JPH0266838A - フラットディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、２次電子増倍型デイスプレィ装置に通用して
好適なフラントディスプし・イ装置に関わる。

〔発明の概要〕

本発明は、隣り合う２行と隣り合う３列にわたって各色
例えは赤、緑及び青の螢光体画素］・リオがデルタ配列
をもって配置された構成による螢光面に対して、電子ビ
ームを変調到達せしめるＸＹマｌ−ＩＪソクス変調手段
を、各行上の各螢光体画素についてそれぞれ独立に設け
られたＸ電極群と、順次隣り合う行の隣り合う２列上の
螢光体画素について共通に設けられたＸ電極群とによっ
て構成するものであり、このようにして螢光体画素トリ
オがデルタ配列されていることによって均質−様なカラ
ー画面を得ることができるようにし、しかもＸ−Ｙマト
リックス変調電極の電極数すなわち端子数の減少化をは
かることができるようにして、ひいては各螢光体画素の
有効面積の増大化をはかり明るいカラー画（象映出を行
うことができるようにしたフラノ秒デイスプレィ装置を
提供する。

〔従来の技術〕

２次電子増倍方式によるデイスプレィ装置としては、例
えばフィリップス・ジャーナル・オブ・リサーチ（Ｐｈ
ｉｌｌｉｐｓ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｒｅ５ｅａｒｃ
ｈ）　Ｖｏｌ。

４１、　Ｎｏ、３．１９８６．第３２５頁〜第３４２頁
にチャンネル増倍陰極線管の提案がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

２次電子増倍方式による平面型の表示装置すなわちフラ
ットディスプレイ装置は、例えば第２図にその要部の路
線的拡大断面図を示すように、例えば互いに対向するガ
ラス板よりなる透明基板ｆｌ＋と、同様に例えばガラス
基板よりなる対向基板（２）とによって構成された平面
型の気密真空容器を有して成る。透明基板（１１の内面
には、各色例えば赤。

緑及び青の発光をなす螢光体画素Ｒ，Ｇ及びＢが配列さ
れた螢光面（３）が被着形成される。

そして、対向基板（２）側に、螢光面（３）の複数の画
素Ｒ，Ｇ、Ｂに対して共通にカソード（４）が配置され
る。

また、このカソード（４）と螢光面（３）との間に、各
螢光体画素Ｒ，Ｇ及びＢにそれぞれ対応する電子ビーム
通路りを構成し、更に２次電子増倍手段（５）と、マト
リックス変調方式によるＸ−Ｙマトリックス変調手段（
６）とを具備し、カソード（４）からの電子ビームを制
御する電子−ビーム制御機構（７）を有してなる。

このような構成において、その螢光面（３）の螢光体画
素の配列は、例えば第５図にそのＸ−Ｙマトリックス変
調手段（６）との配置関係を模式的に不すように、各画
素Ｒ，Ｇ及びＢを互いに直交する行及び列方向にそれぞ
れ配列された構成を有する。

そしてＸ−Ｙマトリックス変調手段（６）はこれら各画
素Ｒ，Ｇ、　Ｂが配列された列及び行に対してそれぞれ
共通に電極Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３・・・・、Ｙｌ。

Ｙ２　＋　Ｙ３・・・・が配列されて成るｘ′ｆ４ｉ極
群（６Ｈ）とＹ電極群（６ｖ）とを有して成る。これら
Ｘ電極群（６１１）及びＹ電極群（６ｖ）は、それぞれ
少くともその電子ビーム透過部が例えばメツシュ状に構
成され、各電極Ｘ１　、Ｘ２　、Ｘ３・・・・、Ｙｌ　
＋　Ｙ２　＋Ｙ３・・・・に選択的に所要の電圧を印加
することによって第２図におけるカソード（４）から放
出された電子を電子ビーム通路りを通じて各対応する螢
光体画素Ｒ，Ｇ、Ｂ上にビーム変調して選択的に衝撃さ
せて所要の表示を行うようになされる。

すなわちこの第５図に示す例においては、各画素トリオ
Ｒ，Ｇ、ＢがそれぞれＸ電極群とＹ電極群の交叉部にお
いて例えば２等辺三角形の各角部に位置するように配置
されるものであり、このような配置による場合、この画
素Ｒ，Ｇ、Ｂの合成によって形成されたカラー表示は、
例えば画素Ｇが鎖線ａで示す斜めの直線上に配列される
ために緑の線が際立って観察され、均質な色調が得難い
という課題がある。

一方、これに対して例えば第６図に示すように、赤、緑
及び青の各画素Ｒ，Ｇ、Ｂｌ−リオが正三角形状に配列
されたいわゆるデルタ配列をとる場合、各色が均質に配
置された良好な画面を映出することができることが知ら
れている。しかしながらこの場合、そのＸ電極群（６Ｈ
）及びＹ電極群（６ｖ）をそれぞれ各螢光体画素が配列
された列及び行方向に沿って形成すると、第６図から明
らかなように例えば共通の行上に配列された画素数に対
して２倍の本数のＸ電極群（６Ｈ）を配置する必要が生
じ端子数が水平方向すなわち行方向に関して２倍必要と
なるという不都合が生じ、この電極群の配置占有面積を
考慮すると各画素の配置面積が充分大にとり得す、明る
い表示を阻害するという課題が生じる。

本発明においては、各画素トリオをデルタ配列構成とし
て均質良好な画像映出を行うことができるようにすると
ともに、Ｘ−Ｙマトリックス変調手段の端子数の増大化
の課題を解決することができるようにしたフラットディ
スプレイ装置を提供する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、第２図に示すように螢光体画素が配列された
螢光面（３）と、この螢光面（３）に対向して、複数の
螢光体画素に対して共通に配されたカソート（４）と、
螢光面（３）とカソード（４）との間に配されたｘ−Ｙ
マトリックス変調手段（６）とを具備する構成を採る。

そして螢光面（３）は、第１図に示すように、隣り合う
２行と隣り合う３列に渡って配列された各色の螢光体画
素トリオＲ，Ｇ、Ｂが、多数組、行及び列方向に配列さ
れた構成とする。

ｘ−ｙマｌ−ＩＪソックス調手段（６）は、各行上の各
螢光体画素についてそれぞれ独立に設けられたＹ電極群
（６シ）と、順次隣り合う行の隣り合う２列上の螢光体
画素について共通に設けられたＸ電極２１Ｔ（６１１）
とを有する構成とする。

〔作用〕

本発明構成によれば、第１図をみて明らかなように、２
行の画素、例えば図においてはＢ−ＣＢ−Ｇ・・・・、
Ｒ−Ｆ、−Ｒ−Ｂ・・・・、Ｇ−Ｒ−ＧＲ・・・・に対
してそれぞれ共通に電極ＸＩ　　Ｘ２Ｘ３・・・・か配
列されたＸ電極群（６Ｈ）を設けたので、第６図の場合
と対比して明らかなようにＸ電極群の本数すなわぢ端子
数を第６図の場合の半分に減少させることができる。つ
まり、デルタ配列構成をとるにも拘らず端子数増大の招
来を回避できる。

〔実施例〕

第１図及び第２図を参照して本発明を２次電子増倍型フ
ラットディスプレイ装置に適用する場合の一例を詳細に
説明する。この場合、前述したように第２図に示すよう
に、例えばガラス板よりなる透明基板（１）と、同様に
例えばガラス基板よりなる対向基板（２）とによって平
面型の気密真空容器を構成する。

透明基板（１）の内面には、第１図に不ずように例えば
赤、緑及び青の螢光体画素Ｒ，Ｇ及びＢのトリオがデル
タ配列をもって互いに直交する行方向及び列方向に関し
て配列され、隣り合う２行と隣り合う３列にわたって配
列された構成をとる。

そして、対向基板（２）側に螢光面（３）の複数の画素
に対して共通に例えはカソード（４）が配置される。

また、このカソード（４）と螢光面（３）との間には、
各螢光体画素Ｒ，Ｇ、１３にそれぞれ対応する電子ヒー
人通路りが構成され、２次電子増倍手段（５）とＸ−Ｙ
マトリックス変調手段（６）とが設けられ、更にカソー
ド（４）からの電子ビームを制御する電子ビーム制御機
構（７）が設けられる。また、この電子ビーム制御機構
（７）のカソード（４）側には第１の低電圧シールド電
極（８）が配置される。

電子ビーム制御機構（７）は、螢光面（３）の各画素Ｒ
１Ｇ、Ｂに対応して電子ビーム通路りを構成する透孔が
穿設された絶縁Ｊｉｉ　ｆ９１を介して同様の例えば透
孔が穿設された金属板よりなる高電圧シールド電極（１
０）が螢光面（３）に対向して設けられ、さらに同様の
透孔が穿設された絶縁Ｎ（１１）を介して２次電子増倍
手段（５）が設けられる。この２次電子増倍手段（５）
は、例えばそれぞれ透孔が穿設された板状の第１及び第
２の２次電子増倍電極（５１）及び（５２）が、絶縁用
ビーズ（１２）を介して互いに絶縁して重ね合わせられ
てなる。

そして、さらにこの２次電子増倍手段（５）のカッ−Ｉ
”（４１側に例えば絶縁用ビーズ（１２）を介して同様
の例えば透孔が穿設された第２の低電圧シールド電極（
１３）が配置される。また、この第２の低電圧シールド
電極（１３）のカソード（４）側にＸ−Ｙマトリックス
変調手段（６）が例えばガラスフリット等の絶縁性接着
体（１４）によって電気的に絶縁して機械的に取着され
る。

ｘ−Ｙマトリックス変ｉｌ＆１手段（６）は、Ｘ電極群
（６Ｈ）とＹ電極群（６ｖ）とが、例えば、電子ビーム
透過孔が穿設されたシート状絶縁体（１５）を挟んでそ
の両面にフリット付けされて成る。Ｙ電極群（６シ）は
、第１図で説明したように、各画素が配列された各列に
関して設けられた帯状の電極Ｙｌ　。

Ｙ２．Ｙ：ｌ・・・・が直線的に平行配列されて形成さ
れる。Ｘ電極群（６Ｈ）は、同様に第１図で説明したよ
うに、画素の配列の隣り合う２列を組としてこれら２列
にわたって例えば波形帯状に平行配列されて形成される
。各電極Ｘ１．Ｘ２．Ｘ：Ｉ・・・・Ｙｌ　、Ｙ２　、
Ｙ３・・・・は、それぞれ少くともその各画素Ｒ，Ｇ、
Ｈに対向する電子ビーム通路部が例えばメソシヱ状に構
成される。また、これら、Ｙ電極群（６ｖ）及びＸ電極
群（６Ｈ）は、それぞれ金属板をフォトエツチングによ
ってパターン化して、それぞれ絶縁体（１５）の両面に
フリット付けすることもできるし、それぞれ例えばフォ
トエ・７ヂングが可能なフォトセラム（コーニング社製
商品名）等の感光性絶縁シート上に金１ｍ層がメタライ
ズされたシートを用意し、その金属層を帯状にフォトエ
ツチング等によってパターニングし、フォトセラムシー
トをバターニングして構成することもできる。

そして、このＸ−Ｙマトリックス変調手段（６）のカソ
ード側の電極例えばＹ電極群（６ｖ）のカソード側に、
同様のガラスフリット等の絶縁性接着体（１４）によっ
て電子ビーム通路りを形成する電子ヒーム透過孔ｈ　ｓ
が穿設された第１の低電圧シールド電極（８）が電気的
に絶縁して機械的に取着配置される。

カッ−に（４ンは、例えばスパイラルヒータにカソード
剤が吹き付は塗布あるいは電着等によって被着されたラ
イン状カソードによって構成され、基板（２）上に一方
向にすなわち第２図におい−ご紙面と直交する方向に配
置される。

また、各カソード（４）を覆ってそれぞれ第１グリツド
電極（１６）が配置される。この第１グリツド電極（１
６）は、カソード（４）の延長方向に軸心方向を有する
半円筒状の電極板にその軸心方向と直交する方向にスリ
ットが配列された構成をとり得る。

また、基板（２）上には各カソード（４）間に配された
ガラス壁（１７）によって挟み込まれた平行格子状或い
は井桁状の金属板よりなる隔壁体（１８）が設けられる
。この場合、ガラス壁（１７）の表面にはカーボン塗膜
等の導電塗膜等よりなる側面電極（１９）が被着形成さ
れる。

そして、ここに第１の低電圧シールド電極（８）と隔壁
体く１８）との位置関係は、この隔壁体く１８）によっ
てカソード（４）からの−次電子が各電子ヒーム通路に
入射することが阻害されることがないように正確に設定
される必要があり、これがため第３図に示すように、第
１の低電圧シールド電極（８）の例えば行方向の両端に
それぞれ隔壁体（１８）の上端を挟持する対の位置決め
片（３０）がスポットウェルド等によって予め所定位置
に取着しておく。

この位置決め片（３０）は、例えば第４図に示すように
、Ｌ字状に折り曲げられた金属片よりなり、その−折り
曲げ端（３０Ａ）に上述した隔壁体（１８）の上端面を
挿入するスリット（３１）が設けられ、他方の折曲げ端
（３０Ｂ）に低電圧シールド電極（８）の所定位置に穿
設された位置規制透孔（３２）と−致する透孔（３３）
が穿設されて成る。そして各位置決め片（３０）を、そ
の折り曲げ端（３０Ｂ　）を低電圧シールド電極（８）
のカソード例の面に衝合させ、かつ透孔（３２）　　（
３３）を一致させることにより所定位置に設定し、スポ
ットウェルドによって各位置決め片（３０）をシールド
電極（８）の所定位置にとりつけるようになされ、この
位置決め片（３０）のスリット（３１）に隔壁体（１８
）の上端を挿入することによって隔壁体（１８）の位置
決めを行うようになされる。

尚、２次電子増倍手段（５）の各電極板（５１）及び（
５２）と、高電圧シールド電極（１０）の各透孔内には
、それぞれ２次電子放出比δが高いＭｇＯ等の物質層が
塗着される。

この構成においてカソード（４）に例えば８０ｍＡの通
電がなされ例えばこのカソード電位を基準（０■）とし
て第１グリツド電極（１６）に１０ｖ、側面電極（１９
）に７Ｖ、隔壁体（１８）及び第１の低電圧シールド電
極（８）に例えば５０Ｖが印加され、Ｘ電極群（６ｖ）
にはピーク・トウー・ピーク電圧５０Ｖ　ｐｐが印加さ
れ、またＹ電極群（６ｈ）には同様にピーク・トウー・
ピーク電圧５０Ｖ　ｐｐが印加され、第２の低電圧シー
ルド電極（１３）には５０Ｖが印加される。

また、２次電子増倍手段（５ンの容箱１及び第２の電極
板（５１）（５２）には順次異なる電圧が印加される。

例えば第１の電極（５１）には１００〜３５０Ｖの固定
電圧、第２の電極（５２）には第１の電極（５１）より
高い３５０〜６００　Ｖの固定電圧が印加される。高電
圧シールド電極（１０）には１．５に■が印加され、螢
光面（３）には５〜１０ｋ　Ｖが印加される。この場合
、Ｙ電極群（６ｈ）の各電極ＹＬＩＹ２．Ｙ３・・・・
には順次例えばＩＯＶの電圧を切り換え印加し、Ｘ電極
群（６ｖ）の各電極Ｘ１．Ｘ２　。

Ｘつ・・・・にデイスプレィ情報に応じた信号電圧を印
加する。このようにしてカソード（４）から放出された
１次電子が第１グリソト電極（１６）によって加速され
て、この電極（１６）を通過した電子が第１の低電圧シ
ールド電極（８）、隔壁体（１８）　、側面電極（１９
）によって形成された電界によって電子ビーム制御機構
（７）のこれら隔壁体（１８）及び側面電極（１９）に
よって囲まれた全域にわたってその電子ビーム通路りに
１次電子が向うようになされる。このようにして電子ヒ
ーム通路りに入り込んだ１次電子は、２次電子増倍手段
（５）の各電極板（５ユ）及び（５２）によって順次２
次電子増倍され、螢光面（３）の各画素Ｒ，Ｇ、Ｂへと
向う。このときＸ及びＹ電極群（６シ）及び（６ｈ）に
与えられた切り換え電圧及び情報電圧によってライン順
次的に各画素に対する電子ビームの切り換えかつ変調さ
れて螢光体画素Ｒ，Ｇ、Ｈの発光変調がなされて光学的
表示すなわちデイスプレィがなされる。

〔発明の効果〕

ト述したように本発明によれば、各螢光体画素トリオＲ
，Ｇ、Ｂがデルタ配列された構成をとることによって、
均質−様な画質を得ることができるとともに、Ｘ電極群
（６Ｈ）については、隣り合う２列に関して順次隣り合
う行方向のトリオに対して共通に電極Ｘｔ　＋　Ｘ２　
＋　Ｘ３・・・・を設けるのでＸ電極群の本数の減少化
をはかることができ、これによって構成の簡略化がはか
られ、またこれによる電極パターンの単純化によって各
画素の面積例えば半径の増大化をはかることができ、こ
れによって明るい画像の映出を行うことができるという
効果を奏することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるデイスプレィ装置の一例の螢光体
画素とＸ−Ｙマトリックス変調手段の各電極群の配置パ
ターンを示ず路線的平面図、第２図は本発明によるデイ
スプレィ装置の一例の路線的断面図、第３図は本発明装
置の要部の路線的拡大断面図、第４図は位置決め片の一
例の斜視図、第５図及び第６図はそれぞれ本発明と対比
されるフラ・７トデイスプレイ装置における螢光面の画
素配置とＸ−Ｙマｌ−ＩＪフクス変調手段の電極群の配
置パターンを示す路線的平面図である。 （３）は螢光面、Ｒ，Ｇ、Ｂはその螢光体画素、（４）
はカソード、（７）は電子ビーム制御機構、（８）は低
電圧シールド電極、（６）はＸ−Ｙマトリックス変調手
段、（３０）は位置決め片である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 螢光体画素が配列された螢光面と、 この螢光面に対向して、複数の上記螢光体画素に対して
   共通に配されたカソードと、 上記螢光面と上記カソードとの間に配されたＸ−Ｙマト
   リックス変調手段とを具備してなり、上記螢光面は、隣
   り合う２行と隣り合う３列にわたってデルタ配列されて
   なる各色の螢光体画素トリオを有して成り、 上記Ｘ−Ｙマトリックス変調手段は、上記各行上の各螢
   光体画素についてそれぞれ独立に設けられたＹ電極群と
   、順次隣り合う行上の隣り合う上記２列上の上記螢光体
   画素について共通に設けられたＸ電極群とを有してなる
   ことを特徴とするフラットディスプレイ装置。