JPH0235252B2 - Hikarifuaibanosokuteihoho - Google Patents
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- JPH0235252B2 JPH0235252B2 JP10322383A JP10322383A JPH0235252B2 JP H0235252 B2 JPH0235252 B2 JP H0235252B2 JP 10322383 A JP10322383 A JP 10322383A JP 10322383 A JP10322383 A JP 10322383A JP H0235252 B2 JPH0235252 B2 JP H0235252B2
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- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 7
- 241001125929 Trisopterus luscus Species 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
- G01M11/33—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face
- G01M11/333—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face using modulated input signals
-
- G—PHYSICS
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、光フアイバのベースバンド特性を
測定する方法に関し、特に周波数掃引法による光
フアイバの測定方法の改良に関する。
測定する方法に関し、特に周波数掃引法による光
フアイバの測定方法の改良に関する。
周波数掃引法はたとえば特開昭52−58553号公
報や特開昭53−19851号公報などにより知られて
いる。これを簡単に説明すると、第１図に示すよ
うに、周波数掃引可能な発振器１の出力をバイア
ス回路２に送り、半導体レーザ３の引加電流を発
振器１の出力に応じて直接変化させて、半導体レ
ーザ３から発せられる光信号を輝度変調する。こ
の光信号を被測定光フアイバ４の一端に入射し、
光フアイバ４中を伝搬して他端から出射する光信
号を受光素子５で電気信号に変換する。の信号を
増幅器６で増幅した後バンドパスフイルタ７に送
る。バンドパスフイルタ７は発振器１の発振周波
数に対応して周波数掃引可能なもので、このバン
ドパスフイルタ７により変調波成分を検出し指示
計８に送る。発振器１の周波数を直流から数ＧHz
まで掃引し、被測定光フアイバ４を伝搬した光信
号より変調波成分を得るとともに、基準信号とし
て同様に周波数掃引し１ｍ程度の光フアイバを通
した光信号から変調数成分を得、前者と後者の比
によりベースバンド特性を測定する。
報や特開昭53−19851号公報などにより知られて
いる。これを簡単に説明すると、第１図に示すよ
うに、周波数掃引可能な発振器１の出力をバイア
ス回路２に送り、半導体レーザ３の引加電流を発
振器１の出力に応じて直接変化させて、半導体レ
ーザ３から発せられる光信号を輝度変調する。こ
の光信号を被測定光フアイバ４の一端に入射し、
光フアイバ４中を伝搬して他端から出射する光信
号を受光素子５で電気信号に変換する。の信号を
増幅器６で増幅した後バンドパスフイルタ７に送
る。バンドパスフイルタ７は発振器１の発振周波
数に対応して周波数掃引可能なもので、このバン
ドパスフイルタ７により変調波成分を検出し指示
計８に送る。発振器１の周波数を直流から数ＧHz
まで掃引し、被測定光フアイバ４を伝搬した光信
号より変調波成分を得るとともに、基準信号とし
て同様に周波数掃引し１ｍ程度の光フアイバを通
した光信号から変調数成分を得、前者と後者の比
によりベースバンド特性を測定する。
しかしながら、原理的にはの方法で正しい値が
得られるものの、実際に測定してみると様々な要
因により信号に雑音が入り込み（これをモーダル
ノイズと称す）、正しい値を得るのは困難である。
すなわち数式を使つて説明すると、被測定光フア
イバ４に入射する光信号の強度Pinは発振器１の
出力である周波数ｆの信号で変調されており、次
の式で表わされる。
得られるものの、実際に測定してみると様々な要
因により信号に雑音が入り込み（これをモーダル
ノイズと称す）、正しい値を得るのは困難である。
すなわち数式を使つて説明すると、被測定光フア
イバ４に入射する光信号の強度Pinは発振器１の
出力である周波数ｆの信号で変調されており、次
の式で表わされる。
Pin＝Ａ＋Bcos（2πft） ……(1)
但しＡ＞Ｂ
また被測定光フアイバ４からの出射光の強度
Poutは Pout＝A′＋B′cos（2πft） ……(2) と表わされる。周波数ｆでのベースバンド特性は
変調波の振幅比であるから α(f)＝log〔B′（ｔ）／Ｂ（ｔ）〕 ……(3) と表わすことができる。しかしこの値はＢ，
B′が外乱の影響を受けず時間に対して一定の場
合に正しいものとなるが、外乱の影響によつて次
のようになる。つまり、 Ｂ＝ｇ（t1）・Ｂ(f) B′＝ｇ（t2）・B′(f) ……(4) とすると(3)式は次のようになつてしまい、 α(f)＝log〔ｇ（t2）・B′(f)／ｇ（t1）・Ｂ
(f)〕……(5) 一般的には(3)式と異なる。
Poutは Pout＝A′＋B′cos（2πft） ……(2) と表わされる。周波数ｆでのベースバンド特性は
変調波の振幅比であるから α(f)＝log〔B′（ｔ）／Ｂ（ｔ）〕 ……(3) と表わすことができる。しかしこの値はＢ，
B′が外乱の影響を受けず時間に対して一定の場
合に正しいものとなるが、外乱の影響によつて次
のようになる。つまり、 Ｂ＝ｇ（t1）・Ｂ(f) B′＝ｇ（t2）・B′(f) ……(4) とすると(3)式は次のようになつてしまい、 α(f)＝log〔ｇ（t2）・B′(f)／ｇ（t1）・Ｂ
(f)〕……(5) 一般的には(3)式と異なる。
この発明は、上記の問題を解決するためになさ
れたもので、モーダルノイズなどの外乱に影響さ
れず、ベースバンド特性を精密に測定することが
できるよう周波数掃引法を改良した光フアイバの
測定方法を提供することを目的とする。
れたもので、モーダルノイズなどの外乱に影響さ
れず、ベースバンド特性を精密に測定することが
できるよう周波数掃引法を改良した光フアイバの
測定方法を提供することを目的とする。
この発明による測定方法は、周波数掃引可能な
測定信号とともにたとえば1MHz程度の低周波信
号の参照信号によつて輝度変調した光信号を被測
定光フアイバに入射し、この光フアイバを伝搬し
た光信号より測定信号および参照信号の各周波数
成分の振幅を同時に検出し比較測定することを特
徴とする。
測定信号とともにたとえば1MHz程度の低周波信
号の参照信号によつて輝度変調した光信号を被測
定光フアイバに入射し、この光フアイバを伝搬し
た光信号より測定信号および参照信号の各周波数
成分の振幅を同時に検出し比較測定することを特
徴とする。
この発明の測定方法によれば、モーダルノイズ
に周波数依存性が存在しなければ外乱は測定信号
と参照信号とに同じ影響を与えるので、これら両
者の比較測定によつて外乱の影響を完全に除去す
ることができる。
に周波数依存性が存在しなければ外乱は測定信号
と参照信号とに同じ影響を与えるので、これら両
者の比較測定によつて外乱の影響を完全に除去す
ることができる。
以下、この発明の一実施例について説明する。
まず第２図において発振器１１からの周波数f1
の信号と発振器１２からの周波数f2の信号とを混
合器１３で混合しバイアス回路２に送る。発振器
１１は周波数掃引可能な発振器で、の周波数f1の
信号を測定信号とし、他方の発振器１２は発振周
波数が固定のもので、低周波で一定の周波数f2の
発振出力を参照信号とする。そして被測定光フア
イバ４を伝搬した光信号から分波器（またはバン
ドパスフイルタ）１４で周波数f1の成分と周波数
f2の成分を取り出し、選択レベルメータ１５，１
６により復調してそれらの振幅を検出しレシオメ
ータ１７に入力して両者の比を取る。
の信号と発振器１２からの周波数f2の信号とを混
合器１３で混合しバイアス回路２に送る。発振器
１１は周波数掃引可能な発振器で、の周波数f1の
信号を測定信号とし、他方の発振器１２は発振周
波数が固定のもので、低周波で一定の周波数f2の
発振出力を参照信号とする。そして被測定光フア
イバ４を伝搬した光信号から分波器（またはバン
ドパスフイルタ）１４で周波数f1の成分と周波数
f2の成分を取り出し、選択レベルメータ１５，１
６により復調してそれらの振幅を検出しレシオメ
ータ１７に入力して両者の比を取る。
数式を使用して説明すると、光フアイバ４の入
射光の強度Pinは(1)式に対応して Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）＋Ccos（2πf2t）……(6) と表わすことができる。この場合モーダルノイズ
によつて影響されても周波数f1、f2の両成分に等
しくその影響があらわれるため、 Ｂ＝ｇ（t1）・Ｂ（f1） Ｃ＝ｇ（t1）・Ｃ（f2） ……(7) と表わすことができる。
射光の強度Pinは(1)式に対応して Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）＋Ccos（2πf2t）……(6) と表わすことができる。この場合モーダルノイズ
によつて影響されても周波数f1、f2の両成分に等
しくその影響があらわれるため、 Ｂ＝ｇ（t1）・Ｂ（f1） Ｃ＝ｇ（t1）・Ｃ（f2） ……(7) と表わすことができる。
他方光フアイバ４の出射光の強度Poutについ
ては、周波数f1の成分と周波数f2の成分とが互い
に独立に光フアイバ４中を伝搬するため、次のよ
うに表わすことができる。
ては、周波数f1の成分と周波数f2の成分とが互い
に独立に光フアイバ４中を伝搬するため、次のよ
うに表わすことができる。
Pout＝A′＋B′cos（2πf1t）
＋C′cos（2πf2t） ……(8)
そしてこの場合も外乱があつてもそれは周波数
f1、f2の両成分に等しく作用する。そこで、 B′＝ｇ（t2）・B′（f1） C′＝ｇ（t2）・C′（f2） ……(9) と表わすことができる。
f1、f2の両成分に等しく作用する。そこで、 B′＝ｇ（t2）・B′（f1） C′＝ｇ（t2）・C′（f2） ……(9) と表わすことができる。
したがつて、次の式のように測定信号に関して
の振幅比を参照信号に関しての振幅比で割れば、
外乱の要素ｇ（t1）、ｇ（t2）が相殺され、周波数
ｆ＝f1についてのベースバンド特性は α(f)＝log〔B′(f)／Ｂ(f)・Ｃ（f2）／C′（f2
）〕……(10) となる。それ故、モーダルノイズの影響に左右さ
れずに正確なベースバンド特性を測定することが
可能となる。
の振幅比を参照信号に関しての振幅比で割れば、
外乱の要素ｇ（t1）、ｇ（t2）が相殺され、周波数
ｆ＝f1についてのベースバンド特性は α(f)＝log〔B′(f)／Ｂ(f)・Ｃ（f2）／C′（f2
）〕……(10) となる。それ故、モーダルノイズの影響に左右さ
れずに正確なベースバンド特性を測定することが
可能となる。
ところで、この第１の実施例では発振器１１，
１２のどちらかの出力にレベル変動がある場合、
それがそのまま測定誤差となるので、レベル変動
の少ない発振器を使用する必要がある。
１２のどちらかの出力にレベル変動がある場合、
それがそのまま測定誤差となるので、レベル変動
の少ない発振器を使用する必要がある。
そこで第２の実施例ではこれを改善している。
第３図において、発振器１１からの周波数f1の信
号と発振器１２からの周波数f2の信号とが変調器
１８に送られ、この変調器１８により周波数f1の
信号が周波数f2の信号で変調される。そしてこの
変調器１８から出力される変調後の信号により輝
度変調された光信号が光フアイバ４に入射され
る。他方受光側では分波器（またはバンドパスフ
イルタ）１４によつて２つの周波数の差と和の周
波数f1−f2、f1＋f2の成分が取り出され、選択レ
ベルメータ１５，１６によつてそれぞれの振幅が
検出される。
第３図において、発振器１１からの周波数f1の信
号と発振器１２からの周波数f2の信号とが変調器
１８に送られ、この変調器１８により周波数f1の
信号が周波数f2の信号で変調される。そしてこの
変調器１８から出力される変調後の信号により輝
度変調された光信号が光フアイバ４に入射され
る。他方受光側では分波器（またはバンドパスフ
イルタ）１４によつて２つの周波数の差と和の周
波数f1−f2、f1＋f2の成分が取り出され、選択レ
ベルメータ１５，１６によつてそれぞれの振幅が
検出される。
数式により説明すると、光フアイバ４の入射光
の強度Pinは Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）cos（2πf2t） ＋Ccos（2πf1t） ……(11) となる。Ｃ＝０としても一般性を失わないのでＣ
＝０として説明を続ける。すると、 Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）cos（2πf2t） ……(12) となる。このような信号は変調器１８として平衡
変調器を用いることにより容易に得られる。この
(12)式はさらに次のように変形できる。
の強度Pinは Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）cos（2πf2t） ＋Ccos（2πf1t） ……(11) となる。Ｃ＝０としても一般性を失わないのでＣ
＝０として説明を続ける。すると、 Pin＝Ａ＋Bcos（2πf1t）cos（2πf2t） ……(12) となる。このような信号は変調器１８として平衡
変調器を用いることにより容易に得られる。この
(12)式はさらに次のように変形できる。
Pin＝Ａ＋Ｂ／２〔cos2π（f1＋f2）ｔ
−cos2π（f1−f2）ｔ〕 ……（13）
つまりこの式から分るように入射光は２つの周
波数f1＋f2、f1−f2で変調され、しかもこれらの
周波数成分の振幅は同一のレベルとなつている。
したがつて、上記(4)式のようにモーダルノイズに
よりＢが変化しても、周波数f1＋f2、f1−f2の各
成分の振幅比は何ら影響を受けない。
波数f1＋f2、f1−f2で変調され、しかもこれらの
周波数成分の振幅は同一のレベルとなつている。
したがつて、上記(4)式のようにモーダルノイズに
よりＢが変化しても、周波数f1＋f2、f1−f2の各
成分の振幅比は何ら影響を受けない。
他方出射光の強度Poutについては次のように
なる。
なる。
Pout＝A′＋B′／２〔Dcos2π（f1＋f2）ｔ
−Ecos2π（f1−f2）ｔ〕 ……（14）
この場合もモーダルノイズは周波数f1＋f2、f1
−f2の両方に等しく作用するので、A′、B′のみに
作用し、Ｄ、Ｅの値はその影響を受けない値であ
つてそれぞれ光フアイバ４のベースバンド特性に
対応した減衰を示す量ということになる。
−f2の両方に等しく作用するので、A′、B′のみに
作用し、Ｄ、Ｅの値はその影響を受けない値であ
つてそれぞれ光フアイバ４のベースバンド特性に
対応した減衰を示す量ということになる。
したがつて、選択レベルメータ１５，１６で得
られた和と差の周波数成分の振幅（それぞれB′／２ Ｄ、B′／２Ｅに対応）の比を取れば、モーダルノイ ズの影響を受けずにベースバンド特性を測定でき
る。周波数f1−f2を低周波で一定のものとし、こ
れを参照信号として、周波数f1＋f2＝ｆとしこれ
を測定信号として掃引したとき、ベースバンド特
性は次の式で与えられる。
られた和と差の周波数成分の振幅（それぞれB′／２ Ｄ、B′／２Ｅに対応）の比を取れば、モーダルノイ ズの影響を受けずにベースバンド特性を測定でき
る。周波数f1−f2を低周波で一定のものとし、こ
れを参照信号として、周波数f1＋f2＝ｆとしこれ
を測定信号として掃引したとき、ベースバンド特
性は次の式で与えられる。
α(f)＝log〔Ｄ(f)／Ｅ（f1−f2）〕 ……（15）
この第２の実施例では、発振器１１，１２の発
振出力にレベル変動があつても、入射光における
変調信号の２つの周波数f1＋f2、f1−f2の各成分
の振幅が常に同一であるから、測定精度には何ら
影響なく第１の実施例の不都合を除去できる。
振出力にレベル変動があつても、入射光における
変調信号の２つの周波数f1＋f2、f1−f2の各成分
の振幅が常に同一であるから、測定精度には何ら
影響なく第１の実施例の不都合を除去できる。
第４図は第３図の実施例をより具体化した実施
例を示す。この図において、発振周波数制御回路
２１でシンセサイザ２２，２３を制御してこれら
から周波数f1、f1＋f0の信号を出力させ、これら
の信号を平衡変調器２４に入力することにより、
これらの信号の周波数の差と和の周波数f0、2f1
＋f0の成分を有する信号を得、この信号をバイア
ス回路２に送つて半導体レーザ３からf0、2f1＋f0
の周波数成分を有する変調信号で輝度変調された
光信号を被測定光フアイバ４の一端の入射させ
る。受光側では分波器１４で周波数f0、2f1＋f0の
各成分を取り出し、選択レベルメータ１５，１６
でそれらの振幅を検出し、比較器２５に送つて比
較する。発振周波数制御回路２１は周波数の差f0
が常に1MHz程度の一定のものとなるようにしな
がら各々の周波数を掃引するようシンセサイザ２
２，２３を制御する。
例を示す。この図において、発振周波数制御回路
２１でシンセサイザ２２，２３を制御してこれら
から周波数f1、f1＋f0の信号を出力させ、これら
の信号を平衡変調器２４に入力することにより、
これらの信号の周波数の差と和の周波数f0、2f1
＋f0の成分を有する信号を得、この信号をバイア
ス回路２に送つて半導体レーザ３からf0、2f1＋f0
の周波数成分を有する変調信号で輝度変調された
光信号を被測定光フアイバ４の一端の入射させ
る。受光側では分波器１４で周波数f0、2f1＋f0の
各成分を取り出し、選択レベルメータ１５，１６
でそれらの振幅を検出し、比較器２５に送つて比
較する。発振周波数制御回路２１は周波数の差f0
が常に1MHz程度の一定のものとなるようにしな
がら各々の周波数を掃引するようシンセサイザ２
２，２３を制御する。
以上実施例について説明したように、第１の発
明によれば、参照信号と周波数掃引される測定信
号とにより輝度変調した光信号を被測定光フアイ
バに伝搬させ、伝搬後の光信号からこれらの信号
の周波数成分の振幅を同時検出し、両者を比較す
るようにしたため、参照信号でモーダルノイズの
影響を補正して除去することができ、精度の高い
ベースバンド特性測定を行なうことができる。
明によれば、参照信号と周波数掃引される測定信
号とにより輝度変調した光信号を被測定光フアイ
バに伝搬させ、伝搬後の光信号からこれらの信号
の周波数成分の振幅を同時検出し、両者を比較す
るようにしたため、参照信号でモーダルノイズの
影響を補正して除去することができ、精度の高い
ベースバンド特性測定を行なうことができる。
さらに第２の発明によれば、第１の信号で第２
の信号を振幅変調した信号で輝度変調した光信号
を被測定光フアイバの入射し、出射する光信号か
ら、第１、第２の信号の周波数の和と差の周波数
成分の振幅をそれぞれ検出して両者を比較するよ
うにしたので、これら和と差の周波数成分の振幅
は、第１、第２の信号のレベル変動に関しては同
一レベルになるため、第１、第２の信号にレベル
変動があつたとしてもこれに何ら影響されること
なく、外乱の影響を除去した高精度のベースバン
ド特性測定が実現できる。
の信号を振幅変調した信号で輝度変調した光信号
を被測定光フアイバの入射し、出射する光信号か
ら、第１、第２の信号の周波数の和と差の周波数
成分の振幅をそれぞれ検出して両者を比較するよ
うにしたので、これら和と差の周波数成分の振幅
は、第１、第２の信号のレベル変動に関しては同
一レベルになるため、第１、第２の信号にレベル
変動があつたとしてもこれに何ら影響されること
なく、外乱の影響を除去した高精度のベースバン
ド特性測定が実現できる。
第１図は従来例のブロツク図、第２図はこの発
明の第１の実施例のブロツク図、第３図は第２の
実施例のブロツク図、第４図は第２の実施例をよ
り具体的にした他の実施例のブロツク図である。 １，１１，１２……発振器、２……バイアス回
路、３……半導体レーザ、４……被測定光フアイ
バ、５……受光素子、６……増幅器、７……バン
ドパスフイルタ、８……指示計、１３……混合
器、１４……分波器、１５，１６……選択レベル
メータ、１７……レシオメータ、２１……発振周
波数制御回路、２２，２３……シンセサイザ、２
４……平衡変調器、２５……比較器。
明の第１の実施例のブロツク図、第３図は第２の
実施例のブロツク図、第４図は第２の実施例をよ
り具体的にした他の実施例のブロツク図である。 １，１１，１２……発振器、２……バイアス回
路、３……半導体レーザ、４……被測定光フアイ
バ、５……受光素子、６……増幅器、７……バン
ドパスフイルタ、８……指示計、１３……混合
器、１４……分波器、１５，１６……選択レベル
メータ、１７……レシオメータ、２１……発振周
波数制御回路、２２，２３……シンセサイザ、２
４……平衡変調器、２５……比較器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 周波数掃引可能な測定信号とともに参照信号
をも含む変調信号で輝度変調した光信号を被測定
光フアイバの一端に入射し、この光フアイバの他
端から出射した光信号の上記測定信号および参照
信号の各周波数成分の振幅を同時に検出し両者を
比較することにより上記光フアイバのベースバン
ド特性を測定することを特徴とする周波数掃引法
による光フアイバの測定方法。 ２ 第１の信号で第２の信号を振幅変調した信号
を変調信号とし、この変調信号で輝度変調した光
信号を被測定光フアイバの一端に入射し、この光
フアイバの他端から出射した光信号に含まれてい
る上記第１、第２の信号の各周波数の和と差に対
応する周波数成分の振幅を同時に検出し両者を比
較することにより上記光フアイバのベースバンド
特性を測定することを特徴とする周波数掃引法に
よる光フアイバの測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10322383A JPH0235252B2 (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | Hikarifuaibanosokuteihoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10322383A JPH0235252B2 (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | Hikarifuaibanosokuteihoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59228144A JPS59228144A (ja) | 1984-12-21 |
| JPH0235252B2 true JPH0235252B2 (ja) | 1990-08-09 |
Family
ID=14348489
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10322383A Expired - Lifetime JPH0235252B2 (ja) | 1983-06-09 | 1983-06-09 | Hikarifuaibanosokuteihoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0235252B2 (ja) |
-
1983
- 1983-06-09 JP JP10322383A patent/JPH0235252B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59228144A (ja) | 1984-12-21 |
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