JPH0242210B2 - - Google Patents
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- JPH0242210B2 JPH0242210B2 JP59232588A JP23258884A JPH0242210B2 JP H0242210 B2 JPH0242210 B2 JP H0242210B2 JP 59232588 A JP59232588 A JP 59232588A JP 23258884 A JP23258884 A JP 23258884A JP H0242210 B2 JPH0242210 B2 JP H0242210B2
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- temperature
- level
- temperature sensor
- processing liquid
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、処理液を加熱するのみならず、処理
液の液温検出、さらには液レベルをも検出可能な
処理液加温ヒータに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a processing liquid heating heater that not only heats the processing liquid but also can detect the temperature of the processing liquid and furthermore detect the liquid level.
例えば、カラーフイルムの現像液の適温は37度
乃至38度であり、液温を温度センサで検出し、ヒ
ータで現像液を適宜加熱して液温を適温に保つよ
うになつている。
For example, the optimum temperature of a color film developer is 37 degrees to 38 degrees, and the solution temperature is detected by a temperature sensor, and a heater is used to appropriately heat the developer to maintain the solution temperature at an appropriate temperature.
また、処理槽内の現像液のレベルは、現像液の
フイルムへの付着、蒸発、液抜け等により低下す
る。そこで、現像液の液レベルを液レベルセンサ
で検出し、異常の場合には警報を出したりポンプ
で現像液を補つて液レベルを一定に保つようにな
つている。 Further, the level of the developer in the processing tank decreases due to adhesion of the developer to the film, evaporation, liquid drainage, etc. Therefore, the liquid level of the developer is detected by a liquid level sensor, and in the event of an abnormality, an alarm is issued or a pump is used to supplement the developer to keep the liquid level constant.
ところが、温度センサ、液レベルセンサ及びヒ
ータを別個の部材として独立に設けるようになつ
ているので、コスト高となるとともに、処理槽へ
の取付及び配線が複雑となる。
However, since the temperature sensor, liquid level sensor, and heater are provided independently as separate members, the cost is high and the installation to the processing tank and wiring are complicated.
上記問題点を解決するために、本発明に係る処
理液加温ヒータでは、処理液を加熱するためのヒ
ータと処理液の温度変化を連続的に検出できる非
接点式の測温体からなる温度センサとを接近させ
てセラミツク製保護体上に一体にした加温ヒータ
と、前記ヒータがオンした時又はオフした時の温
度センサによる出力の変化の大小を判断して液レ
ベルを判別する液レベル判別手段と、を有してい
る。
In order to solve the above problems, the processing liquid heating heater according to the present invention includes a heater for heating the processing liquid and a non-contact temperature measuring element that can continuously detect temperature changes in the processing liquid. A heating heater integrated on a ceramic protector in close proximity to the sensor, and a liquid level that determines the liquid level by determining the magnitude of the change in output from the temperature sensor when the heater is turned on or turned off. and a determination means.
本発明では、ヒータと温度センサとをセラミツ
ク製保護体上に一体にしているので、処理槽への
取付及び配線が簡単になる。
In the present invention, since the heater and the temperature sensor are integrated on the ceramic protector, attachment to the processing tank and wiring are simplified.
また温度センサを、処理液の温度変化を連続的
に検出できる非接点式の測温体で構成しているの
で、温度センサの出力の変化の大小を判断するこ
とにより、加温ヒータが処理液に浸漬されている
状態と加温ヒータが処理液から露出している状態
とを判別できる。すなわち、ヒータがオンした時
は、加温ヒータが処理液から露出している状態の
方が加温ヒータが処理液に浸漬されている状態よ
りも温度センサの出力の変化が大きい。また、ヒ
ータがオフした時は、加温ヒータが処理液から露
出している状態の方が加温ヒータが処理液に浸漬
されている状態よりも温度センサの出力の変化が
小さい。このため、液レベル判別手段は温度セン
サの出力の変化の大小を判断して液レベルを判別
することができる。また、セラミツクを用いて加
温ヒータの熱容量を小さくしているため、温度セ
ンサの出力の温度変化に対する追従性がよくな
り、例えば、液レベルが低い場合、すなわち加温
ヒータが処理液から露出しかつヒータがオンした
場合には、温度センサはヒータからの放射によつ
て加熱されることになるので液レベルの低い状態
を直ちに検出することができる。 In addition, the temperature sensor is configured with a non-contact type temperature measuring element that can continuously detect temperature changes in the processing liquid, so by determining the magnitude of the change in the output of the temperature sensor, the heating heater can control the processing liquid. It is possible to distinguish between a state in which the heater is immersed in the processing liquid and a state in which the heater is exposed from the processing liquid. That is, when the heater is turned on, the change in the output of the temperature sensor is larger when the heater is exposed from the processing liquid than when the heater is immersed in the processing liquid. Further, when the heater is turned off, the change in the output of the temperature sensor is smaller when the heater is exposed from the processing liquid than when the heater is immersed in the processing liquid. Therefore, the liquid level determining means can determine the liquid level by determining the magnitude of change in the output of the temperature sensor. In addition, since the heat capacity of the heating heater is made small by using ceramic, the output of the temperature sensor can better follow temperature changes. In addition, when the heater is turned on, the temperature sensor is heated by radiation from the heater, so that a low liquid level can be immediately detected.
なお、液レベル判別手段は温度センサの出力の
変化の大小を判断して液レベルを判別している
が、この変化の大小は、温度センサの出力の変化
率の大小で判断してもよく、温度センサの出力が
所定レベルになるまでの時間の長短で判断しても
よい。 Note that the liquid level determining means determines the liquid level by determining the magnitude of the change in the output of the temperature sensor, but the magnitude of this change may also be determined by the magnitude of the rate of change in the output of the temperature sensor. The determination may be made based on the length of time it takes for the output of the temperature sensor to reach a predetermined level.
図面に従つて本発明に係る処理液加温ヒータを
現像装置に用いた実施例を説明する。
An embodiment in which a processing liquid warming heater according to the present invention is used in a developing device will be described with reference to the drawings.
第２図に示す如く、現像槽１０内には現像液１
２が入つており、図示しないフイルムを浸して現
像するようになつている。 As shown in FIG. 2, a developer 1 is contained in the developer tank 10.
2 is included, and the film (not shown) is immersed therein for development.
現像槽１０には処理液加温ヒータが挿着されて
いる。この処理液加温ヒータは加温ヒータ１４を
備えている。この加温ヒータ１４は、第１図に示
す如く、セラミツク製保護体１６に測温抵抗体１
８及びヒータ２０が接近して埋設されている。こ
の第１実施例では、測温抵抗体１８はヒータ２０
の上方に配設されている。 A processing liquid heating heater is inserted into the developing tank 10 . This processing liquid heating heater includes a heating heater 14. As shown in FIG.
8 and heater 20 are buried close together. In this first embodiment, the resistance temperature detector 18 is connected to the heater 20.
is placed above.
現像槽１０内の現像液は、ポンプ２２を介して
補充されるようになつている。 The developer in the developer tank 10 is replenished via a pump 22.
ヒータ２０及びポンプ２２の電力は、それぞれ
ヒータ電源回路２４及びポンプ電源回路２６から
供給されている。ヒータ電源回路２４及びポンプ
電源回路の出力電圧はマイクロコンピユータ２８
によりスイツチングされるようになつている。 Power for the heater 20 and pump 22 is supplied from a heater power supply circuit 24 and a pump power supply circuit 26, respectively. The output voltages of the heater power supply circuit 24 and the pump power supply circuit are controlled by the microcomputer 28.
It is now being switched by
測温抵抗体１８はブリツジ回路３０を構成して
おり、その不平衡電圧がＡ／Ｄ変換器３２に入力
されてデジタル信号に変換され、次いでマイクロ
コンピユータ２８に入力されている。ブリツジ回
路３０の入力電圧はマイクロコンピユータ２８か
ら供給されている。 The temperature sensing resistor 18 constitutes a bridge circuit 30, and its unbalanced voltage is input to an A/D converter 32, converted into a digital signal, and then input to the microcomputer 28. The input voltage of the bridge circuit 30 is supplied from the microcomputer 28.
また、マイクロコンピユータ２８には、現像液
１２の液レベルセンサ３４，３６からの信号が入
力されており、それぞれ低レベル及び高レベルを
検出するようになつている。 Further, signals from liquid level sensors 34 and 36 of the developer 12 are inputted to the microcomputer 28, and are adapted to detect a low level and a high level, respectively.
次に、上記の如く構成された第１実施例の作用
を、第３図に示す制御フローチヤートに従つて説
明する。 Next, the operation of the first embodiment configured as described above will be explained according to the control flowchart shown in FIG.
温度Ｔを読込み（ステツプ１００）、Ｔ≧37.5
℃ならばステツプ１００へ戻り、Ｔ＜37.5℃なら
ばヒータ電源回路２４の出力をオンし、ヒータ２
０で現像液１２を加熱する（ステツプ１０４）。
次いで、第４図Ａに示す如く、t0sec経過するのを
待つて（ステツプ１０６）、ヒータ電源回路２４
の出力をオフする（ステツプ１０８）。 Read temperature T (step 100), T≧37.5
℃, return to step 100, and if T<37.5℃, turn on the output of the heater power supply circuit 24, and turn on the heater 2
The developer 12 is heated at 0 (step 104).
Next, as shown in FIG. 4A, after waiting for t0sec to elapse (step 106), the heater power supply circuit 24 is turned on.
The output is turned off (step 108).
このt0secの加熱により、第４図Ｂに示す如く、
測温抵抗体１８の位置における温度が上昇する。
第４図Ｂにおいて、実線は現像液１２の液レベル
が測温抵抗体１８の位置よりも高い場合（以下、
これを満レベルという）の温度変化を示してお
り、一点鎖線は現像液１２の液レベルが測温抵抗
体１８の位置よりも低い場合（以下、これを空レ
ベルという）の温度変化を示している。すなわ
ち、ヒータ２０がオンからオフへ変化した後の測
温抵抗体１８の出力は、空レベルのときよりも満
レベルのときの方が変化率が大きい（一定時間経
過後の温度差が大きい）。 Due to this heating at t0sec , as shown in Figure 4B,
The temperature at the location of the resistance temperature detector 18 increases.
In FIG. 4B, the solid line indicates the case where the level of the developer 12 is higher than the position of the resistance temperature sensor 18 (hereinafter referred to as
The dashed line shows the temperature change when the level of the developer 12 is lower than the position of the resistance temperature sensor 18 (hereinafter referred to as the empty level). There is. That is, after the heater 20 changes from on to off, the rate of change in the output of the resistance temperature detector 18 is greater when the level is full than when it is empty (the temperature difference after a certain period of time is large). .
次いで、温度Ｔを読込み、この値をT1とする
（ステツプ１１０）。次いで、t1sec経過するのを待
つて（ステツプ１１２、第４図Ａ参照）、温度Ｔ
を読込み、この値をT2とする（ステツプ１１
４）。 Next, the temperature T is read and this value is set as T1 (step 110). Next, after waiting for 1 sec to elapse (step 112, see FIG. 4A), the temperature T
and set this value as T 2 (step 11)
4).
次いで、T1−T2＞Ｋ（Ｋは一定値）の場合、す
なわち測温抵抗体１８の出力の変化率が大きい場
合には満レベルと判断し、t2sec経過するのを待つ
て（ステツプ１１８、第４図Ａ参照）、先頭のス
テツプ１００へ戻る。T1−T2≦Ｋの場合、すな
わち測温抵抗体１８の出力の変化率が小さい場合
には空レベルと判断し、図示しないアラームをオ
ンして現像処理を中止する（ステツプ１２０）。 Next, if T 1 −T 2 >K (K is a constant value), that is, if the rate of change in the output of the resistance temperature detector 18 is large, it is determined that the level is full, and after waiting for t 2 seconds (step 118 (see FIG. 4A), the process returns to the top step 100. If T 1 -T 2 ≦K, that is, if the rate of change in the output of the temperature sensing resistor 18 is small, it is determined that the level is empty, and an alarm (not shown) is turned on to stop the development process (step 120).
なお、図示しないタイマ割込処理ルーチンによ
り、液レベルセンサ３４がオフし、低レベルが検
出された場合には、ポンプ電源回路２６の出力を
オンする。液レベルセンサ３６がオンし、高レベ
ルが検出された場合にはポンプ電源回路２６の出
力をオフする。この場合、補充される現像液の流
量は小さく、現像液１２が洩れている場合には、
この補充を行つても上記空レベルが検出されるよ
うになつている。また、ポンプ２２が故障し、長
時間経過した場合も空レベルが検出される。 Note that, by a timer interrupt processing routine (not shown), the liquid level sensor 34 is turned off, and when a low level is detected, the output of the pump power supply circuit 26 is turned on. The liquid level sensor 36 is turned on, and when a high level is detected, the output of the pump power supply circuit 26 is turned off. In this case, the flow rate of the developer to be replenished is small, and if the developer 12 is leaking,
Even after this replenishment, the empty level is detected. Furthermore, if the pump 22 fails and a long period of time has elapsed, the empty level is also detected.
次に、本発明の第２実施例を説明する。 Next, a second embodiment of the present invention will be described.
この第２実施例では、第５図に示す如く、加温
ヒータ１４の測温抵抗体１８がヒータ２０に近設
されている。従つて、ヒータ２０のオン時または
オフ時の測温抵抗体２０の出力の変化の大小は、
空レベルと満レベルとで第１実施例の場合よりも
大きく異なり、より正確に液レベルを判別でき
る。 In this second embodiment, as shown in FIG. 5, the resistance temperature detector 18 of the heater 14 is placed close to the heater 20. Therefore, the magnitude of the change in the output of the resistance temperature detector 20 when the heater 20 is on or off is as follows:
The difference between the empty level and the full level is greater than in the first embodiment, and the liquid level can be determined more accurately.
なお、温度センサは測温抵抗体に限らず、サー
ミスタや熱電対等の、温度変化を連続的に検出で
きる非接点式の測温体であればよい。 Note that the temperature sensor is not limited to a resistance temperature detector, and may be any non-contact type temperature detector such as a thermistor or thermocouple that can continuously detect temperature changes.
また、温度センサはセラミツクヒータの製法と
同様に測温体をプリントする方式でヒータと一体
につくつてもよい。 Further, the temperature sensor may be manufactured integrally with the heater by printing a temperature measuring element in the same manner as in the manufacturing method of ceramic heaters.
本発明に係る処理液加温ヒータでは、ヒータと
温度センサとを接近させてセラミツク製保護体上
に一体にしているので、処理槽への取付及び配線
が簡単であり、また、セラミツク製保護体を用い
ているので加温ヒータの熱容量を小さくすること
ができ、これによつて速やかに液レベルを検出で
きる、という効果が得られる。
In the processing liquid heating heater according to the present invention, since the heater and the temperature sensor are placed close to each other and integrated on the ceramic protector, installation to the processing tank and wiring are easy. Since this is used, the heat capacity of the heating heater can be reduced, and the effect of this is that the liquid level can be detected quickly.
第１図は本発明に係る処理液加温ヒータの第１
実施例を示す略図、第２図は第１実施例の処理液
加温ヒータの適用例を示す略図、第３図は制御フ
ローチヤート、第４図Ａはヒータのオンオフを示
す波形図、第４図Ｂはヒータをオンオフした場合
の温度センサの出力を示す線図、第５図は本発明
の第２実施例を示す処理液加温ヒータの略図であ
る。
１４…加温ヒータ、１６…保護体、１８…測温
抵抗体、２０…ヒータ。
FIG. 1 shows a first diagram of a processing liquid heating heater according to the present invention.
2 is a schematic diagram showing an example of application of the processing liquid heating heater of the first embodiment; FIG. 3 is a control flow chart; FIG. 4A is a waveform diagram showing heater on/off; FIG. B is a diagram showing the output of the temperature sensor when the heater is turned on and off, and FIG. 5 is a schematic diagram of a processing liquid heating heater showing a second embodiment of the present invention. 14... Heater, 16... Protector, 18... Resistance temperature detector, 20... Heater.
Claims (1)
度変化を連続的に検出できる非接点式の測温体か
らなる温度センサとを接近させてセラミツク製保
護体上に一体にした加温ヒータと、前記ヒータが
オンした時又はオフした時の温度センサによる出
力の変化の大小を判断して液レベルを判別する液
レベル判別手段と、を有する処理液加温ヒータ。1 A heater for heating the processing liquid and a temperature sensor consisting of a non-contact type temperature measuring element that can continuously detect temperature changes of the processing liquid are placed close together and integrated on a ceramic protector. and a liquid level determining means for determining the liquid level by determining the magnitude of a change in output from a temperature sensor when the heater is turned on or turned off.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23258884A JPS61110137A (en) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | Heater for processing solution |
| US06/795,137 US4723066A (en) | 1984-11-05 | 1985-11-05 | Apparatus for heating processing liquid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23258884A JPS61110137A (en) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | Heater for processing solution |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61110137A JPS61110137A (en) | 1986-05-28 |
| JPH0242210B2 true JPH0242210B2 (en) | 1990-09-21 |
Family
ID=16941711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23258884A Granted JPS61110137A (en) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | Heater for processing solution |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61110137A (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817947A (en) * | 1981-07-23 | 1983-02-02 | 安永 延正 | Prefabricated house |
-
1984
- 1984-11-05 JP JP23258884A patent/JPS61110137A/en active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5817947A (en) * | 1981-07-23 | 1983-02-02 | 安永 延正 | Prefabricated house |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61110137A (en) | 1986-05-28 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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