JPH0248043B2 - Lsiyoeehanoheimendokensasochiniokerueehakakudoichiawase*isosochi - Google Patents

Lsiyoeehanoheimendokensasochiniokerueehakakudoichiawase*isosochi

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JPH0248043B2
JPH0248043B2 JP21108582A JP21108582A JPH0248043B2 JP H0248043 B2 JPH0248043 B2 JP H0248043B2 JP 21108582 A JP21108582 A JP 21108582A JP 21108582 A JP21108582 A JP 21108582A JP H0248043 B2 JPH0248043 B2 JP H0248043B2
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JP
Japan
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wafer
chuck
orientation flat
vacuum suction
suction plate
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Hisashi Nakamoto
Masane Suzuki
Shigeru Inaba
Masaaki Chikaike
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Fujinon Corp
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Fujinon Corp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7049Technique, e.g. interferometric
    • G03F9/7053Non-optical, e.g. mechanical, capacitive, using an electron beam, acoustic or thermal waves
    • G03F9/7057Gas flow, e.g. for focusing, leveling or gap setting

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Specific Conveyance Elements (AREA)
  • Feeding Of Articles To Conveyors (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はLSI用ウエーハの平面度検査装置に
おけるウエーハ角度位置合せ・移送装置に関し、
特に精密な平面度が要求されるVLSI用ウエーハ
に好適な角度位置合せ・移送装置に係わる。
VLSI用Siウエーハは、表面に1〜1.5μm程度
の線幅パターンを転写するために1〜2μm以下
の平面度が要求される。そのため円形のウエーハ
をカセツトから取出して角度位置を一定にした状
態で平面度を光学的に検査し、検査結果に基いて
ウエーハを分別する。かかる一連の作業を連続的
に行う自動装置は、種々の大きさのウエーハを検
査し得ることと、ウエーハに損傷や異物の付着又
はウエーハ内への不純物拡散を極力防止し得るこ
とが必要である。そのため従来からウエーハの移
送には真空チヤツク、ベルヌーイ式吸着手
段、エアベアリング、無塵ベルト搬送手段等
が用いられ、またウエーハの角度位置合せには
オリエンテーシヨンフラツトを機械的に合せる方
法、オリエンテーシヨンフラツトを複数のセン
サを用いて検出する方法等が用いられてきた。
しかしながら、は真空度の変化又は吸盤の接
触状態により吸着力が低下してウエーハが落下し
たり、或は吸盤との接触面積が大で吸盤の材質に
よつては不純物がウエーハ内へ拡散し品質不良を
起す欠点があり、の手段はいずれも位置ぎ
め精度が低く、そのためガイドやストツパを用い
れば高速移送時にこれらにウエーハが衝突して損
傷するなどの欠点があり、更にの手段は吸引
又は噴出するエアに含まれた不純物がウエーハを
汚染する欠点がある。またのベルトは粗面化に
より使用寿命が限られる上に、平面度検査部にあ
るウエーハ吸着用チヤツク台にベルト通路溝を設
けるため、ウエーハ吸着時に該溝によつてウエー
ハに反りを生じ、正確な平面度検査ができない欠
点がある。またの方法はウエーハを損傷し易い
上に、ウエーハ表面に不純物が拡散するおそれが
あるし、の方法はオリエンテーシヨンフラツト
が2個以上あるときはセンサの位置によつては検
出不能となることがあるばかりでなく、検査精度
が低く、センサ支持構造が複雑となる等の欠点が
ある。
本発明は従来の上記欠点を除するためになされ
たもので、ウエーハを反対方向からカギ形をなし
たチヤツク爪により掬い上げ、チヤツク爪に真空
吸着させて、3点又は4点支持状態にて移送し、
またウエーハの角度位置合せには、オリエンテー
シヨンフラツトを検出する光学センサの作動によ
りオリエンテーシヨンフラツトの中心角をパルス
にて計測したのち、そのパルス数の1/2だけウエ
ーハを逆回転して角度位置合せを行うことを特徴
とする。
以下本発明の実施例について説明する。第1図
ないし第3図は本発明を適用したウエーハ平面度
検査装置を示す。固定フレーム1上に装着したカ
セツト2の収納ウエーハ3は、1枚づつウレタン
製無塵ベルトフイーダ4,5の昇降動作とリミツ
トスイツチによる制御とによりオリエンテーシヨ
ンフラツト(以下オリフラと略称する)合せ部6
へ送出され、デルリン製ガイド7の半円形凹所8
内へ装入されて停止する。この停止位置において
ウエーハ3はその直下に設けたデルリン製昇降回
転台9と同心位置にあるよう、ガイド7の位置調
整をしておく。
昇降回路台9は、第4図に示すように固定垂直
ロツド10により案内昇降するフレーム11に軸
受12にて軸支された中空軸13上に固定されて
おり、真空吸着口14を有する。該吸着口14は
中空軸13、ホース15及び図示しない電磁弁を
介して真空源に連通する。
ウエーハ3が凹所8内に嵌入したことをリミツ
トスイツチが検知すると、昇降回転台9は吸着可
能状態となつてエアシリンダ16により上昇し、
ウエーハ3を吸着固定しつつ凹所8外の所定高さ
まで持ち上げる。持ち上げ完了をリミツトスイツ
チが検知すると光電センサ17がステツピンダモ
ータ駆動の送りねじ18によりベルトフイーダ5
の送入方向と直角で回転台9の中心に向い水平前
進する。
光電センサ17はウエーハ3の表面に対して垂
直に投、受光をする素子を具えており、またウエ
ーハ3は第5図に示すように外周にオリフラ20
を有し、光電センサ17はオリフラ20とウエー
ハ外周との間の欠円部20aにおいて前記投、受
光をすることによつてオリフラ20を検出するこ
とができる。
光電センサ17が前記のように前進してオリフ
ラ20の検出可能位置、例えばa点に停止する
と、昇降回転台9がステツピングモータ19によ
り回転をする。オリフラ20の到来によりb点か
らc点までの通光区間の間センサ17が作動して
一定パルス間隔のパルスのカウントが行われる。
c点においてセンサ17が不作動になると、前記
カウントの1/2のパルス数をCPUにおいて計算
し、このパルス数だけモータ19が逆転して停止
する。したがつて、ウエーハ3はオリフラ20の
中心がセンサ17と一致する角度位置に位置合せ
される。この位置合せ精度は360度の回転角に対
するパルス数が大なるほど良く、例えば360度に
対し1000パルスとすれば0.36度の精度の位置合せ
が可能となる。
なお、ウエーハ3にオリフラを2個以上設けた
場合は、最長のオリフラを検出するようにセンサ
17の停止位置を定めればよい。またb、c点付
近でセンサ17の動作が不安定となることを考慮
して、オリフラ20の両端付近におけるパルスカ
ウントをカツトするようにCPUを作動させるこ
ともできる。
上記オリフラ位置合せが終了するとセンサ17
は原位置に後退する。
上記位置合せされたまま上昇位置に保持された
ウエーハ3は次にチヤツク装置21によつて平面
度検査部22へ移送される。
平面度検査部22には上面を高精度の平面に仕
上げた吸着板23を有する真空チヤツク台24が
設けられる。該チヤツク台24は第6図、第7図
に示すようにウエーハ3を載置する範囲に多数の
真空吸着口25を有する吸着板23を押え環26
にて基板27に固定してなり、吸着口25は通路
28及び基板27内に設けた図示しない放射状の
通気路により電磁切換弁を介して真空源に連通す
る。吸着板23には後述するチヤツク爪52a,
52bがそれぞれ陥入する3個の切欠部29a,
29bが設けられる。
チヤツク台24はウエーハ3の直径に応じて交
換されるが、基板27は共通の寸法、構造を有
し、固定フレーム1に突設した位置ぎめピンの嵌
入孔30と、基板両側に圧縮ばね31にて付勢さ
れピン32で枢支された着脱用レバー33とを具
え、レバー33の下端鈎部34がフレーム1側に
固定係合片35にばね31の圧力により係合して
フレーム1に固定される。チヤツク台24を取外
すにはレバー33の上端手掛部36を持ち上げれ
ばよく、レバー33が回動して前記係合が外れ
る。
チヤツク装置21は第1,8図に示すように、
オリフラ合せ部6と吸着板23との中心間距離を
フレーム1に固定した案内ロツド37に沿つてス
テツピングモータ38駆動の送りねじ39により
案内往復する移動フレーム40と、該フレーム4
0に固定した垂直ガイド41に沿つてエアシリン
ダ42により案内昇降する1対のチヤツクアーム
43とを有し、該アーム43はオリフラ合せ部6
の昇降回転台9と吸着板23の中心とを結ぶ中心
線44の上方を両中心間距離と等しい間隔をもつ
て往復移動する。
各チヤツクアーム43は外筐45内に平行する
1対の案内ロツド46とステツピングモータ47
により接手48を介して回転駆動される送りねじ
杆49とを有し、送りねじ杆49は左右反対のね
じ山部50を有する。案内ロツド46に摺嵌し左
右の各ねじ山部50に基部51がそれぞれ螺合す
るデルリン製チヤツク爪52a,52bは中心線
44を含む垂直面53から等距離にあつて、ウエ
ーハ3の直径ごとに位置ぎめ固定されたセンサ5
4によつて後退位置が定められる。
チヤツク爪52a,52bは外筐45より下方
に突出し、先端は水平屈曲して相対するウエーハ
支持部55となり、支持部55の上面に真空吸着
口56を具える。該吸着口56はチヤツク爪内の
通気路57及び図示しないホースにより電磁切換
弁を介して真空源に連通する。本実施例ではチヤ
ツク爪52aは1個であり、チヤツク爪52bは
互に平行に近接する2個のチヤツク爪からなる。
チヤツクアーム43が下降したときは各チヤツク
爪の支持部55は吸着板23に設けた切欠部29
a,29bにそれぞれ陥入して進退することがで
きる。
2個のチヤツク爪52bの相互間隔は、チヤツ
ク爪52aと共に支持部55によつてウエーハ3
を3点支持して安定に移送しうるよう、ウエーハ
直径のほぼ1/4〜1/3程度に定められる。
次に本発明の作用を説明する。オリフラ合せ部
6においてウエーハ3の位置合せが終了すると、
終了信号によつてステツピングモータ38が起動
し、第1図においてチヤツクアーム43を左行さ
せる。そして左方のチヤツクアーム43がオリフ
ラ合せ部6と吸着板23の中間に達したときチヤ
ツクアーム43は短時間停止し、この間に干渉計
58により吸着板23上に既に吸着されているウ
エーハ3の平面度検査が行われる、該検査終了信
号によりチヤツクアーム43は再び左行し、左方
のチヤツクアーム43がオリフラ合せ部6の直上
に停止すると右方のチヤツクアーム43は吸着板
23の直上に停止する。
この状態ではチヤツク爪52a,52bの各支
持部55はウエーハ3の上方にあつてその直径よ
り大なる間隔に開いている。チヤツクアーム43
は前記停止後に下降し、支持部55は昇降回転台
9及び吸着板23の上の各ウエーハ3より低い位
置に停止する。
ついでモータ47が起動し、チヤツク爪52
a,52bを支持部55がウエーハ3の下側に入
るように閉じると共に吸着口56に真空吸着力が
与えられる。その後にチヤツクアーム43は上昇
すると共に、昇降回転台9及び吸着板23の真空
吸着力は解かれ、支持部55がウエーハ3を吸着
支持して上昇する。上昇直後に昇降回転台9は下
降する。
チヤツクアーム43はついで右行し、左方のチ
ヤツクアーム43が吸着板23の直上に達して停
止する。このとき右方のチヤツクアーム43はソ
ータベルトフイーダ59の始端直上位置にある。
前記停止後エアシリンダ42によりチヤツクアー
ム43は下降し、左方のチヤツクアームの支持部
55が吸着板切欠部29a及び29b内へ陥入す
ると、吸着板23は吸着力を生ずると共に支持部
55の吸着力が消失してウエーハ3は吸着板23
上に吸着固定される。また右方のチヤツクアーム
43の支持部55はウエーハ3がソータベルトフ
イーダ59に接する前に吸着力を失い、ウエーハ
3は該ベルトフイーダ59上に載置される。しか
るのち、チヤツク爪52a,52bは開き、チヤ
ツクアーム43は上昇する。
上記順序動作を繰返えすことにより、カセツト
2内のウエーハ3は自動的に逐次平面度が検査さ
れる。上記順序動作はリミツトスイツチとCPU
の制御によつて行われ、各ステツピングモータの
回転量もCPUから供給されるパルスの数によつ
て制御される。
上記実施例においては、真空吸着口を具えたチ
ヤツク爪によりウエーを3点支持したが、チヤツ
ク爪52aを52bと同様に2個設けて4点支持
することも可能である。しかしウエーハ支持点は
少いほどウエーハとの接触面が少なく有利であ
る。
本発明は上記構成を有し、次の通りの顕著な効
果を有する。
(1) チヤツク爪の支持部がウエーハの外周部下面
を真空吸着して3点もしくは4点支持によりウ
エーハを安定確実に移送し得る一方、ウエーハ
支持接触面が外周部分に限られ接触面積も最小
となり、接触によるウエーハ汚染がきわめて少
い。
(2) 吸着板には従来の如きベルト通路溝がないか
ら、ウエーハを極めて平坦に吸着固定すること
ができ、干渉計によりウエーハ自体の平面度を
精密に検査しうる。
(3) チヤツクアーム及びチヤツク爪をステツピン
グモータにより駆動するから精密な移動制御が
可能であり、CPUによる装置全体の一元的制
御が容易である。
(4) オリフラ位置合せをオリフラ検知用光電セン
サの検知中におけるパルスの数に基いて行うの
で、オリフラ位置合せの精度が良好であり、オ
リフラ合せ部の構造がきわめて簡単となる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示し、第1図は本発
明を適用したウエーハ平面度検査装置の平面図、
第2図は同じく立面図、第3図は同じく側面図、
第4図はオリフラ位置合せ部を一部断面で示した
立面図、第5図はウエーハ平面図、第6図は真空
チヤツク台の平面図、第7図は同じく一部を断面
で示した立面図、第8図はチヤツク装置の縦断面
図である。 3……ウエーハ、6……オリエンテーシヨンフ
ラツト合せ部、9……昇降回転台、17……光電
センサ、19……ンステツピングモータ、20…
…オリエンテーシヨンフラツト、20a……欠円
部、21……チヤツク装置、23……真空吸着
板、29a,29b……切欠部、43……チヤツ
クアーム、47……ステツピングモータ、52
a,52b……チヤツク爪、55……支持部、5
6……真空吸着口。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 外周とオリエンテーシヨンフラツトとの間に
    欠円部を有する円形ウエーハを同心状に水平吸着
    支持する昇降回転台と、昇降回転台の上昇位置に
    おいて昇降回転台上のウエーハの中心に向い定方
    向に進退し該ウエーハの欠円部内に投、受光しう
    る検出位置に停止する光電センサを具え、前記検
    出位置においてウエーハの正転中に計数したパル
    ス数の1/2のパルス数だけウエーハを逆転して停
    止させる電動駆動装置を有するオリエンテーシヨ
    ンフラツト合せ部と、オリエンテーシヨンフラツ
    ト合せ部より移送方向下流側に設けられ上面外周
    部分にチヤツク爪陥入用欠部を有するウエーハ平
    面度検査用真空吸着板と、昇降回転台と前記真空
    吸着板との中心間距離の間隔をもつて昇降回転台
    及び前記真空吸着板の上方を往復し且つ昇降可能
    の1組のチヤツクアームを具えたチヤツク装置と
    を有し、各チヤツクアームは昇降回転台と前記真
    空吸着板の各中心を通る垂直中心面に対して等距
    離だけ互いに反対方向に電動駆動にて進退する少
    なくともそれぞれ2個以下のチヤツク爪を有し、
    各チヤツク爪は水平屈曲した下端支持部の上面に
    真空吸着口を具えてウエーハ下面を3点支持ない
    し4点支持状態にて吸着支持することを特徴とす
    るLSI用ウエーハの平面度検査装置におけるウエ
    ーハ角度位置合せ・移送装置。
JP21108582A 1982-12-01 1982-12-01 Lsiyoeehanoheimendokensasochiniokerueehakakudoichiawase*isosochi Expired - Lifetime JPH0248043B2 (ja)

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