JPH02502804A - Novel polymer/metal laminates and their manufacturing methods - Google Patents

Novel polymer/metal laminates and their manufacturing methods

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JPH02502804A
JPH02502804A JP63507412A JP50741288A JPH02502804A JP H02502804 A JPH02502804 A JP H02502804A JP 63507412 A JP63507412 A JP 63507412A JP 50741288 A JP50741288 A JP 50741288A JP H02502804 A JPH02502804 A JP H02502804A
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laminate
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filler
smooth
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ブリッジス,ウイリアム ジー.
アーマー,トーマス エイ.
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オリン コーポレーション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。 (57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 新規のポリマー/金属ラミネートおよびその製造方法 本発明の分野 本発明は全般的に新規のポリマー/金属ラミネートおよびその製造方法に関し: さらに特別には、平滑な、未処理、@練合1il (wrought−meta l )から製造され、かつ、ラミネート層の凝集および接着強さを特徴とするか ようなラミネート層に関する。[Detailed description of the invention] Novel polymer/metal laminates and their manufacturing methods Field of the invention The present invention relates generally to novel polymer/metal laminates and methods of making the same: More specifically, smooth, untreated, @kneaded 1il (rough-meta) l) and characterized by the cohesive and adhesive strength of the laminate layer. Regarding such laminate layers.

本発明の背景 超小型回路において使用するポリマー/金属ラミネートの製造は、急速に発展し た技術領域である。この分野において、銅は該回路にSt性性向面付与するため に選ばれる金属である。一般に、先行技術ではポリマー/金属界面でポリマーと 金属との間の物理的接着を増加させるためにはラミネートの形成の前にポリマー および(または)金属の前処理が必要であると考えられてきた。典型的には、超 小型回路用のラミネートの製造において処理された電着金属箔(一般に「処理E D箔」として公知である)または処理された鍛錬金属箔が使用される。これらは ED箔の場合には、0.0002〜0.0005inchの深さ、そして鍛錬銅 箔の場合にはo、oooi〜0 、 OOO31nchの深さに金属箔に表面粗 さまたはエツチングが付与されている処理金属箔から形成する。本発明の発明者 は、これらの種々の箔に対する接着効率は、ポリマーを固定させる役目をする箔 表面ヒの細隙および(または)小瘤の形成に基づくと考えている。Background of the invention The production of polymer/metal laminates for use in microcircuits is rapidly evolving. This is a technological field that In this field, copper is used to impart St properties to the circuit. It is the metal of choice. In general, the prior art Polymer prior to laminate formation to increase physical adhesion between metals and/or pretreatment of the metal has been considered necessary. Typically, super Electrodeposited metal foils treated in the production of laminates for small circuits (generally referred to as “treated E”) D-foil) or treated wrought metal foil is used. these are For ED foil, 0.0002-0.0005inch depth, and wrought copper In the case of foil, the surface roughness is applied to the metal foil at a depth of o, oooi ~ 0, OOO 31 nch. It is formed from a treated metal foil that has been etched or etched. Inventor of the invention The adhesion efficiency for these various foils is It is believed to be based on the formation of slits and/or nodules on the surface.

過去においては、ポリマー/金属ラミネートにおける接着強さおよび凝集強さを 増加させるために、別個の接着剤層または接着促進剤の使用が試みられた。例と して、1986年1月29日公告のU、に、P、出願GB2162124Aには 、フルオロポリマー被覆ポリイミドの金m箔への接着強さを改良するためフロオ ロボリマー/微小ガラスの接着フィルムの使用が開示されている。このり、に。In the past, adhesive strength and cohesive strength in polymer/metal laminates To increase this, attempts have been made to use separate adhesive layers or adhesion promoters. Examples and In the application GB2162124A published on January 29, 1986, , to improve the adhesion strength of fluoropolymer-coated polyimide to gold foil. The use of a robolimer/microglass adhesive film is disclosed. Konori, to.

P、出願には使用した金li!箔を特定していないが、同明細書の第4rA10 〜12行に仮定されている「機械的からみ合イJ  (IleChaniCal  1nter−10Ck )の理論ではポリマー/金属界面での金属表面を表面 粗さが得られるように予備処理し、これが金属箔とポリマーの機械的からみ合い のIIとして役立つことを示唆している。P, gold li used for application! 4rA10 of the same specification, although the foil is not specified. ~ “Mechanical entanglement I J (IleChaniCal)” assumed in line 12 According to the theory of 1nter-10Ck), the metal surface at the polymer/metal interface is Pre-treatment to obtain roughness, which results in mechanical entanglement of the metal foil and polymer. It is suggested that it will be useful as II.

接着促進剤または金属表面処理の代替または補足として、先行技術ではラミネー トを形成するポリマーの「結合適性J  (Cementability )を 増加させるために接着させるぺぎポリマーの表面の電気放電処理を利用しできた 。As an alternative or supplement to adhesion promoters or metal surface treatments, the prior art The bondability of the polymer that forms the Electrical discharge treatment of the surface of PEGI polymer could be used to bond to increase .

例えばU、S、P、に3,676.566には、コラム5の42〜67行にラミ ネートに対する接着促進のためポリアルキレンイミン接着促進剤と引合せた電気 放電の使用が開示されている。For example, 3,676.566 for U, S, P, has a laminate in column 5, lines 42-67. Electricity combined with polyalkyleneimine adhesion promoter to promote adhesion to The use of electrical discharge is disclosed.

金属および(または)ポリマーの上記の処理のすべては、費用がかかり、かつ、 ラミネート製造時間が増加する。さらに、接着促進剤の使用ラミネート全体の材 料費に加算され、かつ、ラミネート製造において別個の費用のかかる処理工程が 加わる。従りて、@属またはポリマー表面を前処理する必要がなく、別個の接着 促進剤を必要としない新規のポリマー/金属ラミネートおよびその製造方法は商 業的見地からも極めて望ましいことであろう。All of the above treatments of metals and/or polymers are expensive and Laminate production time increases. Additionally, the use of adhesion promoters throughout the laminate Additional costs and separate costly processing steps in laminate production join. Therefore, there is no need to pre-treat the polymeric or polymeric surfaces, and separate adhesion Novel polymer/metal laminates and methods of making them that do not require accelerators are commercially available. This would be extremely desirable from a commercial standpoint.

本発明の要約 本発明は、少なくとも1層の平滑な、未処理、鍛錬金属およびフルオロアルコキ シビニルエーテルコポリマー(E、1. du Pont de Nemour s & Co@pany、 Inc、の製品であり、TEFLON PF八とし て商用で入手できる)、パーフルオロ化ポリ(エチレン−コーポリエチレン)   (E、1. duPont de Nemours & Company、  Inc、の製品であり、TEFLON FEPとして商用で入手できる)、ポリ (エチレン−コーチドラフルオロエチレン)  (E、1. (ILI Pon t deNelOurS & co+1pany、 Inc、の製品であり、T EFZELとして商用で入手できる)、液晶ポリアクリルエステル、シンジオタ クチック1.2−ポリブタジェン、ポリエンアミン、ポリシアノアリールエーテ ル、ポリアリールスルホン(Amoeo Chemicalの製品であり、RA DELとして商用で入手できる)、ポリノルボルネン(cdr CheliB  S、^、の製品であり、N0RSOREXとして商用で入手できる)およびポリ アリールケトンから成る群から選ばれるポリマーの少なくとも1層から成るポリ マー/金属ラミネートに関する。Summary of the invention The present invention provides at least one layer of smooth, untreated, wrought metal and fluoroalkoko Sivinyl ether copolymer (E, 1. du Pont de Nemour It is a product of s & Co@pany, Inc. and has TEFLON PF eight. commercially available), perfluorinated poly(ethylene-copolyethylene) (E, 1. duPont de Nemours & Company, Inc., commercially available as TEFLON FEP), Polymer (Ethylene-cochdolafluoroethylene) (E, 1. (ILI Pon It is a product of T deNelOurS & co+1pany, Inc. commercially available as EFZEL), liquid crystal polyacrylic ester, Syndiota Cutic 1.2-polybutadiene, polyenamine, polycyanoarylethe RA, polyaryl sulfone (a product of Amoeo Chemical, RA commercially available as DEL), polynorbornene (cdr CheliB) It is a product of S, ^, and commercially available as N0RSOREX) and poly Polymer comprising at least one layer of a polymer selected from the group consisting of aryl ketones. Regarding metal/metal laminates.

他の態様において、本発明は平滑な、未処理、鍛錬金属の表面と、バーフルオロ アクコキシ エーテルコポリマー、パーフルオロ化ポリ(エチレンーコーブロビ レン)、ポリ(エチレンーコーテトラフルオOエチレン)、液晶ポリアリールエ ステル、シンジオタクチック1,2−ポリブタジェン、ポリエンアミン、ポリシ アノアリールエーテル、ポリアリールスルホン、ポリノルボルネンおよびポリア リールケトンから成る群から選ばれるポリマーとをラミネートを形成するのに十 分な貼合わせ条件下で接触させることから成るポリマー/金属ラミネートの製造 方法に関する。In other embodiments, the invention provides smooth, untreated, wrought metal surfaces and bar-fluorinated metal surfaces. Acukoxy ether copolymer, perfluorinated poly(ethylene-copropylene) ), poly(ethylene-coated tetrafluoroethylene), liquid crystal polyarylene Stell, syndiotactic 1,2-polybutadiene, polyenamine, polysil Anoaryl ethers, polyarylsulfones, polynorbornenes and polyas to form a laminate with a polymer selected from the group consisting of Production of polymer/metal laminates consisting of contact under suitable lamination conditions Regarding the method.

他の態様において、本発明は平滑な、未処理、鍛錬鋼の表面と、ポリマーの層の 表面とを貼合せ条件下で接触させる方法から成り、該ポリマーが熱可塑性であり 、かつ、接着促進剤を含まず、該方法がラミネーションの前または問にポリマー の前記の表面の任意の放電(例えばプラズマ、火炎、コロナまたは他電気的放電 )前処理を含まない前記の方法によって製造されたポリマー/銅ラミネートに関 する。In other embodiments, the invention provides a smooth, untreated, wrought steel surface and a layer of polymer. The polymer is thermoplastic and the polymer is thermoplastic. , and does not contain an adhesion promoter, and the method does not contain a polymer before or after lamination. Any electrical discharge (e.g. plasma, flame, corona or other electrical discharge) on the surface of the ) for polymer/copper laminates produced by the above method without pretreatment. do.

さらに他の態様において、本方法は平滑な、未処理、鍛錬鋼の表面と、表面電気 放電前処理をしないポリマ一層とを、ラミネートを形成するのに十分な貼合せ条 件下で接触させることによるポリマー/銅ラミネートの製造方法に関する。In yet other embodiments, the method provides a smooth, untreated, wrought steel surface and a surface electrical A single layer of polymer without pre-discharge treatment can be laminated with sufficient laminating strips to form a laminate. The present invention relates to a method of manufacturing a polymer/copper laminate by contacting under conditions.

上記および他の態様は、次の本発明の詳細な説明を読むことによって明らかにな るであろう。These and other aspects will become apparent from reading the following detailed description of the invention. There will be.

本発明の詳細な説 明 中におけるポリマーのすぐれた凝集および接着強さを特徴とする新規のポリマー /金属ラミネートを生成させることが見出された。如何なる理論にも拘束された くないが、本発明の発明者は、本発明の方法によって製造されたラミネート中に おけるポリマーのすぐれた凝集および接着強さの少なくとも一部は未処理鍛錬金 属に対するポリマーのこの選ばれた群の化学的接着効率に帰因するものと推測1 る。ポリマーは、一般に銅/酸化銅表面とポリマーとの間の双楊子一双楊子、誘 導双極子、水素、配位、イオンまたは共有原子価結合を利用できることは周知で ある。発明者は、本発明に有用なポリマーはエポキシ化合物およびポリイミドの ように水素結合に主として依存するものでないと仮定する。すなわち、これらは 接着の水分崩壊を受は難く、かつ、これらの接着強さはエポキシ、ボリアミド樹 脂より大きい。Detailed description of the invention Akira A novel polymer characterized by excellent cohesion and adhesive strength of the polymer in /metal laminates. bound by any theory However, the inventors of the present invention have found that At least some of the polymer's excellent cohesive and adhesive strength in untreated wrought metal We speculate that this is due to the chemical adhesion efficiency of this selected group of polymers to the genus 1 Ru. Polymers generally have a double-layered toothpick between the copper/copper oxide surface and the polymer. It is well known that guiding dipole, hydrogen, coordination, ionic or covalent valence bonds can be used. be. The inventors believe that polymers useful in the present invention include epoxy compounds and polyimides. Assume that it does not depend primarily on hydrogen bonding. That is, these are Adhesives are less susceptible to moisture degradation, and their adhesive strength is higher than that of epoxy and polyamide resins. Bigger than fat.

本発明において有用なポリマーは、一般に、結晶性金属、金属酸化物または金属 水酸化物表面層と化学結合を形成することができる。好ましくはこれらの化学結 合は、分散性、Van de Waals、水素結合、イオン、FMffl/キ レ−ジョン、または共有原子価結合である。さらに好ましくは、結合は双極子− 双楊子、イオン、配位/キレ−ジョンまたは共有原子価であり、最も好ましくは これらはイオン、共有原子価または配位/キレ−ジョン型結合である。従って、 好ましいポリマーは低ヒドロキシル含量を有するが、高い局部的双極子能率を有 する。これらには、キレート、配位またはイオンまたは共有結合を形成できる官 能基またはペンダントを配合することができる。Polymers useful in the present invention generally include crystalline metals, metal oxides or metals. Can form chemical bonds with the hydroxide surface layer. Preferably these chemical bonds In the case of dispersion, Van de Waals, hydrogen bond, ion, FMffl/key region, or covalent bond. More preferably, the bond is dipole- dipstick, ionic, coordination/chelation or covalent, most preferably These are ionic, covalent or coordination/chelation type bonds. Therefore, Preferred polymers have low hydroxyl content but high local dipole efficiency. do. These include functional groups capable of forming chelating, coordinating or ionic or covalent bonds. Functional groups or pendants can be incorporated.

これに加えて、ポリマーは金属イオンの存在下で酸化または熱的分解に対して安 定でなければならない。In addition to this, the polymer is stable against oxidation or thermal degradation in the presence of metal ions. must be fixed.

このラミネートは、ラミネート中における金属とポリマーとの界面を十分に接触 および接着させる温度、圧力および時間、ポリマ一層と金iamとを接触させる ことによって製造される。This laminate ensures sufficient contact between the metal and polymer interfaces in the laminate. and bonding temperature, pressure and time to contact the polymer layer with the gold iam. Manufactured by

周知のように、接着はポリマーのTOまたはTmより梢々高い温度で熱圧縮する ことによって得られる。得られる接着層の剥離強さは、貼合せ温度および圧力並 びにこの圧力/温度に対する暴露時間に依存する。好ましくは貼合せ温度は、ポ リマーのガラス転移温度または融点より5°〜50℃高い温度である。さらに好 ましくは1、ポリマーの表面層のみが溶融するがポリマ一本体は固体のままかポ リマーのガラス転移温度または融点の直下である。最も好ましくは、貼合せの間 ポリマー表面が約1〜約10μの深さまでTQまたはTmより約5°〜約50℃ 間の高い温度に維持され、一方ポリマー基材の本体はTgまたはTmより約5° 〜約50℃低い温度を有する。好ましくは貼合せ混度は約350T〜約800下 の間、さらに好ましくは約500’F〜約800°Fの間である。使用する貼合 せ圧力は選択する特定のポリマーの溶融粘度および使用する貼合せ温度によって 約1〜約10゜o o o psigの間、さらに好ましくは約100〜約5. 000 psioの間、最も好ましくは約300〜約2.000psigの間で ある。貼合せ時間は、好ましくは約0.01〜約2.00分の間、ざらに好まし くは約0.1〜約0.5分の間、最も好ましくは約0.1〜約0.2分の間であ る。貼合せするためには銅およびポリマ一層を本明細書に記載のような貼合せ条 件下で典型的にホットプレス中において接触させる。あるいはまた、この貼合せ をカレンダーロール閤の溶融貼合せまたは連続ベルト貼合せによって行うことも できる。As is well known, adhesives are heat compressed at temperatures much higher than the TO or Tm of the polymer. obtained by The peel strength of the resulting adhesive layer depends on the lamination temperature and pressure. and the time of exposure to this pressure/temperature. Preferably the lamination temperature is The temperature is 5° to 50° C. higher than the glass transition temperature or melting point of the remer. even better Preferably 1, only the surface layer of the polymer melts, but the main body of the polymer remains solid or remains porous. Just below the glass transition temperature or melting point of the rimer. Most preferably during lamination About 5° to about 50°C below TQ or Tm until the polymer surface reaches a depth of about 1 to about 10μ while the body of the polymer substrate is maintained at an elevated temperature of about 5° below Tg or Tm. ~50°C lower temperature. Preferably, the lamination mixture is about 350T to about 800T. more preferably between about 500'F and about 800F. Lamination used The lamination pressure depends on the melt viscosity of the particular polymer selected and the lamination temperature used. Between about 1 and about 10° psig, more preferably between about 100 and about 5.0 psig. 000 psio, most preferably between about 300 and about 2.000 psig. be. The lamination time is preferably between about 0.01 and about 2.00 minutes. preferably between about 0.1 and about 0.5 minutes, most preferably between about 0.1 and about 0.2 minutes. Ru. To laminate, a single layer of copper and polymer is applied to the laminate as described herein. Contact is made under conditions, typically in a hot press. Alternatively, this pasting This can also be done by melt lamination using calender rolls or continuous belt lamination. can.

本発明において使用される金属は、一般に、鋼、銅またはアルミニウム、好まし くは銅である平滑、未処理、鍛錬金属である。例えば平滑なa4箔は一般に、1 ×10〜50 X 1 Q ’Jnchの間の深さまでの表面平滑度を有する。The metal used in the invention is generally steel, copper or aluminum, preferably Copper is a smooth, untreated, wrought metal. For example, smooth A4 foil generally has 1 It has a surface smoothness up to a depth of between ×10 and 50×1Q’Jnch.

本発明によって平滑な銅箔を使用する利点の一つは、粗くした金属表面を付与す るため処理した箔を得る費用に比較して比較的安価なことである。追加の利点は 、平滑な箔はラミネートの電気的性能を改良する。One of the advantages of using smooth copper foil according to the present invention is that it imparts a roughened metal surface. Therefore, it is relatively inexpensive compared to the cost of obtaining treated foil. Additional benefits are , the smooth foil improves the electrical performance of the laminate.

本発明において利用する好ましい金属、すなわち、銅は、一般に平滑、未処理、 鍛錬鋼であり、かつ、銅箔(一般に、2Qmi1未満、好ましくは約25〜約5 0μの間の厚さを有する)、銅ストリップ(一般に、約10〜約2011の間の 厚さを有する)および銅シート(一般に1011以上の厚さを有する)が含まれ る。本明細lにおいて使用する「未処理」の用語は、銅箔表面が貼合せ前に表面 粗化処理に処されていない(これは表面清浄化処理または洗浄には処されている )ことの意味で使用する。この型の銅は箔の形態にあるとき、一般に、1X10  〜10 X 10−6inchの間の深さまでの表面平滑度を有する。本発明 によってこの型の箔を使用する利点の一つは、粗い表面を付与するように処理し た箔を得るための費用に比較して比較的安価なことである。The preferred metal utilized in the present invention, namely copper, is generally smooth, untreated, wrought steel and copper foil (generally less than 2Qmi1, preferably from about 25 to about 5 copper strip (generally having a thickness between about 10 and about 2011 ) and copper sheets (generally having a thickness of 1011 or more). Ru. As used herein, the term "untreated" means that the copper foil surface is Not subjected to roughening treatment (this has not been subjected to surface cleaning treatment or cleaning) ) used to mean something. This type of copper, when in foil form, is generally 1X10 It has a surface smoothness to a depth of between ~10 x 10-6 inches. present invention One of the advantages of using this type of foil is that it is treated to give it a rough surface. It is relatively inexpensive compared to the cost of obtaining foil.

平滑、未処理、鍛錬銅箔を、ポリマーフィルムに貼合せる前に、MoCl3 ( メチレンクロライド)中に5秒間浸漬することによって洗浄し、次いで風乾した ときラミネートの剥離強さが40〜100%増加することが本発明によって見出 され、従って、この処理は意義あるものと考えられる。この溶剤による洗浄は、 「圧延」 (鍛錬)銅箔の表面粒子構造中における痕跡量のマシン油/グリース を除去し、それによってこれらの油がラミネート層界面に移行し、接着層の形成 を妨害するのを防止するものと思われる。メチレンクロライド中における超音波 洗浄は手による洗浄(かるくかく拌する)よりさらに30層接着力を向上させる 。The smooth, untreated, wrought copper foil was coated with MoCl3 ( methylene chloride) for 5 seconds and then air-dried. It has been found by the present invention that the peel strength of the laminate increases by 40 to 100% when Therefore, this treatment is considered significant. Cleaning with this solvent Traces of machine oil/grease in the surface particle structure of “rolled” (wrought) copper foil , thereby migrating these oils to the laminate layer interface and forming an adhesive layer. It is thought to prevent interference with Ultrasound in methylene chloride Cleaning improves adhesion by 30 layers more than cleaning by hand (gently stirring) .

ラミネートに使用する場合の銅箔は、約0.1〜約20、O■11の間、さらに 好ましくは約0.5〜約10.0m1lの間、最も好ましくは約1.0〜約2. 011の間の広い範囲の箔厚を各層において有することができる。Copper foil when used for lamination is between about 0.1 and about 20, O■11, and even Preferably between about 0.5 and about 10.0 ml, most preferably between about 1.0 and about 2.0 ml. A wide range of foil thicknesses between .011 and .011 can be had in each layer.

本発明において使用されるポリマ一層は一般に、次の機能特性を備えている:( ロ)tA層を好ましくは化学結合によって一緒に結合させる、(ハ)銅層間に絶 縁誘電障壁を付与する、および(02層の銅層間の一定の支持および分離を維持 する。これに加えて、ポリマ一層は腐食性薬剤、特に水および空気による侵食か ら銅表面を保護することができる。本発明において使用するのに好ましいポリマ ーは、好ましさの程度の減少する順で;パーフルオロアルコキシビニルエーテル コポリマー(E、1. du Pont deNemours & Compa ny、 Inc、の製品であり、TEFLON PFAとして商用で入手できる )、パーフルオロ化ポリ(エチレンーフーブロピレン)  (E、1.du P ont deNelOurS & C01pan17. Inc、の製品であり 、TEFLOI4 FEPとして商用で入手できる)、ポリ(エチレン−コーチ ドラフルオロエチレン)  (E、1. du Pont de Hemour s &Compay、 Inc、の製品であり、TEFZELとして商用で入手 できる)、液晶ポリアリールエステル(Ce1aneseの製品であるVECT RAまたはoartcoの製品であるXYDARとして商用で入手でき゛る)、 シンジオタクチック1.2−ポリブタジェン、ポリエンアミン、ポリシアノアリ ールエーテル、ボリアリールスルホン(^■oco Chemicalの製品で あり、RADELとして商用で入手できる)、ポリノルボルネン(Cd F   Cheiie S、A、の製品であり、N03OREXとして商用で入手できる )、およびボリアリールケトンである。The polymer layer used in the present invention generally has the following functional properties: ( b) bonding the tA layers together, preferably by chemical bonding; (c) discontinuing between the copper layers; provide an edge dielectric barrier and maintain constant support and separation between the copper layers of the (02) layer. do. In addition to this, polymer layers are susceptible to attack by corrosive agents, especially water and air. It can protect the copper surface from scratches. Preferred polymers for use in the present invention - in order of decreasing degree of preference; perfluoroalkoxy vinyl ethers; Copolymer (E, 1.du Pont deNemours & Compa ny, Inc. and is commercially available as TEFLON PFA. ), perfluorinated poly(ethylene-fupropylene) (E, 1.du P ont deNelOurS & C01pan17. It is a product of Inc. , TEFLOI4 (commercially available as FEP), poly(ethylene-coated) Fluoroethylene) (E, 1. du Pont de Hemour It is a product of S&Compay, Inc. and is commercially available as TEFZEL. ), liquid crystal polyarylester (VECT, a product of Ce1anese) (commercially available as RA or XYDAR, a product of oartco), Syndiotactic 1,2-polybutadiene, polyenamine, polycyanoantide polyether, boaryaryl sulfone (^■oco Chemical products) (commercially available as RADEL), polynorbornene (CdF It is a product of Cheiie S, A, and is commercially available as N03OREX. ), and boriyal ketones.

上記のポリマーは広い範囲のモノマー比、一般に、90〜10〜10〜90部の 一つのモノマー:他のモノマーの重量比から製造できる。The above polymers have a wide range of monomer ratios, generally from 90 to 10 to 10 to 90 parts. It can be produced from a weight ratio of one monomer to another monomer.

ラミネート中におけるポリマ一層は、広い厚さ範囲、好ましくは約0.5〜約1 25m1l、さらに好ましくは約0.5〜約10.0m1t 、最も好ましくは 約1.0〜約5.Quitの間を有することができる。電子工業用途に対するポ リマ一層の厚さの特に好適な範囲は約50〜約150μの間である。The single layer of polymer in the laminate has a wide thickness range, preferably from about 0.5 to about 1 25 ml, more preferably about 0.5 to about 10.0 ml, most preferably Approximately 1.0 to approximately 5. It is possible to have a Quit period. Points for electronic industrial applications A particularly preferred range of reamer layer thickness is between about 50 and about 150 microns.

本発明によって、上記のポリマーの平滑な鍛錬銅に対する良好な接着は、別箇の 接着剤層またはポリマーもしくは金属処理工程を必要とすることなく達成できる 。According to the present invention, good adhesion of the above polymers to smooth wrought copper is achieved in a separate manner. Achieved without the need for adhesive layers or polymer or metal processing steps .

本発明において有用なポリマーに各種の添加剤を配合できる。例えば、添加剤が 上記し、かつ、本発明に関連するポリマー/銅接着特性を損傷しない限り、固体 充填剤、顔料、潤滑剤、酸化防止剤などをポリマーに配合できる。この観点から 、固体充填剤は一般に銅箔に対する所望の接着特性を妨害することが予想される ため、銅箔と接触させるポリマー諭表面には使用しないことが好ましい。例えば 寸法安定性を付与するために充填ポリマーの使用を所望の場合には、ポリマー/ 銅界面に非充填中間層を使用するのが好ましい。この見地から、接着図に添加さ れる添加剤、充填剤、潤滑剤、可塑剤、安定剤およびカップリング剤がボリン− マトリックスによって含有され、かつ、金属−ポリマー界面に移行し、金属−ポ リマー接着層を弱化させるかまたは界面に隣接するポリマー中に弱い境界層を形 成しないように十分に不動性を保持することが好ましい。Various additives can be incorporated into the polymers useful in the present invention. For example, additives Solid as described above and without damaging the polymer/copper adhesion properties relevant to this invention. Fillers, pigments, lubricants, antioxidants, etc. can be incorporated into the polymer. From this point of view , solid fillers are generally expected to interfere with the desired adhesion properties to copper foils. Therefore, it is preferable not to use it on the polymer surface that will come into contact with copper foil. for example If it is desired to use a filled polymer to provide dimensional stability, the polymer/ Preferably, an unfilled interlayer is used at the copper interface. From this point of view, it is added to the adhesive diagram. Additives, fillers, lubricants, plasticizers, stabilizers and coupling agents that are contained by the matrix and migrated to the metal-polymer interface, where the metal-polymer Remer weakens the adhesion layer or forms a weak boundary layer in the polymer adjacent to the interface. It is preferable to maintain sufficient immobility so that it does not occur.

充填ラミネートの場合に、充填剤のほぼ臨界充填容積部分までの充填剤量ならば 接着性に不利な影響を与えない、かつ、最小30〜40@量%部分が一般に寸法 安定性付与に必要であることが予想される。In the case of filled laminates, if the filler amount is approximately up to the critical filling volume part of the filler, A minimum of 30 to 40% by weight is generally the size that does not adversely affect adhesion. It is expected that this is necessary for imparting stability.

用法安定性または熱I8張係数のような物理的性質を増加させ、または比較的安 価なrBJ層を使用し、平滑、未処理鍛錬箔に対してはその接着性のためにrA J Bを使用することにより費用を最小にするため、多IIA−B−A型ポリマ ーを使用できる。Dosage stability or increase physical properties such as thermal I8 tensile modulus, or rBJ layer is used, and rA is used for its adhesion to smooth, untreated wrought foil. To minimize cost by using JB, a multi-IIA-B-A type polymer can be used.

次の実施例を説明の目的で示すが、これは本発明を如何なる方法においても限定 するものではない。これらの実施例において、ポリマー樹脂コアーはシート押出 機で周知の圧縮成形法を使用してS+脂顆粒から製造した。各種の商用ポリマー およびメチレンクロライド洗浄(前記したように)した平滑、未処理、鍛錬銅を 使用したうミネートは、実施例に記載した温度、圧力および時間で熱圧縮成形機 中において製造した。これらの実施例に開示したように製造したラミネートで行 った剥離強さ試験は、その内容が本明細書の参考になるIn5titute f orInterconnecting and Packaging Elec tronic C1rcuit(IPC)試験法!1Q2.4.9、Revis ion A、 1982年12月付に従って実施した。要約すれば、この試験に は、1    ・ 箔を /8+nch幅のストリップで遮蔽し、次いで、非遮蔽、露出金属をエツ チングすることから成る。残留する1/8inch幅の金属/ポリマーラミネー トストリップをIn5trOn試験ジグに取付け、90°の角度で剥取る。試料 を剥取るのに要した力を記録し、その最低値を1inChのストリップ幅当りの 力として報告する。The following examples are presented for illustrative purposes and do not limit the invention in any way. It's not something you do. In these examples, the polymer resin core is sheet extruded. The granules were manufactured from S+ fat granules using the well-known compression molding process. Various commercial polymers and methylene chloride cleaned (as described above) smooth, untreated, wrought copper. The laminate used was molded using a heat compression molding machine at the temperature, pressure, and time described in the example. Manufactured inside. with laminates manufactured as disclosed in these examples. The peel strength test conducted by orInterconnecting and Packaging Elec tronic C1rcuit (IPC) test method! 1Q2.4.9,Revis ion A, December 1982. In summary, this test is 1 ・ Shield the foil with a /8+nch wide strip, then etch the unshielded, exposed metal. consists of ching. Residual 1/8 inch wide metal/polymer laminate Attach the strip to the In5trOn test jig and peel off at a 90° angle. sample Record the force required to peel off the strip and calculate the lowest value per inch of strip width. Report as a force.

実施例1〜7 各種のポリマー/銅ラミネートの製造および試験実施例1 E、1. du Pont de He5ours and Companyか ら購入できル0.005’ FJg(7)14粋+7)TEFLON PFA   340フル;tOポリマーフィルムのシートを平滑な、未処理鍛錬銅箔の2枚 の「1−0LInCe J鋼スキン層の間に置いた。得られたアセンブリーを成 形プレス中に置き、235psioの圧力下、650下の温度で300秒間浸透 (soak)させた。次いで、金型中の圧力を2500psioに増加させ、3 0秒間雑維持た。プレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、空 温まで冷却させた。上記したIPCH!験に従って、遮蔽、エツチングおよび剥 離した。Examples 1-7 Manufacturing and Testing Example 1 of Various Polymer/Copper Laminates E.1. du Pont de He5ours and Company? Can be purchased from Le 0.005' FJg (7) 14+7) TEFLON PFA 340 full sheet of tO polymer film with two sheets of smooth, untreated wrought copper foil '1-0LInCe was placed between the J steel skin layers.The resulting assembly was Place in a mold press and infiltrate for 300 seconds at a temperature below 650 psio under a pressure of 235 psio (soak) The pressure in the mold was then increased to 2500 psio and 3 It was maintained for 0 seconds. Open the press, remove the laminated assembly, and empty Cooled to warm temperature. IPCH mentioned above! Shielding, etching and stripping according to I let go.

得られた剥離強さは、1inch当り5 poand以上であった。The peel strength obtained was 5 pounds per inch or more.

実施例2 E、1. du Pont de Nemours and Companyか ら購入できる0、005“厚さの純粋なTEFLON  100 Nフルオロポ リマーフィルムのシートを平滑な、未処理鍛錬銅箔の2枚のr 1− ounc e Jの銅スキン層の間に置いた。得られたアセンブリーを成形プレス中に置き 、 235.psigの圧力下、675″Fの温度で300秒間浸透させた。次 いで、金型中の圧力を1875psioに増加させ、30秒間保持した。プレス を開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、空温まで冷却させた。得ら れたラミネートを上記のIPC試験に従い遮蔽、エツチングおよび剥離し、1i nch当り5 pound以上の剥離強さが得られた。Example 2 E.1. du Pont de Nemours and Company? 0,005" thick pure TEFLON 100N fluoropolymer available from A sheet of rimmer film is rolled into two sheets of smooth, untreated wrought copper foil. e placed between the copper skin layers of J. Place the resulting assembly in a forming press , 235. Infiltrated for 300 seconds at a temperature of 675″F under a pressure of psig. The pressure in the mold was then increased to 1875 psio and held for 30 seconds. press was opened and the laminated assembly was removed and allowed to cool to air temperature. Obtained The laminate was shielded, etched and peeled according to the above IPC test, and 1i A peel strength of 5 pounds or more per nch was obtained.

実施例3 E、1. du Pont de Nemours and Companyか ら購入できる0、005″厚さの純粋なTEFZEL PE−TFE 500  LZポリ(エチレン−コーチドラフルオロエチレン)フルオロポリマーフィルム のシートを平滑な、未処理、鍛II!銅箔の2枚の「i −0unce J鋼ス キン層の間に置いた。得られたアセンブリーを成形プレス中に置き、80psi の圧力下、650下の温度で100秒間浸透させた。次いで、金型中の圧力を5 60psiに増加させ、30秒間保持した。プレスを開放し、ラミネートされた アセンブリーを取出し、室温まで冷却させた。、得られたラミネートを上記のI PC試験に従って、遮蔽、エツチングおよび剥離し、i 1nch当り5 po und以上の剥離強さが得られた。Example 3 E.1. du Pont de Nemours and Company? Pure TEFZEL PE-TFE 500 with 0,005″ thickness available from LZ poly(ethylene-cochidrafluoroethylene) fluoropolymer film Smooth, untreated, forged sheet of II! Two pieces of copper foil "i-0unce J steel Placed between the layers. Place the resulting assembly in a forming press and press at 80 psi. Infiltration was carried out for 100 seconds at a temperature of below 650°C under a pressure of . Then the pressure in the mold was increased to 5 Increased to 60 psi and held for 30 seconds. Open the press and laminated The assembly was removed and allowed to cool to room temperature. , the resulting laminate was Shielded, etched and peeled according to PC test, 5 po per i nch A peel strength greater than or equal to und was obtained.

11■A 純粋の液晶ポリエステル(Ce1anese corp、がらのVECrRA  A  900シリース)のシートを、周知の圧縮成形法によって形成した。約5 −11の厚さを有するこの物質のシートを平滑な、未処理、鍛錬箔のr 1−o unce Jの2枚のスキン層間に置いた。得られたアセンブリーを成形プレス 中に1き、そして、30 psigの圧力下、640″Fの温度で300秒間浸 透させた。金型中の圧力を次いで2100pSigに増加させ、30秒間保持し た。プレスを次いで開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで 冷却させた。得られたラミネートを上記のIPC試験に従って遮蔽、エツチング および剥離して1inch当り5 poand以上の剥離強さが得られた。11■A Pure liquid crystal polyester (Ce1anese corp, Garano VECrRA) A 900 series) sheet was formed by a well-known compression molding method. Approximately 5 A sheet of this material with a thickness of -11 r of smooth, untreated, wrought foil It was placed between two skin layers of ounce J. The resulting assembly is molded in a press and soak for 300 seconds at a temperature of 640″F under a pressure of 30 psig. I let it see through. The pressure in the mold was then increased to 2100 pSig and held for 30 seconds. Ta. The press is then opened and the laminated assembly is removed and allowed to come to room temperature. Allowed to cool. The resulting laminate was screened and etched according to the above IPC test. After peeling, a peel strength of 5 pounds or more per inch was obtained.

K1■1 純粋なシンジオタクチック1.2−ポリブタジェン(Japan 5ynthe tic RLlbtler C0IIDanl/からのRB830)のシートを 周知の圧縮成形法またはキャスト−フィルム押出法を使用し、顆粒樹脂から製造 した。約5−11の厚さを有するこの物質のシートを平滑な、未処理、鍛錬鋼箔 の2枚のr 1−ounce J vAスキン層間にWいた。4+!られたアセ ンブリーを成形プレス中に諏き、60 psiの圧力下、500°Fの温度で1 00秒間浸透させた。次いで全型中の圧力を1250psiに増加させ、そして 30秒間保持した。プレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、 室温にまで冷却させた。得られたラミネートを上記したIPC試験に従って遮蔽 、エツチングおよび剥離して11nch当り2 、 Opound以上の剥離強 さが得られた。K1■1 Pure syndiotactic 1,2-polybutadiene (Japan 5ynthe RB830 sheet from tic RLlbtler C0IIDanl/ Manufactured from granular resin using well-known compression molding or cast-film extrusion methods did. A sheet of this material with a thickness of about 5-11 mm is made of smooth, untreated, wrought steel foil. There was a W between the two r1-ounce JvA skin layers. 4+! The assets that were The assembly was placed in a molding press and heated at a temperature of 500°F under a pressure of 60 psi. It was allowed to penetrate for 00 seconds. The pressure in the entire mold was then increased to 1250 psi, and It was held for 30 seconds. Open the press, remove the laminated assembly, Allowed to cool to room temperature. The resulting laminate was screened according to the IPC test described above. , etching and peeling 2 per 11 nch, Peeling strength greater than Opound Sasa was obtained.

実施例6 E、1. du pont de Ne1OurS and couanyから のTEFLONPF^350またはTEFLON PFA  340、パーフル オロアルコキシビニル エーテル コポリマーを、680下で運転されている2 軸スクリユ一押出機を使用し、周知の配合押出法によって30部のシリカニア0 部のポリマーのfit比でヒユームドシリカと配合した。押出物をペレット化し 、次いでホッパードライヤー中において350下で24時間乾燥させた。周知の 圧縮成形法を使用してシリカ充填TEFLON PFAのシートを形成した。約 511の厚さを有するこの物質のシートを平滑な未処理、鍛錬銅箔の2枚の「1 − Hnce Jシート間に置いた。得られたアセンブリーを成形プレス中に四 き、30pSigの圧力下、680下の温度で300秒間浸透さゼた。金型中の 圧力を、次いで1875psioに増加させ、そして30秒間保持した。次いで プレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで冷却させた 。得られたラミネートを上記のIPc試験に従って遮蔽、エツチング、および剥 離して、1inch当り3 poand以上の剥離強さが得られた。Example 6 E.1. From du pont de Ne1OurS and couany TEFLON PF^350 or TEFLON PFA 340, purfle The oloalkoxyvinyl ether copolymer was run under 680 Using a single-screw extruder, 30 parts of silica 0 It was blended with fumed silica at a polymer fit ratio of 50%. Pelletize the extrudate , then dried in a hopper dryer under 350°C for 24 hours. well known A sheet of silica-filled TEFLON PFA was formed using a compression molding method. about A sheet of this material having a thickness of - Placed between Hnce J sheets. The resulting assembly was placed in a molding press. It was then infiltrated for 300 seconds at a temperature of 680°C under a pressure of 30pSig. in the mold Pressure was then increased to 1875 psio and held for 30 seconds. then The press was opened and the laminated assembly was removed and allowed to cool to room temperature. . The resulting laminate was screened, etched and stripped according to the IPc test described above. When separated, a peel strength of 3 points or more per inch was obtained.

実施例7 E、1. du Pont de Nemours and Companyか らのTEFLONPF^350またはTEFLON PFA  340、パーフ ルオロアルコキシビニル エーテル コポリマーを、680下で運転されている 2軸スクリユ一押出機を使用し、周知の配合押出法によって30部のシリカニア 0部のポリマーのff1fi比でヒユームドシリカと配合した。押出物をペレッ ト化し、次いでホッパードライヤー中、350下で24時間乾燥させた。周知の 圧縮成形法を使用して、シリカ充填PFAのシートを形成した。約311の厚さ を有するこの物質のシートを純粋のTEFLON PFA  340または35 0の2枚の”l、0+ilの庁さのシート間においた。Example 7 E.1. du Pont de Nemours and Company? TEFLON PF^350 or TEFLON PFA 340, perf fluoroalkoxyvinyl ether copolymer operated under 680 Using a twin-screw extruder, 30 parts of silicania was added by a well-known compound extrusion method. It was formulated with fumed silica at an ff1fi ratio of 0 parts of polymer. Pellet the extrudate and then dried in a hopper dryer under 350°C for 24 hours. well known A compression molding method was used to form sheets of silica-filled PFA. Thickness of about 311 A sheet of this material with pure TEFLON PFA 340 or 35 I placed it between the two sheets of 0 "l, 0 + il".

約511の厚さのこの3層アセンブリーを「1−□unce J平滑な、未処理 、鍛錬銅箔の2枚のシート間に置いた。This 3-layer assembly with a thickness of approximately 511" , placed between two sheets of wrought copper foil.

得られた5層アセンブリーを成形プレス中に置き、30psigの圧力下、68 0下の温度で600秒間浸透させた。The resulting 5-layer assembly was placed in a molding press and compressed under a pressure of 30 psig at 68 Infiltration was carried out for 600 seconds at a temperature below zero.

次いで金型中の圧力を1875psiOに増加させ、そして60秒間保持した。The pressure in the mold was then increased to 1875 psiO and held for 60 seconds.

プレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、’Jlまで冷却させ た。得られたラミネートを、上記のIPC試験に従って、遮蔽、エツチングおよ び剥離して、i 1nch当り5 pound以辷の剥離強さが得られた。Open the press, remove the laminated assembly and allow to cool to 'Jl. Ta. The resulting laminate was screened, etched and etched according to the above IPC test. A peel strength of 5 pounds or more per 1 nch was obtained.

製造および試験 ポリ(フェニレン サルファイド)は、平滑な、洗浄した鍛錬銅箔には接着しな いが、本実施例に証明されるようにこれはPFAに接@する。従って、平滑な、 洗浄したi錬銅に対して良好な接着が得られるPFAをrAJ層として使用する A−B−A型多層フィルムにおけるrBJ内層としてポリ(フェニレン サルフ ァイド)が使用できる。ポリ(フェニレン サルファイド)のような物質の使用 は、完成ラミネートの電気的性能または機械的強度に有意な不利の影響を及ぼす ことなく材料費の著しい減少(これら物質の安価なことによる)が予想される。Manufacturing and testing Poly(phenylene sulfide) will not adhere to smooth, cleaned wrought copper foil. However, as demonstrated in this example, it is in contact with the PFA. Therefore, smooth, PFA is used as the rAJ layer because it has good adhesion to cleaned i-wrought copper. Poly(phenylene sulfate) as rBJ inner layer in A-B-A type multilayer film ) can be used. Use of substances such as poly(phenylene sulfide) has a significant adverse effect on the electrical performance or mechanical strength of the finished laminate. Significant reductions in material costs (due to the low cost of these materials) are expected without any problems.

70部のポリマーに対して約30部のガラスから成り、Ph1llips Ch emicalから得られるRYTON R3、ガラス充填ポリ(フェニレン サ ルファイド)を、周知の圧縮成形法を使用してシートを形成した。約311の厚 さのこの物質のシートを純粋なTEFLON340または350の2枚のi、Q mil厚さのシートの間に置いた。約511の厚さのこの3m!アセンブリーを 、r 1−0LlnCe Jの平滑な、未処理、鍛錬−銅箔の2枚のシートの間 に置いた。Consisting of approximately 30 parts glass to 70 parts polymer, Ph1llips Ch RYTON R3 obtained from chemical, glass-filled poly(phenylene resin) ruphide) was formed into sheets using well-known compression molding techniques. Thickness of about 311 The sheet of material is made of pure TEFLON 340 or 350 i,Q placed between mil thick sheets. This 3m is about 511 thick! assembly , r 1-0LlnCe J smooth, untreated, wrought - between two sheets of copper foil I placed it on.

得られた5層アセンブリーを成形プレス中に置き、3゜psigの圧力下、68 0下の温度で600秒間浸透させた。The resulting 5-layer assembly was placed in a molding press and heated at 68° C. under a pressure of 3° psig. Infiltration was carried out for 600 seconds at a temperature below zero.

次いで、金型中の圧力を1875+)Silllに増加させ、そして60秒間保 持した。プレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温に冷却 させた。得られたラミネートを上記のIPC試験に従って、遮蔽、エツチングお よび剥離して、11nch当り5 poand以上の剥離強さが得られた。The pressure in the mold was then increased to 1875+) Sill and held for 60 seconds. I held it. Open the press, remove the laminated assembly and cool to room temperature. I let it happen. The resulting laminate was screened, etched and etched according to the above IPC test. A peel strength of 5 points or more per 11 nch was obtained.

特別の実施例として(実施例9参照)、PFAはFEPに接着し、従ってFEP または[充填FEPJがA−B−A型多層ポリマーフィルムにおけるrBJ 1 mとして使用できることを証明する。As a particular example (see Example 9), PFA adheres to FEP and thus or [rBJ in A-B-A type multilayer polymer film filled with FEPJ 1 Prove that it can be used as m.

E、1. du Pant de Ne1ours and Companyか らのTEFZEL500 LZ、ポリ(エチレン−コーチドラフルオロエチレン を、680下で運転される2軸スクリユ一押出機を使用し、周知の配合法を利用 して30部のシリカニア0部のポリマーの1m比でヒユームドシリカと配合した 。押出物をベレット化し、次いでホッパードライヤー中において350下で24 時間乾燥させた。周知の圧縮成形法を使用することによって、シリカ充[TEF ZELのシートを形成した。約311の厚さのこの物質のシートを、純粋のTE FLON340または350の2枚の1.011の厚さのシートの間に置いた。E.1. Du Pant de Ne1ours and Company? TEFZEL500 LZ, poly(ethylene-cochidrafluoroethylene) using a twin-screw extruder operated at 680 °C and using well-known compounding methods. and blended with fumed silica in a 1 m ratio of 30 parts of silicania and 0 parts of polymer. . The extrudate was pelletized and then dried in a hopper dryer under 350 Let dry for an hour. By using well-known compression molding techniques, silica-filled [TEF] A ZEL sheet was formed. A sheet of this material approximately 311 mm thick is made of pure TE It was placed between two 1.011 thick sheets of FLON 340 or 350.

約511の厚さのこの31!アセンブリーを「i −QnuCe Jの平清な、 未処理、鍛錬銅箔の2枚のシート間に置いた。得られた5層アセンブリーを、成 形プレス中に置き、30 psigの圧力下、680下の温度で600秒間浸透 させた。次いで、金型中の圧力を2100Dsigに増加させ、60秒保持した 。次いでプレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで冷 却させた。得られたラミネートを[記したIPc試験に従って、側Lエツチング および剥離して、i 1nch当り5 DOund以上の剥離強さが得られた。This 31 is about 511 thick! The assembly is "i-QnuCe J's plain, Placed between two sheets of untreated, wrought copper foil. The resulting five-layer assembly was Place in a mold press and infiltrate for 600 seconds at a temperature below 680°C under a pressure of 30 psig. I let it happen. The pressure in the mold was then increased to 2100 Dsig and held for 60 seconds. . The press is then opened and the laminated assembly is removed and allowed to cool to room temperature. I made him reject it. The resulting laminate was subjected to side L etching according to the IPc test described. After peeling, a peel strength of 5 DOounds or more per 1 nch was obtained.

実施例10〜11 他のポリマー/Ii!ラミネートの 1実施例10 周知の圧縮成形またはキャスト−フィルム押出法を使用することによって、純粋 のポリノルボルネン(CdFChemie  S、A、からのN0R3OREX  14)のシートを製造した。Examples 10-11 Other polymers/Ii! Laminate 1 Example 10 By using well-known compression molding or cast-film extrusion techniques, pure N0R3OREX from polynorbornene (CdFChemie S, A, A sheet of 14) was manufactured.

約511の厚さのこの物質のシートを「1−□unce Jの平滑な、未処理、 鍛錬鋼箔の2枚のシート間に置いた。A sheet of this material approximately 511 mm thick was cut into a smooth, untreated, It was placed between two sheets of wrought steel foil.

得られたアセンブリーを成形プレス中に置き、30 psi。The resulting assembly was placed in a forming press at 30 psi.

の圧力下、520下の温度で300秒間浸透させた。金型中の圧力を、次いで2 100psiaに増加させ、30秒間保持した。次いでプレスを開放し、ラミネ ートされたアセンブリーを取出し、室温まで冷却させた。得られたラミネートを 、上記のIPC試験に従って、遮蔽、エツチングおよび剥離して11nCh当り 2 pound以上の剥離強さが得られた。Infiltration was carried out for 300 seconds at a pressure of 520°C and a temperature of 520°C. The pressure in the mold was then increased to 2 Increased to 100 psia and held for 30 seconds. Then open the press and laminate The heated assembly was removed and allowed to cool to room temperature. The resulting laminate , per 11 nCh after shielding, etching and peeling according to the above IPC test. A peel strength of 2 pounds or more was obtained.

実施例11 周知の圧縮成形またはキャスト−フィルム押出法を使用することによって純粋の ポリアリールスルホン(Ag+oco ChemicalからのRADEL A −400)のシートを形成した。約511の厚さのこの物質のシートを「1−o unce Jの平滑な、未処理、鍛錬−銅箔の2枚のシートの間に置いた。得ら れたアセンブリーを成形プレス中に誼き、30 psigの圧力下、700〒の 温度で300秒間浸透させた。次いで金型中における圧力を1860psi。Example 11 pure by using well-known compression molding or cast-film extrusion methods. Polyaryl sulfone (RADEL A from Ag+oco Chemical -400) sheet was formed. A sheet of this material approximately 511 mm thick is called "1-o placed between two sheets of smooth, untreated, wrought-copper foil. Obtained The assembled assembly was placed in a molding press and subjected to 700 psig under a pressure of 30 psig. Infiltration was carried out for 300 seconds at temperature. The pressure in the mold was then increased to 1860 psi.

に増加させ、そして30秒問保持した。次いでプレスを開放し、ラミネートされ たアセンブリーを取出し、室温まで冷却させた。得られたラミネートを、上記の IPC試験に従って、遮蔽、エツチングおよび剥離してi 1nch当り2po und以上の剥離強さが得られた。and held for 30 seconds. Then the press is opened and the laminated The assembled assembly was removed and allowed to cool to room temperature. The resulting laminate was According to IPC test, shielded, etched and peeled to 2po per 1nch. A peel strength greater than or equal to und was obtained.

このように、本発明によって、TEFLON PFA、 TEFLONFEP  、 TEFZEL、ポリノルボルネン、シンジオタクチック1.2−ポリブタジ ェンおよび液晶ボリアリールエステルは、未処理鍛錬銅箔に対してすぐれた接着 力を有する熱可塑性物質である。銅箔上には表面粗さは本質的に存在しないから 、発明者等は接11機構は化学的性質のものであり、単に機械的結合だけではな いと推測している。Thus, according to the present invention, TEFLON PFA, TEFLON FEP , TEFZEL, polynorbornene, syndiotactic 1,2-polybutadiene Polyester and liquid crystalline boary aryl esters exhibit excellent adhesion to untreated wrought copper foil. It is a thermoplastic material with strength. There is essentially no surface roughness on copper foil. , the inventors believe that the contact mechanism is of chemical nature and is not simply a mechanical bond. I'm guessing that.

これに対して、PT FEおよびエポキシおよびビスマレイミドのような慣用の 高性能熱硬化性樹脂は、平滑な鍛錬銅に対しては不良な接着性を示す、次の比較 例A−Cを参照されたい。In contrast, conventional materials such as PTFE and epoxies and bismaleimides High Performance Thermoset Resins Show Poor Adhesion to Smooth Wrought Copper, Following Comparison See Examples AC.

実施例12 純粋(DTEFLON−PTFE (E、1 du Pont de Nemo urs and(oa+panyの製品)のスカイブト(5kived)シート を商用供給業者から購入した。約311の厚さのこの物質のシートを、r 1− ounce Jの平滑な、未処理、鍛錬−銅箔の2枚のシートの間に置いた。得 られたアセンブリーを成形プレス中に置き、そして30 DS+Qの圧力下、7 00下の温度で300秒間浸透させた。次いt1金型中における圧力を2100 psigに増加させ、30秒間保持した。Example 12 Pure (DTEFLON-PTFE (E, 1 du Pont de Nemo urs and (oa+pany product) skived sheet was purchased from a commercial supplier. A sheet of this material with a thickness of about 311 r ounce J of smooth, untreated, wrought-copper foil. profit The assembled assembly was placed in a forming press and under a pressure of 30 DS+Q, 7 Infiltration was carried out for 300 seconds at a temperature below 0.00. Next, the pressure in the t1 mold was increased to 2100 psig and held for 30 seconds.

次いでプレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温にまで冷 却させた。得られたラミネートを上記の■PC試験に従って、遮蔽、エツチング および剥離して、1inCh当り1 pound未満の剥離強さが得られた。The press is then opened and the laminated assembly is removed and allowed to cool to room temperature. I made him reject it. The obtained laminate was shielded and etched according to the above PC test. After peeling, a peel strength of less than 1 pound per 1 inch channel was obtained.

比較例 Pl[[および熱硬化性ポリマー/銅ラミネートの純粋のTEFLON −PI FE (E、 1. du Pont de Ne1ours andcoi+ Danyの製品)のスカイブトシートを、商業用供給業者から購入した。約31 1の厚さのこの物質のシートを、「1− QIInCe Jの平滑な、未処理、 鍛錬鋼箔の2枚のシート間に置いた。得られたアセンブリーを成形プレス中に置 き、モして30psioの圧力下、700下の温度で300秒間浸透させた。次 いで金型中における圧力を2100 psigに増加させ、30秒間保持した。Comparative example Pure TEFLON - PI and thermoset polymer/copper laminate FE (E, 1. du Pont de Ne1ours andcoi+ Dany's Skybutt sheet was purchased from a commercial supplier. Approximately 31 A sheet of this material with a thickness of It was placed between two sheets of wrought steel foil. Place the resulting assembly in a forming press. It was then infiltrated for 300 seconds at a pressure of 30 psio and a temperature of below 700 psio. Next The pressure in the mold was then increased to 2100 psig and held for 30 seconds.

次いでプレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで冷却 させた。得られたラミネートを上記のIPC試験に従って、遮蔽、エツチングお よびI11離し、11nch当り1 pountl未調の剥離強さが得られた。The press is then opened and the laminated assembly is removed and allowed to cool to room temperature. I let it happen. The resulting laminate was screened, etched and etched according to the above IPC test. and I11 separation, and a peel strength of 1 pointl per 11 nch was obtained.

比較例B Shell O’il Companyからのエポキシ樹II T−アルEPO N828 (ジグリシジルエーテルビスフェノールラクトン)を、11部のエポ キシ:1部のTETAの比でTETA(トリエチレンテトラミン)と混合した。Comparative example B Epoxy Tree II T-Al EPO from Shell O’il Company N828 (diglycidyl ether bisphenol lactone) was added to 11 parts of Epoxy Mixed with TETA (triethylenetetramine) in a ratio of xylene: 1 part TETA.

この混合物を、ドクターブレードアプリケーターを使用して0.005”の厚ざ にr 1−ounce Jの平清な、未処理ri錬−銅箔のシートに適用した。Apply this mixture to a 0.005” thick applicator using a doctor blade applicator. It was applied to a sheet of clear, untreated ri-wrought copper foil of 1-ounce J.

銅箔の第2シートをエポキシ混合物の上部に置き、全アセンブリーを5 psi gの圧力下、160℃で3時間プレス中において硬化させた。次いでプレスを開 放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで冷却させた。得られた ラミネートを上記のIPC試験に従って、遮蔽−、エツチングおよび剥離して、 1inch当り0.8pOund未満の剥離強さが得られた。Place a second sheet of copper foil on top of the epoxy mixture and heat the entire assembly to 5 psi. It was cured in a press at 160° C. for 3 hours under a pressure of 1.3 g. Then open the press The laminated assembly was removed and allowed to cool to room temperature. obtained The laminate was screened, etched and peeled according to the IPC test described above. A peel strength of less than 0.8 pOund per inch was obtained.

比較例C Rhone−Pou 1encからのにERIHIDElo 50ビスマレイミ ド樹脂を、2部のKerilide : 1部のcurethaneの比でCu retianct (メチレンジアニリン)と混合した。混合物をN−メチルピ ロリドン中に溶解させて50重坦%溶液を[dした。この溶液をドクターブレー ドアプリケーターを使用して「1−ounce Jの平滑な、未処理、鍛錬−銅 箔に0.005”の厚さに適用し、そして真空炉中、60℃で12時間加熱して 溶剤を追出した。銅箔の第2シートをt’lW8混合物の上部に置き、そして全 アセンブリーをプレス中において5 psioの圧力下、60℃で4時間加熱し た。次いでプレスを開放し、ラミネートされたアセンブリーを取出し、室温まで 冷却させた。得られたラミネートを上記のIPC試験に従い、遮蔽、エツチング および剥離して、i 1nch当りQ 、5 pound未満の剥離強さが得ら れた。Comparative example C ERIHIDElo 50 Bismaleimi from Rhone-Pou 1enc Cu resin in a ratio of 2 parts Kerilide: 1 part curethane. mixed with retianct (methylene dianiline). The mixture was diluted with N-methylpi A 50% w/w solution was prepared by dissolving in Lolidone. Apply this solution with a doctor blade. 1-ounce J smooth, untreated, wrought-copper using a door applicator applied to foil to a thickness of 0.005” and heated in a vacuum oven at 60°C for 12 hours. The solvent was expelled. Place a second sheet of copper foil on top of the t’lW8 mixture and The assembly was heated in a press at 60°C for 4 hours under a pressure of 5 psio. Ta. The press is then opened and the laminated assembly is removed and allowed to come to room temperature. Allowed to cool. The resulting laminate was screened and etched according to the above IPC test. and peeling to obtain a peel strength of less than Q, 5 pounds per 1 nch. It was.

手続補正書(自発) 平成2年3月22日Procedural amendment (voluntary) March 22, 1990

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 1.少なくとも1層の平滑な、未処理、鍛錬金属および、パーフルオロアルコキ シビニルエーテルコポリマー、パーフルオロ化ポリ(エチレン−コーブロピレン )、ポリ(エチレン−コーテトラフルオロエチレン)、液晶ポリアリールエステ ル、シンジオタクチック1,2−ポリブタジエン、ポリエンアミン、ポリシアノ アリールエーテル、ポリアリールスルホン、ポリノルボルネンおよびポリアリー ルケトンから成る群から選ばれるポリマーの少なくとも1層から成ることを特徴 とするポリマー/金属ラミネート。1. At least one layer of smooth, untreated, wrought metal and perfluoroalkoko Cyvinyl ether copolymer, perfluorinated poly(ethylene-copropylene) ), poly(ethylene-coated tetrafluoroethylene), liquid crystal polyarylester syndiotactic 1,2-polybutadiene, polyenamine, polycyano Aryl ethers, polyarylsulfones, polynorbornenes and polyaryls characterized by comprising at least one layer of a polymer selected from the group consisting of Polymer/metal laminate. 2.前記のポリマーが、90:10〜10:90の間のモノマーの重量比を有す るコポリマーである請求の範囲第1項のラミネート。2. the polymer has a weight ratio of monomers between 90:10 and 10:90 The laminate of claim 1 which is a copolymer comprising: 3.前記の平滑な、未処理、鍛錬金属が、約25〜約50μの間の厚さを有する 請求の範囲第1項のラミネート。3. The smooth, untreated, wrought metal has a thickness of between about 25 and about 50 microns. A laminate according to claim 1. 4.前記のポリマーの層が、約50〜約150μの間の厚さを有する請求の範囲 第1項のラミネート。4. 5. The layer of polymer has a thickness of between about 50 and about 150 microns. Lamination of item 1. 5.前記のポリマーの層が前記の表面では充填剤を含まないが、水リマーの前記 の層の内部部分に充填剤を追加的に含有する請求の範囲第1項のラミネート。5. The layer of polymer is free of filler on the surface, but the layer of water remer is free of filler. 2. A laminate according to claim 1, further comprising a filler in the inner part of the layer. 6.前記の充填剤が、ヒュームドSiO2、ガラス繊維、セラミック粒子、ホイ スカー上の繊維およびポリアラミド繊維から成る群から選ばれる請求の範囲第5 項のラミネート。6. The filler may be fumed SiO2, glass fiber, ceramic particles, foil, etc. Claim 5 selected from the group consisting of fibers on scars and polyaramid fibers. Laminate of sections. 7.平滑な、未処理、鍛錬金属の表面と、バーフルオロアルコキシビニルエーテ ルコポリマー、バーフルオロ化ポリ(エチレン−コーブロピレン)、ポリ(エチ レン−コーテトラフルオロエチレン)、液晶ポリアリールエステル、シンジオタ クチック1,2−ポリブタジエン、ポリエンアミン、ポリシアノアリールエーテ ル、ポリアリールスルホン、ポリノルボルネンおよびポリアリールケトンから成 る群から選ばれるポリマーとを、ラミネートを形成するのに十分な貼合せ条件下 で接触させることを特徴とするポリマー/金属ラミネートの製造方法。7. Smooth, untreated, wrought metal surface and barfluoroalkoxy vinyl ether copolymers, perfluorinated poly(ethylene-copropylene), poly(ethylene-copropylene), (Ren-cotetrafluoroethylene), liquid crystal polyarylester, syndiota Cutic 1,2-polybutadiene, polyenamine, polycyanoarylethe polyaryl sulfone, polynorbornene and polyaryl ketone. under lamination conditions sufficient to form a laminate. A method for producing a polymer/metal laminate, characterized in that the polymer/metal laminate is contacted at 8.前記のポリマーをPFA、液晶ポリエステル、10:90〜40:60の範 囲のPE:TFEのモル比を有するエチレンとテトラフルオロエチレンとのコポ リマー、FEPおよび1,2−ポリブタジエンから成る群から選ぶ請求の範囲第 7項の方法。8. The above polymer is PFA, liquid crystal polyester, in the range of 10:90 to 40:60. A copolymer of ethylene and tetrafluoroethylene with a molar ratio of PE:TFE of claim 1 selected from the group consisting of remer, FEP and 1,2-polybutadiene. Method of Section 7. 9.前記の平滑な、鍛錬金属が、約25〜約50μの間の厚さを有する請求の範 囲第7項の方法。9. 3. The smooth, wrought metal having a thickness of between about 25 and about 50 microns. The method in Box 7. 10.前記のポリマー層が、前記の表面では充填剤を含まないが、ポリマーの前 記の層の内部部分に充填剤を追加的に含有する請求の範囲第7項の方法。10. Said polymer layer is free of filler at said surface but in front of said polymer. 8. The method of claim 7, further comprising a filler in the interior portion of said layer. 11.前記の充填剤を、ヒュームドSiO2、ガラス繊維、セラミック粒子、ホ イスカー上の繊維、ポリアミド繊維から成る群から選ぶ請求の範囲第10項の方 法。11. The above-mentioned filler can be used as fumed SiO2, glass fiber, ceramic particles, or The person according to claim 10 selected from the group consisting of fibers on chairs and polyamide fibers. Law. 12.前記の接触を、約350°F〜約800°Fの間の温度で行う請求の範囲 第7項の方法。12. Claims wherein said contacting is performed at a temperature between about 350°F and about 800°F. Method of Section 7. 13.前記の接触を、約1〜約10,000psigの間の圧力で行う請求の範 囲第7項の方法。13. Claims wherein said contacting is performed at a pressure between about 1 and about 10,000 psig. The method in Box 7. 14.平滑な、未処理、鍛錬銅の表面と、ポリマー層の表面とを貼合せ条件下で 接触させることから成る方法によって製造されたポリマー/銅ラミネートであっ て、前記のポリマーが熱可塑性であり、かつ、接着促進剤を含まず、前記の方法 に貼合せの前または間、ポリマーの前記の層の前記の表面へのいかなる放電前処 理も含まないことを特徴とする前記のポリマー/銅ラミネート。14. Under bonding conditions, a smooth, untreated, wrought copper surface and a polymer layer surface are bonded together. A polymer/copper laminate produced by a method consisting of contacting wherein said polymer is thermoplastic and does not contain an adhesion promoter; Any electrical discharge pre-treatment to said surface of said layer of polymer before or during lamination. The polymer/copper laminate described above is characterized in that it does not contain any minerals. 15.前記のポリマーが、バーフルオロアルコキシビニルエーテルコポリマー、 パーフルオロ化ポリ(エチレン−コーブロピレン)、ポリ(エチレン−コーテト ラフルオロエチレン)、液晶ポリアリールエステル、シンジオタタチック1,2 −ポリブタジエン、ポリエンアミン、ポリシアノアリールエーテル、ポリアリー ルスルホン、ポリノルボルネンおよびポリアリールケトンから成る群から選ばれ る請求の範囲第14項のラミネート。15. The polymer is a perfluoroalkoxy vinyl ether copolymer, Perfluorinated poly(ethylene-copropyrene), poly(ethylene-coated) (fluoroethylene), liquid crystal polyarylester, syndiotactic 1,2 -Polybutadiene, polyenamine, polycyanoaryl ether, polyaryl selected from the group consisting of rusulfone, polynorbornene and polyaryl ketone. A laminate according to claim 14. 16.前記の平滑な鍛錬銅が、約25〜約50μの間の厚さを有する請求の範囲 第14項のラミネート。16. 12. The smooth wrought copper has a thickness of between about 25 and about 50 microns. Section 14 Lamination. 17.前記のポリマーの層が、約50〜約150μの間の厚さを有する請求の範 囲第14項のラミネート。17. 10. The polymeric layer of claim 1, wherein said layer of polymer has a thickness of between about 50 and about 150 microns. Laminate of item 14. 18.前記のポリマーの層が、前記の表面では充填剤を含まないが、前記のポリ マーの層の内部部分に充填剤を追加的に含有する請求の範囲第14項のラミネー ト。18. a layer of said polymer is free of filler on said surface, but A laminate according to claim 14 additionally containing a filler in the inner part of the layer of mer. to. 19.前記の充填剤が、ヒュームドSiO2、ガラス繊維、セラミック粒子、繊 維、粒子、ヒュームドSiO2のホイスカーおよびビーズ、ガラス、セラミック スおよびポリアラミドから成る群から選ばれる請求の範囲第18項のラミネート 。19. The filler may be fumed SiO2, glass fiber, ceramic particles, or fiber. fibers, particles, fumed SiO2 whiskers and beads, glass, ceramics 19. The laminate of claim 18 selected from the group consisting of . 20.平滑な、未処理、鍛錬銅の表面と、何等の表面放電前処理をしていないポ リマー層とを、ラミネートの形成に十分な貼合せ条件下で接触させることを特徴 とするポリマー/銅ラミネートの製造方法。20. Smooth, untreated, wrought copper surfaces and ports without any surface discharge pretreatment. The rimer layer is brought into contact with the laminate under lamination conditions sufficient to form a laminate. A method for manufacturing a polymer/copper laminate. 21.前記のポリマーを、バーフルオロアルコキシエーテルコポリマー、バーフ ルオロ化ポリ(エチレンーコーブロピレン)、ポリ(エチレン−コーテトラフル オロエチレン)、液晶ポリアリールエステル、シンジオタクチック1,2−ポリ ブタジエン、ポリエンアミン、ポリシアノアリールエーテル、ポリアリールスル ホン、ポリノルボルネンおよびポリアリールケトンから成る群から選ぶ請求の範 囲第20項の方法。21. The above polymer can be converted into a barfluoroalkoxyether copolymer, a barf Fluorinated poly(ethylene-copropylene), poly(ethylene-coated trifluoride) (oroethylene), liquid crystal polyarylester, syndiotactic 1,2-poly Butadiene, polyenamine, polycyanoaryl ether, polyaryl sulfur Claims selected from the group consisting of polynorbornene, polynorbornene and polyaryl ketone. The method of Box 20. 22.前記の平滑な、鍛錬銅が、約25〜約50μの間の厚さを有する請求の範 囲第20項の方法。22. 2. The smooth, wrought copper having a thickness of between about 25 and about 50 microns. The method of Box 20. 23.前記のポリマー層が前記の表面では充填剤を含まないが、前記のポリマー 層の内部部分には追加的に充填剤を含有する請求の範囲第20項の方法。23. Although said polymer layer is free of filler at said surface, said polymer 21. The method of claim 20, wherein the inner portion of the layer additionally contains a filler. 24.前記の充填剤を、ヒュームドSiO2、ガラス繊維、セラミック粒子、繊 維、粒子、ヒュームドSiO2のホイスカーおよびビーズ、ガラス、セラミック スおよびポリアラミドから成る群から選ぶ請求の範囲第23項の方法。24. The above-mentioned fillers can be added to fumed SiO2, glass fibers, ceramic particles, fibers, etc. fibers, particles, fumed SiO2 whiskers and beads, glass, ceramics 24. The method of claim 23, wherein the material is selected from the group consisting of carbon fibers and polyaramids. 25.前記の接触を、約350°F〜約800°Fの間の温度で行う請求の範囲 第20項の方法。25. Claims wherein said contacting is performed at a temperature between about 350°F and about 800°F. The method of Section 20. 26.前記の接触を、約1〜約10.000psigの間の圧力で行う請求の範 囲第20項の方法。26. Claims wherein said contacting is performed at a pressure between about 1 and about 10,000 psig. The method of Box 20.
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL9002406A (en) * 1990-06-27 1992-01-16 Ferro Tech METHOD FOR CONNECTING ENAMELLED OBJECTS AND THE OBTAINED COMPOSITION
NL9002022A (en) * 1990-09-14 1992-04-01 Hoogovens Groep Bv METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING A METAL THERMOPLAST METAL LAMINATE AND LAMINATE THEREFORE
JP2939477B2 (en) * 1994-08-16 1999-08-25 エイチエヌエイ・ホールディングス・インコーポレーテッド Liquid crystal polymer-metal laminate and method for producing the laminate
EP0936230A4 (en) * 1996-10-29 2001-01-31 Nippon Zeon Co Modified thermoplastic norbornene polymer and process for the production thereof
KR20000052823A (en) 1996-10-29 2000-08-25 나카노 카쯔히코 Modified thermoplastic norbornene polymer and process for the production thereof
EP1820637B1 (en) * 2004-12-09 2011-03-30 Asahi Glass Company, Limited Laminate for printed wiring board
DE602005027743D1 (en) * 2004-12-20 2011-06-09 Asahi Glass Co Ltd LAMINATE FOR FLEXIBLE PCB
US20060246294A1 (en) * 2005-04-27 2006-11-02 Landi Vincent R Circuit materials, circuits, and methods of manufacture thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55123626A (en) * 1979-03-19 1980-09-24 Fujitsu Ltd Production of copper-plated laminate
JPS5858227A (en) * 1981-09-30 1983-04-06 Sumitomo Metal Ind Ltd Reducing device for skid mark
JPS592839A (en) * 1982-06-09 1984-01-09 グリコ・アクチエンゲゼルシヤフト Laminated composite material and its manufacture
JPS61199689A (en) * 1985-03-01 1986-09-04 出光興産株式会社 Substrate for printed circuit

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3676566A (en) * 1967-08-18 1972-07-11 Du Pont Laminar structures of polyimide and fluorocarbon polymers
US3702788A (en) * 1971-03-05 1972-11-14 Minnesota Mining & Mfg Insulated electrical conductors coated with polyimide-amide modified polyimide
US4313996A (en) * 1979-05-21 1982-02-02 The Dow Chemical Company Formable metal-plastic-metal structural laminates
KR910009491B1 (en) * 1984-07-09 1991-11-19 Rogers Corp Flexible circuit lamination
US4634631A (en) * 1985-07-15 1987-01-06 Rogers Corporation Flexible circuit laminate and method of making the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55123626A (en) * 1979-03-19 1980-09-24 Fujitsu Ltd Production of copper-plated laminate
JPS5858227A (en) * 1981-09-30 1983-04-06 Sumitomo Metal Ind Ltd Reducing device for skid mark
JPS592839A (en) * 1982-06-09 1984-01-09 グリコ・アクチエンゲゼルシヤフト Laminated composite material and its manufacture
JPS61199689A (en) * 1985-03-01 1986-09-04 出光興産株式会社 Substrate for printed circuit

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