JPH0252084A - Surface cleaning method by after glow plasma - Google Patents
Surface cleaning method by after glow plasmaInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ある物品の表面のクリーニング、たとえば金
属表面の全体をあるいはその一部分をカバーする油やグ
リースのスケールをとり除く方法に関する。金属表面の
他には、セラミック物体あるいはガラスをヘースとする
光ファイバのクリーニングも含まれるが、これらに限定
されるわけではない。本発明はさらに特定的には、かよ
うな表面をプラズマでクリーニングする処理法に関する
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for cleaning the surfaces of certain articles, such as removing oil and grease scales covering all or a portion of a metal surface. In addition to metal surfaces, cleaning also includes, but is not limited to, cleaning ceramic objects or glass-based optical fibers. The invention more particularly relates to a process for cleaning such surfaces with plasma.
プラズマという名称は、中性粒子、原子あるいは分子、
陽イオンと電子を同時に含む各柱媒質に与えられる。プ
ラズマは、ガスを高温に加熱する、あるいはガスを強力
な電場に入れることにより人工的に発生させることがで
きる。The name plasma refers to neutral particles, atoms or molecules,
given to each columnar medium containing both cations and electrons. Plasmas can be generated artificially by heating gases to high temperatures or by subjecting them to strong electric fields.
通常、何の制約もなしにプラズマと呼ばれるタイプＩの
プラズマは、強力にイオン化された媒質であり、この媒
質内は非常に高い温度に保持されるが、これは熱力学的
に平衡状態にあるといわれている。これは、たとえば、
プラズマトーチ型の装置を用いて、発生させることがで
きる。この温度は、１０，０００’ Ｋ〜１５．０００
″にのオーダにある。タイプＩのプラズマによる物体表
面のクリーニングは、高温による破壊作用によって達成
される１、このタイプのプラズマは、放電によって限定
される狭い容積内に限定されるため、小さな表面した処
理出来ない。このタイプのプラズマは、アメリカ国特許
第４．５５５．３０３号明細書に記載されている。A type I plasma, commonly referred to as a plasma without any constraints, is a strongly ionized medium that is maintained at a very high temperature that is in thermodynamic equilibrium. It is said that. This is, for example,
It can be generated using a plasma torch type device. This temperature ranges from 10,000' K to 15,000
Cleaning of object surfaces by type I plasmas is achieved by the destructive action of high temperatures.1 This type of plasma is confined within a narrow volume defined by an electric discharge, and therefore cleansing surfaces of objects on small surfaces. This type of plasma is described in US Pat. No. 4,555,303.
通常、コールドプラズマと呼ばれるタイプＩＩのプラズ
マは、わずかにイオン化された媒質である。このタイプ
のプラズマの温度はかなり低温であり、事実、それは１
．０００°により（氏い、しかしこの温度は、それほど
厳格なものではない。Type II plasma, commonly referred to as cold plasma, is a slightly ionized medium. The temperature of this type of plasma is quite low, in fact it is 1
．． 000°, but this temperature is not very critical.
というのは、この場合の媒質は高度に熱力学的：一不平
衡状態にあるからである。コールドプラズマでは、たと
えば電気放電、マイクロウェーブのあるいは高周波のｌ
！、電領域内における、１００ミリバール以下の低圧の
ガス内の、電極を用いる。あるい（ｉ用いない電気放電
中において発生する。このタイプのプラズマは、フラン
ス国特許第２．３６８．３０８号明細書に記載されてい
る。This is because the medium in this case is in a highly thermodynamically unbalanced state. In cold plasma, e.g. electric discharge, microwave or radio frequency l
! , using electrodes in a gas at a low pressure of less than 100 mbar in the electrical field. Alternatively, plasmas of this type are described in French Patent No. 2.368.308.
タイプ田のプラズマ（ま、この明細書（こおいてはアフ
ターグロープラズマと呼ばれるものである。Type field plasma (well, in this specification (here it is called afterglow plasma).
１４字の分野においては、このプラズマは、プラズマ発
生ガスが窒素であるとき、「活性ガス」あるいは「ポス
ト螢光」と時に呼ばれる。このアフターグロープラズマ
は、放電後のコールドプラズマを動的状態の下において
膨張させることによって得られる。この膨弓艮つまりエ
キスパンション；ま、数立方メートルという大きな容積
内において行なわれる。通常これは、１００ミリバール
以下の圧力において行なわれるが、大気圧以上の圧力で
も可能である。関連する媒質は、非常に高い熱力学的非
平衡状態にあるが、この非平衡状態における平均温度は
２周囲の雰囲気の温度たとえば２９８’にである。In the 14-character field, this plasma is sometimes referred to as "active gas" or "post-fluorescent" when the plasma generating gas is nitrogen. This afterglow plasma is obtained by expanding the cold plasma after discharge under dynamic conditions. This expansion, or expansion, takes place within a large volume of several cubic meters. Usually this is carried out at pressures below 100 mbar, but pressures above atmospheric pressure are also possible. The medium involved is in a very high thermodynamic nonequilibrium state, the average temperature of which is 2, for example 298', the temperature of the surrounding atmosphere.
アフターグロープラズマは、とくにヨーロッパ特許出願
阻８４．１０１．９２６．８および漱８４． ＋０１．
’１３５．９に示されるように、プラスチック表面の
処理用として知られており、この場合、上記表面のキャ
ブティブバワー（ｃａｐｔｉｖｅ ｐｏｗｅｒ）ｆゴ
増大するが、これは、材料の表面における水との接触角
度が増加することを特徴とする１、９潤性の増加といつ
形でとくに表わされる。他方、アフターグロープラズマ
の適用は、プラスチック！（料の場合の他は知られてな
い。Afterglow plasma is particularly well known in European patent applications No. 84.101.926.8 and No. 84. +01.
'135.9 for the treatment of plastic surfaces, where the captive power of the surface is increased, which is due to the interaction of water at the surface of the material. 1,9 is particularly characterized by an increase in lubricity, characterized by an increase in the contact angle. On the other hand, afterglow plasma can be applied to plastic! (Other than the case of fees, nothing is known.
かくしてその新しい用途が発見され、これこそが本発明
の目的である。このアフターグローブうズマは、全く思
いもかけず２とくにステンレススチール、セラミック、
磁器、ガラスから作られた物品のように、アフターグロ
ープラズマによって悪影響をうけたり、変質したりして
しまわないある種の材料に対する表面クリーニング効果
を有する。さらに明らかになったことは、上記各種物品
の表面上に沈着した油、グリース、有促物質などの汚染
物質は、所定の時間にわたって、アフターグロープラズ
マの作用をうけると分解されるということである。この
時間の長さは、このプラズマのエキスパンションが起る
囲い込み内に存在する圧力と、物体の表面の状態とによ
って決まる関数である０前記分解作用は、アフターグロ
ープラズマの温度が、周囲温度に近いときでも行なわれ
る。A new use for it has thus been discovered, and this is the object of the present invention. This afterglobe Uzuma is completely unexpected and has two features, especially stainless steel, ceramic,
It has a surface cleaning effect on certain materials that are not adversely affected or altered by afterglow plasma, such as articles made from porcelain and glass. It has also been found that contaminants such as oil, grease, and pollutants deposited on the surfaces of the various articles mentioned above are decomposed by the action of afterglow plasma over a given period of time. . The length of this time is a function of the pressure existing within the enclosure in which this plasma expansion occurs and the condition of the surface of the object. It is done even at times.
本発明の概念に従って用いられる他のプラズマは、純粋
ガスあるいはこれら純粋ガスの混合物、つまりアルゴン
、酸素（０，）、窒素（Ｎ２）、そして空気などプラズ
マ発生ガスと呼ばれるものを用いる。Other plasmas used in accordance with the concepts of the present invention use pure gases or mixtures of these pure gases, referred to as plasma generating gases, such as argon, oxygen (0,), nitrogen (N2), and air.
好ましくは、このプラズマ発生媒質は１０％以下の比率
をもつフッ素化あるいは塩素化された化合物を含むガス
混合物である。事実、明らかになって来たことは、かよ
うなガスは、アフターグロープラズマのクリーニング作
用に増幅効果を何するということである。フッ素化化合
物はとくに、三フッ化窒素（ＮＦ、）、四フッ化炭素（
ＣＦ、１ 、六フッ化硫黄（ＳＦ６）あるいはフッ素（
Ｆ２）からえらばれる。塩素化された化合物はとくに、
三塩化窒素（ＮＣｆ１３）、四塩化炭素（ＣＣハ〉、ト
リクロロメタン（ＣＨＣ氾、）、ジクロロメタン（Ｃ１
（、Ｃ氾２）あるいは塩素（Ｃで２）から選ばれる。Preferably, the plasma generating medium is a gas mixture containing fluorinated or chlorinated compounds with a proportion of less than 10%. In fact, it has become clear that such gases have an amplifying effect on the cleaning action of the afterglow plasma. Fluorinated compounds include nitrogen trifluoride (NF, ), carbon tetrafluoride (
CF, 1, sulfur hexafluoride (SF6) or fluorine (
F2). In particular, chlorinated compounds
Nitrogen trichloride (NCf13), carbon tetrachloride (CC〉), trichloromethane (CHC flood), dichloromethane (C1
(, C flood 2) or chlorine (C flood 2).
プラズマ発生媒質の好ましい化合物は、１２ミリバール
の圧力下においては、酸素７５％、窒素２３５％、三フ
ッ化窒素１．５％の割合をもつ。A preferred compound of the plasma generating medium has a proportion of 75% oxygen, 235% nitrogen and 1.5% nitrogen trifluoride at a pressure of 12 mbar.
かような圧力下においてかような組成物を用いる場合、
ステンレススチールの物体の表面を完全にクリーニング
するのに必要な処理時間は、もし、かような表面が滑ら
かであれば、１分〜１５分のオーダであり、表面が粗面
であれば９０分〜１００分である。この時間は、物体の
表面に沈着したすべての汚染物を完全に分解するのに十
分な長さであり、この場合、この物体がどんｔＪ形状で
あっても、また、汚染物が表面上のくぼみあるいは空洞
内に沈着していても関係はない。When using such a composition under such pressure,
The processing time required to completely clean the surface of a stainless steel object is on the order of 1 to 15 minutes if such surface is smooth and 90 minutes if the surface is rough. ~100 minutes. This time is long enough to completely decompose all contaminants deposited on the surface of the object, no matter how tJ-shaped this object is, and in which case the contaminants are It does not matter if it is deposited in a depression or cavity.
かくして、物体の完全なりリーニングは、め／Ｖどつな
作業をしなくても、物体をエキスパンション用の囲い込
み内に入れ、アフターグローコールドプラズマの作用を
これに加えるだけで簡単に達成される。これ：まとくに
、放射性元素を含むグｌ−スや浦で汚染された、核産業
界で用いられる−こ具などのクリーニングに有用である
。Thus, complete leaning of an object can be easily achieved without any additional work by simply placing the object in an expansion enclosure and applying the action of the afterglow cold plasma thereto. This is particularly useful for cleaning tools used in the nuclear industry that have been contaminated with grease or water containing radioactive elements.
本発明のｆｉ１点と特徴は、添付図面にホされるコール
ドプラズマ発生プラントのエキスバンショシチャ〕・パ
内におかれた物体の表面をクリーニングするための方法
のひとつを例として挙げる以下の説明を読むことにより
明らかになる。第１図；ｊ、ト記プラントつまり装置を
示す略図であり、第２図は、大型のエキスパンションチ
ャンバを小才略図である。The fi 1 point and feature of the present invention is the extraction system of a cold plasma generation plant as shown in the attached drawings. becomes clear by reading. FIG. 1 is a schematic diagram showing the plant or equipment described above, and FIG. 2 is a small schematic diagram of a large expansion chamber.
本発明のクリーニングプラントは、プラズマ発’ＩＮ幾
１を含む。本発明の場合、これはマイクロウェーブ発生
機であって、２４５０メガヘルツの周ｆ１数で機能し、
１５００ワツトまでの可変および調節可能の電力を供給
する。発生機１とりオーツ管３との間の空間には、マイ
クロウェーブの電気エネルギによるｋ ７ｒｕが発生す
るが、この空間内には、平行バイブ形のカプラー２があ
る。このカプラーは、ピストン１１．わじ１２、内側ア
イリス（図示せず）があるので非常に効率よく機能する
。このカプラーについてのくわしい説明はｊ。The cleaning plant of the present invention includes a plasma generator. In the case of the present invention, this is a microwave generator, operating at a frequency f1 of 2450 MHz,
Provides variable and adjustable power up to 1500 watts. In the space between the generator 1 and the Oats tube 3, k 7ru is generated by microwave electrical energy, and within this space there is a parallel-vib type coupler 2. This coupler is connected to the piston 11. It functions very efficiently because of the presence of an inner iris (not shown). For a detailed explanation of this coupler, see j.
Ｐｈｙｓ、 Ｅ、 Ｓｃ、 Ｊ６−１９８３．
１ １６０〜１１６１ページに害かれている。クォーツ
管３は、直径が１５ｍｍである。Phys, E, Sc, J6-1983.
1 Pages 160-1161 are damaged. The quartz tube 3 has a diameter of 15 mm.
りオーツで３内に発生したプラズマは、タイプ１１のコ
ールドプラズマである。第１図の左端に示されるように
、りオーツ管３の一端は３つのカスボンベ１３．１４．
１５に接続される。これらのガスボンベは、本発明の好
適具体例における組成物の場合、窒素、酸素、三フッ化
窒素である。これら３本のガスボンへとりオーツ管３と
の間には、管３に供給されるガスの流れ、したがって各
ガスの比率をコントロールし、決定するようになされた
３つの流ルギュレータ１６．１７．１８がある。りオー
ツ管３ Ｉｉさらに、圧力を測定するためのゲージ４を
含む。The plasma generated in the 3 oats is type 11 cold plasma. As shown at the left end of FIG. 1, one end of the oxide tube 3 has three gas cylinders 13, 14.
15. These gas cylinders are nitrogen, oxygen, nitrogen trifluoride in the case of the composition in the preferred embodiment of the invention. Between these three gas cylinders and the Oats tube 3, there are three flow regulators 16, 17, 18 designed to control and determine the flow of gas supplied to the tube 3, and therefore the ratio of each gas. There is. The oat tube 3 Ii further includes a gauge 4 for measuring pressure.
第１図の右側に示される管３の他端１１、雄および雌の
球形コネクタ６および１９により、エキスパンジョンチ
ャンバ７に連結される。さらにこのチャンバ７は、雄お
よび雌の球形コネクタ２０および２１により、銅スポン
ジを含むトラップ８と、このトラップの後に直列接続さ
れ且つ液体窒素で冷却される第２トラツプ９に連結され
、さらに真空ポンプ（図示せず）に連結される。この真
空ポンプは、大気圧において１時間当り３５立方メート
ルの吸排能力を有する。The other end 11 of the tube 3, shown on the right side of FIG. 1, is connected to the expansion chamber 7 by male and female spherical connectors 6 and 19. Furthermore, this chamber 7 is connected by male and female spherical connectors 20 and 21 to a trap 8 containing a copper sponge and a second trap 9 connected in series after this trap and cooled with liquid nitrogen, and to a vacuum pump. (not shown). This vacuum pump has a pumping capacity of 35 cubic meters per hour at atmospheric pressure.
これらの球形コネクタにより、クリーニングされるへき
物体の体積によって決まる容積をもつ他のエキスパンシ
ョンチャンバに換えることができ乙、第１図に示すエキ
スパンションチャンバ７は、２５リツトルの容積をもつ
が、これは、ビンセットやその他の小型用具のような小
さな物体に適している。ポンプ１０の本体のようなより
大型の体積をもつ物体の場合は、第２図に示すように、
１２５リツトルの容積をもつエキスパンションチャンバ
７を用いるのが有利である。このチャンバ７は、クリー
ニングされるべき物体が導入されるように分離できる構
造の２つの個々の部分から成り、それぞれの部分は、物
体がひとたび導入されると、エキスパンションチャンバ
７をかたく閉じて保持するためのファスナーを備えてい
る。These spherical connectors allow the expansion chamber to be replaced with another expansion chamber whose volume is determined by the volume of the small object to be cleaned.The expansion chamber 7 shown in FIG. 1 has a volume of 25 liters; Suitable for small objects such as bin sets and other small utensils. In the case of an object with a larger volume, such as the main body of the pump 10, as shown in FIG.
It is advantageous to use an expansion chamber 7 with a volume of 125 liters. This chamber 7 consists of two individual parts of structure that can be separated so that the object to be cleaned can be introduced, each part holding the expansion chamber 7 tightly closed once the object has been introduced. It has a zipper.
クリーニングオペレーション（ｊ、クリーニングされる
べき汚れた用具１ｏをエキスパンションチャンバ７に入
れ１球形コネクタ１９と２０により、チャンバ７の一端
を管３に、他端をトラップ８と９に連結し、レギュレー
タ１６．１７．１８を操作することにより所望の圧出で
各ガスを管３にみたし、発生様１を作動させ、カプラー
２を調節することにより管３内にコールドプラズマを発
生させる各ステップから成る。クォーツ管３内に発生し
たコールドプラズマは、この管３からエキスパンション
チャンバ７までを掃引するガスフラックスにより動的に
移動される。こ＼において、アフターグロープラズマは
、用具の表面を汚染している有機物、油、グリースなど
を攻撃する。用具１０は、表面上の分解すべき物質のす
べてが分解されるに十分な長さの時間にわたって活性ガ
スフラックス内に維持され、チャンバ７から引上げられ
、直列形の２つのトラップ８と９内に保持される。Cleaning operation (j) Put the dirty implement 1o to be cleaned into the expansion chamber 7 and connect one end of the chamber 7 to the tube 3 and the other end to the trap 8 and 9 by means of spherical connectors 19 and 20, and the regulator 16. The steps consist of filling the tube 3 with each gas at the desired pressure by operating 17 and 18, activating the generation mode 1, and generating cold plasma in the tube 3 by adjusting the coupler 2. The cold plasma generated in the quartz tube 3 is dynamically moved by the gas flux sweeping from this tube 3 to the expansion chamber 7. In this case, the afterglow plasma is generated by organic matter contaminating the surface of the tool. , oil, grease, etc. The utensil 10 is maintained in the active gas flux for a period of time sufficient to decompose all of the material to be decomposed on the surface, and is raised from the chamber 7 and placed in series. is held in two traps 8 and 9.
上λ己プラント内でテストされて来たガス、つまｒｌ窒
素、空気、酸素、およびアルコン、そして任位的なハロ
ゲン自負物質から成るプラズマ発生ガスの最適組成は、
全圧力１２ミリバールにおいて次のようになる。The optimum composition of the plasma-generating gas, consisting of nitrogen, air, oxygen, and alcon, and optionally halogen substances, has been tested in the above-mentioned plant.
At a total pressure of 12 mbar:
酸素（０２）ニア５％
窒素（Ｎ２）＋ ２３．５％
三フッ化窒素・ １５％
カプラーの中間から供給されるマイクロウェブパワーは
、１６０Ｗ以下であった。Oxygen (02) near 5% Nitrogen (N2) + 23.5% Nitrogen trifluoride/15% The microweb power supplied from the middle of the coupler was 160 W or less.
驚（べきことに、とくにステンレススチール製物体の表
面のスケール落しには、三フッ化窒素が効果があり、こ
の結果、汚染物質を除去するに必要な処理時間は減少で
きた。潤滑油やグリースで汚染された用具の表面が平滑
な場合は、処理時間は１５分（ｍｎ）、表面が凸凹の場
合は９０分（ｍｎ）が必要であった。セラミックあるい
はガラスで作られた物体の場合、必要時間はかなり短縮
できる。つまり、１分以内であり２ある場合には１秒以
下である。Surprisingly, nitrogen trifluoride was particularly effective at descaling the surfaces of stainless steel objects, reducing the processing time required to remove contaminants. If the surface of the contaminated tool was smooth, a treatment time of 15 minutes (mn) was required; if the surface was uneven, a treatment time of 90 minutes (mn) was required.For objects made of ceramic or glass, The required time can be considerably reduced, that is, within 1 minute, and in two cases less than 1 second.
本発明は、上述の特定の具体例に限定されるわけではな
く、他のすべての変形例を含むものである。金属表面の
スケール落しについて述べて来たが、以上の説明はセラ
ミック材、磁器、ガラス（とくにグラスファイバ）、セ
ラミックーガラス金属の複合体などの表面のクリーニン
グに対しても適用される。同様に、本発明の範囲を逸脱
することなく、アフターグロープラズマを発生させる条
件、圧力、パワー、エキスパンションチャンバの容積、
電気放電によって発生されるプラズマ、マイクロウェー
ブつまり高周波などを変えることができる。最後に、本
発明のアフターグロープラズマによって分解できる汚染
物質は、油やグリースだけではなく、インク、一般的な
有機物、そして金属の沈着物なども含まれる。The invention is not limited to the particular embodiments described above, but includes all other variations. Although we have described descaling metal surfaces, the above description also applies to cleaning surfaces such as ceramic materials, porcelain, glass (especially glass fiber), ceramic-glass metal composites, etc. Similarly, without departing from the scope of the invention, the conditions for generating afterglow plasma, the pressure, the power, the volume of the expansion chamber,
It can change the plasma generated by electrical discharge, microwaves, or high frequency waves, etc. Finally, contaminants that can be destroyed by the afterglow plasma of the present invention include not only oil and grease, but also ink, common organics, and metal deposits.
第１図は１本発明によるアフターグローブラズマ法のた
めの装置の配置図であり、第２図は、第１図の装着に用
いられる大型のエキスパンションヂャンバの概略断面図
である。
図面において
１はプラズマ発生機、
２はカプラー
３はりオーツ管。
１３．１４および１５はガスボンベ、
１６．１７および１８１ま流ルギュレー夕、８および９
はトラップ、
Ｑｌコボユブである。
罎工巴。FIG. 1 is a layout diagram of an apparatus for the afterglobe plasma method according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a large expansion chamber used for the installation of FIG. In the drawing, 1 is a plasma generator, 2 is a coupler and 3-beam Oats tube. 13.14 and 15 are gas cylinders, 16.17 and 181 current regulae, 8 and 9
is a trap, Ql koboyubu.罎工巴.
Claims (1)
、純粋の金属または金属の混合物で作られた物体の表面
に沈着した汚染物質を分解させるのに十分な時間にわた
り、この物体に、アフターグローコールドプラズマの作
用をうけさせることを特徴とする、物体表面の浄化方法
。 （２）プラズマ発生ガスは、酸素と窒素の混合物である
ことを特徴とする、請求項１に記載の物体表面の浄化方
法。 （３）プラズマ発生ガスは、１０％以下の割合のフッ素
化された化合物あるいは塩素化された化合物を含む混合
物であることを特徴とする、請求項１および２のいずれ
かに記載の浄化方法。 （４）上記のフッ素化された化合物は、三フッ化窒素、
四フッ化炭素、六フッ化硫黄、およびフッ素の中から選
択されることを特徴とする、請求項３に記載の浄化方法
。 （５）上記の塩素化された化合物は、三塩化窒素、四塩
化炭素あるいはトリクロロメタンあるいはジクロロメタ
ン、あるいは塩素の中から選ばれることを特徴とする、
請求項３に記載の浄化方法。 （６）プラズマ発生ガスは、１２ミリバールのオーダの
圧力であって、約７５％の酸素、約 ２３．５％の窒素、約１．５％のフッ素化された化合物
か塩素化された化合物であることを特徴とする、請求項
１に記載の浄化方法。 （７）物体はステンレススチールで作られ、処理時間は
、物体表面の状態により１から１００分の間のオーダで
あることを特徴とする、請求項６に記載の浄化方法。 （８）汚染物質は、有機物、とくに潤滑油あるいはグリ
ースであることを特徴とする、請求項１に記載の浄化方
法。 （９）汚染物質は放射性元素を含むことを特徴とする請
求項１に記載の核産業で用いられる用具のための汚染除
去方法。[Claims] (1) For a period of time sufficient to decompose contaminants deposited on the surface of an object made of stainless steel, glass, porcelain, ceramic, pure metal, or a mixture of metals; , a method for purifying the surface of an object, characterized by subjecting it to the action of afterglow cold plasma. (2) The method for purifying the surface of an object according to claim 1, wherein the plasma generating gas is a mixture of oxygen and nitrogen. (3) The purification method according to any one of claims 1 and 2, wherein the plasma generating gas is a mixture containing a fluorinated compound or a chlorinated compound in a proportion of 10% or less. (4) The above fluorinated compounds include nitrogen trifluoride,
The purification method according to claim 3, characterized in that it is selected from carbon tetrafluoride, sulfur hexafluoride, and fluorine. (5) the chlorinated compound is selected from nitrogen trichloride, carbon tetrachloride, trichloromethane or dichloromethane, or chlorine;
The purification method according to claim 3. (6) The plasma-generating gas is about 75% oxygen, about 23.5% nitrogen, and about 1.5% fluorinated or chlorinated compounds at a pressure on the order of 12 mbar. The purification method according to claim 1, characterized in that: (7) The purification method according to claim 6, characterized in that the object is made of stainless steel and the treatment time is of the order of between 1 and 100 minutes depending on the condition of the object surface. (8) A purification method according to claim 1, characterized in that the pollutants are organic substances, in particular lubricating oils or greases. (9) The method for decontaminating tools used in the nuclear industry according to claim 1, wherein the contaminant contains a radioactive element.
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