JPH02308855A - Resin composition for sealing electronic part - Google Patents

Resin composition for sealing electronic part

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JPH02308855A
JPH02308855A JP1130195A JP13019589A JPH02308855A JP H02308855 A JPH02308855 A JP H02308855A JP 1130195 A JP1130195 A JP 1130195A JP 13019589 A JP13019589 A JP 13019589A JP H02308855 A JPH02308855 A JP H02308855A
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敏秀 山口
Hitoshi Izutsu
井筒 齋
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Abstract

PURPOSE:To provide a resin composition achieving a low stress without deteriorating its heat resistance, flowability, etc., and useful for sealing electronic parts by compounding a poly-arylene sulfide resin with a specific amount of (graft-modified) poly (4-methyl-1-pentene) resin, etc. CONSTITUTION:A resin composition for sealing electric parts comprises (A) a polyarylene sulfide resin, (B) poly (4-methyl-1-pentene) resin and/or a modified poly (4-methyl-1-pentene) resin graft-modified with an unsaturated carboxylic acid (derivative) in a graft amount range of 0.01-10wt.%, (C) a reinforcing and/or a filler and (D) an organic silane in an A/B weight ratio of 99/1-86/14 in an (A+B) content of >=25wt.%, a C content of 74.99wt.% and a D content of 0.01-5%. The resin composition has a melt viscosity of <=300 poises at 320 deg.C. The component C includes that having an aspect ratio of >=50 or that having an average particle side of >=300mum in an amount of <=20wt.% based on the whole composition.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は強度、耐熱性、流動性等を犠牲にすることなく
低応力化が達成された電子部品封止用樹脂組成物に関す
るものであり、また該組成物をパッケージ材料とした優
れた信頬性を有する電子部品に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a resin composition for encapsulating electronic components that achieves low stress without sacrificing strength, heat resistance, fluidity, etc. The present invention also relates to an electronic component having excellent reliability using the composition as a packaging material.

〈従来の技術及び発明が解決しようとする課題)ポリア
リーレンスルフィド樹脂(以後、PASと記す。)は耐
薬品性、耐熱性、難燃性、電気的特性に優れるエンシュ
アリングプラスチックとして知られ、各分野で広(利用
されている。最近は電子部品の封止材としても注目を集
めているが、例えば、セラミック基板を有する部品を封
止した場合には一一クラックが生じたり、コイル等応力
に弱い部品袋封止と良導、+1zLよ封止によって生じ
る応力のため特性が変化してしまうといった問題が生じ
、低応力、低弾性率化が望まれていた。
(Prior art and problems to be solved by the invention) Polyarylene sulfide resin (hereinafter referred to as PAS) is known as an ensuring plastic with excellent chemical resistance, heat resistance, flame retardance, and electrical properties. It is widely used in various fields.Recently, it has been attracting attention as a sealing material for electronic components. There was a problem that the characteristics changed due to the stress caused by the sealing of the component bag, which was weak in the sealing, and the +1zL sealing, and a lower stress and lower modulus of elasticity were desired.

従来から、かかる問題解決の手段としてPASにゴム等
の弾性体を添加して弾性率を下げる方法が試みられてい
るが、従来の技術では一般に強度、耐熱性、流動性等が
犠牲になっていた。すなわちPASは溶融加工温度が非
常に高いがSBR。
Conventionally, attempts have been made to solve this problem by adding elastic bodies such as rubber to PAS to lower the elastic modulus, but conventional techniques generally sacrifice strength, heat resistance, fluidity, etc. Ta. In other words, PAS has a very high melt processing temperature, but SBR does not.

NBR,イソプレンゴム等は熱劣化しやすい脂肪族二重
結合を多重に含んでいるため、これらを含む組成物は成
形・加工時に熱劣化し、強度低下をきたしたり、外観不
良となる。またアクリルゴムは脂肪族二重結合をほとん
ど有しないが、やはりエステル結合等が熱劣化しやすく
これを含む組成物は強度低下をきたしたり製品外観が悪
くなったりして不適であった。EPRなどのオレフィン
系ゴムは脂肪族二重結合をほとんど有しないので熱劣化
は比較的少ないが粘度が増加し封止材としては不適であ
った。
NBR, isoprene rubber, etc. contain multiple aliphatic double bonds that are susceptible to thermal deterioration, so compositions containing these are thermally deteriorated during molding and processing, resulting in reduced strength and poor appearance. Furthermore, although acrylic rubber has almost no aliphatic double bonds, ester bonds and the like are susceptible to heat deterioration, and compositions containing such rubbers are unsuitable because they result in decreased strength and poor product appearance. Olefin rubbers such as EPR have almost no aliphatic double bonds and therefore suffer relatively little thermal deterioration, but their viscosity increases, making them unsuitable as sealants.

(課題を解決するための手段] 本発明者らは上記の如き状況に鑑の鋭意検討した結果、
PAS、強化材および/又は充てん材、有機シランから
成る系にポリ (4−メチル−1−ペンテン)樹脂(以
後、PMPと記す。)および/又はグラフト変性された
ポリ (4−メチル−1−ペンテン)樹脂(以後、変性
PMPと記す。)を適切に添加することによりRAS組
成物の耐熱性や流動性や強度物性を犠牲にすることなく
低応力化がはかれることを見出した。
(Means for solving the problem) As a result of the inventors' intensive study on the above situation,
Poly(4-methyl-1-pentene) resin (hereinafter referred to as PMP) and/or graft-modified poly(4-methyl-1-pentene) resin (hereinafter referred to as PMP) is added to the system consisting of PAS, reinforcing material and/or filler, and organic silane. It has been found that by appropriately adding pentene resin (hereinafter referred to as modified PMP), stress can be reduced without sacrificing the heat resistance, fluidity, or strength properties of the RAS composition.

すなわち本発明は、 (’A)ポリアリーレンスルフィド樹脂、(B)ポリ 
(4−メチル−1−ペンテン)樹脂および〈又は〉不飽
和カルボン酸又はその誘導体のグラフト量が0.01〜
10重量%の範囲でグラフト変性された変性ポリ (4
−メチル−1−ペンテン)樹脂、 (C)強化材および(又は)充てん材 (D)有機シラン より構成され、上記(A)と(B)との重量比が(A)
/ (B) −99/1〜86/14であり、全組成物
中では(A) +(B)が25重量%以上、(C)が7
4.99重量%以下、(D)が0.01〜5重量%であ
り、かつ320℃(剪断速度10’ sec伺)におけ
る溶融粘度が3000ポイズ以下である電子部品封止用
樹脂組成物、及び該組成物によって封止された優れた信
頼性を有する電子部品に関する。
That is, the present invention comprises ('A) polyarylene sulfide resin, (B) poly
The amount of grafting of (4-methyl-1-pentene) resin and unsaturated carboxylic acid or derivative thereof is 0.01 to
Modified poly(4
- methyl-1-pentene) resin, (C) reinforcing material and/or filler (D) organic silane, and the weight ratio of (A) and (B) is (A).
/ (B) -99/1 to 86/14, and (A) + (B) is 25% by weight or more and (C) is 7% by weight in the whole composition.
4.99% by weight or less, (D) is 0.01 to 5% by weight, and the melt viscosity at 320°C (shear rate of 10' sec) is 3000 poise or less, a resin composition for encapsulating electronic components; The present invention also relates to an electronic component sealed with the composition and having excellent reliability.

本発明で用いるPASは、未架橋又は1部架橋したPA
S及びその混合物又は変性品であって、該PASのメル
トフローレートはASTtl D1238−74(31
5,6℃、5 kg荷重)で2〜60000 g /1
0分を有している。
The PAS used in the present invention is uncrosslinked or partially crosslinked PA
S and mixtures or modified products thereof, the melt flow rate of the PAS is ASTtl D1238-74 (31
2-60000 g/1 at 5.6℃, 5 kg load)
It has 0 minutes.

単位を70モル%以上含むポリフェニレンザルファイド
(以下、PPSと記す。)がすくれた特性の組成物をも
たらすので好ましい。PPSの重合方法としては、p=
ニジクロルベンゼン硫黄と炭酸ソーダの存在下で重合さ
せる方法、極性溶媒中で硫化すトリウムあるいは水硫化
ナトリウムと水酸化すトリウム又は硫化水素と水酸化す
トリウムの存在下で重合させる方法、p−クロルチオフ
ェノールの自己縮合などがあげられるが、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒や
スルボラン等のスルポン系溶媒中で硫化ナトリウムとp
−ジクロルベンゼンを反応させる方法が適当である。こ
の際に重合度を調節するためにカルボン酸やスルポン酸
のアルカリ金属塩を添加したり、水酸化アルカリを添加
することは好ましい方法である。共重合成分として30
モル1シ ここでRはアルキル、ニトロ、フェニル、アルコキシ、
カルボン酸またはカルホン酸の金属塩基を示す)、3官
能フ工ニルスルフイド結合ブロック共重合体として又は
ランダム共重合体として含有していてもポリマーの結晶
性に大きく影響しない範囲でかまわないが、好ましくは
共重合成分は10モル%以下がよい。特に3官能性以上
のフェニル、ピフェニル、ナフチルスルフィド結合など
を共重合に選ぶ場合は3モル%以下、さらに好ましくは
1モル%以下がよい。
Polyphenylene sulfide (hereinafter referred to as PPS) containing 70 mol % or more of the unit is preferred because it provides a composition with excellent properties. As for the polymerization method of PPS, p=
Polymerization method in the presence of dichlorobenzene sulfur and sodium carbonate, polymerization method in the presence of thorium sulfide or sodium bisulfide and thorium hydroxide or hydrogen sulfide and thorium hydroxide in a polar solvent, p-chlorobenzene Examples include self-condensation of ruthiophenol, and sodium sulfide and p
- A method in which dichlorobenzene is reacted is suitable. At this time, in order to adjust the degree of polymerization, it is a preferable method to add an alkali metal salt of carboxylic acid or sulfonic acid, or to add alkali hydroxide. 30 as a copolymer component
1 mole where R is alkyl, nitro, phenyl, alkoxy,
(representing a metal base of carboxylic acid or carbonic acid), may be contained as a trifunctional phenyl sulfide bonded block copolymer or as a random copolymer as long as it does not significantly affect the crystallinity of the polymer, but preferably The copolymerization component is preferably 10 mol% or less. In particular, when trifunctional or more functional phenyl, piphenyl, naphthyl sulfide bonds, etc. are selected for copolymerization, the amount is preferably 3 mol% or less, more preferably 1 mol% or less.

かかるPPSは一般的な製造法、例えば(1)ハロゲン
置換芳香族化合物と硫化アルカリとの反応(米国特許第
2513188号明細書、特公昭44−27671号お
よび特公昭45−3368号参照)(2)チオフェノー
ル類のアルカリ触媒又は銅塩等の共存下におりる縮合反
応(米国特許第3274165号、英国特許第1160
660号参照)(3)芳香族化合物を塩化硫黄とのルイ
ス酸触媒共存下に於ける縮合反応(特公昭46−272
25号、ベルギー特許第29437号参照)等により合
成されるものであり、目的に応し任意に選択し得る。
Such PPS can be produced by common manufacturing methods, such as (1) reaction of a halogen-substituted aromatic compound with an alkali sulfide (see U.S. Pat. No. 2,513,188, Japanese Patent Publication No. 44-27671 and Japanese Patent Publication No. 45-3368) (2) ) Condensation reaction of thiophenols in the presence of an alkali catalyst or copper salt (US Patent No. 3,274,165, British Patent No. 1160)
660) (3) Condensation reaction of aromatic compounds with sulfur chloride in the presence of a Lewis acid catalyst (Japanese Patent Publication No. 46-272
No. 25, Belgian Patent No. 29437), etc., and can be arbitrarily selected depending on the purpose.

本発明で用いられるPMPおよび(又は)変性PMPば
粘度が高いと分散が悪くなるので、メルトフローレート
は20〜500 g’ / 10分(260℃15kg
荷重)、好ましく・は30〜4.OOg/10分がよい
If the viscosity of PMP and/or modified PMP used in the present invention is high, dispersion will be poor, so the melt flow rate is 20 to 500 g'/10 minutes (260 ° C. 15 kg
load), preferably 30 to 4. OOg/10 minutes is good.

PMPおよび(又は)変性P M Pは耐熱性がよい上
に、電気的性質、耐薬品性に優れているためPASにブ
レンドしても従来のゴム等の弾性体をブレンドした場合
のようにPASの優れた特性を損うことがない。
PMP and/or modified PMP has good heat resistance, as well as excellent electrical properties and chemical resistance, so even when blended with PAS, it is not as effective as PAS when blended with conventional elastic materials such as rubber. without impairing its excellent properties.

PMPは −(cll−c■2) − □ (Jl(CH3)z を主構成要素とするポリオレフィンであり、4−メチル
−1−ペンテンの単独重合体もしくは本発明の意をそこ
なわぬ範囲で4−メチル−ニーペンテンと他のα−オレ
フィン、例えばエチレン、プロピレン、1−ブテン、1
−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−テトラデ
セン、1−オクタデセン等もしくは芳香族ビニル炭化水
素、例えばスチレン、α−メチルスチレン、○−メチル
スチレン、P−メチルスチレン、1,3−ジメチルスチ
レン、ヒニルナフタレンなどとの共重合体で4−メチル
−1−ペンテンを85モル%以上好ましくは90モル%
以上含むものを使用でき、架橋構造を有していても有し
ていなくてもかまわない。
PMP is a polyolefin whose main constituent is -(cll-c■2) - □ (Jl(CH3)z), and is a homopolymer of 4-methyl-1-pentene or within the scope of the present invention. 4-Methyl-neepentene and other α-olefins such as ethylene, propylene, 1-butene, 1
-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-tetradecene, 1-octadecene, etc. or aromatic vinyl hydrocarbons, such as styrene, α-methylstyrene, ○-methylstyrene, P-methylstyrene, 1,3-dimethylstyrene , 85 mol% or more of 4-methyl-1-pentene, preferably 90 mol%, in a copolymer with hinylnaphthalene, etc.
Those containing the above can be used, and they may or may not have a crosslinked structure.

本発明で用いる該PMPにグラフトする不飽和カルボン
酸としては、好ましくはアクリル酸、メタクリル酸、エ
タクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタ
コン酸、シトラコン酸、ブテンジカルボン酸などがある
。またそれらの誘導体としては、アルキルエステル、酸
無水物またばイミドなどが挙げられ、これらの巾で、酸
無水物、イミドが好ましい。
Preferred unsaturated carboxylic acids to be grafted onto the PMP used in the present invention include acrylic acid, methacrylic acid, ethacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, and butenedicarboxylic acid. Examples of derivatives thereof include alkyl esters, acid anhydrides, imides, etc. Among these, acid anhydrides and imides are preferred.

不飽和カルボン酸またはその誘導体の好ましい具体例と
しては、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、無水
イタコン酸、無水シトラコン酸、マレイン酸イミド、イ
タコン酸イミド、シI−ラコン酸イミドなどであり、特
に、無水マレイン酸、無水イタコン酸、マレイン酸イミ
ドが好ましく使用できる。
Preferred specific examples of unsaturated carboxylic acids or derivatives thereof include maleic acid, fumaric acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, maleic acid imide, itaconic acid imide, silaconic acid imide, etc. In particular, maleic anhydride, itaconic anhydride, and maleic acid imide can be preferably used.

不飽和カルボン酸単量体のグラフト反応量は、0.01
〜10重量%、好ましくは0.05〜5重量%であるこ
とが必要である。不飽和カルボン酸単量体のグラフト反
応量が0.01重量%未満の場合には靭性の改善が十分
でなく、10重量%を越えた場合には、PASの耐熱性
や耐湿性が損なわれるなどいずれの場合も好ましくない
。なお、ここでいうグラフト反応とは、不飽和カルホン
酸またはその誘導体が未変性共役ジエン水添重合体ある
いは共役ジエン/芳香族炭化水素水添共重合体と時に上
記官能基を有する不飽和化合物を共重合する方法・や、
PMP、上記官能基を有する不飽和化合物、過酸化物の
存在下に反応釜あるいは押出機等を用いてグラフトする
方法等があるが、これに制限されるものではない。
The amount of graft reaction of unsaturated carboxylic acid monomer is 0.01
-10% by weight, preferably 0.05-5% by weight. If the graft reaction amount of the unsaturated carboxylic acid monomer is less than 0.01% by weight, the toughness will not be improved sufficiently, and if it exceeds 10% by weight, the heat resistance and moisture resistance of PAS will be impaired. Both of these cases are unfavorable. Incidentally, the graft reaction referred to here refers to a reaction in which an unsaturated carbonic acid or a derivative thereof is combined with an unmodified conjugated diene hydrogenated polymer or a conjugated diene/aromatic hydrocarbon hydrogenated copolymer and sometimes with an unsaturated compound having the above-mentioned functional group. How to copolymerize,
There is a method of grafting using a reaction vessel or an extruder in the presence of PMP, an unsaturated compound having the above-mentioned functional group, or peroxide, but the method is not limited thereto.

該PMPおよび(又は)変性PMPは熱安定剤を含むこ
とが出来るし、また、エポキシ基、アミン基、ヒドロキ
シル基等で変性されたPMPも影響のない範囲で使用す
ることができる。
The PMP and/or modified PMP can contain a heat stabilizer, and PMP modified with an epoxy group, an amine group, a hydroxyl group, etc. can also be used as long as there is no adverse effect.

PASに対するPMPおよび(又は)変性PMPの添加
量はPAS/PMPおよび(又は)変性PMP=99/
1〜86/14 (重量比)である。PMPおよび(又
は)変性PMPの添加量が1重量%未満では、低応力化
の効果が少なく、14重量%をこえては組成物の熱安定
性が低下したり、強度が低下したり、ブリードがおこり
外観が悪くなったりして好ましくない。
The amount of PMP and/or modified PMP added to PAS is PAS/PMP and/or modified PMP=99/
1 to 86/14 (weight ratio). If the amount of PMP and/or modified PMP added is less than 1% by weight, the effect of reducing stress will be small, and if it exceeds 14% by weight, the thermal stability of the composition will decrease, the strength will decrease, or bleeding may occur. This is undesirable as it may cause the appearance to deteriorate.

本発明組成物には封止材としての物性向上のため強化材
および(又は)充てん材を使用する。その使用割合は全
組成物中74.99%以下、好ましくは5重量%以上7
4.99重量%以下である。
A reinforcing material and/or a filler are used in the composition of the present invention to improve the physical properties as a sealing material. Its usage proportion is 74.99% or less in the total composition, preferably 5% or more by weight7.
It is 4.99% by weight or less.

使用量が上記範囲をこえては粘度が増加したり、封止し
た場合リード界面の密着性に悪影響を及ぼし好ましくな
い。
If the amount used exceeds the above range, the viscosity will increase and the adhesion of the lead interface will be adversely affected when sealed, which is not preferable.

また強化材および(又は)充てん材のうちでも、アスペ
クト比50以上のものや平均粒径300μm以上のもの
はその総量が全組成物中20重量%以下であることが好
ましい。それによって電子部品を封止するに足る流動性
を有すことができ、封止された電子部品の信頼性も確保
できる。
Furthermore, among the reinforcing materials and/or fillers, those with an aspect ratio of 50 or more and those with an average particle size of 300 μm or more are preferably in a total amount of 20% by weight or less in the entire composition. As a result, it can have sufficient fluidity to seal electronic components, and the reliability of the sealed electronic components can also be ensured.

使用する強化材は繊維又は鱗片状の形状をなす。The reinforcement used is in the form of fibers or scales.

繊維状強化材を例示すれば、ガラス繊維、ウオラストナ
イト、チタン酸カリウム繊維、アラミド繊維、シリカ繊
維、アルミナ繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア
繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素繊維、ホウ素繊維、
石コウ繊維、ポリエステル繊維、ポリエチレン繊維、ポ
リアクリル繊維、フッ素繊維、フェノール繊維、加工鉱
物繊維等をあげられるが、特にガラス繊維、ウオラスト
ナイト、シリカ・アルミナ繊維が好ましい。
Examples of fibrous reinforcing materials include glass fiber, wollastonite, potassium titanate fiber, aramid fiber, silica fiber, alumina fiber, silica/alumina fiber, zirconia fiber, boron nitride fiber, silicon nitride fiber, boron fiber,
Examples include gypsum fibers, polyester fibers, polyethylene fibers, polyacrylic fibers, fluorine fibers, phenol fibers, processed mineral fibers, and particularly preferred are glass fibers, wollastonite, and silica/alumina fibers.

鱗片状強化材としてはガラスフレーク、シリカフレーク
、天然マイカ及び合成マイカを例示することができ、特
にEガラス製のガラスフレーク、シリカフレーク、合成
マイカが封止材用途として好ましく用いられる。
Examples of the scaly reinforcing material include glass flakes, silica flakes, natural mica, and synthetic mica, and glass flakes made of E glass, silica flakes, and synthetic mica are particularly preferably used as the sealant.

また充てん材は、パウダー状(粉砕物)、ビーズ状、バ
ルーン状の形状を有する無機質のものである。
The filling material is an inorganic material having a powder-like (pulverized material), bead-like, or balloon-like shape.

具体例としては以下のものが挙げられる。単独又は複合
して用いられるが必らずしもこれらに制限されるもので
はない。
Specific examples include the following. They may be used alone or in combination, but are not necessarily limited to these.

例えばシリカ、ケイ藻土、アルミナ酸化チタン、酸化鉄
、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、アンチモン酸、酸化ア
ンチモン、バリウムフェライト、ストロンチウムフェラ
イト、酸化ベリリウム、軽石、・ 軽石バルーン、酸化
鉛、酸化ビスマス、酸化ジルコニウム、二酸化マンガン
、二酸化スズ、酸化パリウム、三二酸化鉄などの酸化物
、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭
酸マグネシウムなどの水酸化物、炭素カルシウム、炭酸
マグネシウム、ドロマイト、ドーソナイトなどの炭酸塩
、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸アンモニウム、
亜硫酸カルシウムなどの硫酸又は亜硫酸塩、硫化亜鉛、
硫化カルシウム、硫化ストロンチウム、硫化カドミニウ
ム、硫化バリウム等の硫化物、タルク、クレー、マイカ
、ガラスバルーン、ガラスピーズ、ケイ酸カルシウム、
モンモリロナイト、ベントナイトなどのケイ酸塩、その
他、カーボンブランク、グラファイト、硫化モリブデン
、ボロン、炭化ケイ素、チタン酸ジルコン酸鉛、ホウ酸
亜鉛、メタホウ酸バリウム、ホウ酸カルシウム、ホウ酸
ナトリウムなどが挙げられるが、好ましくは非晶質又は
結晶質シリカ製、Eガラス製、酸化マグネシウムなどの
パウダー(粉砕品)、ビーズ、バルーンである。
For example, silica, diatomaceous earth, alumina titanium oxide, iron oxide, zinc oxide, magnesium oxide, antimonic acid, antimony oxide, barium ferrite, strontium ferrite, beryllium oxide, pumice, pumice balloon, lead oxide, bismuth oxide, zirconium oxide, Oxides such as manganese dioxide, tin dioxide, pallium oxide, and iron sesquioxide, hydroxides such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and basic magnesium carbonate, carbonates such as calcium carbon, magnesium carbonate, dolomite, and dawsonite, and sulfuric acid. Calcium, barium sulfate, ammonium sulfate,
Sulfuric acid or sulfites such as calcium sulfite, zinc sulfide,
Sulfides such as calcium sulfide, strontium sulfide, cadmium sulfide, barium sulfide, talc, clay, mica, glass balloons, glass beads, calcium silicate,
Examples include silicates such as montmorillonite and bentonite, carbon blank, graphite, molybdenum sulfide, boron, silicon carbide, lead zirconate titanate, zinc borate, barium metaborate, calcium borate, and sodium borate. Preferably, they are amorphous or crystalline silica, E-glass, powder (pulverized product) of magnesium oxide, beads, and balloons.

ヤ主 本発明では、耐湿曝の向上や強度物性の向上を目的とし
て打機シラン、通常シランカンプリング剤と称されるも
のを添加することが好ましく、ビニルシラン、アクリル
シラン、アミノシラン、エポキシシラン、メルカプトシ
ラン、へロシランなどが挙げられる。該シランカップリ
ング剤の添加量は全組成物中0.01〜5重量%である
In the present invention, it is preferable to add a silane, usually called a silane camping agent, for the purpose of improving moisture resistance and strength properties. Examples include silane and herosilane. The amount of the silane coupling agent added is 0.01 to 5% by weight based on the total composition.

さらに必要に応して、チタネート系、ジルコネート系、
ジルコアルミネート系、アルミニウムキレート化合物系
のカンプリング剤も加えることが出来る。
Furthermore, titanate-based, zirconate-based,
Zircoaluminate-based and aluminum chelate compound-based camping agents can also be added.

本発明では密着性をさらに高めるため必要に応じて未変
性および(又は)変性シリコンオイル、ポリアミド、共
役ジエンの水添重合体および(又は)共役ジエンと芳香
族ビニル炭化水素の水添重合体および(又は)該水添重
合体に不飽和カルボン酸、ヒドロキシル基含有不飽和化
合物、アミノ基含有不飽和化合物、不飽和酸無水物、エ
ポキシ基含有不飽和化合物又はその誘導体がグラフトさ
れた変性物、ビス脂肪酸アミド・ビス芳香族アミド等の
アミド化合物、脂肪酸低級アルコールエステル・脂肪酸
多価アルコールエステル・エステルワックス等のエステ
ル等を添加することが出来る。
In the present invention, in order to further improve adhesion, unmodified and/or modified silicone oil, polyamide, hydrogenated polymer of conjugated diene, and/or hydrogenated polymer of conjugated diene and aromatic vinyl hydrocarbon, (or) a modified product in which an unsaturated carboxylic acid, an unsaturated compound containing a hydroxyl group, an unsaturated compound containing an amino group, an unsaturated acid anhydride, an unsaturated compound containing an epoxy group, or a derivative thereof is grafted onto the hydrogenated polymer; Amide compounds such as bis fatty acid amide and bis aromatic amide, esters such as fatty acid lower alcohol ester, fatty acid polyhydric alcohol ester, and ester wax can be added.

又、本発明組成物には、本発明の目的を損わぬ範囲で他
の重合体例えば、ポリサルホン、ポリアリルサルホン、
ポリエーテルサルホン、ポリエステル、ポリオレフィン
、ポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリカーボネー
ト、ポリフェニレンオキサイド、ボリアリレート、フェ
ノキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコンゴム、シリコンレジ
ン、フン素ゴム、ニトリルゴム、エポキシ樹脂、液晶ポ
リマーなどを加えてもよい。更に、公知の添加剤例えば
熱安定剤、酸化防止剤、腐食防止剤、流動性向上剤、滑
剤、離型剤、着色剤、エポキシ化合物などを適当量加え
ることができる。
The composition of the present invention may also contain other polymers such as polysulfone, polyallylsulfone,
Added polyether sulfone, polyester, polyolefin, polystyrene, polymethylpentene, polycarbonate, polyphenylene oxide, polyarylate, phenoxy resin, fluororesin, silicone rubber, silicone resin, fluorine rubber, nitrile rubber, epoxy resin, liquid crystal polymer, etc. It's okay. Furthermore, suitable amounts of known additives such as heat stabilizers, antioxidants, corrosion inhibitors, fluidity improvers, lubricants, mold release agents, colorants, epoxy compounds, etc. can be added.

特に、腐食防止剤としてアルカリ金属炭酸塩、水酸化物
、例えば炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウ
ムや酸化亜鉛、酸化鉛、酸化マグネシウム、酸化バリウ
ム、ドロマイト、γ−アルミナ、ハイドロタルサイト類
などを0.1〜10重量%添加することは好ましい。こ
れらのうちでも特に酸化亜鉛、γ−アルミナ、ドロマイ
トはパソヶ−ジ材料の信軌性を高める上で好ましい。
In particular, alkali metal carbonates and hydroxides such as sodium carbonate, lithium carbonate, lithium hydroxide, zinc oxide, lead oxide, magnesium oxide, barium oxide, dolomite, γ-alumina, and hydrotalcites are used as corrosion inhibitors. It is preferable to add 0.1 to 10% by weight. Among these, zinc oxide, γ-alumina, and dolomite are particularly preferred in terms of improving the reliability of the pathogage material.

本発明になる組成物は、320℃(剪断速度103se
c ”1)における溶融粘度が3000ポイズ以下と低
粘度であることが電子部品の封止材として使用する上で
好ましい。
The composition according to the present invention has a temperature of 320° C. (shear rate 103 se
It is preferable that the melt viscosity in 1) is as low as 3000 poise or less for use as a sealing material for electronic components.

(発明の効果〕 本発明の電子部品封止用ポリアリーレンスルフィド樹脂
組成物は主として射出成形、トランスファー成形、圧縮
成形、ディッピングなどの方法で電子部品を封止するこ
とができる。該電子部品の例としては例えばIC、ハイ
ブリッドIC、トランジスター、ダイオード、キャパシ
ター、レジスター、サイリスター、コイル、バリスター
、コネクター、トランスデユーサ−1水晶発振器、ヒユ
ーズ、整流器、電源、スイッチ、各種センサー、リレー
、サージアブソーバ−、ピングリッドアレイ、リードレ
スチップキャリア、リード付きチップキャリヤおよびこ
れらの複合部品などである。
(Effects of the Invention) The polyarylene sulfide resin composition for encapsulating electronic components of the present invention can mainly encapsulate electronic components by methods such as injection molding, transfer molding, compression molding, and dipping. Examples of the electronic components For example, IC, hybrid IC, transistor, diode, capacitor, resistor, thyristor, coil, varistor, connector, transducer-1 crystal oscillator, fuse, rectifier, power supply, switch, various sensors, relay, surge absorber, etc. These include pin grid arrays, leadless chip carriers, leaded chip carriers, and composite parts thereof.

特に低応力が要求されるコイル部品や、耐クラツク性が
要求されるセラミック基板を有するネ・ノトワーク抵抗
等、及び小形薄肉化が進むチップ部品等に好適に用いら
れる。
It is particularly suitable for use in coil components that require low stress, network resistors with ceramic substrates that require crack resistance, and chip components that are becoming smaller and thinner.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例及び比較例により詳細に説明する。 Hereinafter, it will be explained in detail using Examples and Comparative Examples.

実施例1〜5、比較例1〜3 ASTM D 1238−74 (315,6℃、5 
kg荷重)で測定したメルトフローレートで5000g
/10分を有するポリフェニレンスルフィド樹脂に対し
、ポリ (4−メチルペンテン−1)(三井石油化学工
業■製 TPX■〕、及び強化材、充てん材、シランカ
ップリング剤等を表−1のよ・うに配合、ついでヘンシ
ェルミキサーを用いトライブレンド後、6011押出機
を用いて320℃で溶融混練し、ストランド状に押出し
カッ1−シて、ベレットを得た。
Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3 ASTM D 1238-74 (315,6°C, 5
5000g in melt flow rate measured with kg load)
/10 minutes, poly(4-methylpentene-1) (TPX, manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.), reinforcing materials, fillers, silane coupling agents, etc. were added as shown in Table 1. The mixture was blended with sea urchin, then triblended using a Henschel mixer, melt-kneaded using a 6011 extruder at 320°C, extruded into strands, and cut into pellets.

各ペレ・ノドについて1オンス射出成形機を用いてシリ
ンダ一温度320℃、金型温度150℃で物性測定用の
試験片を作成した。結果を表−1に示す。またチップコ
イルを同上温度条件で封止後、インダクタンスを測定し
、封止による機能低下の有無を確認した。
For each pellet/nod, a test piece for measuring physical properties was prepared using a 1-ounce injection molding machine at a cylinder temperature of 320°C and a mold temperature of 150°C. The results are shown in Table-1. In addition, after sealing the chip coil under the same temperature conditions as above, the inductance was measured to confirm whether there was any functional deterioration due to sealing.

(1)繊維径13μm、平均繊維長200μm(2)平
均粒径30μm (3)平均厚み4μm、平均径40μm(4)三井石油
化学工業株式会社製 ポリメチルペンテン樹脂メルトフローレー)180g/
10 分 (260℃15kg>(5)4−メチル−ペ
ンテン重合体100重量部に対し無水マレイン酸2.5
重量部、バーへキサ25B(日本油脂製)0.1重量部
をヘンシェルミキサーで均一に混合し、この混合物を4
0鶴押出機を用いシリンダ一温度250℃で押し出し、
変性4−メチル−ペンチル重合体を得た。得られた変性
重合体から未反応の無水マレイン酸を除去し、ナトリウ
ムメチラートによる滴定で無水マレイン酸の付加量を測
定したところ1.4重量%であった。また、メルトフロ
ーレートは150g/10分(260℃15kg)であ
った。
(1) Fiber diameter 13 μm, average fiber length 200 μm (2) Average particle size 30 μm (3) Average thickness 4 μm, average diameter 40 μm (4) Polymethylpentene resin melt flowray manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.) 180 g/
10 minutes (260℃15kg>(5) 2.5 parts by weight of maleic anhydride per 100 parts by weight of 4-methyl-pentene polymer
Part by weight and 0.1 part by weight of Bar Hexa 25B (manufactured by NOF) were uniformly mixed in a Henschel mixer, and this mixture was
Extruded using a zero-tsuru extruder at a cylinder temperature of 250°C,
A modified 4-methyl-pentyl polymer was obtained. Unreacted maleic anhydride was removed from the obtained modified polymer, and the amount of maleic anhydride added was measured by titration with sodium methylate and found to be 1.4% by weight. Further, the melt flow rate was 150 g/10 minutes (260° C. 15 kg).

(7)  インダクタンス変化は で表わされ、 Lo :初期値(成形後) L、;成形後 小さい方が好ましい。(7) Inductance change is It is expressed as Lo: Initial value (after molding) L, after molding Smaller is preferable.

本発明になる組成物は強度低下することなく、弾性率の
低下、粘度の低下を達成することが出来、コイルを封止
した場合に初期特性の劣化がなく、良好な結果を示した
The composition of the present invention was able to achieve a decrease in elastic modulus and viscosity without decreasing strength, and when a coil was sealed, there was no deterioration in initial properties and showed good results.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(A)ポリアリーレンスルフィド樹脂、 (B)ポリ(4−メチル−1−ペンテン) 樹脂および(又は)不飽和カルボン酸又はその誘導体の
グラフト量が0.01〜10重量%の範囲でグラフト変
性された変性ポリ(4−メチル−1−ペンテン)樹脂、 (C)強化材および(又は)充てん材 (D)有機シラン より構成され、上記(A)と(B)との重量比が(A)
/(B)=99/1〜86/14であり、全組成物中で
は(A)+(B)が25重量%以上、(C)が74.9
9重量%以下、(D)が0.01〜5重量%であり、か
つ320℃(剪断速度10^3sec^−^1)におけ
る溶融粘度が300ポイズ以下である電子部品封止用樹
脂組成物。 2、強化材および(又は)充てん材のうち、アスペクト
比50以上のものや平均粒径300μm以上のものはそ
の総量が全組成物中20重量%以下である特許請求の範
囲第一項記載の樹脂組成物。 3、特許請求の範囲第一項又は第二項記載の樹脂組成物
で封止された電子部品。
[Claims] 1. The grafting amount of (A) polyarylene sulfide resin, (B) poly(4-methyl-1-pentene) resin and/or unsaturated carboxylic acid or its derivative is 0.01 to 10 It is composed of a modified poly(4-methyl-1-pentene) resin graft-modified in a range of % by weight, (C) a reinforcing material and/or a filler (D) an organic silane, and the above (A) and (B) The weight ratio is (A)
/(B)=99/1 to 86/14, and (A)+(B) is 25% by weight or more and (C) is 74.9% by weight in the whole composition.
9% by weight or less, (D) is 0.01 to 5% by weight, and the melt viscosity at 320°C (shear rate 10^3sec^-^1) is 300 poise or less. . 2. Among the reinforcing materials and/or fillers, those with an aspect ratio of 50 or more and those with an average particle size of 300 μm or more are in a total amount of 20% by weight or less in the entire composition. Resin composition. 3. An electronic component sealed with the resin composition according to claim 1 or 2.
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