JPH0254308B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は粘土瓦、その内でも特に棟積に用いら
れる熨斗瓦のミスト施釉装置に関するものであ
る。従来、棟積に用いられる熨斗瓦は、割熨斗瓦
と大熨斗瓦に大別され、いずれも釉薬をたれ流し
方法や流し掛け方法等によつて第５図ａ，ｂに示
すような状態に施釉処理されている。例えば、第
５図ａに示す割熨斗瓦の場合には、粘土瓦上面の
中央部アと瓦前後面の中央部イを無釉とし、瓦上
面の左右両側上面部ウ，エと瓦の左右両端面部オ
（横コバと称する部分）と瓦両側の前後端面部カ，
キ（横コバ部分）を施釉処理したものとなつてい
る。また、第５図ｂに示す大熨斗瓦の場合には、
瓦上面一側部の３〜４割程度の左側上面部クとそ
の左側端面部とその前後端面部ケ（横コバ部分）
を無釉とし、瓦上面の中央部から他側部寄りの６
〜７割程度の右側上面部コとその右側端面部サ
（横コバ部分）とその前後端面部シ（横コバ部分）
を施釉処理したものとなつている。本来、此等の
熨斗瓦は棟積に用いられるにすぎない為、第５図
ａ，ｂに示す瓦の前後端面の横コバ部分カ，キ，
シへは施釉しない方が施釉後の焼成や棟積等を考
慮した場合好ましいものである。また、従前の施
釉方法による場合には、熨斗瓦への不充分な流し
掛け施釉を考慮して、瓦上面の斜線部分ウ′，
エ′，コ′まで必要以上に施釉される傾向とするば
かりか、瓦裏面まで釉薬が必要以上に回り込んで
施釉されることも屡々で、常に必要以上の量の釉
薬が消費され、高価な釉薬の無駄を生じている。

他方、本件出願人は、先に特願昭57−132896号
の明細書、図面において、乾燥した桟瓦をコンベ
ア搬送し、当該搬送工程中に施釉室を介設し、当
該施釉室のコンベア上の桟瓦に釉薬をスプレー塗
装することで、均一な膜厚で、効率の良い施釉を
確保する手段を提供した。ところが、釉薬を各種
粘土瓦へスプレー手段によつて施釉した場合、そ
の施釉状態にきめの細かさが欠ける等の点で未だ
不充分なものであることが実証できた。そこで、
本件出願人はその改良を目して特願昭58−197788
号の明細書、図面に示すような、釉薬を霧状化し
て粘土瓦をミスト塗装することに着眼して実証し
たところ、きめの細かい美麗な、然も、均一な膜
厚の施釉状態が得られ、その焼成も効率よく、ま
た焼成斑のない良好な桟瓦とすることができた。
ところが、釉薬を粘土瓦にミスト塗装する場合、
施釉室の直上部に形成したミスト発生装置による
と、釉薬それ自体の比重が高い為、粘土瓦の横コ
バ部分への施釉処理が不充分なものであることが
認められた。

本発明は。斯様な前記諸点を踏まえ、それを熨
斗瓦に対する効率の良い、且つ、経済性にも優れ
る施釉処理に対処すべく発明したものである。

以下、本発明の実施例を添付図面に従つて説明
するに、前工程で乾燥された熨斗瓦Ｘを縦方向
（長手方向）に重ね合わせることなく平置き状態
でコンベア搬送する場合の概要を示す第１図にお
いて、１は横設した支持フレーム２の回転支柱で
あつて、第１図の想像線に示す位置から矢視Ａ方
向へ反転し、且つ、別途所要のガイドレール（図
示せず）等によつて矢視Ｂ方向へ走行し、これに
て熨斗瓦Ｘの左右両面を乗載支持する第１段のベ
ルトコンベア３の直上部へ反転走行する。４は支
持フレーム２の下部に並設した支持枠であつて、
その枠内に複数個の駒片５，５ａ，５ｂ，５ｃを
嵌挿支持している。此等の各駒片５〜５ｃは別途
パレツト（図示せず）上に平置きした熨斗瓦Ｘを
吸着支持する為に、当該パレツトと同一ピツチに
すべて固定した固定駒片５，５ａ，５ｂ，５ｃと
するか、第１図に示す如く支持枠４端部の駒片５
を固定駒片とし、それ以外の駒片５ａ〜５ｃを支
持枠４内に摺動自在に嵌挿した摺動駒片とし、支
持枠４の他端部に設けた駆動シリンダ６によつて
当該摺動駒片５ａ〜５ｃを伸縮作動せしめ、これ
にて各駒片５〜５ｃ間のピツチを略等しく構成せ
しめるか、或いは、各駒片５〜５ｃのすべてを摺
動自在に嵌挿支持し、駆動シリンダ６によつて相
対的に伸縮摺動せしめる、とのいずれかの手段に
よつて各駒片５〜５ｃ間を等間隔に形成すべくな
している。７は駒片５，５ａ，５ｂ，５ｃから
夫々垂下形成した吸気管であつて、その下端に吸
盤８を夫々取着している。９はベルトコンベア３
上を一列縦隊で平置き搬送される熨斗瓦Ｘの施釉
室であつて、その内部を前部側と後部側の２枚の
仕切板１０，１０ａにて第１施釉室１１と第２施
釉室１２に区画形成し、その中間部を空室として
いる。当該第１施釉室１１と第２施釉室１２の内
部構造を示す第１図、第２図において、１３，１
４は第１施釉室１１と第２施釉室１２内を順次搬
送される熨斗瓦Ｘの上面部を一部覆う遮閉板であ
つて、少なくとも瓦上面の左右上面部ウ，エと左
右両端面の横コバ部分オを施釉し、瓦上面の中央
部アと瓦前後面の横コバ部分イを無釉とする第６
図ａの如き割熨斗瓦Ｘの場合には、瓦上面の中央
位置に近接して、然も、第１施釉室１１と第２施
釉室１２の前後方向に一定幅で差し渡した状態
で、断面切妻屋根状、山形状、弧状等の屋根形状
に形成している。また、瓦上面の左側上面クと瓦
前後面の横コバ部分ケと左側端面の横コバ部分を
無釉とし、それ以外の瓦上面の右側上面部コと、
その右側端面の横コバ部分サを施釉する第６図ｂ
の如き大熨斗瓦X′の場合には、第２図の想像線
に示す如く瓦上面の一側上面位置に片寄つて、然
も、夫々第１、第２施釉室１１，１２の前後方向
に差し渡され、片流れ屋根状、弧状等の遮閉板形
状としている。１５，１５ａは遮閉板１３，１４
の左右両端部に形成した釉薬回収樋である。１
６，１７は第１施釉室１１と第２施釉室１２の直
上部に夫々配設したミスト発生装置であつて、ベ
ルトコンベア３の直上部に当該コンベア３の搬送
方向と同一の水平方向にほぼ並設支持されてい
る。１８，１８ａ，１９，１９ａは第１施釉室１
１と第２施釉室１２の下部左右両側位置に夫々配
設したミスト発生装置であつて、前記ベルトコン
ベア３の左右両側位置に当該コンベア３の搬送方
向と直交する鉛直方向に配設支持されている。此
等のミスト発生装置１６〜１９の基本構成を第３
図と第４図に夫々図示している。その内、第３図
に示すミスト発生装置１６〜１９の第１実施例に
ついて詳説するに、２０は施釉室９の前後外壁面
又は左右外壁面に固定した支持台、２１は支持台
２０に固定した軸受、２２は軸受２１に回転可能
に嵌挿支持した中空状の回転軸、２３は中空軸２
２の基端部に嵌着固定した従動プーリ、２４は施
釉室９の外壁面に固定支持した駆動モータ、２５
はモータ２４の回転軸に嵌着固定した駆動プー
リ、２６は駆動プーリ２５と従動プーリ２３に掛
架支持したＶベルトである。２７は中空軸２２の
先端部に回転可能に嵌着固定した複数枚のミスト
発生デイスクであつて、その表面に多数の突起部
２８を突出形成している。２９は中空軸２２の先
端外周部に穿設した多数の通孔であつて、中空軸
２２の中空通路３０を給送される釉薬Ｙを当該通
孔２９から放射方向へ噴出せしめ、それを前記突
起部２８に衝突せしめることにより給送される釉
薬Ｙを霧化状態となしてミストを発生せしめ、施
釉室９をコンベア３搬送される熨斗瓦Ｘの露出表
面、その内でも特に瓦の中央部を覆う遮閉板１
３，１４の両側方にはみだした熨斗瓦Ｘの左右両
側上面部ウ，エと左右両端面の横コバ部分オに霧
状化したミストが施釉室９の上方部と側方部から
降り懸けられ、きめの細かい均一な膜厚で仕上り
の良好な施釉処理がなされる。前記第１実施例に
示すミスト発生装置１６〜１９は、中空軸２２の
先端部に複数枚のミスト発生デイスク２７を嵌着
固定し、当該中空軸２２とミスト発生デイスク２
７を一体回転可能に支持せしめたが、第４図の第
２実施例に示す如く中空軸２２を軸受２１に固定
支持し、複数枚のミスト発生デイスク２７とその
取付基盤３１とを複数本の取付ボルト３２で連結
固定し、当該取付基板３１を従動プーリ２３と一
体の環体２３ａに螺合して一体固定し、これを固
定した中空軸２２に回転可能に嵌挿支持せしめ、
これを第１、第２施釉室１１，１２の直上部やコ
ンベア側方部に配設して機能させることもでき
る。尚、３３は中空軸２２の軸受２１外側部に回
転不能に固定支持した開閉バルブ、３４は据付け
た釉薬タンク、３５は釉薬タンク３４の釉薬Ｙを
汲上げて給送する給送ポンプ、３６は給送ポンプ
３５の吐出口に一端を接続した給送ホース、３７
は施釉室９の上方部に吊持構成した釉薬供給タン
クであつて、その上方流入口に前記給送ホース３
６の他端を接続している。３８は釉薬供給タンク
３７に設けたモータ駆動する釉薬Ｙの撹拌装置で
あつて、当該モータ回転軸の下端に設けた撹拌翼
（図示せず）で釉薬Ｙを撹拌せしめる。３９，３
９ａは釉薬供給タンク３７の底部の吐出口に分岐
接続した複数本の分岐給送ホースであつて、その
内、一方の組３９を第１施釉室１１の直上部と側
方部に配設したミスト発生装置１６〜１９の開閉
バルブ３３に、他方の組３９ａを第２施釉室１２
の直上部と側方部に配設したミスト発生装置１６
〜１９の開閉バルブ３８に夫々接続され、中空軸
２２へ釉薬Ｙを一定圧で安定的に供給せしめるよ
うになつている。４０は施釉室９の般底状底部に
一端を接続し、その他端を釉薬タンク３４に接続
した返送ホースであつて、釉薬回収樋１５，１５
ａの釉薬や施釉室９の底部に流下した釉薬Ｙを返
送ポンプ４１によつて返送すべくなしており、此
等の返送ホース４０、返送ポンプ４１は必要に応
じて設けられる。４２，４２ａは施釉室９の前部
入口部と後部出口部に設けたエアーカーテンであ
つて、第１施釉室１１と第２施釉室１２内で発生
したミストの外部飛散を防止する。その内、入口
部のエアーカーテン４２は搬送される熨斗瓦Ｘの
瓦表面の塵埃等を払拭する役割をも担つている。
４３は施釉処理した施釉瓦X₁の乾燥室であつて、
その天井部に給気管４４を接続し、当該乾燥室４
３のミスト施釉瓦X₁の表面に温風Ｚを送り込み、
当該施釉瓦X₁を短時間で温風乾燥せしめる。こ
の乾燥瓦X₂を搬送コンベア３から積み下して焼
成台車（図示せず）へ積み込む。

而して、先ず、第１図の想像線位置の熨斗瓦Ｘ
の吸着反転移載装置Ｓの支持枠４の直下部に、多
数列のパレツト上に乾燥した熨斗瓦Ｘを平積みし
た乾燥台車（図示せず）を送り込む。次いで、パ
レツト列の直上部に位置する支持枠４、支持フレ
ーム２を含む吸着反転移載装置Ｓ全体を降下動
し、熨斗瓦Ｘの一列を吸気管７下端の吸盤８に吸
着保持して引き上げる。その上で当該装置Ｓ全体
を回転支柱１を中心としてＡ矢視方向へ反転さ
せ、且つ、Ｂ矢視方向へ走行させて第１段のベル
トコンベア３の直上部へ移行せしめる。当該反
転、移行中又は移行後に、必要に応じて駆動シリ
ンダ６を操作して摺動駒片５ａ，５ｂ，５ｃを固
定駒片５側へ向つて摺動せしめるか、或いは、
個々の駒片５〜５ｃを相対的に摺動せしめ、これ
にて個々の吸盤８に支持した複数枚の熨斗瓦Ｘを
重ね合わせることなく略等間隔に狭めて第１段の
ベルトコンベア３上へ降下動して乗載設置する。
斯様に回転する第１段のベルトコンベア３上に、
多数枚の熨斗瓦Ｘを一組として長手方向（縦方
向）へ連設し、これにて熨斗瓦Ｘを一列縦隊の平
置き状態で原則として連続的に、或いは必要に応
じて間欠的に搬送せしめると共に、次の施釉室９
へ送り込まれる直前に設けた入口部のエアーカー
テン４２への通風によつて、瓦表面の塵埃等を払
拭して清掃する。

次に、釉薬タンク３４、給送ホース３６，３
９、釉薬供給タンク３７、撹拌装置３８等からな
る釉薬供給装置と、モータ２４、中空軸２２、ミ
スト発生デイスク２７等からなるミスト発生装置
１６〜１９を夫々駆動せしめ、開閉バルブ３８を
開成して釉薬供給タンク３７の釉薬Ｙを中空軸２
２の中空通路３０へ供給し、その先端部の通孔２
９から釉薬Ｙを流出せしめると共に、ミスト発生
デイスク２７の高速回転によつて通孔２９から噴
出する釉薬Ｙが多数の突起部２８に衝突して霧状
化し、これにて第１施釉室１１、第２施釉室１２
内がミスト発生状態となる。従つて、施釉室９内
へ送り込まれ、遮閉板１３，１４で覆われた部分
を除く熨斗瓦Ｘの露出表面の左右両側上面部ウ，
エと左右両端面の横コバ部分オに、霧状化したミ
ストが施釉室９の上方部と側方部から降り懸けら
れ、先ず、第１施釉室１１の通過時に第１回目の
ミスト塗装がなされ、次に、第２施釉室１２の通
過時に更に第２回目のミスト塗装がなされ、これ
にてきめの細かい仕上りの良好な施釉処理がなさ
れる。

尚、大熨斗瓦Ｘの場合には、第１、第２施釉室
１１，１２内の一側方に片寄つた遮閉板１３，１
４が第２図に示す如く設けられ、当該左側方のミ
スト発生装置１８，１９の開閉バルブ３８を閉成
した上で、前記の如く施釉処理されるものとして
いる。

斯様にして均一な膜厚にミスト塗装された施釉
瓦X₁は、出口部のエアーカーテン４２ａを経て
乾燥室４３内へ送り込まれ、その直上部に設けた
給気管４４からの温風Ｚによつて比較的短時間で
乾燥され、乾燥室４３外へ送り出されて焼成台車
（図示せず）へ積み込まれる。

本発明は、前記の如く乾燥された熨斗瓦を施釉
室へコンベア搬送させ、当該施釉室内の上方部と
コンベア側方部にミスト発生装置を配設し、施釉
室のコンベア上方適所に熨斗瓦の一部を覆う遮閉
板を配設し、前記ミスト発生装置へ供給される釉
薬を、当該発生装置の駆動によつて霧状化せし
め、施釉室の上方部と側方部から熨斗瓦をミスト
塗装すべく構成してなる装置としたので、瓦表面
へのきめの細かい施釉処理が均一且つ施釉斑なく
行なわれる。然も、遮閉板で覆つた部分や瓦前後
面の横コバ部分への施釉を行なわず、その反面、
瓦の左右両端面又は一端面への施釉をコンベア側
方部のミスト発生装置によつて確保せしめ、これ
にて必要な露出表面のみに施釉できるので、釉薬
の必要以上の浪費をなくし、高価な釉薬使用量の
節減を可能とする。また、ミスト塗装により均一
で斑のない塗装が確保される為、その乾燥斑の生
ずる余地なく、短時間での乾燥が可能となり、ひ
いては焼成後の焼き上り具合を均一なものとし、
且つその歩止りを良くし、ひいては製品コストの
軽減と品質の一層の向上に貢献する等の諸効果を
もたらす。

【図面の簡単な説明】

第１図は装置全体を示す概要図、第２図は施釉
室の縦断面図、第３図と第４図はミスト発生装置
の第１例と第２例の要部を示す図、第５図ａ，ｂ
は割熨斗瓦と大熨斗瓦の従来物の施釉状態を、第
６図ａ，ｂは同じく本発明による施釉状態を夫々
示す図である。 符号表、Ｘ……熨斗瓦、X₁，X₂……施釉瓦、
Ｙ……釉薬、Ｚ……温風、Ｓ……吸着反転移載装
置、３……コンベア、９……施釉室、１０……仕
切板、１１……第１施釉室、１２……第２施釉
室、１３，１４……遮閉板、１５……回収樋、１
６，１７，１８，１９……ミスト発生装置、２２
……中空軸、２７……ミスト発生デイスク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 乾燥された熨斗瓦を施釉室へコンベア搬送さ
   せ、当該施釉室内の上方部とコンベア側方部にミ
   スト発生装置を配設支持し、施釉室のコンベア上
   方適所に熨斗瓦の一部を覆う遮閉板を配設支持
   し、前記ミスト発生装置へ供給される釉薬を、当
   該発生装置の駆動によつて霧状化せしめ、施釉室
   の上方部と側方部から熨斗瓦をミスト塗装すべく
   構成したことを特徴とする熨斗瓦のミスト施釉装
   置。 ２ 遮閉板を断面切妻屋根状、山形状、弧状等の
   屋根形状となし、これを瓦上面の中央位置に近接
   させ、且つ、施釉室の前後方向に差し渡して形成
   し、これにて割熨斗瓦の瓦上面の左右両側部と左
   右両端面の横コバ部分とをミスト塗装したことを
   特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の熨斗瓦
   のミスト施釉装置。 ３ 遮閉板を片流れ屋根状、弧状等の形状とな
   し、これを瓦上面の一側上面位置に片寄つて配設
   し、且つ、施釉室の前後方向に差し渡して形成
   し、これにて大熨斗瓦をミスト塗装すべく構成し
   たことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
   の熨斗瓦のミスト施釉装置。 ４ ミスト発生装置を、中空軸に嵌挿した複数枚
   のミスト発生デイスクと、当該デイスク面に形成
   した多数の突起部と、ミスト発生デイスク取付部
   分の中空軸に穿設した多数の通孔とから構成し、
   中空軸へ供給される釉薬を前記ミスト発生デイス
   クの回転によつて霧状化すべく構成したことを特
   徴とする特許請求の範囲第１項に記載の熨斗瓦の
   ミスト施釉装置。 ５ 中空軸とミスト発生デイスクを一体回転可能
   に支持してなる特許請求の範囲第４項に記載の熨
   斗瓦のミスト施釉装置。 ６ 中空軸を固定支持し、当該中空軸に嵌挿した
   ミスト発生デイスクを回転可能に支持してなる特
   許請求の範囲第４項に記載の熨斗瓦のミスト施釉
   装置。