JPH0264929A - Information recording medium - Google Patents

Information recording medium

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Publication number
JPH0264929A
JPH0264929A JP63214851A JP21485188A JPH0264929A JP H0264929 A JPH0264929 A JP H0264929A JP 63214851 A JP63214851 A JP 63214851A JP 21485188 A JP21485188 A JP 21485188A JP H0264929 A JPH0264929 A JP H0264929A
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JP
Japan
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atomic
film
recording
recording medium
information recording
Prior art date
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Application number
JP63214851A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0264929A publication Critical patent/JPH0264929A/en
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Abstract

PURPOSE:To increase the rate of crystallization, to increase the quantity of the signals to be detected even during high-speed rotation and to improve an erasing characteristic by using a quaternary alloy film to form a recording film which is reversibly changed in phase between 1st and 2nd atomic configurations according to different irradiation conditions of light beams. CONSTITUTION:The recording film formed of the quaternary alloy film which is reversibly changed in phase between the 1st and 2nd atomic configurations according to the different irradiation conditions of the light beams and is expressed by formula I. The component ratios of this compsn. are specified to 48<=x<=52atomic%, 0<y<=10atomic%, 0<z<=10atomic%. The information recording medium of the phase transition type which is large in the recording signal even during the high-speed rotation of the information recording medium, is high in erasing speed and has the excellent recording and erasing characteristics is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、情報の記録及び消去が可能な情報記録媒体に
関する。
Detailed Description of the Invention [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to an information recording medium on which information can be recorded and erased.

(従来の技術) 近年、高密度に情報の記録が可能な情報記録媒体として
光ディスクが注目を浴びている。光ディスクはCD  
(Coll1pact Dlse )に代表される再生
専用型、電子式文書ファイル等、に使用されているいわ
ゆるWrite 0nce型及び情報の記録及び消去が
可能なイレーザブル型に分類される。現在、再生専用型
光ディスクとvrite 0nce型光デイスクが既に
実用化され、広く利用されている。また、イレーザブル
型光ディスクは、静止画や動画のファイルやコンピュー
タのバックアップメモリ等の用途に適していることから
、最近その開発が盛んになっている。
(Prior Art) In recent years, optical discs have attracted attention as information recording media that can record information at high density. Optical disc is CD
(Coll1pact Dlse), a so-called write once type used in electronic document files, and an erasable type that can record and erase information. At present, read-only optical discs and VRITE 0nce type optical discs have already been put into practical use and are widely used. Further, erasable optical discs are suitable for uses such as still image and moving image files and computer backup memory, so their development has recently become active.

このイレーザブル型光ディスクはさらに大別すると光磁
気型と相変化型がある。光磁気型光ディスクは、レーザ
ービームの照射による加熱と磁場の印加により、垂直磁
化膜の一部のスピンを反転することによって情報を記録
し、また、レーザビームを照射することによって、この
再生光の磁気力効果を用いて、反転されたスピンの部分
を読み取ることにより記録された情報が再生される。
Erasable optical disks can be further broadly divided into magneto-optical types and phase change types. Magneto-optical optical disks record information by reversing the spin of a part of the perpendicularly magnetized film by heating with laser beam irradiation and applying a magnetic field. Using magnetic force effects, the recorded information is reproduced by reading the portion of the reversed spins.

これに対して、相変化型光ディスクは、レーザービーム
の照射条件により記録膜の一部を非晶質化または結晶化
を行ない、対応する反射率の変化によりそれぞれ情報の
記録及び消去部として読み出す。
On the other hand, in a phase-change optical disk, a portion of the recording film is made amorphous or crystallized depending on the laser beam irradiation conditions, and the information is read out as information recording and erasing sections based on a corresponding change in reflectance.

相変化型光ディスクは、光磁気型光ディスクと比べて磁
場を必要とせず、レーザービームの照射条件のみで選択
的に情報の記録、消去ができる。
Compared to magneto-optical optical discs, phase-change optical discs do not require a magnetic field and can selectively record and erase information using only laser beam irradiation conditions.

また、磁気カー効果を利用した光磁気型ディスクは、再
生信号が小さいことに比べ、相変化型光ディスクでは大
きな信号再生できる。そのため、相変化型光ディスクは
、次世代のイレーザブル光ディスクとして注目を浴びて
きた。
Further, a magneto-optical disk that uses the magnetic Kerr effect has a small reproduction signal, whereas a phase change optical disk can reproduce a large signal. Therefore, phase change optical disks have attracted attention as next-generation erasable optical disks.

従来、結晶と非晶質との間の可逆的変化を行なわせる相
変化型光ディスクの記録膜としては、Te、Ge、Te
Ge、I nSe、5bTe。
Conventionally, recording films for phase-change optical discs that can reversibly change between crystalline and amorphous state have been made of Te, Ge, and Te.
Ge, InSe, 5bTe.

5bSe等の半導体や半導体化合物が知られている。し
かしながら、Teは常温で結晶であ6ることから、Te
からなる記録膜は、非晶質の記録部分はすぐに結晶状態
に戻ってしまうという欠点がある。また、GeやTeG
eは溶融温度が高いため、レーザービームの照射により
容易に非晶質の記録マークを形成できないといった欠点
がある。さらに、GeやGeの化合物からなる記録膜で
は、サビやすいという欠点がある。
Semiconductors and semiconductor compounds such as 5bSe are known. However, since Te is crystalline at room temperature, Te
A recording film made of the above has the disadvantage that the amorphous recording portion quickly returns to the crystalline state. Also, Ge and TeG
Since e has a high melting temperature, it has the disadvantage that amorphous recording marks cannot be easily formed by laser beam irradiation. Furthermore, recording films made of Ge or Ge compounds have the disadvantage of being susceptible to rust.

さらに、相変化型光ディスクの記録膜の組成として、I
nSe、5bTe、5bSeなどが発表されているが、
これらの記録膜は、上記のような欠点はないが、一般に
結晶化の速度(消去の速度)があまり速くないといった
欠点がある。イレーザブル光ディスクはハードディスク
等の磁気ディスクとの対比からデータの高速転送とオー
バーライド特性を要求されるでいる。そのため、高速消
去(高速結晶化)を必要とするが、上記のような2元素
材料では、この高速結晶化は達成できないため、上記の
材料に第3元、4元目の添加物を加えて結晶化速度を早
める開発が盛んに行われている。
Furthermore, as the composition of the recording film of the phase change optical disk, I
Although nSe, 5bTe, 5bSe, etc. have been announced,
Although these recording films do not have the above-mentioned drawbacks, they generally have the drawback that the crystallization speed (erasing speed) is not very fast. Erasable optical disks are required to have high-speed data transfer and override characteristics in comparison with magnetic disks such as hard disks. Therefore, high-speed erasure (high-speed crystallization) is required, but this high-speed crystallization cannot be achieved with the two-element materials described above, so tertiary and quaternary additives are added to the above materials. Developments to speed up the crystallization rate are actively underway.

本発明者らの検討によれば、上記の材料以外で比較的高
速結晶化が可能な材料としてはIn5bTeがある。I
nSb合金は、結晶とこの結晶とは異なる別の結晶との
間で可逆的に相変化を行なうものであるが、結晶化速度
の最も速いIn、。
According to studies by the present inventors, In5bTe is a material that can be crystallized at a relatively high speed other than the above-mentioned materials. I
The nSb alloy undergoes a reversible phase change between a crystal and another crystal different from this crystal, and In has the fastest crystallization rate.

Sb5゜の金属化合物組成では、情報の消去が記録がで
きない。また、In、Sb+oo−t  (x<50)
の組成の記録膜では、情報の記録、消去は可能であるが
、sbの偏析のために結晶化速度が遅くなるという欠点
がある。
With a metal compound composition of Sb5°, information cannot be erased or recorded. Also, In, Sb+oo-t (x<50)
Although it is possible to record and erase information with a recording film having the composition, it has the disadvantage that the crystallization rate is slow due to the segregation of sb.

本発明者らの検討によれば、この金属間化合物組成であ
るIn5゜5bso近辺のInSbに少量のTeを添加
したIn5bTe合金では、金属間化合物組成の高速結
晶化の特性を損なうことなく、また、Teの非晶質によ
り記録信号を増大できるため、良好な情報の記録、消去
特性を示すことが確認されている。
According to the studies of the present inventors, an In5bTe alloy in which a small amount of Te is added to InSb with an intermetallic compound composition near In5°5bso can be used without impairing the high-speed crystallization characteristics of the intermetallic compound composition. , it has been confirmed that since the recording signal can be increased due to the amorphous state of Te, it exhibits good information recording and erasing characteristics.

しかしながら、このようなI n5bTe合金にも次の
ような欠点があった。すなわち、Teの添加量が5at
%を越えると、1nsoSbsoの金属間化合物組成の
高速結晶化の特性が損なわれ、5bTeやI nTe等
の結晶化加速度の遅い結晶相が表われるために、全体と
して結晶化速度が遅くなる。
However, such In5bTe alloy also has the following drawbacks. That is, the amount of Te added is 5at
%, the high-speed crystallization property of the intermetallic compound composition of 1nsoSbso is impaired, and crystal phases with slow crystallization acceleration, such as 5bTe and InTe, appear, resulting in a slow crystallization rate as a whole.

一方、Teの添加量が5at%以内であれば、基本的に
は情報の記録、消去は可能であるが、信号量(反射率変
化量)としては小さく、特に高密度化、高速データ転送
速度化に伴ったディスクの高速回転時には感度不足とな
り、さらに信号量が低下してしまうという欠点があった
On the other hand, if the amount of Te added is within 5 at%, it is basically possible to record and erase information, but the signal amount (change in reflectance) is small, especially for high density and high data transfer speeds. However, when the disk rotates at a high speed, the sensitivity becomes insufficient, and the signal amount further decreases.

(発明が解決しようとする課題) 従来の相変化型光ディスクにおいては、結晶化速度が遅
く、また、高密度化、高速データ転送速度化に伴ったデ
ィスクの高速回転時には感度不足となり、さらに信号量
が低下してしまうという問題点があった 本発明は、上記問題点を解消するために、結晶化速度が
速く、かつ高速回転時においても、検出される信号量が
増大し、消去特性も向上することができる情報記録媒体
を提供することを目的とするものである。
(Problems to be Solved by the Invention) Conventional phase-change optical disks have a slow crystallization speed, and also lack sensitivity when disks rotate at high speeds due to increased density and data transfer speeds, and the signal amount also increases. In order to solve the above-mentioned problem, the present invention has a high crystallization speed, increases the amount of detected signals even during high-speed rotation, and improves the erasing characteristics. The purpose is to provide an information recording medium that can perform

[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は上記目的を達成するために、第1の発明におい
ては、光ビームの異なる照射条件により第1の原子配列
と第2の原子配列との間で可逆的に相変化する記録膜が
、一般式 %式% 48≦X≦52原子%、0くy≦10原子%。
[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention provides a first atomic arrangement and a second atomic arrangement under different irradiation conditions of a light beam. A recording film whose phase changes reversibly between the general formula % 48≦X≦52 atomic %, 0y≦10 atomic %.

0<Z≦10原子% から成る4元合金膜からなることを特徴とするものであ
る。
It is characterized by being made of a quaternary alloy film of 0<Z≦10 atomic %.

また、第2の発明においては、光ビームの異なる照射条
件により第1の原子列と第2の原子配列との間で可逆的
に相変化する記録膜が、一般式%式% 0くa≦10原子%、0くb≦5原子%から成る4元合
金膜からなることを特徴とするものである。
Further, in the second invention, the recording film whose phase changes reversibly between the first atomic array and the second atomic array under different irradiation conditions of the light beam is formed by the general formula % 0a≦ It is characterized by being made of a quaternary alloy film consisting of 10 atomic % and 0b≦5 atomic %.

(作用) 本発明の情報記録媒体においては、Ins。(effect) In the information recording medium of the present invention, Ins.

5b50の近傍の性のInSb合金にTe及びGeを添
加したIn5bTeGe合金を用いているため、情報記
録媒体の高速回転時であっても記録信号が大きく、かつ
消去の速度が速い、記録、消去特性の優れた相変化型の
情報記録媒体を提供できる。
Since the In5bTeGe alloy is used, which is an In5bTeGe alloy in which Te and Ge are added to the InSb alloy with a property near 5b50, the recording and erasing characteristics are such that the recording signal is large and the erasing speed is fast even when the information recording medium rotates at high speed. It is possible to provide an excellent phase change type information recording medium.

本発明者の鋭敏なる検討の結果、In5oSb5゜の近
傍組成のInSbにTe及びGeを添加したIn5bT
eGe合金からなる記録膜では、光ビームのある照射条
件による情報の記録に対して、Teの非晶質化により信
号は増大する。また、光ビームの別の照射条件による情
報の消去に対しては、結晶化しゃすいGeの添加効果に
より速やかに結晶化が生ずることを発見した。
As a result of the inventor's keen studies, In5bT is obtained by adding Te and Ge to InSb with a composition near In5oSb5°.
In a recording film made of an eGe alloy, when information is recorded under certain light beam irradiation conditions, the signal increases due to the amorphization of Te. Furthermore, it has been discovered that when information is erased under different irradiation conditions with a light beam, crystallization occurs quickly due to the effect of adding Ge, which is less likely to crystallize.

(実施例) 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明による情報記録媒体は、第2図に示すように、基
板20、第1の保護膜21、記録膜22、第2の保護膜
23及びUV硬化膜24がこの順で積層された構成とな
っている。
As shown in FIG. 2, the information recording medium according to the present invention has a structure in which a substrate 20, a first protective film 21, a recording film 22, a second protective film 23, and a UV cured film 24 are laminated in this order. It has become.

基板20は、ガラス、プラスチックまたはポリカーボネ
イトで形成されているものである。第1、第2の保護膜
21.23は、例えば5i02からなるものであり、記
録膜22へのレーザー照射時に、記録膜22が溶融し穴
を形成するのを防止するものである。また、UV硬化膜
24は取扱上で生ずる傷を防止しているものである。ま
た、記録膜22は、一般式 %式%( し、48≦X≦52原子%、0くy≦10原子%。
The substrate 20 is made of glass, plastic, or polycarbonate. The first and second protective films 21 and 23 are made of 5i02, for example, and prevent the recording film 22 from melting and forming holes when the recording film 22 is irradiated with a laser. Furthermore, the UV cured film 24 prevents scratches that may occur during handling. The recording film 22 has the following general formula: % (48≦X≦52 atomic %, 0≦y≦10 atomic %).

0<z≦10原子%)から成る4元合金膜、または、一
般式 %式%( し、0<a≦10原子%、0くb≦3原子%)からなる
4元合金膜からなるものである。この記録膜22は、光
ビームの異なる照射条件により第1の原子配列と第2の
原子配列との間で可逆的に相変化するものである。
0<z≦10 atomic%) or a quaternary alloy film consisting of the general formula % (0<a≦10 atomic%, 0b≦3 atomic%) It is. This recording film 22 undergoes a reversible phase change between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement under different irradiation conditions of the light beam.

以下、上記情報記録媒体の具体的実施例につき、詳細に
説明するものとする。
Hereinafter, specific examples of the above information recording medium will be described in detail.

(実施例−1) 第1図に示すスパッタ装置を用いて、第2図に示す情報
記録媒体を形成した。
(Example 1) Using the sputtering apparatus shown in FIG. 1, an information recording medium shown in FIG. 2 was formed.

このスパッタ装置1は、回転基台2、バルブ4゜5、タ
ーゲット6−A、7−A、8−A、9−A。
This sputtering apparatus 1 includes a rotating base 2, a valve 4.5, and targets 6-A, 7-A, 8-A, and 9-A.

電極6−B、7−8.8−B、9−B、電源6−C,7
−C,8−C,9−C,シャッター6−D。
Electrode 6-B, 7-8.8-B, 9-B, power supply 6-C, 7
-C, 8-C, 9-C, shutter 6-D.

7−D、8−D、9−Dから構成されている。It is composed of 7-D, 8-D, and 9-D.

まず、回転基台2の上にポリカーボネート製の円盤状の
ディスク基板20をセットし、バルブ4を開にしてスパ
ッタ装置1を図示しないクライオポンプにより10−6
 torrの真空まで引いた。
First, a polycarbonate disk-shaped disk substrate 20 is set on a rotating base 2, a valve 4 is opened, and a cryopump (not shown) is used to move a sputtering apparatus 1 to a 10-6
The vacuum was pulled down to torr.

この状態で、バルブ5を開にしてA「ガスの流量で20
3CCM導入しながら、バルブ4の開閉を調整して装置
1内のArガス圧が5 m torrに設定した。
In this state, open valve 5 and set the gas flow rate to 20.
While introducing 3 CCM, the opening and closing of the valve 4 was adjusted to set the Ar gas pressure in the apparatus 1 to 5 m torr.

次に、13.56MHzのラジオフリークエンシー(以
後R,F、 と称す)!R6−CをONにし、電極6−
Bに約IKWのR,F、パワーを投入し、5in2ター
ゲット6−AにArガスによるスパッタリングを開始し
た。約2分間のプリスパッタを行なった後、シャッタ6
−Dを開にし、ディスク基板20上に5in2膜を成膜
した後、シャッタ6−Dを閉にし、R,F、電源6−C
をOFFにして5tO2膜の成膜を終了した。
Next, the radio frequency of 13.56MHz (hereinafter referred to as R,F)! Turn on R6-C and connect electrode 6-
R, F and power of about IKW were applied to B, and sputtering using Ar gas was started on the 5in2 target 6-A. After pre-sputtering for about 2 minutes, shutter 6
-D is opened, and after forming a 5in2 film on the disk substrate 20, the shutter 6-D is closed, R, F, and the power supply 6-C are opened.
was turned off to complete the formation of the 5tO2 film.

次いでR,F、電源7−C,8−C,9−CをONにし
て、電極7−B、8−B、9−Bにそれぞれ200W、
20W、20W、のR,F、パワーを投入し、それぞれ
In4sSb、2合金ターゲット7−A、Teターゲッ
ト8−A、Geターゲット9−AをArガスによりスパ
ッタリングを開始した。尚、8−B、9−Bの電極及び
8−O9−Dシャッタは第1図の図面上では見えないた
め図示されていない。
Next, turn on R, F, and power supplies 7-C, 8-C, and 9-C, and apply 200 W to electrodes 7-B, 8-B, and 9-B, respectively.
R and F powers of 20 W and 20 W were applied, respectively, and sputtering of In4sSb, 2-alloy target 7-A, Te target 8-A, and Ge target 9-A using Ar gas was started. Note that the electrodes 8-B and 9-B and the shutter 8-O9-D are not shown because they are not visible in the drawing of FIG.

約2分間のブリスパッタの後、シャッタ7−O8−D、
9−Dを同時に開にしくIn4g5bs2)、。Tes
 Ge5の組成の薄膜を5in2膜上に成膜し始めた。
After about 2 minutes of bliss sputtering, shutter 7-O8-D,
In4g5bs2), which simultaneously opens 9-D. Tes
A thin film having a composition of Ge5 was started to be formed on the 5in2 film.

約1分30秒の成膜でこの記録膜を約1000オングス
トローム成膜した後、シャッタ7−D、8−D、9−D
を閉にし、同時にR8Fパワー電源7−C,8−C,9
−CをOFFして成膜を終了した。
After forming this recording film to a thickness of about 1000 angstroms in about 1 minute and 30 seconds, the shutters 7-D, 8-D, and 9-D
close, and at the same time R8F power supply 7-C, 8-C, 9
-C was turned off to complete the film formation.

その後再度R,F、電源6−CをONにし、前と同じ行
程で5in2膜を1000オングストロームの厚さでオ
ーバーコートした。
Thereafter, R, F, and power source 6-C were turned on again, and a 5in2 film was overcoated to a thickness of 1000 angstroms in the same process as before.

ディスク基板20上に5iOz(1000オングストロ
ーム) / (I n4ssbs2) eoTes S
es  (1000オングストローム)/SiO2(1
000オングストローム)の構成で成膜したこのサンプ
ルは、スパッタ装置1を大気でリークした後、図示しな
いスピンコータによりUV硬化型の樹脂を塗布し、UV
照射装置によってUV光を照射してこれを硬化した。
5iOz (1000 angstroms) / (I n4ssbs2) eoTes S on the disk substrate 20
es (1000 angstroms)/SiO2(1
This sample, which was formed into a film with a thickness of 0.000 angstroms, was made by leaking the sputtering device 1 to the atmosphere, applying a UV-curable resin using a spin coater (not shown), and applying UV-curable resin.
This was cured by irradiating it with UV light using an irradiation device.

このようにして作成したサンプルの構成が、第2図に示
すような情報記録媒体である。すなわち、このサンプル
では、円盤状のポリカーボネート製基板20上にSiO
2膜21が1000オングストローム、(I nnas
bs□) 、oTe5 Ses記録膜22が1000オ
ングストローム、SiO□膜が1000オングストロー
ムざらにUV硬化膜約5umが、この順で積層された構
成となっている。
The configuration of the sample created in this way is an information recording medium as shown in FIG. That is, in this sample, SiO is placed on a disc-shaped polycarbonate substrate 20.
2 film 21 has a thickness of 1000 angstroms, (I nnas
bs□), an oTe5 Ses recording film 22 of 1000 angstroms, a SiO□ film of 1000 angstroms, and a UV cured film of about 5 um are laminated in this order.

次に、上記の作製条件と全く同、様の作製条件にて、記
録膜のみTeとGeの量を変化させてサンプルを作製し
た。これらのサンプルにおける記録膜の組成は次の通り
である。
Next, samples were fabricated under exactly the same fabrication conditions as those described above, with only the recording film varying the amounts of Te and Ge. The compositions of the recording films in these samples are as follows.

■(I n4ss b52) 95T eq 。■(In4ss b52) 95T eq.

■’(In4aSb、2)asTe+oGe5 。■’(In4aSb, 2)asTe+oGe5.

■(I n asS b 52) 80T e +oG
 e 1G。
■(I n asS b 52) 80T e +oG
e1G.

■C1n4aSb、2)esTe、Ge2゜■(In4
aSbs2) qoTes Ges 1■(I n a
ss b 52) 90T e t。
■C1n4aSb, 2)esTe, Ge2゜■(In4
aSbs2) qoTes Ges 1■(I n a
ss b 52) 90T et.

このようにして作製したサンプルを勤評価装置にかけて
評価した。
The samples thus prepared were evaluated using a performance evaluation device.

回転数2000 r pmで、半径約55mmの位置に
て、次に示す処理を行い、各サンプルを評価した。
Each sample was evaluated by performing the following treatment at a rotation speed of 2000 rpm and at a position with a radius of about 55 mm.

(1)初期結晶化 成膜直後の記録膜は非晶質であるから、10mw連続発
光の光ビームにより1トラック分結晶化させる。この時
、結晶化が完了するまでの間、同じトラックを何回でも
レーザー照射する。
(1) Initial Crystallization Since the recording film immediately after film formation is amorphous, it is crystallized for one track by a continuous light beam of 10 mW. At this time, the same track is irradiated with the laser any number of times until crystallization is completed.

(2)記録 レーザパワー15mw、周波数3 M Hz 、デユー
ティ50%のパルスレーザ光にて、上記結晶化した記録
膜のトラック上に非晶質状態の記録ピットを形成する。
(2) Recording pits in an amorphous state are formed on the tracks of the crystallized recording film using a pulsed laser beam having a recording laser power of 15 mw, a frequency of 3 MHz, and a duty of 50%.

(3)消去 初期化と同じ10mwの連続発光の光ビームを1トラッ
ク分を1回転照射し、上記非晶質ビットを結晶に戻して
消去する。(2)と(3)の工程の後で、0.8mwの
連続発光のレーザー光にて再生して、非晶質状態の記録
ピットからの再生信号の大きさ及び消去後の消去残り信
号の大きさをオシロスコープ上で測定した。この測定結
果を第3図に示す。
(3) Erasing A continuous light beam of 10 mW, which is the same as that used in the initialization, is irradiated once for one track to return the amorphous bits to crystals and erase them. After the steps (2) and (3), reproduction is performed using a continuous laser beam of 0.8 mw, and the magnitude of the reproduced signal from the amorphous recording pit and the remaining erased signal after erasing are measured. The size was measured on an oscilloscope. The measurement results are shown in FIG.

第3図(a)は、In4sSb、2の金属間化合物組成
の近傍組成のI nSbにTe添加量を5at%で固定
した時のGe添加量に対する記録ビットからの再生信号
の大きさと消去後の消し残り信号の大きさを示している
Figure 3(a) shows the magnitude of the reproduced signal from the recorded bit and the magnitude of the reproduction signal after erasure with respect to the amount of Ge added when the amount of Te added is fixed at 5 at% to InSb with an intermetallic compound composition close to that of In4sSb, 2. Indicates the magnitude of the unerased signal.

この4夢1定結果から、Teが5at%のみを添加し、
Geの入っていない場合は消去残り信号が非常に大きい
のに対して、Geの添加量が増えるに従って、消去残り
信号が小さくなり、Geを3at%添加したものでは、
完全に消去ができていることが判明した。
From these 4 dream 1 constant results, Te added only 5 at%,
When Ge is not added, the erased residual signal is very large, but as the amount of Ge added increases, the erased residual signal becomes smaller, and in the case of 3 at% Ge added,
It turned out that it was completely erased.

また記録ビットからの再生信号もGe添加により徐々に
増大していることが判明した。
It was also found that the reproduced signal from the recorded bits gradually increased due to the addition of Ge.

第3図(b)は、Teの添加量を10a t%で固定し
た時のGeの添加量に対する記録信号の大きさと消去残
りを示したものである。この測定結果からもわかる通り
、Teが10at%のみではほとんど信号は消えていな
いが、Geを2at%添加すると完全に消えている。し
かしながら、さらにGeの量を増加させると、逆に消え
残り信号は大きくなっている。
FIG. 3(b) shows the magnitude of the recording signal and the amount of erased data remaining with respect to the amount of Ge added when the amount of Te added is fixed at 10 at%. As can be seen from this measurement result, the signal hardly disappears when only 10 at% of Te is added, but it disappears completely when 2 at% of Ge is added. However, when the amount of Ge is further increased, the remaining signal becomes larger.

これらの実験事実から明らかなように、Teの添加量は
10at%以下、Geの添加量は10at%以下が好適
であることが判明した。
As is clear from these experimental facts, it has been found that the amount of Te added is preferably 10 at% or less, and the amount of Ge added is preferably 10 at% or less.

(実施例−2) (実施例−1)で作製したサンプルと全く同様の層構成
で、I nSbの合金の組成のみをIn5゜5b50及
びIn52Sb4aに替えて、サンプルを作製した。こ
れらのサンプルの各層の厚みは全て(実施例−1)で作
製したサンプルと同様にした。
(Example 2) A sample was prepared with exactly the same layer structure as the sample prepared in Example 1, except that only the composition of the InSb alloy was changed to In5°5b50 and In52Sb4a. The thickness of each layer of these samples was the same as that of the sample prepared in (Example-1).

Te及びGeの添加量も(実施例−1)で作製したサン
プルと全く同じにした。
The amounts of Te and Ge added were also exactly the same as in the sample prepared in (Example-1).

これらのサンプルに対して、(実施例−1)と同じ条件
で動的評価を行なったところ、第3図(a)、(b)に
示す結果と全く同様の結果を得た。
When these samples were subjected to dynamic evaluation under the same conditions as in Example 1, results completely similar to those shown in FIGS. 3(a) and 3(b) were obtained.

(実施例−3) (実施例−2)と同様にして、(実施例−1)で作製し
たサンプルと全く同じ層構成でInSb合金の組成のみ
I n4sS bss、  I ns、S b4sに替
えてTe、Geを添加したサンプルを作製し、(実施例
−1)と同様の動的評価を行なった。
(Example-3) In the same manner as in (Example-2), the layer composition was exactly the same as that of the sample produced in (Example-1), but only the composition of the InSb alloy was replaced with In4sS bss, Ins, and Sb4s. A sample to which Te and Ge were added was prepared, and the same dynamic evaluation as in (Example-1) was performed.

その結果、金属間化合物の組成であるIn5oSb、。As a result, the composition of the intermetallic compound is In5oSb.

から大きく外れているこのような組成のIn5bに対し
ては、TeとGeの添加効果は全く見られなかった。
For In5b having such a composition which deviates greatly from the above, no effect of addition of Te and Ge was observed at all.

以上の結果から、本発明によるIn5bTeGe合金膜
の適性組成は、一般式で (I ns 5bloo−x ) +00−F −Te
、 Gemとしたとき、その含有量は、それぞれ48≦
X≦52at%、0くy≦10at%、0くz≦10a
t%であることが判明した。
From the above results, the appropriate composition of the In5bTeGe alloy film according to the present invention is expressed by the general formula (Ins 5bloo-x) +00-F -Te
, Gem, the content is 48≦, respectively.
X≦52at%, 0kuy≦10at%, 0kuz≦10a
t%.

すなわち、この組成範囲のにIn5bTeGe合金膜に
おいては、InSb金属間化合物組成近傍のInSbに
まずTeを添加することにより記録時のTeの非晶質化
により、検出される信号量を増大させることができるも
のである。また、情報の消去時には、Geの高速結晶化
性のために、合金全体としての消去特性も向上し、情報
記録媒体の高速回転時に良好な特性を示すものである。
That is, in an In5bTeGe alloy film in this composition range, by first adding Te to InSb, which has a composition near the InSb intermetallic compound composition, it is possible to increase the detected signal amount by making Te amorphous during recording. It is possible. Furthermore, when erasing information, the erasing properties of the alloy as a whole are improved due to the high-speed crystallization property of Ge, and it exhibits good properties when the information recording medium is rotated at high speed.

[発明の効果] 以上説明したように本発明の情報記録媒体においては、
結晶化速度が速く、また、高速回転時においても、良好
な記録、消去特性を得ることができるものである。
[Effects of the Invention] As explained above, in the information recording medium of the present invention,
It has a high crystallization speed and can provide good recording and erasing characteristics even during high-speed rotation.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明における情報記録媒体を作製する4元ス
パッタ装置の概略構成図、第2図は本発明における情報
記録媒体の層構成の一実施例を示す断面図、第3図は本
発明の情報記録媒体の記録膜に用いられる金属間化合物
組成近傍の組成のInSbに対してTeとGeを添加し
た時の添加効果を示した測定図である。 20     基板 22     記録膜
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a four-source sputtering apparatus for producing an information recording medium according to the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the layer structure of an information recording medium according to the present invention, and FIG. 3 is a diagram according to the present invention. FIG. 2 is a measurement diagram showing the addition effect when Te and Ge are added to InSb having a composition near the intermetallic compound composition used in the recording film of the information recording medium. 20 Substrate 22 Recording film

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板と、 この基板上に設けられ、光ビームの異なる照射条件によ
り第1の原子配列と第2の原子配列との間で可逆的に相
変化する、一般式 (In_xSb_1_0_0_−_x )_1_0_0
_−_y_−_zTe_yGe_z48≦x≦52原子
%、0<y≦10原子%、0<z≦10原子% で表わされる4元合金膜からなる記録膜と、を具備した
ことを特徴とする情報記録媒体。(2)基板と、 この基板上に設けられ、光ビームの異なる照射条件によ
り第1の原子配列と第2の原子配列との間で可逆的に相
変化する、一般式 (In_4_8Sb_5_2)_1_0_0_−_a_
−_bTe_aGe_b0<a≦10原子%、0<b≦
5原子% で表わされる4元合金膜からなる記録膜と、を具備した
ことを特徴とする情報記録媒体。
(1) A substrate, which is provided on this substrate and has a general formula (In_xSb_1_0_0_-_x )_1_0_0 that reversibly changes phase between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement depending on different irradiation conditions of a light beam.
_-_y_-_zTe_yGe_z48≦x≦52 atomic%, 0<y≦10 atomic%, 0<z≦10 atomic%. Medium. (2) a substrate, which is provided on this substrate and has a general formula (In_4_8Sb_5_2)_1_0_0_-_a_ which reversibly changes phase between a first atomic arrangement and a second atomic arrangement under different irradiation conditions of the light beam;
−_bTe_aGe_b0<a≦10 atomic%, 0<b≦
1. An information recording medium comprising: a recording film made of a quaternary alloy film represented by 5 atomic %.
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