔〕 〔式中、Rは水素原子、メチル基、エチル基また
    はビニル基を表わす。R′は置換もしくは非置換
    のベンゾイル基またはSiR1R2R3を表わす。ここ
    で、R1は水素原子、炭素数1から4までのアル
    コキシ基、または炭素数1から8までの炭化水素
    基を表わし、R2、R3はそれぞれ炭素数1から8
    までの炭化水素基を表わし、かつR1、R2、R3
    少なくとも1つには、その構造中にベンゼン環が
    含有されるものとする。〕 で表わされる4−ヒドロキシ−1(E)−ヨードオク
    タ−1−エンのシリルエーテル誘導体を光学活性
    ポリメタクリル酸エステルを用いて光学分割し、
    更に必要に応じて脱保護反応に付すことを特徴と
    する下記式〔〕 〔式中、Rは上記定義に同じ。Aは水素原子また
    はR′を表わす。ここでR′は上記定義に同じ。*
    は光学活性が誘起された不斉炭素原子を表わす。〕 で表わされる光学活性4−ヒドロキシ−1(E)−ヨ
    ードオクタ−1−エン類の製造法。 2 R′がトリ(フエニルもしくはベンジル)シ
    リル基、ジ(フエニルもしくはベンジル)アルキ
    ルシリル基、(フエニルもしくはベンジル)ジア
    ルキルシリル基、アルキルビニル(フエニルもし
    くはベンジル)シリル基、アルキル(フエニルも
    しくはベンジル)シリル基、アルコキシアルキル
    (フエニルもしくはベンジル)シリル基、p−ト
    リルジアルキルシリル基、ジ(フエニルもしくは
    ベンジル)シリル基またはジアルキルフエネチル
    シリル基である特許請求の範囲第1項記載の光学
    活性な4−ヒドロキシ−1(E)−ヨードオクタ−1
    −エン類の製造法。 3 光学活性ポリメタクリル酸エステルが光学活
    性ポリメタクリル酸トリフエニルメチル、光学活
    性ポリメタクリル酸ジフエニル(2−ピリジル)
    メチルまたは光学活性ポリメタクリル酸ジフエニ
    ル(4−ピリジル)メチルである特許請求の範囲
    第1項または第2項記載の光学活性な4−ヒドロ
    キシ−1(E)−ヨードオクタ−1−エン類の製造
    法。
JP8878685A 1985-04-26 1985-04-26 光学活性4−ヒドロキシ−1−ヨ−ドオクタ−1−エン類の製造法 Granted JPS61249943A (ja)

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