JPH0267943A - 冷熱装置 - Google Patents
冷熱装置Info
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- JPH0267943A JPH0267943A JP21938588A JP21938588A JPH0267943A JP H0267943 A JPH0267943 A JP H0267943A JP 21938588 A JP21938588 A JP 21938588A JP 21938588 A JP21938588 A JP 21938588A JP H0267943 A JPH0267943 A JP H0267943A
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 70
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 19
- 230000005494 condensation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000009833 condensation Methods 0.000 abstract description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 abstract description 4
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- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
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- 241001274961 Rubus repens Species 0.000 abstract 1
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は各種製品、その部品、各種材料等の温度変化に
対する特性、耐久性などをテストする冷熱衝撃装置や温
度サイクル試験装置等の冷熱装置に関するものである。
対する特性、耐久性などをテストする冷熱衝撃装置や温
度サイクル試験装置等の冷熱装置に関するものである。
(従来の技術)
この種の冷熱装置には様々なタイプのものかあるが、そ
の中に、試験槽と、この試験槽に高温気体を供給するた
めの高温槽と、低温気体を供給するための低温槽と、外
気を導入するための外気導入部とを備えた冷熱装置があ
る。
の中に、試験槽と、この試験槽に高温気体を供給するた
めの高温槽と、低温気体を供給するための低温槽と、外
気を導入するための外気導入部とを備えた冷熱装置があ
る。
この種の冷熱装置においては、試料等の物品は試験槽に
収容され、通常、第2図に示すように低温さらしし、外
気による常温さらしN、高温さらし11を順次受ける。
収容され、通常、第2図に示すように低温さらしし、外
気による常温さらしN、高温さらし11を順次受ける。
試験槽は、低温さらし時には低温槽から低温気体を供給
され、常温さらし時には外気導入部から外気を導入され
、高温さらし時には高温槽から高温気体を供給される。
され、常温さらし時には外気導入部から外気を導入され
、高温さらし時には高温槽から高温気体を供給される。
Qかしながら、この冷熱装置におけるサイクル試験で低
温さらし後、外気導入による常温さらしを行うと、試験
槽内の試料や試験槽壁面に結露が発生し、その後の高温
さらしでその結露水が飽和水蒸気となり、その水蒸気圧
力等で試験槽内圧力が上昇し、この水蒸気が試験槽より
低圧下にある低温槽へ侵入する。
温さらし後、外気導入による常温さらしを行うと、試験
槽内の試料や試験槽壁面に結露が発生し、その後の高温
さらしでその結露水が飽和水蒸気となり、その水蒸気圧
力等で試験槽内圧力が上昇し、この水蒸気が試験槽より
低圧下にある低温槽へ侵入する。
低温槽へ侵入した水分は、該低温槽の蒸発器や蓄冷器へ
霜又は氷となって付着し、低温槽の冷却能力を低下させ
る。
霜又は氷となって付着し、低温槽の冷却能力を低下させ
る。
このような霜又は氷の付着現象は低温槽の除霜(デフロ
スト)作業間隔を縮めることになり、それだけ装置の連
続試験可能時間を縮めるという問題がある。前述した試
験槽内水分の低温槽への侵入を防止するために、高温槽
と低温槽との間の仕切り壁に設けられた開閉ダンパの気
密性を向上させる工夫が様々なされているが、未だ前記
水分侵入を防止するには不十分であり、いたずらに装置
コストを上げる結果となっている。
スト)作業間隔を縮めることになり、それだけ装置の連
続試験可能時間を縮めるという問題がある。前述した試
験槽内水分の低温槽への侵入を防止するために、高温槽
と低温槽との間の仕切り壁に設けられた開閉ダンパの気
密性を向上させる工夫が様々なされているが、未だ前記
水分侵入を防止するには不十分であり、いたずらに装置
コストを上げる結果となっている。
そこで本発明は、試験槽と、前記試験槽に高温気体を供
給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体を供給す
るだめの低温槽と、前記試験槽に外気を導入するための
外気導入部を備えた冷熱装置であって、低温さらし後の
外気導入による常温さらしによって前記試験槽内に発生
する結露がその後の高温さらしで飽和水蒸気となり、そ
の水蒸気圧力等で前記試験槽内圧力が上昇したときでも
、その水蒸気が前記低温槽へ侵入するおそれを少なくし
、それによって低温槽にお番トる蒸発器等への霜付き、
氷結等をそれだけ少なくして低温槽の除霜(デフロスト
)間隔を長くでき、またその割りには安価に製作し得る
冷熱装置を提供することを目的とする。
給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体を供給す
るだめの低温槽と、前記試験槽に外気を導入するための
外気導入部を備えた冷熱装置であって、低温さらし後の
外気導入による常温さらしによって前記試験槽内に発生
する結露がその後の高温さらしで飽和水蒸気となり、そ
の水蒸気圧力等で前記試験槽内圧力が上昇したときでも
、その水蒸気が前記低温槽へ侵入するおそれを少なくし
、それによって低温槽にお番トる蒸発器等への霜付き、
氷結等をそれだけ少なくして低温槽の除霜(デフロスト
)間隔を長くでき、またその割りには安価に製作し得る
冷熱装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段〕
本発明は前記目的に従い、試験槽と、前記試験槽に高温
気体を供給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体
を供給するための低温槽と、前記試験槽に外気を導入す
るための外気導入部とを備えた冷熱装置において、前記
高温槽及び前記試験槽の少なくとも一方に排気通路を接
続するとともに該通路には外部へ排気を許すが外部から
の気体侵入を禁じる弁機構を設けたことを特徴とする冷
熱装置を提供するものである。
気体を供給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体
を供給するための低温槽と、前記試験槽に外気を導入す
るための外気導入部とを備えた冷熱装置において、前記
高温槽及び前記試験槽の少なくとも一方に排気通路を接
続するとともに該通路には外部へ排気を許すが外部から
の気体侵入を禁じる弁機構を設けたことを特徴とする冷
熱装置を提供するものである。
〔作 用]
本発明冷熱装置によると、試料等の物品は試験槽に収容
され、低温さらし、常温さらし及び高温さらしを受ける
ことができる。
され、低温さらし、常温さらし及び高温さらしを受ける
ことができる。
低温さらし後、外気導入による常温さらしによって試験
槽内試料や試験槽壁面に結露が生じ、その後の高温さら
しでその結露水が飽和水蒸気となり、その水蒸気圧力等
で試験槽内圧力が大気圧力より一定以上に上昇すると前
記弁機構が開き、槽内の上昇圧力分の水分を含んだ気体
が前記排気通路及び弁機構を通って外部へ排出される。
槽内試料や試験槽壁面に結露が生じ、その後の高温さら
しでその結露水が飽和水蒸気となり、その水蒸気圧力等
で試験槽内圧力が大気圧力より一定以上に上昇すると前
記弁機構が開き、槽内の上昇圧力分の水分を含んだ気体
が前記排気通路及び弁機構を通って外部へ排出される。
この排出によって試験槽内が大気圧力付近まで低下する
と、その後は前記弁機構が閉じ外部からの水分等の侵入
は防止される。
と、その後は前記弁機構が閉じ外部からの水分等の侵入
は防止される。
〔実 施 例]
以下本発明の実施例を第1図を参照しつつ説明する。
第1図は一実施例冷熱装置の概略断面を示している。
この冷熱装置は、中央部に試験槽9を備えており、槽9
の上側には高温槽4が連設されるとともに下側には低温
槽6が連設されており、全体が断熱壁3で囲繞されたも
のである。但し、試験槽9は図上左側に開閉可能な断熱
扉lOOを備えている。
の上側には高温槽4が連設されるとともに下側には低温
槽6が連設されており、全体が断熱壁3で囲繞されたも
のである。但し、試験槽9は図上左側に開閉可能な断熱
扉lOOを備えている。
高温槽4は高温加熱器41及び高温送風機42を備えて
いる。高温槽4と試験槽9との間には断熱仕切り壁5が
あり、そこに開閉自在のダンパ43及び44が設けられ
ている。試験槽9を高温さらしするときには該ダンパが
開かれる(気流は図上矢印A方向)。
いる。高温槽4と試験槽9との間には断熱仕切り壁5が
あり、そこに開閉自在のダンパ43及び44が設けられ
ている。試験槽9を高温さらしするときには該ダンパが
開かれる(気流は図上矢印A方向)。
低温槽6は蒸発器61、除霜及び温度制御用加熱器62
、蓄冷器63及び低温送風機64を備えている。低温槽
6と試験槽9との間には断熱仕切り壁7があり、そこに
開閉自在のダンパ65.66が設けられており、試験槽
9を低温さらしするときには該ダンパが開かれる(気流
は図上矢印B方向)。
、蓄冷器63及び低温送風機64を備えている。低温槽
6と試験槽9との間には断熱仕切り壁7があり、そこに
開閉自在のダンパ65.66が設けられており、試験槽
9を低温さらしするときには該ダンパが開かれる(気流
は図上矢印B方向)。
高温槽4には排気通路2が接続されており、該通路はこ
の実施例では断熱壁3の中を通って装置上端へ開口して
いる。
の実施例では断熱壁3の中を通って装置上端へ開口して
いる。
通路2の上端開口には弁機構1が設けられている。この
弁機構はネオプレンゴム製の片持ち支持板状弁体を備え
た逆止弁であり、高温槽4内の気圧が大気圧より高圧の
予め定めた圧力以上になるとその圧力で開かれる。
弁機構はネオプレンゴム製の片持ち支持板状弁体を備え
た逆止弁であり、高温槽4内の気圧が大気圧より高圧の
予め定めた圧力以上になるとその圧力で開かれる。
試験槽9にはその奥の両端部に設けられた一対の通気口
80(図面には手前の1つだけが示されている)と、こ
れを開閉するダンパ81(これも1つだけ図示されてい
る)とを備えた外気導入部8が設けられている。
80(図面には手前の1つだけが示されている)と、こ
れを開閉するダンパ81(これも1つだけ図示されてい
る)とを備えた外気導入部8が設けられている。
本実施例によれば、試料等の物品10は試験槽9に配置
されて、高温さらし、低温さらし又は常温さらしを受け
る。
されて、高温さらし、低温さらし又は常温さらしを受け
る。
高温さらしにおいては低温槽ダンパ65.66及び外気
導入ダンパ81が閉じられる一方、高温槽ダンパ43.
44が開かれ、高温槽から試験槽へ高温気体が供給され
る。低温さらしにおいては高温槽ダンパ43.44及び
外気導入ダンパ81.81が閉じられる一方、低温槽ダ
ンパ65.66が開かれ、低温槽6から試験槽9へ低温
気体が供給される。また常温さらしにおいては高温槽ダ
ンパ43.44および低温槽ダンパ65.66が閉じら
れる一方、外気導入ダンパ81.81が開かれ、図示し
ない送風機により試験槽9内へ外気が導入される。
導入ダンパ81が閉じられる一方、高温槽ダンパ43.
44が開かれ、高温槽から試験槽へ高温気体が供給され
る。低温さらしにおいては高温槽ダンパ43.44及び
外気導入ダンパ81.81が閉じられる一方、低温槽ダ
ンパ65.66が開かれ、低温槽6から試験槽9へ低温
気体が供給される。また常温さらしにおいては高温槽ダ
ンパ43.44および低温槽ダンパ65.66が閉じら
れる一方、外気導入ダンパ81.81が開かれ、図示し
ない送風機により試験槽9内へ外気が導入される。
この装置において試料等の物品10は、通常、第2図に
示すように低温さらしし、高温さらしN及び常温ざらし
Hを順次受ける。低温さらし後、外気導入による常温さ
らしによって試験槽内物品10や試験槽壁面に結露が生
じ、その後の高温さらしでその結露水が飽和水蒸気とな
り、その水蒸気圧力等で試験槽9及び高温槽4内圧力が
予め定めた大気圧以上の一定圧力以上になると、高温槽
4に接続された排気通路2における弁機構1が自動的に
開き、水分を含んだ高圧気体が外部へ放出される。これ
によって試験槽9内の水分を含んだ高圧気体がこれより
低圧下の低温槽6へ低温槽ダンパ65.66と仕切り壁
7の隙間を通って侵入するおそれが激減する。従ってそ
れだけ低温槽の蒸発器等への霜付きや氷結が少なくなり
、低温槽の除霜(デフロスト)間隔が延長され、装置の
連続試験時間を長くできるようになって、装置を効率よ
く利用することができる。しかも排気通路2及び弁機構
lを設けることは、低温槽ダンパ65.66の気密性を
同等の効果を目指して向上させようとする場合に比べる
と、コスト安に済むという利点もある。
示すように低温さらしし、高温さらしN及び常温ざらし
Hを順次受ける。低温さらし後、外気導入による常温さ
らしによって試験槽内物品10や試験槽壁面に結露が生
じ、その後の高温さらしでその結露水が飽和水蒸気とな
り、その水蒸気圧力等で試験槽9及び高温槽4内圧力が
予め定めた大気圧以上の一定圧力以上になると、高温槽
4に接続された排気通路2における弁機構1が自動的に
開き、水分を含んだ高圧気体が外部へ放出される。これ
によって試験槽9内の水分を含んだ高圧気体がこれより
低圧下の低温槽6へ低温槽ダンパ65.66と仕切り壁
7の隙間を通って侵入するおそれが激減する。従ってそ
れだけ低温槽の蒸発器等への霜付きや氷結が少なくなり
、低温槽の除霜(デフロスト)間隔が延長され、装置の
連続試験時間を長くできるようになって、装置を効率よ
く利用することができる。しかも排気通路2及び弁機構
lを設けることは、低温槽ダンパ65.66の気密性を
同等の効果を目指して向上させようとする場合に比べる
と、コスト安に済むという利点もある。
前述のごとく高温気体が排気通路2を通って外部へ放出
され、これによって試験槽内圧力が大気圧付近まで低下
すると、今度は弁1が閉じて外部の水分を含んだ気体が
試験槽9内へ侵入することを防止する。
され、これによって試験槽内圧力が大気圧付近まで低下
すると、今度は弁1が閉じて外部の水分を含んだ気体が
試験槽9内へ侵入することを防止する。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他にも様々な態様で実施することができる。
他にも様々な態様で実施することができる。
例えば、前記排気通路2に替えて適当なパイプを接続し
、該バイブに適当な弁機構を設けてもよい。
、該バイブに適当な弁機構を設けてもよい。
また前記弁機構1はこれに限定されるものではなく、本
発明の目的を達成し効果を奏するものであれば、様々な
タイプの弁機構を採用することができる。
発明の目的を達成し効果を奏するものであれば、様々な
タイプの弁機構を採用することができる。
〔発明の効果]
本発明によると、試験槽と、前記試験槽に高温気体を供
給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体を供給す
るための低温槽と、前記試験槽に外気を導入するための
外気導入部とを備えた冷熱装置であって、次の利点を有
する装置を提供できる効果がある。
給するための高温槽と、前記試験槽に低温気体を供給す
るための低温槽と、前記試験槽に外気を導入するための
外気導入部とを備えた冷熱装置であって、次の利点を有
する装置を提供できる効果がある。
すなわち、低温さらし後の外気導入による常温さらしに
よって前記試験槽内に発生する結露がその後の高温さら
しで飽和水蒸気となり、その水蒸気圧力等で前記試験槽
内圧力が上昇したときでも、その水蒸気が前記低温槽へ
侵入するおそれが少なく、そのため、低温槽における蒸
発器等への霜付き、氷結等がそれだけ少なくなり、その
結果低温槽の除霜(デフロスト)間隔が長くなり、それ
にともなって装置連続試験可能時間も長くなる。また、
このような利点がある割りには安価に製作できる。
よって前記試験槽内に発生する結露がその後の高温さら
しで飽和水蒸気となり、その水蒸気圧力等で前記試験槽
内圧力が上昇したときでも、その水蒸気が前記低温槽へ
侵入するおそれが少なく、そのため、低温槽における蒸
発器等への霜付き、氷結等がそれだけ少なくなり、その
結果低温槽の除霜(デフロスト)間隔が長くなり、それ
にともなって装置連続試験可能時間も長くなる。また、
このような利点がある割りには安価に製作できる。
第1図は本発明の一実施例の概略断面図、第2図は3つ
のゾーンによる冷熱テストパターンの説四回である。 l・・・弁機構、 2・・・排気通路、 4・・・高温槽、 6・・・低温槽、 8・・・外気導入部、 9・・・試験槽。
のゾーンによる冷熱テストパターンの説四回である。 l・・・弁機構、 2・・・排気通路、 4・・・高温槽、 6・・・低温槽、 8・・・外気導入部、 9・・・試験槽。
Claims (1)
- (1)試験槽と、前記試験槽に高温気体を供給するため
の高温槽と、前記試験槽に低温気体を供給するための低
温槽と、前記試験槽に外気を導入するための外気導入部
とを備えた冷熱装置において、前記高温槽及び前記試験
槽の少なくとも一方に排気通路を接続するとともに該通
路には外部へ排気を許すが外部からの気体侵入を禁じる
弁機構を設けたことを特徴とする冷熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21938588A JPH0267943A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 冷熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21938588A JPH0267943A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 冷熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0267943A true JPH0267943A (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=16734589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21938588A Pending JPH0267943A (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 冷熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0267943A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013057421A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Espec Corp | 環境試験システム |
CN103234999A (zh) * | 2013-05-10 | 2013-08-07 | 南方英特空调有限公司 | 常温暴露热冲击试验设备及方法 |
-
1988
- 1988-09-01 JP JP21938588A patent/JPH0267943A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013057421A (ja) * | 2011-09-07 | 2013-03-28 | Espec Corp | 環境試験システム |
CN103234999A (zh) * | 2013-05-10 | 2013-08-07 | 南方英特空调有限公司 | 常温暴露热冲击试验设备及方法 |
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