JPH0232290A - ファラデーケージ - Google Patents
ファラデーケージInfo
- Publication number
- JPH0232290A JPH0232290A JP63184157A JP18415788A JPH0232290A JP H0232290 A JPH0232290 A JP H0232290A JP 63184157 A JP63184157 A JP 63184157A JP 18415788 A JP18415788 A JP 18415788A JP H0232290 A JPH0232290 A JP H0232290A
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- JP
- Japan
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- conductor
- faraday cage
- edge
- collecting plate
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- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビーム電流及びビーム電流の分布を測定するた
めのファラデーケージに関する。
めのファラデーケージに関する。
従来、電子あるいはイオンのビーム電流及びビーム電流
の分布あるいはビーム断面形状を測定するなめには、電
子・イオンビームハンドブック（日刊工業新聞社）２６
９頁に記載しであるように、ファラデーケージを用いて
きた。ビーム電流はファラデーケージに入射したビーム
電流を測定し、またビーム電流の分布は第６図の如く、
ナイフェツジ１１を有する遮蔽板８を板状の導体で構成
されたコレクト板３の前方に配置して成るナイフェツジ
法を用いて行なわれてきた。
の分布あるいはビーム断面形状を測定するなめには、電
子・イオンビームハンドブック（日刊工業新聞社）２６
９頁に記載しであるように、ファラデーケージを用いて
きた。ビーム電流はファラデーケージに入射したビーム
電流を測定し、またビーム電流の分布は第６図の如く、
ナイフェツジ１１を有する遮蔽板８を板状の導体で構成
されたコレクト板３の前方に配置して成るナイフェツジ
法を用いて行なわれてきた。
近年各種ビーム装置、例えば線状電子ビーム装置などが
開発され、測定するビーム形状も多岐に渡るようになっ
た。線状ビームの電流密度分布を測定する場合、第５図
に示すようにファラデーケージのビーム入射穴１３を十
分小さくし、ビーム１をビーム遮蔽板８の長辺方向に偏
向させ、そのときに入射するビーム電流を測定すること
によって長辺方向のビーム電流の分布を測定し、また同
様にして短辺方向のビーム電流の分布も測定した。しか
しながら、線状ビームが何等かの影響で湾曲している場
合、従来の長辺方向のビーム電流分布測定方法ではビー
ム形状を正確に測定できなかった。また、短辺方向のビ
ーム電流分布測定をビームを長辺方向に少しずつずらせ
ながら複数回測定し第４図のように３次元的に表示する
方法もあるが測定に時間がかかり、ビームが経時変化す
る場合など追従できながった。
開発され、測定するビーム形状も多岐に渡るようになっ
た。線状ビームの電流密度分布を測定する場合、第５図
に示すようにファラデーケージのビーム入射穴１３を十
分小さくし、ビーム１をビーム遮蔽板８の長辺方向に偏
向させ、そのときに入射するビーム電流を測定すること
によって長辺方向のビーム電流の分布を測定し、また同
様にして短辺方向のビーム電流の分布も測定した。しか
しながら、線状ビームが何等かの影響で湾曲している場
合、従来の長辺方向のビーム電流分布測定方法ではビー
ム形状を正確に測定できなかった。また、短辺方向のビ
ーム電流分布測定をビームを長辺方向に少しずつずらせ
ながら複数回測定し第４図のように３次元的に表示する
方法もあるが測定に時間がかかり、ビームが経時変化す
る場合など追従できながった。
本発明の目的は、この様な問題を解決し、湾曲した線状
ビームの電流密度分布を正確に測定できるファラデーケ
ージを提供することにある。
ビームの電流密度分布を正確に測定できるファラデーケ
ージを提供することにある。
本発明のファラデーケージは、荷電粒子収集用の任意形
状の導体と、この導体前方に導体から離して、あるいは
導体に接触または一体化して配置した、開口を有する遮
蔽板とから成り、ビームの入射する開口部の一辺がナイ
フェツジで且つ平面方向に階段状になっていることを特
徴とする構成になっている。
状の導体と、この導体前方に導体から離して、あるいは
導体に接触または一体化して配置した、開口を有する遮
蔽板とから成り、ビームの入射する開口部の一辺がナイ
フェツジで且つ平面方向に階段状になっていることを特
徴とする構成になっている。
本発明のファラデーケージによれば、ビームの入射する
開口部の一辺がナイフェツジで且つ平面方向に階段状に
なっているため、第１図に示すように線状ビームをビー
ムの短辺方向に走査すれば検出されるビーム電流は端か
ら階段幅ずつ順々に検出され、第２図に示すような波形
になる。検出されたビーム電流を微分して表示すれば、
第３図に示すようにその形状がビーム長辺方向に階段幅
で分割された短辺方向のビームの分布となる。また、階
段幅と分割された各ビームの検出された時間差の関係に
より（例えば、時間差と階段幅をＸＹ軸とし微分された
ビーム電流をＺ軸として表示すれば）線状ビームの形状
が第４図に示すように３次元的に表示できる。また、階
段幅を小さくすることによって測定分解能をあげること
ができる。
開口部の一辺がナイフェツジで且つ平面方向に階段状に
なっているため、第１図に示すように線状ビームをビー
ムの短辺方向に走査すれば検出されるビーム電流は端か
ら階段幅ずつ順々に検出され、第２図に示すような波形
になる。検出されたビーム電流を微分して表示すれば、
第３図に示すようにその形状がビーム長辺方向に階段幅
で分割された短辺方向のビームの分布となる。また、階
段幅と分割された各ビームの検出された時間差の関係に
より（例えば、時間差と階段幅をＸＹ軸とし微分された
ビーム電流をＺ軸として表示すれば）線状ビームの形状
が第４図に示すように３次元的に表示できる。また、階
段幅を小さくすることによって測定分解能をあげること
ができる。
第１図は本発明の一実施例によるファラデーケージの概
略構成図を示す。
略構成図を示す。
このファラデーケージは板状の導体から成るコレクト板
３の前方に、階段状のナイフェツジ２を有する遮蔽板８
を配置した構成になっている。
３の前方に、階段状のナイフェツジ２を有する遮蔽板８
を配置した構成になっている。
照射された線状電子ビーム１は階段状ナイフェツジ２に
より階段幅ごとに順次コレクト板３に入射する。入射し
た電子は検出抵抗４を通りアースに流れる。検出抵抗の
電圧を電圧計５により検出しその電圧波形を微分回路６
で微分し、それを表示パネル７に表示する。検出抵抗４
で検出される電圧を第２図に示す、第２図の電圧の微分
波形の一例を第３図に示す。ナイフェツジの階段幅が一
定ならば第３図に示す時間差が線状ビームの直線性をあ
られす。すなわち、時間差が一定ならばビームが直線で
あり、時間差が小さくなればビームの進行方向に曲がっ
ている、時間差が大きくなればビームの進行方向の逆に
曲がっていることを意味する。この情報を処理して第４
図のようにビーム電流の分布を３次元的に表すこともで
きる。
より階段幅ごとに順次コレクト板３に入射する。入射し
た電子は検出抵抗４を通りアースに流れる。検出抵抗の
電圧を電圧計５により検出しその電圧波形を微分回路６
で微分し、それを表示パネル７に表示する。検出抵抗４
で検出される電圧を第２図に示す、第２図の電圧の微分
波形の一例を第３図に示す。ナイフェツジの階段幅が一
定ならば第３図に示す時間差が線状ビームの直線性をあ
られす。すなわち、時間差が一定ならばビームが直線で
あり、時間差が小さくなればビームの進行方向に曲がっ
ている、時間差が大きくなればビームの進行方向の逆に
曲がっていることを意味する。この情報を処理して第４
図のようにビーム電流の分布を３次元的に表すこともで
きる。
尚、実施例では荷電粒子収集用の導体は平板状（コレク
ト板）であったが、他の形状、例えば凹面板状、箱形、
筒状等どのような形状であってもよい（通常は有底円筒
状のものを用いている）。
ト板）であったが、他の形状、例えば凹面板状、箱形、
筒状等どのような形状であってもよい（通常は有底円筒
状のものを用いている）。
また、遮蔽板は導体から離して設置してあったが、例え
ば第７図に示すように、導体と一体化して設けてもよい
。
ば第７図に示すように、導体と一体化して設けてもよい
。
以上述べたとおり、本発明のファラデーケージによれば
、線状ビームを一回の走査で３次元的に測定することが
できる。
、線状ビームを一回の走査で３次元的に測定することが
できる。
第１図は本発明の一実施例のファラデーケージの概略構
成図、第２図は本発明によるファラデーケージで検出さ
れるビーム電流の一例を示す図、第３図は第２図の測定
結果を微分して表示した例を示す図、第４図は第３図の
微分波形を処理し３次元的に表示した例を示す図、第５
図は従来のファラデーケージの例、第６図は従来のナイ
フェツジ法を示した図、第７図は荷電粒子収集用の導体
と階段状ナイフェツジのある遮蔽板を一体化したファラ
デーケージの一例を示す断面図である。 図に於いて、 １・・・線状ビーム、２・・・階段状ナイフェツジ、３
・・・コレクト板、４・・・検出抵抗、５・・・電圧計
、６・・・微分回路、７・・・表示パネル、８・・・ビ
ーム遮蔽板、１１・・・ナイフェツジをそれぞれ示す。
成図、第２図は本発明によるファラデーケージで検出さ
れるビーム電流の一例を示す図、第３図は第２図の測定
結果を微分して表示した例を示す図、第４図は第３図の
微分波形を処理し３次元的に表示した例を示す図、第５
図は従来のファラデーケージの例、第６図は従来のナイ
フェツジ法を示した図、第７図は荷電粒子収集用の導体
と階段状ナイフェツジのある遮蔽板を一体化したファラ
デーケージの一例を示す断面図である。 図に於いて、 １・・・線状ビーム、２・・・階段状ナイフェツジ、３
・・・コレクト板、４・・・検出抵抗、５・・・電圧計
、６・・・微分回路、７・・・表示パネル、８・・・ビ
ーム遮蔽板、１１・・・ナイフェツジをそれぞれ示す。
Claims (1)
- 任意形状の導体と、この導体の前方に導体から離して、
あるいは導体と接触または一体化して配置した開口を有
する遮蔽板とから成り、ビームの入射する前記開口部の
一辺がナイフエッジで且つ段階状に開口部が広がってい
ることを特徴とするファラデーケージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184157A JPH0232290A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ファラデーケージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63184157A JPH0232290A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ファラデーケージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0232290A true JPH0232290A (ja) | 1990-02-02 |
Family
ID=16148364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63184157A Pending JPH0232290A (ja) | 1988-07-22 | 1988-07-22 | ファラデーケージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0232290A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1040856A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Nissin Electric Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP2009543053A (ja) * | 2006-06-29 | 2009-12-03 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | ビーム密度の二次元測定方法および装置 |
| JP2015510690A (ja) * | 2012-01-24 | 2015-04-09 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | ナイフエッジを使用したウェーハレベルでのスポットサイズ測定のための装置、及びこのような装置を製造するための方法 |
| WO2019048470A1 (de) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | scia Systems GmbH | Verfahren und anordnung zum ermitteln eines elektrischen potentials und zum ermitteln einer verteilungsdichtefunktion eines stromes von einem strahl von teilchen |
-
1988
- 1988-07-22 JP JP63184157A patent/JPH0232290A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1040856A (ja) * | 1996-07-25 | 1998-02-13 | Nissin Electric Co Ltd | イオン注入装置 |
| JP2009543053A (ja) * | 2006-06-29 | 2009-12-03 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | ビーム密度の二次元測定方法および装置 |
| JP2015510690A (ja) * | 2012-01-24 | 2015-04-09 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー．ブイ． | ナイフエッジを使用したウェーハレベルでのスポットサイズ測定のための装置、及びこのような装置を製造するための方法 |
| WO2019048470A1 (de) * | 2017-09-05 | 2019-03-14 | scia Systems GmbH | Verfahren und anordnung zum ermitteln eines elektrischen potentials und zum ermitteln einer verteilungsdichtefunktion eines stromes von einem strahl von teilchen |
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