JPH0259802B2

JPH0259802B2 -

Info

Publication number: JPH0259802B2
Application number: JP3998283A
Authority: JP
Inventors: Heiesu Harii; Haabei Kenesu
Original assignee: Colgate Palmolive Co
Current assignee: Colgate Palmolive Co
Priority date: 1982-03-10
Filing date: 1983-03-10
Publication date: 1990-12-13
Also published as: JPS58201709A; ZA831417B

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は歯みがき剤に関する。より詳細には、
本発明は流動学的に平滑な表面の外観をもつ歯み
がき剤に関する。屈折率約1.44〜1.47の特定のケイ酸質みがき剤
を含むみがき剤を含有する歯みがき剤は、歯の表
面を洗浄しかつみがく際に望ましい美粧効果をも
つ。歯みがき剤はフツ化物を供給するよう（齲）
食防止化合物など多種の衛生薬および予防薬とも
相溶性である。さらにこれらは肉眼的に明澄な
（すなわち半透明または透明な）歯みがき剤の調
製にも用いることができる。歯みがき剤は、歯み
がき剤を不透明にするために水の量を増加しおよ
び／または不透明剤を含有させることにより改質
することもできる。これらのケイ酸質みがき剤を含有する歯みがき
剤は、水の量を増した場合（たとえば少くとも約
35重量％）塊が存在するように見えるという点
で、見る者には流動学的に若干変形しているよう
に思われるかも知れない。これは、歯みがき剤が
不透明であつて表面のみしか見えない場合に特に
そうである。製剤を低温条件下に保存した場合
に、塊を生じることは特に問題となる。これらの
塊はきわめて柔軟であり、歯みがき剤をその容器
から押出すのに不都合な影響は与えない。さらに
これらは歯みがき剤をブラシで歯にこすりつけて
口腔内に分散させる際にも感じられない。それに
もかかわらず若干の潜在的顧客は、塊があると実
際には衛生上望ましくかつ有用な歯みがき剤を使
用するのをその外観のため思いとどまる。柔軟な塊が生成する問題は、不透明な歯みがき
剤が少なくとも約35重量％の水、および10〜18個
の炭素原子を含むアルキル基が広く分布したアル
キル硫酸ナトリウムを含有する場合に、特に生じ
る。“水”という語は、歯みがき剤の特定の成分
と会合していない水、たとえばソルビトールを溶
解させるために存在する水を意味する。本発明の利点は、実質的な流動学的欠陥をもた
ない平滑な歯みがき剤が提供されることである。
他の利点は以下の記載を考慮に入れることにより
明らかになるであろう。本発明はそのいくつかの目的に従つて、水少な
くとも約35重量％、ゲル化剤約10重量％以下なら
びに少なくとも主要な部分が少なくとも70％の実
験的SiO₂含量、１〜35ミクロンの範囲の粒径、
実質的に非晶質のＸ線構造および約1.40〜1.47の
屈折率をもつケイ酸質みがき剤であるみがき剤約
10〜50重量％、アルキル基が10〜18個の炭素原子
を含み、アルキル基の約40〜70％がC₁₂であるア
ルキル硫酸ナトリウムを含有する界面活性剤約
0.1〜５重量％、ならびにアルキレン基が１〜10
個の炭素原子を含むアルキレンジアミンテトラメ
チレンホスホン酸の口腔用として許容できる水溶
性塩約0.1〜15重量％を含有する液状ビヒクルを
含む不透明な歯みがき剤に関する。英国特許第1599690号および第1599689号（米国
特許第4264580号および第4301143号に相当する）
においては、みがき剤である炭酸カルシウムおよ
び約C₁₀〜C₁₈のアルキル基が広く分布したアルキ
ル硫酸ナトリウムを含有する歯みがき剤における
低温（たとえば約−７〜７℃）での粒子形成がピ
ロリン酸アルカリ金属塩または陰イオン性ホスフ
エートエステルの使用により減少している。アル
キレンジアミンテトラメチルホスホン酸塩は使用
されていない。実際には英国特許第1344185号か
ら歯みがき剤において炭酸カルシウムをアルキレ
ンジアミンテトラホスホン酸塩と併用しないこと
が好ましいということが知られる。本発明においては、アルミノケイ酸ナトリウム
ないしはアルミナを結合含有するシリカを基礎と
するみがき剤、歯みがき剤の少なくとも約35重量
％の水準の非会合水、ならびに約10〜18個の炭素
原子をもつアルキル基が広く分布したアルキル硫
酸ナトリウムを含む界面活性剤を含有する歯みが
き剤において、特に低温たとえば約−７〜７℃に
おける熟成に際して生成する柔軟な塊を、歯みが
き剤中にC₁〜₁₀アルキレンジアミンテトラホスホ
ン酸アルカリ金属塩を含有させることによつて減
少させうることが見出された。流動学的外観という観点からは、ざらざらして
いるというよりも柔軟な塊の生成の方がなおいつ
そう重大である。歯みがき剤は塊によつて変形し
た場合、外観が貧弱になる。高シリカ含量のみがき剤の割合は歯みがき剤の
５〜50％、好ましくは10〜30％、たとえば15〜25
％の範囲にある。みがき剤の一例は非晶質のアル
ミノケイ酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金
属。塩（すなわちアルミナを結合含有するシリ
カ）であつて、1.40〜1.47たとえば1.44〜1.47の
屈折率をもち、シリカ少なくとも70％、アルミナ
10％以下、一般に約0.1〜10％、水分20％以下、
および酸化ナトリウム10％以下を含有するもので
ある。一般にこれらの材料は１〜35ミクロン、好
ましくは２〜20ミクロン、たとえば２〜４ミクロ
ンの範囲の粒径をもつ。好ましい水分含量は1000
℃で強熱することにより測定して10〜20％であ
り、酸化ナトリウムの一般的含量は0.5〜10％で
ある。一般にみがき剤は0.2ｇ/ml以下、たとえば
0.07〜0.12ｇ/mlの粗い嵩密度をもつ。他の適切
な型のみがき剤は、好ましくは平均粒径20ミクロ
ン以下、１ミクロン以上、表面積少なくとも200
m²／ｇ、好ましくは少なくとも300m²/ｇ、嵩密度
少なくとも0.15ｇ/cm³、好ましくは少なくとも
0.30ｇ/cm³をもつ多孔性の非晶質無水ケイ酸、た
とえば脱水されたシリカヒドロゲル（すなわちキ
セロゲル）、好ましくは周知の普通の密度または
中間的密度の型のものである。この種の非晶質無
水ケイ酸質みがき剤の例は“シロイド63”、“シロ
イド72”および“シロイド74”〔シロイド
（Syloid）は商品名である〕であり、これらにつ
いてはその製造業者であるグレース・デイビソ
ン・ケミカル・カンパニーにより発行された“デ
イビソンのシロイドシリカ類”中に記載されてい
る。モンサント社の“サントセル100”〔サントセ
ル（Santocel）は商品名である〕も適切な歯みが
き剤である。“シロイド72”は平均粒径約４ミク
ロン、表面積約340m²/ｇおよび嵩密度約1.77ｇ/
cm³をもつ。“シロイド63”に関しては対応する数
値は約９ミクロン、約675m²/ｇ、および約0.4ｇ/
cm³である。“サントセル100”の銘柄は表面積約
239m²/ｇ、および嵩密度約0.24ｇ/cm³をもつ。こ
れらの非晶質無水ケイ酸は単独で、または混合物
として用いることができる。ケイ酸質みがき剤が歯みがき剤の少なくとも約
10重量％に達する場合、これは存在する唯一のみ
がき剤となるであろう。所望によりケイ酸質みが
き剤は他のみがき剤またはみがき剤混合物に対し
て主要な量（みがき剤の少なくとも半量）で存在
してもよい。他のみがき剤は歯科用として許容で
きるみがき剤、たとえば焼成アルミナ、α−アル
ミナ・３水化物、リン酸二カルシウム・２水化
物、無水リン酸二カルシウム、不溶性メタリン酸
ナトリウム、炭酸カルシウムなどであつてもよ
く、それらの混合物も含まれる。焼成アルミナが
好ましい。これら他のみがき剤（それらの混合物
を含む）は一般にケイ酸質みがき剤の量を越えな
い約５〜20％の量で存在する。これら他のみがき
剤は歯みがき剤の不透明度を高める。界面活性剤には、10〜18個の炭素原子をもつア
ルキル基が広く分布したアルキル硫酸ナトリウム
が含まれる。ラウリル硫酸ナトリウムが長い間歯みがき用組
成物に用いられてきたが、これは一般にアルキル
基の少なくとも90％（99％にすら及ぶ）がC₁₂で
ある“ナローカツト（narrow cut）”として用い
られている。ケイ酸質みがき剤および“ナローカ
ツト”ラウリル硫酸ナトリウムを含有する練り歯
みがきは、低温で熟成した場合にも塊を生じない
ことが多い。市販の“ナローカツト”ラウリル硫
酸ナトリウムの銘柄にはアルブライト・アンド・
ウイルソン社マーチヨン部門から得られるエムピ
コール（Empicol）0045、ヘンケル・アンド・シ
ー社から得られる。テキサポン（Texapon）
K1296、およびコノコ社から得られるアルフオー
ル（Alfol）12が含まれる。これよりも広いアルキル分布をもつアルキル硫
酸ナトリウムを用いる場合、低温で熟成する際に
塊を生じる問題が認識される。本発明に用いられ
る特定のラウリル硫酸ナトリウムはほぼC₁₀3％；
C₁₂56％；C₁₄21％；C₁₆9％およびC₁₈11％のアル
キル基を含有し、アルブライト・アンド・ウイル
ソン社マーチヨン部門（英国ホワイトヘブン）か
らエムピコール“LZV”として針状で市販され
ている。使用できる他のブロードカツト（幅広い
アルキル基分布をもつ）の銘柄のアルキル硫酸ナ
トリウムはテンシアS.A.社（ベルギー、ライゲ）
からのテンソポール（Tensopol sp ACL7）およ
びヘンケル・アンド・シー社（西ドイツ、デユツ
セルドルフ）のテキサポンZHCである。これら
の銘柄のアルキル硫酸ナトリウムはそれらのアル
キル基分布中に約40〜70％のC₁₂を含む。より詳
細には、それらは一般にほぼC₁₀1〜８％；C₁₂40
〜70％；C₁₄13〜30％；C₁₆5〜16％；およびC₁₈0
〜23％のアルキル基分布をもつ。これらのアルキ
ル基は実質的に直鎖（ノルマル）である。これらのアルキル硫酸ナトリウムは幅広いアル
キル基分布をもつ生成物を得るための当技術術分
野で既知の手段により製造することができる。
“ナローカツト”のラウリル硫酸ナトリウムはよ
り幅広い分布の材料から分留および再結晶によつ
て得られるであろう。より幅広いアルキル基分布をもつアルキル硫酸
ナトリウムのほかに、歯みがき剤には追加の界面
活性剤が含有されていてもよい。この種の薬剤に
は、陰イオン性材料たとえば比較的高級の脂肪酸
モノグリセリド・モノサルフエート（たとえばや
し油脂肪酸モノ・グリセリド・モノサルフエー
ト・ナトリウム）、アルキルアリールスルホネー
ト（たとえばドルデシルベンゼンスルホン酸ナト
リウム）、１，２−ジヒドロキシプロパンサルフ
エートの比較的高級の脂肪酸のエステル（たとえ
ば１，２−ジヒドロキシプロパンスルホ酸のやし
油脂肪酸エステルのナトリウム塩）などが含まれ
る。非イオン性または両性の界面活性剤、たとえば
エチレンオキシド約20モルとのソルビタンモノス
テアレート、エチレンオキシドとプロピレンオキ
シドとの縮合物〔“プルロニツクス（Pluronics）”
の商品名で得られる〕などの非イオン性界面活性
剤、ならびにたとえば４級化イミダゾール誘導体
〔“ミラノール（Miranol）”の商品名で得られる
もの、たとえばミラノールC2M〕などの両性界
面活性剤が存在していてもよい。界面活性剤の総
量は口腔用組成物の約５重量％を越えないことが
好ましい。歯みがき剤の総界面活性剤含量は一般
に0.1〜５重量％である。幅広いアルキル基分布
をもつアルキル硫酸ナトリウム約１〜２重量％が
存在することが好ましい。特に低温（たとえば約−７〜７℃）における熟
成に際して塊の生成を低下させる添加物は、１〜
10個の炭素原子を含有するアルキレン類の口腔用
として許容できる水溶性塩である。この種の塩は
次式の構造をもつ。式中ｎは１〜10の数値であり、Ｘは水素原子、
または口腔用として許容できる陽イオン、たとえ
ばアルカリ金属（たとえばナトリウムおよびカリ
ウム）、アンモニウム、C₁−C₁₈モノー、ジー、お
よびトリ置換アンモニウム（たとえばモノー、ジ
ー、およびトリエタノールアンモニウム塩）であ
り、ただし基“Ｘ”のうち７個まで、好ましくは
３〜５個は水素原子であつてもよい。最も好ましいポリアミンポリホスホン酸化合物
は、エチレンジアシンテトラ（メチレンホスホン
酸）（以下EDITEMPA）の口腔用として許容で
きる水溶性塩（最も好ましくはトリー、テトラ
ー、またはペンタナトリウム塩）である。他のポリアミンポリホスホン酸化合物には、テ
トラメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）、ペンタメチレンジアミンテトラ（メチレン
ホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ
（メチレンホスホン酸）およびオクタメチレンジ
アミンテトラ（メチレンホスホン酸）の口腔用と
して許容できる水溶性塩が含まれる。それらのポリアミンポリホスホン酸塩はいかな
る好都合な方法によつても、たとえば米国特許第
3928596号、あるいはメドリツツアーおよびイラ
ニのジヤーナル・オブ・オルガニツク・ケミスト
リー、1966年５月、1603〜1607頁による教示に従
つて製造することができる。歯みがき剤中のポリアミンポリホスホネートの
濃度は広い範囲、一般に約0.1〜15重量％に及ぶ
ことができる。通常は約0.1〜約５重量％の濃度
が用いられる。不透明な歯みがき剤は一般にゲル状もしくは液
状のビヒクルを含有する、アルミニウム製チユー
ブもしくは鉛製のチユーブなどコラプシブルチユ
ーブから押し出すことができる稠度をもつ素材と
しての練り歯みがきである。このビヒクルには液
体および固体が含まれる。液体部分は水および一
般に保湿剤たとえばグリセリン、水性ソルビトー
ルもしくはポリエチレングリコールよりなる。総
液体含量は少なくとも約35％であり、すなわち歯
みがき剤の少なくとも約35重量％（一般に約35〜
50％）は水（保湿剤と会合していないもの）であ
り、保湿剤が存在する場合、これ（保湿剤と会合
した水を含む）は一般に歯みがき剤の約25〜50重
量％である。水分含量が高くなると、特にケイ酸
質みがき剤のほかにみがき剤が存在する場合は歯
みがき剤が不透明になる。ビヒクルの液体部分にはソルビトールを70％水
溶液として用いることが適切である。グリセリン
単独またはソルビトール溶液と混和したものもき
わめて適切な保湿剤である。ビヒクルの固体部分は天然または合成のゴムま
たはゴム様物質などのゲル化剤、たとえばアイル
ランドコケ、トラガカントゴム、カルボキシメチ
ルセルロースアルカリ金属塩、ポリビニルプロリ
ドン、デンプン、水溶性の親水性コロイド状カル
ボキシビニルポリマーたとえば“カルボポール
934”および“カルボポール940”などとして市販
されているもの〔カルボポール（Carbopol）は
商品名である〕、ならびに合成の無機ケイ酸化ク
レーたとえば“ラポナイトCP”および“ラポナ
イトSP”として市販されているもの〔ラポナイ
ト（Laponite）は商品名である〕である。これ
らの銘柄の“ラポナイト”は（Si₈Mg_5.1Li_0.6O₂₄）
_0.6 ^-Na_0.6 ⁺の組成式をもつ。ビヒクルの固体部分
は一般に歯みがき剤の10％まで、好ましくは0.5
〜５％の量で存在する。銘柄“ラポナイト”を用
いる場合、これらを１〜５％の量で用いることが
好ましい。歯みがき剤の芳香を調合する際にはいずれかの
適切な芳香剤または甘味剤を用いることができ
る。適切な芳香剤成分の例には、芳香油たとえば
スペアミント、セイヨウハツカ、ウインターグリ
ーン、サツサフラス、チヨウジ、セージ、ユーカ
リ、マヨラナ、ケイ皮、レモンおよびオレンジの
油、ならびにサリチル酸メチルが含まれる。適切
な甘味剤にはシヨ粉、乳糖、マルトース、ソルビ
トール、米国特許第3939261号、明細書に記載さ
れたジペプチド、米国特許第3932606号明細書に
記載されたオキサチアジン塩、ペリラルチンおよ
びサツカリンが含まれる。芳香剤と甘味剤を合わ
せて歯みがき剤の0.001〜５％またはそれ以上を
構成することが適切である。クロロホルムを用い
ることもできる。本発明の歯みがき剤には他の各種アジユバント
を含有させることもできる。その例は顔料たとえ
ば二酸化チタンおよび酸化亜鉛、保存薬、シリコ
ーン、クロロフイル化合物、ならびにアンモニア
化物質たとえば尿素、リン酸二アンモニウム、な
らびにそれらの混合物である。これらのアジユバ
ントは歯みがき剤中に、目的とする特性および性
質に実質的に不利な影響を与えない量で含有され
る。抗菌剤もたとえぱ0.01〜５重量％の量で本発明
の歯みがき剤に用いることができる。代表的な抗
菌剤には下記のものが含まれる。 N¹−（４−クロロベンジル）−N⁵−（２，４−ジ
クロロベンジル）ビグアニド；ｐ−クロロフエニルビグアニド；４−クロロベンジルヒドリルビグアニド；４−クロロベンズヒドリグアニル尿素；Ｎ−３−ラウロキシプロピル−N⁵−ｐ−クロロ
ベンジルビグアニド；１，６−ジ−ｐ−クロロフエニルビグアニドヘキ
サン；１，６−ビス（２−エチルヘキシルビグアニド）
ヘキサン；１−（ラウリルジメチルアンモニウム）−８−（ｐ
−クロロベンジルジメチルアンモニウム）オクタ
ンジクロリド；５，６−ジクロロ−２−グアニジノベンゾイミダ
ゾール； N¹−ｐ−クロロフエニル−N⁵−ラウリルビグア
ニル；５−アミノ−１，３−ビス（２−エチルヘキシ
ル）−５−メチルヘキサヒドロピリミジン；およびそれらの無毒性の酸付加塩。微細に分割された合成シリカ、たとえば“カブ
−Ｏ−シルＭ−５”、シロイド244”、“シロイド
266”、“アエロジルD200”として市販されている
もの、およびそれらの混合物も、たとえば0.5〜
20％の量で、増粘またはゲル化を促進するために
用いることができる。〔カブ−Ｏ−シル（Cab−
Ｏ−cil）、シロイドおよびアエロジル（Aero−
sil）は商品名である。〕練り歯みがきは、保湿剤、ゴムもしくは増粘
剤、甘味剤および水を用いてゲルを生成させ、こ
れにみがき剤、界面活性剤、EDITEPA塩など、
および芳香剤を添加することにより調製できる。
あるいはEDITEPA塩などをゲル段階の製造工程
中に添加してもよい。歯みがき剤は実用性のあるPH、たとえば約４〜
10、好ましくは約7.5〜10.5のPHをもつべきであ
る。PHは当技術分野で既知の適切な物質、たとえ
ば水酸化ナトリウムを用いて調整することができ
る。以下の実施例により本発明を具体的に説明す
る。部および比率はすべて、特に指示しない限り
重量になる。実施例１下記の不透明な歯みがき剤を調製し、ラツカー
内張りをもつアルミニウム製チユーブに入れた。

【表】ら市販

【表】各チユーブからリボン状の各歯みがき剤を押出
したところ、歯みがき剤Ａは塊の多い表面外観を
もつていたのに対し、EDITEMPA塩を含有する
歯みがき剤Ｂは流動学的に平滑な表面外観をもつ
ていた。実施例２歯みがき剤ＡおよびＢのそれぞれにモノフルオ
ルリン酸ナトリウム0.82部を含有させ、水分含量
をそれぞれ40.60部および38.60部に低下させたと
ころ（20％スラリーのPH−A9.8；B8.56）実施例
１の場合と同様な結果が得られた。上記実施例を変更しうることは当業者には明ら
かであろう。

Claims

【特許請求の範囲】１不透明な歯みがき剤において、水少なくとも
約35重量％；ゲル化剤約10重量％以下；ならびに
少なくともその主要な部分が少なくとも70％の実
験的SiO₂含量、１〜35ミクロンの範囲の粒径、
実質的に非晶質のＸ線構造および約1.40〜1.47の
屈折率をもつケイ酸質みがき剤であるみがき剤約
10〜50重量％を含む液ビヒクル；アルキル基が10〜18個の炭素原子を含み、アル
キル基の約40〜70％がC₁₂であるアルキル硫酸ナ
トリウムを含有する界面活性剤約0.1〜５重量
％；ならびに、アルキレン基が１〜10個の炭素原子を含むアル
キレンジアミンテトラメチレンホスホン酸の口腔
用として許容できる水溶性塩約0.1〜15重量％；からなる不透明な歯みがき剤。２焼成アルミナが追加のみがき剤として約５〜
20重量％の量で存在し、この量が該ケイ酸質みが
き剤の量を越えないものである、特許請求の範囲
第１項記載の歯みがき剤。３該アルキル硫酸ナトリウムが以下のアルキル
基分布をもつ、特許請求の範囲第１項記載の歯み
がき剤。C₁₀約１〜８％；C₁₂約40〜70％；C₁₄約
13〜30％；C₁₆約５〜16％；およびC₁₈約０〜23％
（％はすべて重量％）。４アルキレンジアミンテトラメチレンホスホン
酸の塩がエチレンジアミンテトラ（メチレンホス
ホン酸）のテトラー、ペンターまたはヘキサナト
リウム塩である、特許請求の範囲第１項記載の歯
みがき剤。５該アルキル硫酸ナトリウムが以下のアルキル
基分布をもつ、特許請求の範囲第２項記載の歯み
がき剤。C₁₀約１〜８％；C₁₂約40〜70％；C₁₄約
13〜30％；C₁₆約５〜16％；およびC₁₈約０〜23％
（％はすべて重量％）６アルキレンジアミンテトラメチレンホスホン
酸の該塩がエチレンジアミンテトラ（メチレンホ
スホン酸）のテトラー、ペンターまたはヘキサナ
トリウム塩である、特許請求の範囲第２項記載の
歯みがき剤。７該ケイ酸質みがき剤が約1.44〜1.47の屈折率
をもつ、特許請求の範囲第１〜６項のいづれかの
項に記載の歯みがき剤。