JPH02501715A - 排ガス中の汚染物質濃度低減のための多段式プロセス - Google Patents

排ガス中の汚染物質濃度低減のための多段式プロセス

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JPH02501715A JP63507151A JP50715188A JPH02501715A JP H02501715 A JPH02501715 A JP H02501715A JP 63507151 A JP63507151 A JP 63507151A JP 50715188 A JP50715188 A JP 50715188A JP H02501715 A JPH02501715 A JP H02501715A
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スプラグ,バリー ノルマン
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 排ガス中の汚染物質濃度低減のための多段式プロセス 関連特許出願 本出願は本願の出願人の出願にかかる下記に示、す同時係属出願の米国特許出願 の発明の部分係続出願である; 名義人Epperly、Peter−11ob lyn。
5bulof、Jr、およびSul I 1van、 1987年 3月 6日 出願の米国特許出願番号 022,71G、「排ガス中の汚染物質濃度低減に関 する多段式プロセス」:名に人E El l) e r I yおよび SLI  l l 1Van、 1987年 2月13日出願の米国特許出願番号014 ,431. r排ガス中の窒素酸化物低減プロセス」;名義人5ullivan 、 1987年3月 6日出願の米国特許出願番号 022.799 r炭化水 素または過酸化水素を使用する排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」; 名義 人 E p p e r l yおよび5ullivan、 1987年 3月 13日出願の米riot特許出願番号025,35Or糖を使用する排ガス中の 窒素酸化物に対する低減プロセス」;名(1人 E 11 【1 e r I  Vおよび5ullivan、1981年3月13日出願の米国特許出願番号 0 25,493 r複素環式炭化水素を使用する排ガス中の窒素酸化物を低減する ためのプロセス」;名義人5ullivanおよびEpperly、 1987 年 4月15日出するためのプロセス」:名義人Epperly、 OoLea ryおよび5ullivan、 1987年 5月14日出願の米国特許出願番 号 050.198 r窒素酸化物還元およびその他の汚染物質の生成を最小化 するためのプロセスに名儀人Epperly、 5ullivanおよびSpr ague、 1987年9月23日出願の米国特許出願番号100,128 r 排ガス中の窒素酸化物の還元プロセス」: 名義人Epperly、 5ull ivanおよびSprague、 1987年10月14日出願の米国特許出願 番号108,779 r排ガス中の窒素酸化物低減のプロセス」; 名義人Ep perly。
peter−■ob lyn および5ullivan、1987年12月14 日出願の米国特許出願番号 132,801 rアンモニア洗浄」: 名義人E pperly、 O’Leary、 5ullivanおよびSprague、  1988年 2月 2日出願の米国特許出願番号155,894 r他の汚染 物質生成を最小化しながら窒素酸化物を低減するためのプロセス」;名に人Ep perly、 Peter−Hoblyn、 SLIulof、Jr、、5ul livanおよびsprague、 1988年6月15日出願の米国特許出願 番号 207,292 rアンモニウム塩を利用して排ガス中の汚染物質濃度を 低減する多段式プロセス」願番号207,382 r他の汚染物質生成を最小化 しながら窒素酸化物を低減するためのプロセス」、これらの特許出願にもとづく 開示は本明細書中に引例として具体的に示されている。
技術分野 本発明は汚染物質、特に炭素質燃料の燃焼で発生する排ガス中の窒素酸化物(N Ox)のような汚染物質の濃度を低減するプロセスに関する。好ましくは排ガス は炭素質燃料の燃焼から生じる酸素リッチの排ガスである。
酸素濃度および採用される空気/燃料の比が火焔温度を高くするような値である 時には、炭素質燃料をより完全に燃焼させ、−酸化炭素および未燃焼の炭化水素 の排出を減少させることができる。
化石燃料を使用して大型用役ボイラーを燃やすときは、約2000’Fを越える 温度、典型的には約22006Fから約30006Fの温度が発生する。残念な ことに、このような高温ならびにホットスポットは、温度が非常に高いので酸素 および窒素のフ、リーラジカルが生成し窒素酸化物として化学的に結合するため にサーマルN Oxを生成させる傾向がある。1300φFから1600 ’F の温度で稼働する循環流動床式ボイラーでさえ大量の窒素酸化物が生成する。さ らにこのような高温ならびにより高温のホットスポットは、またS03の如き汚 染物質の生成を起こしがちであるが、これは温度が非常に高いので二酸化硫黄の 酸化が起こり二酸化硫黄と原子状酸素 (0)が結合して三酸化硫黄が出来るか らである。この効果は高硫黄燃料を使用するときには増幅される。
さらに低温のボイラー内にある酸化バナジウムや酸「ヒ鉄のような触媒金属によ って誘起される二酸化硫黄と分子状酸素(02)との接触反応によって三酸化硫 黄が低温で生成しうる。したがって三酸化硫黄は循TM流動床式ボイラー中でさ え生成する。
窒素酸化物は上記の如く大型用役循環流動床式ボイラーを稼働したとき燃焼排ガ ス中に認められる厄介な汚染物質であり、スモッグ中の主要な刺激物である。さ らに窒素酸化物は太陽光と炭化水素の存在で一連の反応によって起きる光化学ス モッグ生成といわれるプロセスを経ることがしばしばあると信じられている。そ の上、窒素酸化物は成用に対する重要な原因物質である。
硫黄酸化物、特に803もまた厄介な汚染物質と考えられている。二酸化硫黄は (尿素などを使用する窒素酸化物を還元するプロセスで発生する副生物としての アンモニアのような)排ガス流内のアンモニア(NH3)と結合して硫酸水素ア ンモニウム(NHH3O)を生成するが、この化合物はボイラーの壁や熱交換器 表面、特に空気加熱器に好ましくない沈殿物を作るものである。
残念なことには、ボイラー内が高温であることは排ガス洗浄や触媒グリッドのよ うなNOおよび(または)303濃度を低減する最も普通の方法を非経済的また は実施不能あるいはその両方にする。
背景的技術 排ガス中の窒素酸化物のレベルを化学的に減少させるための色々な多くのプロセ スや組成物が提案されている。これらの提案では排ガスに、溶液または、そのま −の形で化学物質を直接添加することが必要であって、No を相当に低下させ ることができる、しかしながら、経済上実用的な滞留時間でNOを50%を越え て、好ましくは75%よりも大きな割合で減少させるために、特定された別々の 温度ゾーンで多くの異なる化合物を加えるプロセスは、これまで見つかっていな い、さらに、ある技術ではNOを減少することはできても、その代わりにアンモ ニアおよび(または)−酸化炭素の如き汚染物質を必ず好ましくないレベルにし てしまうのである。また単一の一体化した10セスで以て窒素酸化物の低減なら びに三酸化硫黄の有意な低減が共に出来る先行技術はない。
米国特許第3,900,554号においてL V O11はアンモニア、特定の アンモニア前駆物質またはそれらの溶液を1600”Fから2000°Fの範囲 の温度で一酸化窒素と混合するため排ガスに注入することにより燃焼排ガス中の 一酸化窒素(NO)を減少させることを開示している。 Lyonはまた130 0″′F位の低い排ガス温度でアンモニアの有効利用のために水素や各種の炭化 水素のような還元剤を使用することを開示している。この特許ではアンモニア組 成物の段階的注入を示唆しているが、相当量の他の汚染物質を生成することなく NOx低下を最高にするため異なる温度ゾーンで別個の組成物を注入することの 効果については何も教えていないのである。
米国特許第 4.208.386号に於いてArandらによると、酸素リッチ の排ガスにおいては、尿素をそのま冑または溶液の形で添加使用して窒素酸化物 濃度を減少するために、排ガス温度は1300”Fから2000”Fの範囲内に ならねばならないことが開示されている。アルカン系溶媒は水素、−酸化炭素な どのように有効稼働温度を11300’Fよりも低くする低下剤であるといわれ ている。増量して注入する提案も開示されているが、これらの増分注入で尿素組 成物が同一のものであり、すべて同一の温度と酸素濃度の条件に合っている場所 でなされねばならない、 Arandらの米国特許第 4,325,924号で も同しことが言える。
例えば、 BOWerSの1986年 9月10日出願の米国特許出願番号90 6.671号(米国特許第4,751,065号)およびBoversの198 5年10月 4日出願の米国特許出願番号784,828 <米国特許第4,7 19,092号)で先行技術として、窒素酸化物を減少させるために間隔を置い た多くの場所で成る組成物を注入することを開示しているが、これらの開示はい ずれも温゛度や酸素濃度のような条件が同一になっている場所で同じ組成物を注 入することに関する。
さらに、排ガス中の窒素酸化物の濃度低減が出来るだけ大きいことが非常に望ま しいが、NO濃× 度を低減する先行技術システムはそれらの技術を利用して達成されるNO減少量 だけでなく、N0xX を低減するプロセスの副産物として発生するアンモニアや一酸化炭素のような他 の汚染物質の量によって制約されている。
従って、望まれていることは、その他の汚染物質レベルを適当に低く保ちながら 窒素酸化物および(または)三酸化硫黄の濃度を大幅に低減する、プロセスであ る。
定義 本明細書の目的に関し、下記の定義が用いられる。
「温度ゾーン」はその点で定常状態下で排ガス温度が成る範囲内にある場所を意 味する。
「処理剤」は還元性化学物質すなわちNO,[黄酸化物(SO)あるいは他の汚 染物質を低減しうる汚染低減化学物質と、好ましくは一種の溶媒とを含む組成物 を意味する。
「尿素」および「アンモニア」は化成尿素およびアンモニアそれ自体、ならびに 効果に於て等価な化合物を意味する。これらの化合物には、炭酸アンモニウム、 ギ酸アンモニウム、シュウ酸アンモニウム、水酸化アンモニウム、各種の安定ア ミン類および、それらの水溶液がある。
指数を意味する。
「酸素化炭化水素」は1級炭化水素鎖に挿入または直接結合するか、あるいは代 表的な置換基としてカルボキシル基(C00H)、パーオキサイド基 (−0− 0−1、カルボニル基(C=O)、水酸基(OH)、エーテルグループス(−0 −) 、エステル基(C00R)などを含む置換基、およびそれらの混合物に挿 入または直接結合している酸素を少なくとも1個もっている直鎖状または分枝状 の脂肪族炭化水素および環式、複素環式および芳香族の炭化水素で置換および非 置換型のものを意味する。
「ヒドロキシアミノ炭化水素」は−個の水酸基または一個のカルボキシル基を具 備する置換基を少なくとも1個と、1級、2級または3級のアミン基を少なくと も1個を有する環式、複素環式、芳香族、直鎖状または分校状の炭化水素であっ て置換または非置換型のものを意味する。
「1:1より大きい窒素に対する炭素の比を持つ有機酸のアンモニウム塩」は有 機酸、好ましくはカルボン酸(例えば1個あるいは、それ以すのカルボキシル基 (COOH)を有する酸)と水酸化アンモニウムとの中和により生成可能の塩を 意味する。その酸が1個以上のカルボキシル酸塩の基を持っているならば、その 酸は水酸化アンモニウムで部分的に、あるいは完全に中和されていてもよい、塩 に於ける炭素の窒素に対する比は1;1より大きいが、このことは化合物中の窒 素−個当りの炭素が1より大きく、最も好ましくは化合物中の窒素−個当り少な くとも2個の炭素があることを意味している。
「少なくとも1個の環員窒素を持つ5または6員環の複素環式炭化水素」とは環 内原子の1個またはそれ以上が窒素である5または6員環の環状炭化水素を意味 する。環式化合物は飽和または不飽和のいずれでもありうる。
「少なくとも1個の環状酸素を持つ複素環式炭化水素」は少なくとも1個の環酸 素をもつ環式炭化水素を意味する。
「アルコール」は1個または、それ以上の水素原子が水酸基で置換された炭化水 素誘導体を意味する。
「糖」は本明細書中に記載されている条件の下で排ガス中のNOx濃度を低減可 能な下記記載の多数の有用な糖類を意味し、これらの糖には、非還元性および還 元性の水溶性単I!類および還元性および非還元性の多糖類ならびにそれらの分 解生成物がふくまれ、これらにはアルドペント−ス類、メチルペントース類、キ シロースやアラビノースのようなケプトペントース類、ラミノースやヘキソース のようなデオキシアルドース類および、グルコース、ガラクトースやマンノース のようなアルドヘキソース類、フラクトースやソルボースのようなケトヘキソー ス類、ラクトースやマルトースのような三糖類、およびサッカロースのような非 還元性三糖類、デキストリンやラフィノースのようなその他の多糖類、成分とし てオリゴ糖類を含有する加水分解澱粉ならびに水分散性の多糖類が包含されるも のである。
「フルフラーlし」はフルフラール 置換型フルフラールを意味する.代表的な置換基は、直鎖状および分枝鎖状の置 換および非置換の脂肪族基、酸素化炭化水素基、ならびにアミン基を具備する側 鎖を包含するものである。
「アミノ酸」はアミン基およびカルボン白l 基を含有する有機化合物のいずれ をも意味する。
r NH4−リグノスルホン酸塩」および「リグノスルホン酸カルシウム」はそ れぞれ亜硫酸バルプ工場液のリグニンから作られたスルホン酸塩であるリグノス ルホン酸のアンモニウムおよびカルシウム塩を意味する。
「1.3ジオキソラン」は1および3の位置に酸素を有する5員環複素環式炭化 水素(エチレンメチレンジオキシドも含む)を意味する 「魚油」は魚全体を調理して圧搾することにより抽出される大にしん、さつば、 いわし、および、にしんから主として得られる乾性油を意味する。
「溶液」は、溶媒、キャリヤーまたは分散剤を指し示す「溶媒」との溶液、混合 液または分散液のいずれをも意味する。
発明の開示 本発明は炭素質燃料の燃焼から出る排ガス中の少なくとも1種の汚染物質濃度を 低減させるプロセスに関する.本発明の目的の1つは窒素酸化物や三酸化硫黄の 濃度を大きく低減させるような望ましいレベルでの汚染物質調節を達成しながら 、アンモニアや一酸化炭素の如き他の有害な放出物を最小にし、使用する化学物 質の有効利用を最大にすることである。
さらに詳述すれば、本発明は種々の排ガス温度で各種の処理剤を導入することに より、炭素質燃料の燃焼から生ずる排ガスを連続的に処理するプロセスを包含す る.例えば第1処理剤は第1温度ゾーンで排ガス中に導入されて最初の汚染物質 の排出濃度を減少させ、第2の処理剤は第2 m度ゾーンで排ガスに加えられて 第1の汚染物質または第2の汚染物質のいずれかのJJF出濃度を減少させるの であり、もし望ましいならば、このプロセスは希望するレベルの汚染物質調節を 達成するまで繰り返される.各処理剤の組成は指示された温度ゾーンで排ガス中 に導入されるとき目標汚染物質、特に窒素酸化物または三酸化硫黄の排ガス中で の濃度を減少するのに効果的であるように調剤されている。
窒素酸化物および(または)三酸化硫黄の還元は処理剤中の使用還元剤量を増や すことにより改善されることはすでに見出だされている.しかし、アンモニアの ような他の汚染物質の排出が経験される場合には問題がある。このような他の汚 染物質の排出は好ましくない.例えば、アンモニアの排出は排ガス中に三酸化硫 黄が存在するときには特に[酸水素アンモニウムの有害な沈積を生む。
さらには、もう一つの望ましくない汚染物質である一酸化炭素も生成され得る. このことは一つの処理ステップで可能な汚染物質調節量を制約するものである. 種々の化学的調剤が種々の温度で窒素酸化物や三酸化硫黄の濃度を低減するのに 効果的であることもまた認められている。
さらに、ボイラー内のすべての場所に化学剤を入れることは設計上不可能である .注入は化学剤の散布のためのスペースがボイラー内で取れる場所でされねばな らない.熱交換管への直接注入は有害な沈積を生じ化学剤の使用を非効率にする 。
実際問題として注入に適当なスペースはボイラー内では典型的には2から4ケ所 しかなく、これらのスペースは熱移動が起きるので異なる温度となるであろう。
本発明の実施に当っては、注入が可能な場所を選択し、各場所に於ける温度で窒 素酸化物レベルを低減するのに効果的な処理剤を調剤し、アンモニアや一酸化炭 素のような他の放出物が出しないようにしながら最大の低減が得られるような場 所゛で化学剤を注入し、ボイラー負荷が変わるにつれて注入プロセスを調節する ことによって窒素酸化イラー負荷が10ozから5ozに低下すれば、各場所に 置ける温度は低くなり、注入の量,組成またはその両者を変えることが必要とな るであろう。
本発明は一定レベルの窒素酸化物の調節を行い、操業用の薬剤コストを最小にす るために利用することができる。このためには、好ましくは最も安価な処理剤の 使用を、まず最大限に行い、続いて、さらに安価なものの使用と言うように、望 ましいレベルに調節ができるまで続ける。
排ガス中の窒素酸化物量を低減し、一方で第1の排ガス温度ゾーンで排ガス中に 第1のNO低減処理剤を注入し、次に第2の排ガス温度ゾーンで第2の303低 減処理剤を排ガス中に導入することによって本発明を利用することができる。最 も好ましくは、三酸化硫黄と窒素酸化物の双方を低減できる第2の処理剤を供給 することによって窒素酸化物の低減は最大になる。
本明細書では排ガス中の窒素酸化物および(または)三酸化硫黄の濃度低減とい う用語で書かれているが、 熟[シr=技術者は本発明のプロセスは炭素質燃料 の燃焼から出る排ガス中に認められるその他の汚染物質の低減にも同じように適 用できることを認識するであろう。さらに、浮M燃焼式ボイラー中の利用という 用語で書かれているけれども、記述内容はいずれも廃棄物を含む各種の燃料を燃 焼する循環流動床式ボイラーや移動格子式ボイラーのような違った型の設備にも 同じように適用できるものと理解すべきである。この明細書はまたガスタービン にも適用できる。
排ガス中の汚染物質の存在は汚染指数として表すことができる。同量または多量 の他の汚染物質を同時に発生させることになるプロセスにおいては排ガス中の窒 素酸化物のような一つの汚染物質の濃度を低減することは汚染指数を低下させる こととはならないことは理解されるであろう、同様に、窒素酸化物や三酸化硫黄 の如き2つの異なる汚染物質の排ガス温度の減少は一つの汚染物質のみを減少す るときに得られる値よりも大きい排ガス汚染指数の減少をもたらすこととなる8 本発明ではアンモニアまたは一酸化炭素のような他の汚染物質の生成を事実上避 けながら窒素酸化物の低減を達成し、さらに(或は)三酸化硫黄の低減の達成も 行うのであり、かくして複数の処理流体が複数の温度ゾーンをもつ排ガス中に導 入されるところの段階的または多段的プロセスによって排ガスの汚染指数を実質 的に低下させるのに効果がある。
本明細書においては「第1」、「第2」および「第3」なる用語の使用は処理ゾ ーンの相対的位置を表すことを意味する8例えば第2の温度ゾーンは排ガス温度 が第1温度ゾーンの排ガス温度よりも低いようなゾーンであればどれでもよい、 同様に、第3の温度ゾーンは排ガス温度が第2温度ゾーンの排ガス温度よりも低 いゾーンであればどれでもよい0本明細書では注入の特定温度ゾーンはいずれに せよあらゆる場合において排ガスが特定の温度範囲にある場所になければならな いことを示していると解釈されてはならない、(即ちすべての場合に第1温度ゾ ーンは排ガス温度が約1700”Fから約2000°Fの範囲や、また約210 06Fのような高温にある場所に存在しなければならないことはない)、さらに 、「第1」 「第2J r第3」等の用語は本発明のみに関係して用いられるの であり、汚染物質、燃焼増進などが同じものであろうと或いは異なるものであろ うと、(時間的に、または場所的に)第1の処理の前或は第3または最終の処理 の後、のいづれかにおいて、実施される他の排ガス処理を除外するものではない 。
特定の温度ゾーンのいずれかにおいて注入される処理剤は、好ましくは、そのゾ ーン内の排ガス温度で最も効果的であるように選択される0例えば、注入に利用 できる第1温度ゾーンが、排ガスの温度が約17006Fから約20006Fま たはさらに高温の2100°F位の温度範囲にある温度ゾーンを含む上流の場所 内にあるならば、米国特許第4,208,386号においてArandらが、さ らに米国特許第 4,719.092号「酸素化炭化水素溶媒を含有する尿素溶 液による窒素系汚染物質の低減」でBowersが述べているような尿素水溶液 、または本明細書に引例として記載しであるLyonの米国特許第 3.900 .554号で説明されているようなアンモニア水溶液または気体アンモニア自体 の如く、その温度範囲で最もンモニアまたは尿素が窒素酸化物濃度を低下させる 機構は完全に解明されていないが、これらの化合物はNHラジカル(×は整数) とNOxを含む一連の反応を促進することにより作用するものと信ぜられている 。 NHラジカル濃度とNO,濃度のモル比([NH]/ [80x] )は標 準化した化学量論比(NSR)としてたびたび引用される。
ボイラーの形状寸法が許すならば、上流の位置に2カ所で注入することができる 。第1の注入は排ガス温度が約1850”Fから約2000 ’Fになっている 温度ゾーンのさらに上流で行うことができ、第2の注入は排ガス温度が約170 0°Fから約1850’Fの温度ゾーンにある第1の位置から下流になる場所で 行うことができる。引用の開示に記載の如く、尿素またはアンモニア溶液は低温 域の場所では、より濃く(即ち約10から50重量%の尿素またはアンモニア) 、高温域の場所ではより薄く(即ち好ましくは約5から約10重量%、低くても 約2%の尿素またはアンモニア)することができる。
本発明による注入に適切な温度ゾーンは排ガス温度が約1350”Fから約17 50’Fの範囲にある上記のゾーンから下流でも見出さる。このような排ガス温 度の温度ゾーンへの注入に適する処理剤は上記の特許および米国特許第4.75 1 、065号「窒素および炭素を含む汚染物質の低減」においてBowers により開示されており、本願の出願人の出願にかかる以下記載の同時係属出願の 米国特許出願によっても開示されている: 名義人 [ρperly および5 ullivan、 1987年2月13日出願の米国特許出願番号014,43 1 r排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」:名義人Epperlyおよび5 ullivan、 1987年3月13日出願の米国特許出願番号 025.3 5Or糖を使用する排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」;名義人 Eppe rlyおよび5ullivan、1987年3月13日出願の米国特許出願番号 025,493 r複素環式炭化水素を使用する排ガス中の窒素酸化物の低減プ ロセス」;名義人 Sul l 1vanおよびEpperly、 1987年 4月15日出願の米国特許出願番号039,013 rヒドロキシアミノ炭化水 素を使用する排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」; 名義人Epperly 。
5ullivanおよび Sprague、 1987年9月23日出願の米国 特許出願番号 100.128 r排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」;名 義人Epperly、 Sul!1vanおよびSprague、 1987年 10月14日出願の米国特許出願番号 108,779 r排ガス中の窒素酸化 物の低減プロセス」;名義人Epperly、Peter−11oblyn、  5hulof、Jr、、5ullivanおよびSprague、 1988年 6月15日出願の米国特許出願番号207,292 rアンモニウム塩を利用し て排ガス中の汚染物質濃度を低減する多段フロセス」;および名義人 [ppe r+y、 0°teary。
5ulliVanとSprague、 1988年6月15日出願の米国特許出 願番号207,382 r他の汚染物質生成を最小化しながら窒素酸化物を低減 するプロセス] なお。
これらの開示は本明細書中に引例として記載されている。開示されている処理剤 には下記に示すような適切な増進剤で増強されたアンモニアまたは尿素の水溶液 が含まれている:へキサメチレンテトラミン(HHTA)、パラフィン系炭化水 素、オレフィン系炭化水素、芳香族系炭化水素、酸素化炭化水素(例えばアセト ン、糖、特にスクロース、(1−ガラクトース、および糖蜜、アルコール特にエ チレングリコール、メタノール、フルフリルアルコール、1.3−ブチレングリ コール、テトラヒドロフリルアルコール、2.5−フランジメタノール、リグニ ン誘導体特にリグノスルホン酸アンモニウムおよびリグノスルホン酸カルシウム 、カルボン酸特に2−フランカルボン酸、ζルコン酸、クエン酸、ギ酸、クマリ ン酸、2,3,4.5−テ)−ラカルボン酸 (原文どおり)、フリルアクリル 酸、バルビッル酸、シュウ酸、粘液酸、過酸化物、アルデヒド、エーテル、エス テル、ケトン、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、1,3−ジオキソ ラン、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、フルフリルアミン、酢酸n− ブチル、メチラール、フラン、魚油、酢酸フルフリル、テトラヒドロフラン(原 文どおり)テトラヒドロフリルアミン、テトラヒドロビラン、マンニトール、ヘ キサメチレンジアミンおよび無水酢酸の如きもの)、1:1より大きい窒素に対 する酸素の比を持つ有機酸のアンモニウム塩(例えば酢酸アンモニウム、アジピ ン酸アンモニ。
ラムおよびアジピン酸ジアンモニウム、安7セ、香酸アンモニウム、シュウ酸水 素アンモニウム、カプリル酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、クエン酸ジ アンモニウムおよびクエン酸トリアンモニウム、クロトン酸アンモニウム、ドデ カン酸アンモニウムおよびドデカン酸ジアンモニウム、フマル酸アンモニウムお よびフマル酸ジアンモニウム、ヘプタン酸アンモニウム、リノール酸アンモニウ ム、マレイン酸アンモニウムおよびマレイン酸ジアンモニウム、モノブチル酸ア ンモニウム、オレイン酸アンモニウム、フタル酸アンモニウムおよびフタル酸ジ アンモニウム、プロピオン酸ア石酸アンモニウムおよび酒石酸ジアンモニウム、 およびトリメリド酸アンモニウム、トリメリド酸ジアンモニウムおよびトリメリ ド酸トリアンモニウムの如きもの)、ヒドロキシアミノ炭化水素(例えばアルカ ノールアミン類、アミノ酸およびタンパク含有組成物)、少なくとも1個の環員 酸素を有する複素環式炭化水素(例えばフルフラールおよびフルフラール誘導体 )、少くとも1個の環員窒素を有する5または6員複素環式炭化水素(例えばピ ペラジン、ピペリジン、ピリジン、ピラジン、ピラゾール、イミダゾール、オキ サゾリドン、ビロール、ピロリジン)、過酸化水素、グアニジン、炭酸グアニジ ン、ビグアニジン、[Mグアニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウ ムシアナミド、ビウレット、1.1°−アゾビスホルムアミド、メチロール尿素 、メチロール尿素−尿素縮合物、ジメチロール尿素、メチル尿素、ジメチル尿素 およびこれらの混合物ならびにこれら増進剤自体の水溶液。
ボイラーの形状寸法はまた約1350 ’Fから約1750・Fの排ガス温度範 囲内で注入用の温度ゾーンが1つ以上取れるようにするのが良い1例えば成る注 入は排ガス温度が約1550’Fから約1750°Fの範囲にある温度ゾーンの 場所において行うことができる。
第2の注入場所としては、排ガス温度が約13500Fから約1550’Fの範 囲にある温度ゾーンが可能である。このように示された温度ゾーンのうち第2温 度ゾーンに注入される処理剤は、第1温度ゾーンのものに類似のもの、あるいは もつと低濃度であって良く、あるいは異なる増進剤濃度などを包含するものでも 良い、これらのことは熟達しr2技能者の出来るものである。
注入を行うことができるボイラー内のもう1つの温度ゾーンは、排ガス温度が約 14006Fよりも低い場所である。引用として本明細書に記載されている本願 の出願人の出願にかかる同時係属出願の名儀人5ullivan、1987年3 月6日出願の米国特許出願番号022,799 r炭化水素または過酸化水素を 使用する排ガス中の窒素酸化物の低減プロセス」および名儀人 tpper+y 、O’Leary、 5ullivan および5praoue 、 1988 年2月2日出願の米国特許出願番号 155,894 r他の汚染物質生成を最 小にしながら窒素酸化物を低減するプロセス」で開示されているように、この様 な排ガス温度で排ガス中に注入するのに適した処理剤としては炭化水素、特にエ チレングリコール、糖またはフルフラールのような酸素化炭化水素、あるいは過 酸化水素が包含される。ボイラー内の比較的低温の排ガス温度好ましい具体例で は、プロセスは第1温度ゾーンで排ガス中に第1処理剤の注入を包含する0例え ば、大型浮遊燃焼式用役ボイラーでは、第1処理剤流体の注入域は第1温度ゾー ンに於ける排ガス温度が約1700 ’Fより高い温度になっているような過熱 器から上流に位置することができる。そこで第1処理剤の組成および注入量は約 1700”Fより高い温度になっている排ガス中のNO濃度と効果的に減少させ 、一方ではアンモニア生成を最小に留めるように選択できるのである。第1処理 剤として使用に適した調剤には尿素またはアンモニアの水溶液あるいは気体アン モニアが包含される。
第1処理剤として作用する尿素またはアンモニア水溶液は、流動排ガスの流れの 中で溶液の小滴を均一に形成、分散するのに有効なノズルその他。
の装置から第1温度ゾーン内に成る間隔をおいた多くの場所に注入して、均一に 混合するようにすることが好ましい。
第1温度ゾーンで排ガス中に第1処理剤を注入する速度は、「アンモニアブレイ クスルー」点に達するまでは最高のNO濃度低下を達成する速度である・ことが 好ましい、「アンモニアブレイクスルー」はNH3濃度について注入速度と共に 有意の増加が認められるところの点をさしている技術用語である。第1処理剤注 入の実際の速度は上記の条件を達成するように注入速度を「調整」することによ り実験的に決められる。その理由は実際の速度は排ガス気流の流速、すらびにボ イラー燃焼時の負荷によって一定の範囲内で変わる温度ゾーンの特定の温度と共 に変化するからである− ’i力幕hiLS t! 、第1温度ゾーン内の温度 範囲が約1700°Fより高く、第1処理剤が尿素またはアンモニアを包含する 溶液であるような状況では、第1処理剤中の窒素とベースラインの窒素酸化物レ ベルとのモル比が約1:5から約5:1であり、さらに好ましくは約1=3から 約3:1.最も好ましくは約1:2から約2=1である。
排ガス温度は溶液中の尿素またはアンモニア濃度に影響する。約1700’Fか ら約1850”Fの間の温度では、溶液は約10から約50重量%の濃度で最も 有効に作用する傾向がある0反対に、約18506F以上の温度では溶液濃度は 典型的には約2から約10重量%くらいに稀薄になる。その代わりに、排ガス温 度が約1700°Fから約1850”Fの範囲にあるときには、第1処理剤に包 含される尿素またはアンモニア溶液は、ヘキサメチレンテトラミンの添加によっ てその効果を増進することができる。使用に適する他の増進剤としては既に述べ た如き酸素化炭化水素、グアニジン、炭酸グアニジン、ビグアニジン、硫酸グア ニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウムシアナミド、ビユレット、 1.1°−アゾビスホルムアミド、メチロール尿素、メチロール尿素−尿素縮合 生成物、ジメチロール尿素、メチル尿素、ジメチル尿素およびこれらの混合物が ある一0第1処理剤には気体アンモニアが包含されうろことも理解される。その うえ、ボイラー構造によっては、少くとも2個所の温度ゾーン(例えば、排ガス 温度が約1850’Fから約20006Fである場所で1個所と、排ガス温度が 約1700°Fから約1850″Fである場所でもう1個所)が既に述べたよう に過熱器から上流の場所で可能であり、また(あるいは)そのようなことが望ま しいと期待される。
さらに好ましくは、本発明のプロセスには、第1温度ゾーンから下流にある第2 処理ゾーン−で排ガス中に第2処理剤を注入することが包含される0例えば、大 型浮遊燃焼式用役ボイラーでは第2温度ゾーンの温度が代表的なものでは約13 50下から約17506Fの範囲内にある過熱器から下流の場所に、第2温度ゾ ーンが効果的に存在し得る。
しかしながら既述の如く、第2温度は第1温度ゾーンより低い温度を有する何等 かの範囲が規定されたゾーンである0例えば第2温度が第1温度ゾーンの温度よ り低いかぎり、第2温度は約13506Fから約17506Fの温度範囲の前後 であろう、そこで好ましくは第2処理剤の組成はこの温度ゾーンでアンモニアブ レイクスルーを起こさないで窒素酸化物の低減を最も良く行うように選ばれる。
効果的に、この条件下で使用される第2処理剤は尿素またはアンモニアのいづれ かと増進剤との混合物。
あるいは増進剤単独である。使用に適する増進剤にはHMTA、パラフィン系炭 化水素、オレフィン系炭化水素、芳香族炭化水素、上記の酸素化炭化水素、上記 の1:1より大きい炭素対窒素の比を有する有機酸のアンモニウム塩、上記のヒ ドロキシアミノ炭化水素、上記の環員酸素を少くとも1個有する複素環式炭化水 素、上記の少くとも1個の環員窒素を有する5または6員複素環式炭化水素、過 酸化水素、グアニジン、炭酸グアニジン。
ビグアニジン、硫酸グアニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウムシ アナミド、ビユレット、 1.1’−アゾビスホルムアミド、メチロール素、メ チル尿素、ジメチル尿素および、これらの混合物、ならびに増進剤自体の水溶液 がある。これらの状態下で最も好ましい増進剤にはエチレングリコール、酢酸ア ンモニウム、ピリジン、メタノール、糖およびフルフラールがある。
第2処理剤は第2温度ゾーンで、Noxfi度減少を最大にし、一方アンモニア または一酸化炭素のような他の汚染物質生成を最も少なくするのに適した窒素酸 化物濃度のベースラインに対する処理剤中の窒素のモル比を与えるように排ガス 中に注入される。好ましくは、上記のように組成した混合物はベースラインの窒 素酸化物レベルに対する混合物中の窒素のモル比が約 1:5から約 5:1に 。
さらに好ましくは約1:3から約 3:1、最も好ましくは約1:2から約2: 1になるように注入される。
増進剤は、増進剤と尿素またはアンモニアとの重量比が好ましくは約1:10か ら約 5:1.さらに好ましくは約1:5から約3:1で処理剤中に存在する。
最も好ましくは、アンモニア/増進剤の薬剤中における増進剤と尿素またはアン モニアとの重量比は約1:4から約2.5:1である。処理剤が窒素含有化合物 を含有していない場合には、処理剤とベースラインの窒素酸化物レベルとの比は 約0.5:1から約10:1でなければならない。
代表的には、処理剤は約 5から約25重量%、より好ましくは約10から約2 0重量%の濃度で水溶性増進剤を水に溶解し、尿素またはアンモニアの必要量を 混合して調製される0次には、かくして得られる混合物は、均一な混合ができる ように流動排ガス流中で溶液の小滴を均一に形成分散させるのに有効なノズルそ の他の装置から排ガス中の第2温度ゾーン内の間隔を置いた多くの場所に注入ば 、上記した如く指定された排ガス温度範囲内で少なくとも 2か所の温度ゾーン をつくり、少なくとも2種の処理剤を注入することができる。
加えるに1本願の出願人の出願にかかる同時係属出願で引用として本明細書記載 の開示である名儀人 Epperly、 Peter−11oblynおよび  S+目l1van、1987年12月14日出願の米国特許出願番号 132, 801「アンモニア洗浄」で開示されているように、第2処理剤はアンモニア洗 浄を行うために使用することができる。アンモニア洗浄は排ガス中のアンモニア 量を減少し、一方では窒素酸化物をさらに減少するのに効果的な条件のもと、約 13506Fを越える排ガス温度で炭化水素、特に酸素化炭化水素のような非窒 素系処理剤を注入することを含む。
一般に、非窒素系処理剤は処理剤と排出アンモニアのレベルとの重量比が約2: 1から約200:1で、排ガス中に注入される。
本発明のさらに好ましい具体例としては、第1および第2温度ゾーンのすぐ下流 に位置している第3温度ゾーンで排ガス中に第3の処理剤を注入することがある 0例えば、浮遊燃焼用役ボイラーでは第3温度ゾーンは、効果的には排ガス温度 が約 8006Fから約14006Fの範囲内にあるエコノマイザ−の位置に設 けることができる。このような条件のもとでは、第3処理剤には好ましくは炭化 水素または過酸化水素が包含される。このように示された条件下で、第3の処理 流体中で使用に適する最も好ましい炭化水素は脂肪族炭化水素の低分子量ケトン 、アルデヒド、1価、2価または多価アルコール類のような酸素化炭化水素、お よびモノエタノールアミン、アミノ酢酸(グリシン)のようなヒドロキシアミン 炭化水素である。エチレングリコール、メタノール、フルフラール、糖およびグ リセリンは、この目的には好ましい酸素化炭化水素であり、このうちエチレング リコール、メタノールおよび糖は最も望ましいものである。
効果的に使用可能なその他の炭化水素にはモノメチルアミン、トリエチレンテト ラミン、ヘキサメチレンジアミン、テトラエチレンペンタミン、とスーヘキサメ チレントリアミン、ポリアミン+1 p A、1.2−ジアミノプロパン、N、 N−ジメチルエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、2−メチルア ジリジン、ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、テ)・ラメチルジア ミノメタン、エチレンジアミンおよびジエチレントリアミンのような窒素化炭化 水素が含まれる。水素化澱粉ヒドロシ塩として知られている低分子量ポリオール の混合物のようなポリオールの混合物もまた効果的に使用することができる0本 発明で使用に適するその他の炭化水素には、パラフィン系、オレフィン系、およ びナフサベースの炭化水素を含めた芳香族系の炭化水素、ならびにこれらの混合 物が包含される。
熟達した技能者には周知のように、他の溶媒を単独ないしは水と一緒に、効果的 に使用できる事例はあるけれども、炭化水素は単体だけで1分散液、好ましくは 水分散液の形で、または溶液、好ましくは水溶液の形で使用することができるが 、これは水溶液が経済的であるためである。使用する炭化水素のレベルはアンモ ニアや一酸化炭素の如き他の汚染物質の存在を最小にしながら排ガス中の窒素酸 化物濃度の最適な低減を引き出すのに必要なレベルでなければならない、効果的 には。
炭化水素は、炭化水素と第3ベースライン窒素酸化物レベルとの重量比が約1: 5から約 5:1.最も好ましくは約1:2から約 2:1であるように使用さ れる。使用する炭化水素の正確な量は、プロセス全体の経済性によって変わり得 るものである。
本発明で第3処理剤として炭化水素を用いるとき、均一な混合を達成するために 流動排ガス流内で、炭化水素の小滴を均一に形成、分散するのに有効なノズルそ の他の装置から、上記に説明したように炭化水素単独で、または分散液、ある・ いは溶液の形で、第3温度ゾーン内の一定間隔の多くの場所で排ガス中に注入す るのが好ましい、ボイラーの構造によるが、約800c′Fから約14000F の温度範囲にある2つの注入ゾーンが存在し得る。
参套七÷母、本発明のプロセスはこれにより達とができる。過酸化水素または酸 素化炭化水素、特にアルコール、糖、リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化物、 アルデヒド、エーテル、エステル、ケトンおよびこれらの混合物を包含する処理 剤の注入は排ガス温度が約1700°F以下、そのなかでも約14506F以下 の温度ゾーンで排ガス中に行われるが、この注入により排ガス中の803含量は 非常に減少する。この目的に対して最も好ましい酸素化炭化水素にはメタノール 、エチレングリコール、糖蜜、グリセリン、テトラヒドロフラン5アセトン、ク エン酸、スクロースおよびこれらの混合物が含まれるが、これらのものは炭化水 素と三酸化硫黄の重量比が約3:1から約8:1の水溶液として注入できる。開 示された処理剤でNOl少および× (または)アンモニア洗浄以外に排ガス中にあるS03の減少が行われる。
本明細書で「第1」「第2」および「第3」という用語を使用しているのは、単 に記述に便利なためだけではない、実際の番号列は選んだ温度ゾーンの実際の数 および各場所で注入される処理剤よって変わるのである。
本発明により、ここに開示されている処理剤が注入される炭素質燃料からの排ガ スは一般的に酸素リッチであるが、これは排ガス中に過剰の酸素があることを意 味している0代表的なものとしては、過剰の酸素は約15容積%以下である。在 来の用役ボイラーでは過剰の酸素は普通的1から約10容積%の範囲内にある。
排ガス中の窒素酸化物濃度を最大に減少し、あるいは一定のNOxレベルを達成 するために本発明のプロセスを実用化するに当っては、注入を最適化する(即ち 汚染物質濃度低下を最大にし、他の汚染物質の生成を最小にする)ために、第1 温度ゾーンへの第1処理剤の注入をまず「調整」することが好ましい、第2温度 ゾーンI\の第2処理剤の注入はそれから「調整」され、(第3処理剤お目に「 調整」され、(第4処理剤および第4温度ゾーンが使用されるときには)第4温 度ゾーンへの第4処理剤の注入は第4番目に「調整」される等々と、望ましい注 入数または汚染物質レベルに達するまで続けられる。
処理剤の注入が一度最適化されてしまうと、処理剤の注入場所での排ガス温度変 化を生ずるところのボイラー負荷の変化を補うために、処理剤の化学的配合剤の 希釈度、相対的濃度または特定の成分を変えることによって処理剤を「調整」す ることも可能である。ボイラーの負荷変動に応じて処理剤を調整することは、各 場所で注入される処理剤が特定のレベルに窒素酸化物を保つか、あるいは、そこ の排ガス温度に対してNOx還元を最も大きくするのに適切であることを確実に するものである。さもないと、処理剤の注入が効率的でなくかつ最適にされない ことになり、その結果汚染物質減少が低下し、恐らく池の汚染物質が相当な量で 発生するであろう。
限定的放出物を構成する他種汚染物質の正体はボイラーによっても、状況によっ ても、あるいは温度ゾーンによっても変わるものである0例えば排ガス温度が比 較的高い温度ゾーンでは限定的放出物はアンモニアであり、逆に排ガス温度が比 較的低い温度ゾーンでは限定的放出物は一酸化炭素である。さらに、各温度ゾー ンでの注入を「調整」することは、いずれの場合でも必要ないであろう。
むしろ、このような他種放出物のレベルが後段の。
あるいは最終の温度ゾーンで低減されるなら、特にアンモニア洗浄を備えた工程 を利用するときには、他種放出物の生成に無関係に比較的前段の温度ゾーンで可 能な目標汚染物質低減を最大にすることが望ましい、言い換えれば、最も重要な ことは最終注入後の汚染指数であって、中間レベルでの汚染指数ではない。
これらとは別の手段として、薬品コスl−を最低にしながらNO低減の目標レベ ルを得るなめに。
他種汚染物質を多く生成することなく、最も低廉な処理剤を最大に使用すること がまず確立される。
次に、さらに安い経費の処理剤を最大限に使用し、このプロセスは望まれる目標 レベルが達成されるまで繰り返されるのである。
さらに、各処理剤の注入はアンモニアや一酸化炭素≠会のごとき他種汚染物質の 発生を最小にし、一方では目標汚染物質、即ち窒素酸化物や三酸化硫黄の還元が 最大になるように実施されても良い。
このことは下記の開示で示されているように、窒素酸化物低減対排ガス温度のカ ーブを利用して実施できるのである;本明細書に記載しである名義人Epper ly、 0°Learyおよび5ullivan、1987年5月14日出願の 米国特許出願番号 050.198 r窒素酸化物還元および・他種汚染物質の 生成を最小化するなめのプロセス」を参照。
経済性、ボイラー負荷、目標NOレベル、その× 他の考慮が決まると、ある状況の下での第2温度ゾーンの状態が他の状況下での 第1温度ゾーンになり、ある状況下での第3温度ゾーンの状態が他の状況下での 第2温度ゾーンになる1等々のことなることもある。
本発明のプロセスは窒素酸化物を還元する選択的接触還元(“S CR” )を 利用するところのNO還元プロセスと組み合わせ得ることも熟達した技能者には 認められるものである。このようなSCRプロセスは排ガス中のNO含量を減ら すために酸化物または鉄、バナジウムや活性炭のような触f3.物質の化合物を 使用する。事実、 SCR処理は本発明プロセスの付加的な工程として使用でき る。そうすると、排ガス中の窒素酸化物濃度を低下させ。
かつまたアンモニアと、本発明の実施によって達成されうるアンモニア洗浄その 他の方法による排ガス中に残留し、それから排出NOレベルをさらに低下させる ためにSCRで排ガスを洗浄した窒素酸化物の比が約1:1になるように排ガス 中に残留の窒素酸化物を調整するべく、ここに開示される本明細書に開示されて いる窒素酸化物の非触媒約合な状況が得られ、その結果、排ガス中に残留するN H3やCOのような他種汚染物質を余り生成することなく非常に高いNO還元を 行うことになるのである。
本発明を実施するための最良の形態 以下の実施例は多段階注入によって窒素酸化物濃度を減少するプロセスの操作を 詳細に述べることにより本発明をさらに例示し、説明するものである。
実施例 1 本実施例に用いられるバーナは大凡長さ209インチ、内径8インチ、壁厚2イ ンチの燃焼煙管として知られている排ガス煙道導管を有するバーナである。バー ナは排ガス入口に隣接した火炎部と、窒素酸化物、a化硫黄、アンモニア、−酸 化炭素。
二酸化炭素、パーセント過剰酸素、および排ガス中に存在するその他の問題にな る化合物のような組成物濃度を測定するための排ガス出口に隣接した煙道ガスモ ニターを備えている。排ガス煙道導管にはそのほかに色々な場所での温度測定用 熱電対の出入口がある。処理剤が注入される排ガス温度はに型熱電対を用いて注 入点で測定される0本明細書中に引用と、して記載されているところの名儀人B UrtOn、1987年2月2日出願の米国特許出願番号009,696 r排 ガス中の汚染物質濃度低減のためのプロセスおよび装置」に述べられている噴霧 注入器は排ガス流中にNOx還元剤を(注入により)導入するために排ガス煙道 導管中の出入口に置かれている。バーナ燃料は2号燃料油であり、バーナは9. 6ボンド/時間がら10.9ボンド/時間の速度で燃焼される。
ベースライン窒素酸化物濃度は注入される処理剤の比を計算し、窒素酸化物濃度 低減の計算を容易にするために各ランを始めるに先だって読みとられる。窒素酸 化物は注入される各処理剤毎に引下記の処理剤を用いて7回のランが行われた。
各ランで第1処理剤は指定の温度で排ガス中に注入される。第2処理剤は第1処 理剤の注入点から43インチ下流の位置で排ガス煙道導管中に注入され、第3処 理剤が使用されるときはそれは第2処理剤注入点から40インチ下流の位置で注 入される。
1、尿素10重量%と市販の界面活性剤0.2重量%を含有する水溶液が温度1 8106Fの排ガス中に第素5重量%、エチレングリコール25重量%および市 販の界面活性剤0.1重足%からなる水溶液は第ガス中に注入される。
2、尿素10重量%および市販の界面活性剤0.2の速度で温度17656Fの 排ガス中に注入され:尿素5重量%、エチレングリコール25重量%および市販 の界面活性剤0.1重量%を含んでいる水溶液が3、尿素10重量%および市販 の界面活性剤0.2の速度で温度17606Fの排ガス中に送入され:尿素10 重量%、スクロース30重量%および市販の界面活性剤0.2重量%を含んでい る水溶液が第2処理に注入される。
4、尿素10重量%および市販の界面活性剤 0.2の速度で温度1765’F の排ガス中に注入され:尿素7.28重量%、ヘキサメチレンテトラアミン3. 12重量%、エチレングリコール15重量%および市販の界面活性剤0.208 重量%を含んでいる水溶液が第ガス中に注入される。
5、尿素10重量%および市販の界面活性剤0.2の速度で温度1790下の排 ガス中に送入され:尿素10重量%、スクロース30重fj%および市販の界面 活性剤0.2重量%を含んでいる水溶液が第2処理に送入される;ザクロース1 5重量%含有の水溶液処理剤として注入される。
6、尿素10重量%および市販の界面活性剤0.2の速度で温度1790c′F の排ガス中に注入され:尿素10重量%、スクロース30重量%および市販の界 面活性剤0.2重量%を含んでいる水溶液が第2処理に注入される:さらにグリ セリン15重量%含有の水溶液が温度13056Fの排ガス中に第3処理剤とし 7.尿素10重量%および市販の界面活性剤 0.2闘間 重量%含有の水溶液が第1処理剤として200+al/にの速度で温度1150 °Fの排ガス中に注入され;尿素10重量%、スクロース30重量%および市販 の界面活性剤0.2重量%含有の水溶液が第2処理剤としされる;灯油が温度1 2956Fの排ガス中に第3処理上記に述べられた各ランの結果を表1に示す。
表 1 ラン NONO低減率 NH3 x ベース 最終 ライン ppm ppm % pt)1 1 240 120 50.0 4 2 218 75 65.6 21 3 220 92 58.2 19 4 218 83 61.9 30 5 210 42 80.0 21 6 210 39 81.4 7 210 50 76.2 実施rIA2 使用ボイラーは公称140(熱)メガワット/時間の前部燃焼石炭デザインのも である。第ルベルの注入で測定される排ガス温度は約1900OFで過剰酸素約 4.5%であり、第2レベルの注入に於ける排ガス温度は約1750°Fで過剰 酸素は約8.2%である。
尿素8.6重量%、市販の界面活性剤0.17重量%を含んでいる水溶液が第1 処理剤として754ガロン/時間の速度で注入されて、処理剤とベースライン窒 素酸化物レベルとの標準化した化学量論比が1.79になるようにする。また尿 素16.5重量%、市販の界面活性剤0.33重量%を含む水溶液が第2処理剤 として91ガロン/時間の速度で注入され、処理剤のベースライン窒素酸化物レ ベルに対するNSRが0.41になるよにする。
ベースライ、7NO,レベルの測定値は693ppmであり、第1処理剤の注入 の間に第2処理剤の注入口から上流で測定されたNOxレベルは約251ppm である。第1および第2処理剤の注入中で測定されたNOxレベルは1451) I’lllであり、この値は最初のベースラインNOxレベル(全NOxレベル は酸素3%に標準化されるように補正される)から79.1%減少することを意 味する。
本発明の実施により有意のアンモニアブレイクスルーをおこすことなしにNOx 低減が非常に良く達成されることは明らかである。
上記の記述は本発明の実施の方法を1通常の技術を有する者に教示することを目 的とするものであり、それらは、この明細書を読むことにより熟達した技術者に 明らかになるであろうようなものの意図するものではない、しがしながら、この ような自明の修正や変形のすべてのものは、下記の特許請求の範囲により規定さ れる本発明の範囲内に含まれる。
国際調査報告 −11,,11,l 1.5.、.1. 2口T′TS Eミ’CニアN 己国 際調査報告

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.炭素質燃料の燃焼から発生する排ガス中の汚染物質の濃度を低減させるプロ セスであって、このプロセスは: a.第1温度ゾーンで排ガス中に第1処理剤を注入すること;および b.第2温度ゾーンで排ガス中に第2処理剤を注入すること を具備していて,ここで当該の第1および第2の処理剤は排ガス汚染指数を低減 するのに効果的な条件下で注入されるものであるところのプロセス2.第1請求 項記載のプロセスにおいて,当該の第1処理剤により低減される汚染物質が窒素 酸化物を含むものであるプロセス。 3.第2請求項記載のプロセスにおいて,当該の第2処理剤により低減される汚 染物質が窒素酸化物、三酸化硫黄またはこの両者を含むものであるプロセス。 4.第2請求項記載のプロセスにおいて,当該の第1温度ゾーンに於ける排ガス 温度が約1700°Fから約2100°Fであるプロセス。 5.第4請求項記載のプロセスにおいて、当該の第1処理剤が気体アンモニアま たは、尿素あるいはアンモニアの水溶液を含むものであるプロセス。 6.第2請求項記載のプロセスにおいて、当該の第1濃度ゾーンに於ける排ガス 温度が約1850°Fから約2100°Fであり,当該第2温度ゾーンに於ける 排ガス温度が約1700°Fから約1850°Fであるプロセス。 7.第6請求項記載のプロセスにおいて、当該の第1処理剤が約2%から約10 %の尿素またはアンモニアをを含む水溶液を包含し、当該第2処理剤が約10% から約50%の尿素またはアンモニアを含む水溶液を包含するプロセス。 8.第6請求項記載のプロセスにおいて,当該の第1処理剤が気体アンモニアま たは、尿素あるいはアンモニアの水溶液を包含し、当該の第2処理剤は、さらに ヘキサメチレンテトラミンおよび酸素化炭化水素からなるグループから選択され た組成物を包含するところの尿素またはアンモニア水溶液を包含するプロセス。 9.第6請求項記載のプロセスにおいて、第3処理剤を第3温度ゾーンで排ガス 中に注入することをさらに具備するプロセス。 10.第9請求項記載のプロセスにおいて、当該第3温度ゾーンに於ける排ガス 温度が約1350°Fから約1750°Fであるプロセス。 11.第9請求項記載のプロセスにおいて、当該の第3温度ゾーンに於ける排ガ ス温度が均1400°F以下であるプロセス。 12.第2請求項記載のプロセスにおいて、当該の第2温度ゾーンでの排ガス温 度が約1350°Fから約1750°Fであるプロセス。 13.第12請求項記載のプロセスにおいて,当該の第2処理剤が尿素、アンモ ニア、ヘキサメチレンテトラミン、パラフィン系炭化水素、オレフィン系炭化水 素、芳香族炭化水素、酸素化炭化水素、1:1より大きな炭素対窒素の比を有す る有機酸のアンモニウム塩、ヒドロキシアミノ炭化水素、少なくとも1つの環員 酸素を有する複素環式炭化水素、少なくとも1つの環員窒素を有する5または6 員の複素環式炭化水素、過酸化水素、グアニジン、炭酸グアニジン、ビグアニジ ン、硫酸グアニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウムシアナミド、 ビウレット、1,1′−アゾビスホルムアミド、メチロール尿素、メチロール尿 素−尿素縮合物、ジメチロール尿素、メチル尿素、ジメチル尿素およびこれらの 混合物のどれでもを包含するプロセス。 14.第13請求項記載のプロセスにおいて、当該の酸素化炭化水素がアセトン ,糖,アルコール,リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化物、アルデヒド、エー テル、エステル、ケトン、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、NH4 −リグノスルホン酸塩、リグノスルホン酸カルシウム、1,3ジオキンラン、1 ,4ジオキサン、テトラヒドロフラン、フルフリルアミン、酢酸n−ブチル、メ チラール、フラン、魚油、酢酸フルフリル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロ フリルアミン、テトラヒドロピラン、マンニトール、ヘキサメチレンジアミンお よび無水酢酸からなるグループから選択されるプロセス。 15.第14請求項記載のプロセスにおいて、当該の糖がスクロース、d−ガラ クトースおよび糖蜜からなるグループから選ばれるプロセス。 16.第14請求項記載のプロセスにおいて,当該のアルコールがエチレングリ コール、メタノール、フルフリルアルコール、1,3ブチレングリコール、テト ラヒドロフリルアルコール、2,5−フランジメタノールからなるグループから 選ばれるプロセス。 17.第14請求項記載のプロセスにおいて、当該のカルボン酸が2−フランカ ルボン酸、グルコン酸、クエン酸、ギ酸、クマリン酸、2,3,4,5−テトラ カルボン酸(原文どおり)、フリルアクリル酸、バルビツル酸、シュウ酸および 粘液酸からなるグループから選ばれるプロセス。 18.第13請求項記載のプロセスにおいて、当該の炭素対窒素の比が1:1よ り大きい有機酸のアンモニウム塩が、酢酸アンモニウム、アジピン酸アンモニウ ムおよびアジピン酸ジアンモニウム、安息香酸アンモニウム、シュウ酸水素アン モニウム、カプリル酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、クエン酸ジアンモ ニウムおよびクエン酸トリアンモニウム、クロトン酸アンモニウム、ドデカン酸 アンモニウムおよびドデカン酸ジアンモニウム、フマル酸アンモニウムおよびフ マル酸ジアンモニウム、ヘプタン酸アンモニウム、リノレン酸アンモニウム、マ レイン酸アンモニウムおよびマレイン酸ジアンモニウム、モノブチル酸アンモニ ウム、オレイン酸アンモニウム、フタル酸アンモニウムおよびフタル酸ジアンモ ニウム、プロピオン酸アンモニウム、サリチル酸アンモニウム、コハク酸アンモ ニウムおよびコハク酸ジアンモニウム、酒石酸アンモニウムおよび酒石酸ジアン モニウム、トリメリト酸アンモニウム、トリメリト酸ジアンモニウムおよびトリ メリト酸トリアンモニウムからなるグループから選ばれるプロセス。 19.第13請求項記載のプロセスにおいて、当該の少なくとも1つの環員酸素 を有する複素環式炭化水素がフルフラールおよびフルフラール誘導体からなるグ ループから選ばれるプロセス。 20.第13請求項記載のプロセスにおいて、当該ヒドロキシアミノ炭化水素が アルカノールアミン類、アミノ酸およびタンパク含有組成物からなるグループか ら選ばれるプロセス。 21.第13請求項記載のプロセスにおいて、当該の少なくとも1個の環員窒素 を有する5または6員の複素環式炭化水素がピペラジン、ピペリジン、ピリジン 、ピラジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリドン、ピロール、ピロリジ ンおよびこれらの混合物からなるグループから選択されるプロセス。 22.第1請求項記載のプロセスにおいて、第3処理剤を第3温度ゾーンにおい て排ガス中に注入することをさらに具備するプロセス。 23.第22請求項記載のプロセスにおいて、当該の第3温度ゾーンにおける排 ガス温度が約1400°F以下であるプロセス。 24.第23請求項記載のプロセスにおいて、当該する第3処理剤が過酸化水素 ならびにパラフィン系,オレフィン系,芳香族系,酸素化および窒素化炭化水素 からなるクループから選ばれた組成物を包含するプロセス。 25.第24請求項記載のプロセスにおいて、当該する第3処理剤が酸素化炭化 水素を包含するプロセス。 26.第24請求項記載のプロセスにおいて、当該する窒素化炭化水素はモノメ チルアミン、トリエチレンテトラミン、ヘキサメチレンジアミン、テトラエチレ ンペンタミン、ビス−ヘキサメチレントリアミン、ポリアミンHpA、1,2− ジアミノプロパン、H,H−ジメチルエチレンジアミン、テトラメチルエチレン ジアミン,2−メチルアジリジン、ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミ ン、テトラメチルジアミノメタン、エチレンジアミンおよびジエチレントリアミ ンからなるグループから選ばれるプロセス。 27.第2請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1温度ゾーンにおける排 ガス温度が約1700°Fから約2000°Fであり,当該する第2温度ゾーン における排ガス温度が約1350°Fから約1750°Fであるプロセス。 28.第3請求項記載のプロセスにおいて、当該する第2濃度ゾーンにおける排 ガス温度は約1450°F以下であるプロセス。 29.第2請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1温度ゾーンにおける排 ガス温度が約1350°Fから約1750°Fであり、当該する第2温度ゾーン における排ガス温度が約1400°F以下であるプロセス。 30.第3処理剤を第3温度ゾーン中に注入することをさらに具備するところの 第7請求項記載のプロセス。 31.第3処理剤を第3温度ゾーン中に注入することをさらに具備するところの 第8請求項記載のプロセス。 32.第31請求項記載のプロセスにおいて、当該する第3温度ゾーンでの排ガ ス温度が約1350°Fから約1750°Fであり、当該する第3処理剤が尿素 、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、パラフィン系炭化水素、オレフィン 系炭化水素、芳香族炭化水素、酸素化炭化水素、1:1より大きい炭素対窒素の 比を持つ有機酸のアンモニウム塩、ヒドロキシアミノ炭化水素、少なくとも1個 の環員酸素を有する複素環式炭化水素、少なくとも1個の環員窒素を持つ5また は6員の複素環式炭化水素、過酸化水素、グアニジン、炭酸グアニジン、ビグア ニジン、硫酸グアニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウムシアナミ ド、ビウレット、1,1′−アゾビスホルムアミド、メチロール尿素、メチロー ル尿素−尿素縮合物、ジメチロール尿素、メチル尿素、ジメチル尿素およびこれ らの混合物を包含するプロセス。 33第32請求項記載のプロセスにおいて,当該する酸素化炭化水素が糖、アル コール、リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化水素、アルデヒド、エーテル、エ ステル、ケトン、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、NH4−リグノ スルホン酸塩、リグノスルホン酸カルシウム、1,3ジオキンラン、1,4ジオ キサン、テトラヒドロフランフルフリルアミン、酢酸n−ブチル、メチラール、 フラン、魚油、酢酸フルフリル、テトラヒドロフランテトラヒドロフリルアミン 、テトラヒドロピラン、マニトール、ヘキサメチレンジアミンおよび無水酢酸か らなるグループから選ばれるプロセス。 34.第33請求項記載のプロセスにおいて、当該する糖がスクロース、d−ガ ラクトースおよび糖蜜からなるグループから選ばれるプロセス。 35.第33請求項記載のプロセスにおいて、当該するアルコールがエチレング リコール、メタノール、フルフリルアルコール、1,3ブチレングリコール、テ トラヒドロフリルアルコール、2,5−フランジメタノールからなるグループか ら選ばれるプロセス。 36.第33請求項記載のプロセスにおいて、当該するカルボン酸か2−フラン カルボン酸、グルコン酸、クエン酸、ギ酸、クマリン酸、2,3,4,5−テト ラカルボン酸、フリルアクリル酸、バルビツル酸、シュウ酸および粘液酸からな るグループから選ばれるプロセス。 37.第32請求項記載のプロセスにおいて,1:1より大きい炭素対窒素の比 を有する当該する有機酸のアンモニウム塩が酢酸アンモニウム、アジピン酸アン モニウムおよびアジピン酸ジアンモニウム、安息香酸アンモニウム、シュウ酸水 素アンモニウム、カプリル酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、クエン酸ジ アンモニウムおよびクエン酸トリアンモニウム、クロトン酸アンモニウム、ドデ カン酸アンモニウムおよびドデカン酸ジアンモニウム,フマル酸アンモニウムお よびフマル酸ジアンモニウム、ヘプタン酸アンモニウム、リノール酸アンモニウ ム、マレイン酸アンモニウムおよびマレイン酸ジアンモニウム、モノブチル酸ア ンモニウム、オレイン酸アンモニウム、フタル酸アンモニウムおよびフタル酸ジ アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、サリチル酸アンモニウムコハク酸ア ンモニウムおよびコハク酸ジアンモニウム酒石酸アンモニウムおよび酒石酸ジア ンモニウム、トリメリト酸アンモニウム、トリメリト酸ジアンモニウムおよびト リメリト酸トリアンモニウムからなるグループから選ばれるプロセス。 38.第32請求項記載のプロセスにおいて、少なくとも1個の環員酸素を持つ 当該の複素環式炭化水素がフルフラルおよびフルフラル誘導体からなるグループ から選ばれるプロセス。 39.第32請求項記載のプロセスにおいて、当該するヒドロキシアミノ炭化水 素がアルカノールアミン、アミノ酸およびタンパク含有組成物からなるグループ から選ばれるプロセス。 40.第32請求項記載のプロセスにおいて、少なくとも1個の環員窒素を有す る当該する5または6員の複素環式炭化水素がピペラジン、ピペリジン、ピリジ ン、ピラジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリドン、ピロール、ピロリ ジンおよびそれらの混合物からなるグループから選ばれるプロセス。 41.第31請求項記載のプロセスにおいて、当該する第3温度ゾーンの排ガス 温度が約1400°F以下であり,当該する第3処理剤が過酸化水素、およびパ ラフィン系、オレフィン系、芳香族系、酸素化および窒素化炭化水素からなるグ ループから選ばれる組成物を包含するプロセス。 .42.第4温度ゾーンにおいて排ガス中に第4処理剤を注入することを具備す る第22請求項記載のプロセス。 43.第2請求項記載のプロセスにおいて、当該の各処理剤が処理剤ごとの窒素 酸化物低減対排ガス温度のカーブを利用して、窒素酸化物濃度の低下を実質的に 最大にしながら、窒素酸化物以外の汚染物質の発生が最小になるように注入され るプロセス 44.炭素質燃料の燐焼から出る排ガス中の窒素酸化物濃度を低減するプロセス において、当該する各場所で注入レベルを最適化して、所定の目標レベル以下に 窒素酸化物レベルを低下させるように、化学配合剤の注入場所を複数個選定し、 当該する場所での排ガス温度で窒素酸化物濃度を減少させるのに有効な化学配合 剤を少なくとも1種類当該する場所毎に注入することを具備するプロセス。 45.第44請求項記載のプロセスにおいて、当該の配合剤のいずれもが、窒素 酸化物の低減が達成されるように実質的に維持されるために、ボイラー負荷の変 化に応じて調節されるプロセス。 46.第44請求項記載のプロセスにおいて、当該の記合剤のいずれもが、排ガ ス中の窒素酸化物レベルを特定レベルに維持するためにボイラー負荷の変化に応 じて調節されるプロセス。 47.炭素質燃料の燃焼から出る排ガス中の窒素酸化物濃度を予定の目標レベル まで最低のコストで低減するプロセスであって、排ガス中への注入場所を複数個 選定し:当該の化学配合剤を注入する場所の排ガス温度で窒素酸化物濃度を低下 させるのに、おのおのが有効である化学配合剤を少くとも1種類選定し;−連の 注入は最も安い化学配合剤をまず最初に注入し、所定の目標レベルに達するまで 他の化学配合剤を注入する手順を繰り返すことを包含する排ガス中に化学配合剤 を注入することを具備するプロセス。 48.炭素質燃料の燃焼から出る排ガス中の汚染物質濃度を減少するプロセスで あって、このプロセスは: a.第1汚染物質濃度を減少させるめに第1処理剤を第1濃度ゾーンで排ガス中 に注入すること,および b.第2汚染物質濃度を減少させるめに第2処理剤を第2温度ゾーンで排ガス中 に注入すること, を具備しており,その場合、当該する第1および第2の処理剤を排ガス汚染指数 を低下させるのに有効な条件下で注入するプロセス。 49.第48請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1汚染物質は窒素酸化 物を包含し、第2汚染物質は三酸化硫黄を包含するプロセス。 50.第49請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1温度ゾーンでの排ガ ス温度が約1700°Fから約2000°Fであり、当該する第1処理剤は気体 アンモニアまたは、尿素あるいはアンモニアの水溶液を包含するプロセス。 51.第49請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1温度ゾーンでの排ガ ス温度が約1350°Fから約1750°Fであり、当該する第1配合剤が尿素 、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、パラフィン系炭化水素、オレフィン 系炭化水素、芳香族炭化水素、酸素化炭化水素、炭素対窒素の比が1より大きい 有機酸のアンモニウム塩、ヒドロキシアミノ炭化水素、少なくとも1個の環員酸 素を有する複素環式炭化水素、少なくとも1個の環員窒素を有する5または6員 の複素環式炭化水素、過酸化水素、グアニジン、炭酸グアニジン、ビグアニジン 、硫酸グアニル尿素、メラミン、ジシアンジアミド、カルシウムシアナミド、ビ ウレット、1,1′−アゾビスホルムアミド、メチロール尿素、メチロール尿素 −尿素縮合物、ジメチロール尿素メチル尿素、ジメチル尿素およびこれらの混合 物を包含するプロセス。 52.第51請求項記載のプロセスにおいて、当該する酸素化炭化水素は糖、ア セトン、アルコール、リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化物、アルデヒド、エ ーテル、エステル、ケトン、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、NH 4−リグノスルホン酸塩、リグノスルホン酸カルシウム、1,3ジオキンラン、 1,4ジオキサン、テトラヒドロフラン、フルフリルアミン、酢酸n−ブチル、 メチラール、フラン、魚油、酢酸フルフリル、テトラヒドロフラン、テトラヒド ロフリルアミン、テトラヒドロピラン、マニトール、ヘキサメチレンジアミンお よび無水酢酸からなるグループから選択されるプロセス。 53.第52訴求項記載のプロセスにおいて、当該する糖がスクロース,d−ガ ラクトースおよび糖蜜から選択されるプロセス。 54.第52請求項記載のプロセスにおいて、当該するアルコールがエチレング リコール、メタノール、フルフリルアルコール、1,3ブチレングリコール、テ トラヒドロフリルアルコール、および2,5−フランジメタノールからなるグル ープから選択されるプロセス。 55.第52請求項記載のプロセスにおいて、当該するカルボン酸が2−フラン カルボン酸、グルコン酸、クエン酸、ギ酸、クマリン酸、2,3,4,5−テト ラカルボン酸(原文どおり)、フリルアクリル酸、バルビツル酸、シュウ酸、お よび粘液酸からなるグループから選択されるプロセス。 56.第51請求項記載のプロセスにおいて,1:1より大きい炭素対窒素の比 を持つ当該する有機酸のアンモニウム塩が酢酸アンモニウム、アジピン酸アンモ ニウムおよびアジピン酸ジアンモニウム、安息香酸アンモニウム、シュウ酸水素 アンモニウム、カプリル酸アンモニウム、クエン酸アンモニウム、クエン酸ジア ンモニウムおよびクエン酸トリアンモニウム、クロトン酸アンモニウム、ドデカ ン酸アンモニウムおよびドデカン酸ジアンモニウム,フマル酸アンモニウムおよ びフマル酸ジアンモニウム、ヘプタン酸アンモニウム、リノール酸アンモニウム 、マレイン酸アンモニウムおよびマレイン酸ジアンモニウム、モノブチル酸アン モニウム、オレイン酸アンモニウム、フタル酸アンモニウムおよびフタル酸ジア ンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、サリチル酸アンモニウム、コハク酸ア ンモニウムおよびコハク酸ジアンモニウム、酒石酸アンモニウムおよび酒石酸ジ アンモニウム、トリメリト酸アンモニウム、トリメリト酸ジアンモニウムおよび トリメリト酸トリアンモニウムからなるグループから選ばれるプロセス。 57.第51請求項記載のプロセスにおいて、少なくとも1個の環員酸素を有す る複素環式炭化水素がフルフラールおよびフルフラール誘導体からなるグループ から選択されるプロセス。 58.第51請求項記載のプロセスにおいて、当該するヒドロキシアミノ炭化水 素がアルカノールアミン類、アミノ酸およびタンパク含有組成物からなるグルー プから選ばれるプロセス。 59.第51請求項記載のプロセスにおいて、少なくとも1個の環員窒素を有す る当該する5または6員の複素環式炭化水素がピペラジン、ピペリジン、ピリジ ン、ピラジン、ピラゾール、イミダゾール、オキサゾリドン、ピロール、ピロリ ジンおよびそれらの混合物からなるグループから選ばれるプロセス。 60.第50請求項記載のプロセスにおいて、当該する第2温度ゾーンの排ガス 温度は約1700°Fより高くなく、第2処理剤が酸素化炭化水素を包含するプ ロセス。 61.第60請求項記載のプロセスにおいて、当該の酸素化炭化水素がアルコー ル、糖、リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化物、アルデヒド、エーテル、エス テル、ケトンおよびそれらの混合物から選ばれるプロセス。 62.第61請求項記載のプロセスにおいて、当該の酸素化炭化水素がメタノー ル、エチレングリコール、糖蜜、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、 酢酸アンモニウム、クエン酸、スクロースおよびそれらの混合物からなるグルー プから選はれるプロセス。 63.第50請求項記載のプロセスにおいて、当該の第2温度ゾーンにおける排 ガス温度が約1450°F以下であるプロセス。 64.第50請求項記載の方法において、当該の第2処理剤と三酸化硫黄の重量 比が約3:1から約8:1である方法。 65.第50請求項記載の方法において、当該の第2処理剤が水分散液を包含す る方法。 66.排ガス中の第3汚染物質濃度を低下させるために第3温度ゾーンにおいて 排ガス中に第3処理剤を注入することを包含する第48請求項記載のプロセス。 67.第66請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1汚染物資が窒素酸化 物を包含し、当該の第2汚染物質がアンモニアを包含し、当該の第3汚染物質が 三酸化硫黄を包含するプロセス。 68.第67請求項記載のプロセスにおいて、当該の第2処理剤がアンモニア洗 浄を実施するに当って有効であるプロセス。 69.第68請求項記載のプロセスにおいて、当該の第2温度ゾーンにおける排 ガス温度が約1350°Fより高いプロセス。 70.第69請求項記載のプロセスにおいて,当該の第2処理剤が非窒素質処理 剤を包含するプロセス。 71.第66請求項記載のプロセスにおいて、当該の第3温度ゾーンにおける排 ガス温度は約1450°F以下であり、当該の第3処理剤が過酸化水素または酸 素化炭化水素を包含するプロセス。 72.第71請求項記載のプロセスにおいて、当該の酸素化炭化水素がアルコー ル、糖、リグニン誘導体、カルボン酸、過酸化物、アルデヒド、エーテル、エス テル、ケトンおよびそれらの混合物から選択されるプロセス。 73.第72請求項記載のプロセスにおいて、当該の酸素化炭化水素がメタノー ル、エチレングリコール、糖蜜、グリセリン、テトラヒドロフラン、アセトン、 酢酸アンモニウム、クエン酸、スクロースおよびそれらの混合物からなるグルー プから選ばれるプロセス。 74.炭素質燃料の燃焼から出る排ガス中の汚染物質濃度を減少するプロセスに おいて、当該する第1および第2の排ガス汚染物質減少のプロセスが排ガス汚染 指数を低下させるのに有効な条件下で行われるところの a.第1排ガス汚染物質減少のプロセスを行うこと,および b.第2排ガス汚染物質減少のプロセスを行うこと を具備するプロセス。 75.第74請求項記載のプロセスにおいて、当該の第1排ガス汚染物質減少プ ロセスはフリーラジカル住窒素酸化物を減少するプロセスを包含するプロセス。 76.第75請求項記載のプロセスにおいて、当該する第1排ガス汚染物質減少 のプロセスは当該の第1および第2窒素酸化物環元処理剤が排ガス汚染指数を低 下させる条件下で注入されるところの a.第1温度ゾーンで排ガス中に第1の窒素酸化物低減処理剤を注入すること、 およびb.第2温度ゾーンで排ガス中に第2の窒素酸化物低減処理剤を注入する こと を具備しているプロセス。 77.第75請求項記載のプロセスにおいて、当該の第2排ガス汚染物質減少の プロセスは排ガス中の窒素酸化物を選択的に接触環元することを包含するプロセ ス。 排ガス中の汚染物質濃度低減のための多段式プロセス。
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