JPH02304794A - Magnetic bubble memory device - Google Patents
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Abstract
Description
磁気バブルメモリデバイスの基本構成要素である磁気バ
ブル転送路に、従来のパーマロイ薄膜パターンに替わり
、イオン打ち込み方式の転送路パターンを使用すること
により、高集積の素子を実現することが出来る。イオン
打ち込み方式の転送路は、第6図に例示したような構造
をしている。
同図において、1は、磁気バブルの媒体である磁性膜で
あり、この中に、磁気バブルBが存在する。
この磁性膜の表面に、H,”、He”、Ne+等のイオ
ンを選択的に打ち込むことにより、磁気バブル転送路1
0を形成する。10の外部領域20がイオンの打ち込ま
れた打ち込み領域であり、その内部領域がイオンの打ち
込まれない非イオン打ち込み領域である。磁気バブルB
は、この非イオン打ち込み領域パターン(磁気バブル転
送路10)と、その周縁のイオン打ち込み領域20との
境界に沿って転送される。つまり、外部からこの膜に垂
直な方向にバイアス磁界Hsを加えることで磁気バブル
Bを安定に存在させる。そして磁気バブルの転送は、外
部からこの膜面内で回転する回転磁界HHを加えること
で行う。回転磁界HRにより、イオン打ち込み領域20
を磁化し、磁気バブル転送路10の境界にバブル吸引磁
極を発生することにより、バブルを磁気バブル転送路1
0の境界に沿って転送する。回転磁界HRが反時計回り
に回転する場合、バブルの転送方向は、矢印P方向であ
り、磁気バブル転送路10の左右で逆方向である。
第6図中の磁気バブル転送路1oは、磁気バブルメモリ
デバイスにおいては、多数個並列に並べて形成し、情報
を記憶蓄積するマイナループmとして利用する。実際の
デバイスでは、このマイナループmの外に、情報の入出
力路を形成するメジャーラインMが、マイナループmに
直行する方向に形成される。
第6図において、更にまた。磁気バブル磁性膜1は、ガ
ーネット磁性膜からなる3軸対称の結晶軸方位を有して
おり、マイナループmのバブル転送方向軸Aは、結晶軸
方位の[1了2]又は[了2了コ又は[21了]に一致
させるように従来から行われてきた。
このようなイオン打ち込み方式の転送路を備えた磁気バ
ブルメモリディバイスは、既に知られており、この種の
ものとして、例えば、特開昭60−226089を挙げ
ることが出来る。By using an ion implantation type transfer path pattern instead of the conventional permalloy thin film pattern for the magnetic bubble transfer path, which is a basic component of a magnetic bubble memory device, a highly integrated device can be realized. The transfer path of the ion implantation method has a structure as illustrated in FIG. In the figure, reference numeral 1 denotes a magnetic film that is a medium for magnetic bubbles, and a magnetic bubble B exists within this magnetic film. By selectively implanting ions such as H, ", He", Ne+, etc. into the surface of this magnetic film, the magnetic bubble transfer path 1
form 0. The outer region 20 of No. 10 is an implanted region into which ions are implanted, and the inner region thereof is a non-ion implanted region into which ions are not implanted. magnetic bubble B
is transferred along the boundary between this non-ion implantation region pattern (magnetic bubble transfer path 10) and the ion implantation region 20 at its periphery. That is, by applying a bias magnetic field Hs from the outside in a direction perpendicular to this film, the magnetic bubble B is made to exist stably. Transfer of the magnetic bubble is performed by applying a rotating magnetic field HH rotating within the film surface from the outside. The ion implantation region 20 is
By magnetizing the bubbles and generating bubble attracting magnetic poles at the boundaries of the magnetic bubble transfer path 10, the bubbles are transferred to the magnetic bubble transfer path 1.
Transfer along the 0 boundary. When the rotating magnetic field HR rotates counterclockwise, the direction of bubble transfer is in the direction of arrow P, which is opposite on the left and right sides of the magnetic bubble transfer path 10. In a magnetic bubble memory device, a large number of magnetic bubble transfer paths 1o in FIG. 6 are formed in parallel and used as a minor loop m for storing and accumulating information. In an actual device, a major line M forming an information input/output path is formed outside of this minor loop m in a direction perpendicular to the minor loop m. In FIG. 6, furthermore. The magnetic bubble magnetic film 1 is made of a garnet magnetic film and has a three-axis symmetrical crystal axis orientation, and the bubble transfer direction axis A of the minor loop m is aligned with the crystal axis orientation [1Ryo2] or [Ryo2Ryoco]. Or, it has been conventionally done to match [21 End]. Magnetic bubble memory devices equipped with such ion implantation transfer paths are already known, and an example of this type is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-226089.
さて、このようなイオン打ち込み方式の転送路を備えた
磁気バブルメモリデバイスを実用化するには、磁気バブ
ルBをイオン打ち込み転送路10に沿って、安定に転送
できるイオン打ち込み転送路を実現する必要がある。こ
のため、従来、イオン打ち込みのプロセス条件、例えば
、イオン打ち込みの量、加速電圧、イオンの種類、安定
化ベータ温度等、その他、転送路パターンの形状を各種
変えることによる最適化の検討等がなされてきた。
この結果、第6図のバブル転送路10の左側及び右側の
個々については、比較的安定した転送特性が得られてい
る。しかし、第5図に例示したように、左右の転送路の
安定動作するバイアス磁界マージン域ΔHaが、左右で
大きなアンバランスを生じ、共通マージン域が狭くなっ
ている。このアンバランス量は、低温側(0℃→−40
℃)で極端に悪くなり、共通マージン域が半減する。
この結果、これらのパラメータだけでは、実用化に十分
な安定した転送特性が得られていない状況にある。従っ
て、本発明の目的は、かかる従来の問題点を解決するこ
とにあり、左右転送路特性のアンバランスを低減し、共
通バイアス磁界動作領域を拡大し安定した転送特性の得
られる改良された転送路を備えた磁気バブルメモリデバ
イスを提供することにある。Now, in order to put into practical use a magnetic bubble memory device equipped with such an ion implantation transfer path, it is necessary to realize an ion implantation transfer path that can stably transfer the magnetic bubbles B along the ion implantation transfer path 10. There is. For this reason, in the past, optimization studies have been conducted by changing the ion implantation process conditions, such as the amount of ion implantation, acceleration voltage, type of ions, stabilizing beta temperature, etc., as well as the shape of the transfer path pattern. It's here. As a result, relatively stable transfer characteristics are obtained for the left and right sides of the bubble transfer path 10 in FIG. 6, respectively. However, as illustrated in FIG. 5, the bias magnetic field margin area ΔHa for stable operation of the left and right transfer paths causes a large imbalance between the left and right sides, and the common margin area becomes narrow. This unbalance amount is on the low temperature side (0℃→-40℃)
°C), it becomes extremely bad, and the common margin area is halved. As a result, stable transfer characteristics sufficient for practical use cannot be obtained using these parameters alone. Therefore, an object of the present invention is to solve such conventional problems, and to provide improved transfer that reduces the unbalance between the left and right transfer path characteristics, expands the common bias magnetic field operating region, and provides stable transfer characteristics. An object of the present invention is to provide a magnetic bubble memory device with a magnetic bubble channel.
上記本発明の目的を達成する手段として1本発明におい
ては、転送路特性を改良するため、従来対称的であった
左右の転送路に、非対称化の手段を導入した点に特徴が
ある。
即ち、上記本発明の目的は、
(1)、イオン打ち込み方式による磁気バブル転送路を
備えた磁気バブルメモリデバイスにおいて、前記磁気バ
ブル転送路における左右の互いに相異なる逆向の転送方
向におけるバイアス磁界マージンの差に基ずく転送特性
のアンバランスを低減する手段として、前記磁気バブル
転送路左右のバイアス磁界マージンの差を緩和する非対
称化手段を設けて成る磁気バブルメモリデバイスにより
、達成される。
そして、好ましくは、
(2)、上記非対称化手段として、イオン打ち込みされ
る磁気バブル磁性膜の3軸対称の結晶軸方位と磁気バブ
ル転送方向との間に交差角を設けて成る上記(1)記載
の磁気バブルメモリデバイスにより、更に好ましくは、
(3)、上記磁気バブル転送路が、情報入出力のメジャ
ーラインと情報蓄精のマイナーループとから成り、上記
3軸対称の磁気バブル磁性膜の結晶軸を、前記マイナー
ループのバブル転送方向軸に対して2〜15°ずらして
成る上記(2)記載の磁気バブルメモリデバイスにより
、また。
(4)、上記非対称化手段として、イオン打ち込み方式
による磁気バブル転送路パターンの形状を。
磁気バブル転送方向に対して非対称化して成る上記(1
)記載の磁気バブルメモリデバイスにより、そして好ま
しくは
(5)、上記磁気バブル転送路パターンの形状を。
鋸歯状とした上記(4)記載の磁気バブルメモリデバイ
スにより、また、
(6)、上記イオン打ち込み転送路は、磁性基板表面に
イオン打ち込みされた打ち込み領域と、イオン打ち込み
されない非イオン打ち込み領域との両領域界面から成る
と共に、上記非対称化手段として、前記非イオン打ち込
み領域内には第1の磁性薄膜パターンが、そして前記イ
オン打ち込みされた打ち込み領域上の前記転送路パター
ンの周囲の少なくとも凹部近傍には隣接して第2の磁性
薄膜パターンが形成されて成る上記(1)記載の磁気バ
ブルメモリデバイスにより、達成される。
更にまた、本発明においては、上記(2)、(4)、(
6)の少なくとも二つを組み合わせることも有効である
。As a means for achieving the above object of the present invention, the present invention is characterized in that, in order to improve the transfer path characteristics, asymmetrical means is introduced into the left and right transfer paths, which were conventionally symmetrical. That is, the object of the present invention is as follows: (1) In a magnetic bubble memory device equipped with a magnetic bubble transfer path using an ion implantation method, the bias magnetic field margin in the left and right opposite transfer directions in the magnetic bubble transfer path is improved. This is achieved by a magnetic bubble memory device that is provided with an asymmetrical means for alleviating the difference in bias magnetic field margins on the left and right sides of the magnetic bubble transfer path, as a means for reducing the imbalance in transfer characteristics based on the difference. Preferably, (2), as the asymmetrical means, an intersecting angle is provided between the three-axis symmetrical crystal axis orientation of the ion-implanted magnetic bubble magnetic film and the magnetic bubble transfer direction (1). More preferably, in the magnetic bubble memory device described above, (3), the magnetic bubble transfer path is composed of a major line for information input/output and a minor loop for information storage, and the magnetic bubble transfer path is formed of the three-axis symmetric magnetic bubble magnetic film Also, by the magnetic bubble memory device according to (2) above, in which the crystal axis is shifted by 2 to 15 degrees with respect to the bubble transfer direction axis of the minor loop. (4) As the above-mentioned asymmetrical means, the shape of the magnetic bubble transfer path pattern is formed by an ion implantation method. The above (1) is made asymmetrical with respect to the magnetic bubble transfer direction.
), and preferably (5) the shape of the magnetic bubble transfer path pattern. By the magnetic bubble memory device described in (4) above, which has a sawtooth shape, and (6), the ion implantation transfer path is formed between an implanted region where ions are implanted into the surface of the magnetic substrate and a non-ion implanted region where ions are not implanted. As the asymmetrical means, a first magnetic thin film pattern is provided in the non-ion implanted region, and at least in the vicinity of the recess around the transfer path pattern on the implanted region where the ions are implanted. is achieved by the magnetic bubble memory device described in (1) above, in which the second magnetic thin film pattern is formed adjacently. Furthermore, in the present invention, the above (2), (4), (
It is also effective to combine at least two of 6).
イオン打ち込み転送路は、力学的応力歪により形成され
るマグネチック・ストリクション(磁歪)効果を利用し
たものである。そして、共通バイアス磁界動作領域を拡
大するため転送路を非対称化することにより、転送路左
右のバイアス磁界マージンのアンバランスを低減するこ
とができる。この転送路を非対称化する具体的手法とし
ては、前述の通り基本的には(2)、(4)、(6)の
3通りがあり、いずれにおいても同様な作用効果を有す
る。したがって、これらの手法を2通り、もしくは3通
り組み合わせることも可能である。この転送路を非対称
化する手段は、イオン打ち込み転送路のバブル転送に対
して磁気的な影響を強く与えるパラメータであり、転送
路左右のバイアス磁界マージンのアンバランスを低減す
る上で効果的に作用する。The ion implantation transfer path utilizes the magnetic stress effect created by mechanical stress and strain. By making the transfer path asymmetrical in order to expand the common bias magnetic field operating region, it is possible to reduce the imbalance between the bias magnetic field margins on the left and right sides of the transfer path. As mentioned above, there are basically three methods (2), (4), and (6) as specific methods for making this transfer path asymmetrical, and all have similar effects. Therefore, it is also possible to combine two or three of these methods. This means of making the transfer path asymmetric is a parameter that has a strong magnetic effect on bubble transfer in the ion implantation transfer path, and is effective in reducing the imbalance between the bias magnetic field margins on the left and right sides of the transfer path. do.
【実施例1
以下、図面により本発明の一実施例を説明する。
実施例1゜
第1図(a)、(b)は、3軸対称の結晶軸方位をマイ
ナーループmのバブル転送方向軸Aから、交差角θだけ
ずらして非対称化した場合の、本発明の一実施例となる
転送路の要部平面を示した説明図である。
まず、第1図(a)において、1は磁気バブルの媒体で
ある磁性膜で1周知の方法で磁性ガーネット膜が非磁性
ガーネット基板(図示せず)上に形成されたもの、20
は磁性膜表面にH2” 、 He ” 。
Ne”等のイオンが選択的に打ち込まれた領域、10は
マイナーループmを構成する転送路で、その内部領域は
イオンの打ち込まれない非イオン打ち込み領域である。
第1図(b)は、マイナーループmのバブル転送方向軸
Aと、3軸対称の磁性膜1の結晶軸方位との関係を説明
する図である。バブル磁性膜1の結晶軸[T工2]又は
[了2′X]又は[21了]とバブル転送路10の転送
方向軸Aとの交差角をθとする。従来は、θ=0″が選
ばれ、バブル転送路10の左右転送路は、結晶軸に対し
て対称な構成となっていた。これに対して、本発明では
交差角θを持たせ、好ましくはθ=2〜15°の交差角
を持たせた構成にしている。
第2図は、この交差角θと第5図で述べた左右転送路の
アンバランスロス量ΔLを実験で求めた結果の一例を示
す特性曲線であにのロス量ΔLが少ないほど良好な特性
を示し1図から明らかなように交差角θ=±(2〜15
6)の範囲で優れた特性が得られた。
実施例2゜
第3図(a)、(b)、(c)は、それぞれ本発明の他
の一実施例となる転送路パターンの形状をバブル転送方
向に対して非対称化した転送路パターンの平面図を示し
たものである。
同図(a)は、上、下方向に非対称化した例、同じく(
b)は、左右方向に非対称化した例、そして同じく(c
)は、鋸歯状パターンにした例を示したものである。い
ずれの場合も、従来の対称形パターンに比べて、アンバ
ランスロス量ΔLを半減することができた。
実施例3゜
第4図は、本発明による他の実施例の一例を示したもの
であり、第1の軟磁性薄膜パターン40を転送路10の
非イオン打ち込み領域内に、第2の軟磁性薄膜パターン
50を転送路10の周囲の凹部近傍に隣接して設け、非
対称化した転送路パターンの平面図を示したものである
。通常、この軟磁性薄膜パターンは、例えば、バブル検
出器を形成する磁性薄膜パターンと同店に、しかも同一
プロセスで一括して形成できる。この磁性薄膜パターン
として、パーマロイ薄膜がよく用いられる。
このパターンが発生する磁界を利用することにより、バ
ブル転送を補助する。つまり、上記の第1の軟磁性薄膜
パターン40は、バブル転送の駆動力を強める補助パタ
ーンであり、第2の軟磁性薄膜パターン50は、隣接す
る転送路間に設けられたパターンでバブルが転送中に隣
の転送路へ飛び移るいわゆる転送誤動作を防止するため
に導入した補助パターンである。これらのパターン導入
により、転送路左右のアンバランスロス量ΔLを前記実
施例2と同様に半減することができた。
なお、本実施例では、上記第2の軟磁性薄膜パターン5
0を図示のとおり六角形の独立したパターンとして隣接
する二つの転送路間に設けたが、独立したパターンとせ
ず隣接するパターン50同士を連結したパターン形状と
してもよい。また、本発明においては、上記実施例1〜
3に示した転送路の非対称化手段を組み合わせて実施す
ることも可能であることは言うまでもない。
【発明の効果】
以上詳述したとおり、本発明によれば、イオン打ち込み
転送路に、非対称化手段を導入することにより、バブル
転送時に生じる左右転送路特性のアンバランスを低減し
、共通バイアス磁界動作領域(通称バイアスマージンと
いう)を拡大することができ、実用化に十分な安定した
磁気バブルの転送特性が得られるようになり、イオン打
ち込み転送路を備えた磁気バブルメモリデバイスの実用
化を可能とした。[Embodiment 1] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Example 1 Figures 1 (a) and (b) show the results of the present invention when the three-axis symmetrical crystal axis direction is shifted from the bubble transfer direction axis A of the minor loop m by an intersection angle θ to make it asymmetric. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a plan view of a main part of a transfer path according to an embodiment. First, in FIG. 1(a), 1 is a magnetic film that is a medium for magnetic bubbles, 1 is a magnetic garnet film formed on a non-magnetic garnet substrate (not shown) by a well-known method, and 20 is a magnetic film that is a medium for magnetic bubbles.
H2'', He'' on the surface of the magnetic film. The region 10 in which ions such as Ne'' are selectively implanted is a transfer path constituting a minor loop m, and the inner region is a non-ion implantation region where ions are not implanted. FIG. 2 is a diagram illustrating the relationship between the bubble transfer direction axis A of the minor loop m and the crystal axis orientation of the three-axis symmetrical magnetic film 1. ] or [21 completed] and the transfer direction axis A of the bubble transfer path 10 is θ. Conventionally, θ=0'' is selected, and the left and right transfer paths of the bubble transfer path 10 are It had a symmetrical configuration. On the other hand, in the present invention, a crossing angle θ is provided, preferably a crossing angle of θ=2 to 15°. Figure 2 is a characteristic curve showing an example of the experimental results of this intersection angle θ and the unbalance loss amount ΔL of the left and right transfer paths described in Figure 5. The smaller the loss amount ΔL, the better the characteristics. As is clear from Figure 1, the intersection angle θ=±(2 to 15
Excellent properties were obtained within the range 6). Embodiment 2 FIGS. 3(a), (b), and (c) each show a transfer path pattern in which the shape of the transfer path pattern is made asymmetric with respect to the bubble transfer direction, which is another embodiment of the present invention. It shows a plan view. Figure (a) shows an example of asymmetrical upward and downward directions;
b) is an example that is asymmetrical in the left-right direction, and similarly (c
) shows an example of a sawtooth pattern. In either case, the unbalance loss amount ΔL was able to be halved compared to the conventional symmetrical pattern. Embodiment 3 FIG. 4 shows an example of another embodiment according to the present invention, in which the first soft magnetic thin film pattern 40 is placed in the non-ion implantation region of the transfer path 10, and the second soft magnetic thin film pattern 40 is 2 is a plan view of an asymmetric transfer path pattern in which a thin film pattern 50 is provided adjacent to the concave portion around the transfer path 10. FIG. Normally, this soft magnetic thin film pattern can be formed in the same place and in the same process as the magnetic thin film pattern forming the bubble detector, for example. Permalloy thin films are often used as this magnetic thin film pattern. By utilizing the magnetic field generated by this pattern, bubble transfer is assisted. In other words, the first soft magnetic thin film pattern 40 described above is an auxiliary pattern that strengthens the driving force for bubble transfer, and the second soft magnetic thin film pattern 50 is a pattern provided between adjacent transfer paths that allows bubbles to be transferred. This is an auxiliary pattern introduced to prevent so-called transfer malfunctions in which a transfer path jumps to an adjacent transfer path. By introducing these patterns, the unbalance loss amount ΔL on the left and right sides of the transfer path could be halved as in the second embodiment. Note that in this embodiment, the second soft magnetic thin film pattern 5
0 is provided as an independent hexagonal pattern between two adjacent transfer paths as shown in the figure, but it is also possible to have a pattern shape in which adjacent patterns 50 are connected to each other instead of being provided as independent patterns. In addition, in the present invention, the above-mentioned Examples 1 to
It goes without saying that it is also possible to implement the transfer path asymmetrical means shown in 3 in combination. Effects of the Invention As detailed above, according to the present invention, by introducing an asymmetry means into the ion implantation transfer path, the imbalance between the left and right transfer path characteristics that occurs during bubble transfer can be reduced, and the common bias magnetic field can be reduced. The operating range (commonly known as bias margin) can be expanded, and stable magnetic bubble transfer characteristics sufficient for practical use can be obtained, making it possible to put magnetic bubble memory devices with ion implantation transfer paths into practical use. And so.
第1図は、本発明の一実施例を示したもので、磁気バブ
ルメモリデバイスにおけるイオン打ち込み転送路のバブ
ル転送方向軸Aと磁性膜の結晶方向軸との関係を説明す
る説明図、第2図は、第1図(b)の交差角θと左右転
送路のアンバランスロス量ΔL(%)との関係を示した
特性曲線図、第3図は、本発明の他の実施例を示したも
ので、同じくイオン打ち込み転送路の転送路の形状を非
対称にした転送路パターンの平面図、第4図は、同じく
本発明の他の実施例を示したもので、軟磁性薄膜パター
ン形成による非対称化転送路パターンの平面図、第5図
は、転送路左右のバイアス磁界マージンの差及び共通マ
ージンの温度による変化の状態を示した説明図、そして
第6図は、従来の磁気バブルメモリデバイスにおけるイ
オン打ち込み転送路の一部断面斜視図である。
1・・・磁性膜、 10・・・イオン打ち込み転送路2
0・・・イオン打ち込み領域、 40・・・第1の軟
磁性薄膜パターン、 50・・・第2の軟磁性薄膜パ
ターン、 A・・・転送路のバブル転送方向軸、 B・
・・磁気バブルy HB・・・バイアス磁界+HR・
・・回転磁界、 P・・・磁気バブル転送方向。FIG. 1 shows an embodiment of the present invention; FIG. The figure is a characteristic curve diagram showing the relationship between the crossing angle θ in FIG. 1(b) and the unbalance loss amount ΔL (%) of the left and right transfer paths, and FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. FIG. 4 is a plan view of a transfer path pattern in which the shape of the transfer path of the ion implantation path is made asymmetric, and FIG. FIG. 5 is a plan view of the asymmetric transfer path pattern, and FIG. 5 is an explanatory diagram showing the difference in the bias magnetic field margins on the left and right sides of the transfer path and how the common margin changes with temperature, and FIG. 6 is a diagram of the conventional magnetic bubble memory device. FIG. 2 is a partially cross-sectional perspective view of an ion implantation transfer path in FIG. 1... Magnetic film, 10... Ion implantation transfer path 2
0... Ion implantation region, 40... First soft magnetic thin film pattern, 50... Second soft magnetic thin film pattern, A... Bubble transfer direction axis of transfer path, B.
...Magnetic bubble y HB...Bias magnetic field +HR・
...Rotating magnetic field, P...Magnetic bubble transfer direction.
Claims (1)
た磁気バブルメモリデバイスにおいて、前記磁気バブル
転送路における左右の互いに相異なる逆向の転送方向に
おけるバイアス磁界マージンの差に基ずく転送特性のア
ンバランスを低減する手段として、前記磁気バブル転送
路左右のバイアス磁界マージンの差を緩和する非対称化
手段を設けて成る磁気バブルメモリデバイス。 2、上記非対称化手段として、イオン打ち込みされる磁
気バブル磁性膜の3軸対称の結晶軸方位と磁気バブル転
送方向との間に交差角を設けて成る請求項1記載の磁気
バブルメモリデバイス。 3、上記磁気バブル転送路が、情報入出力のメジャーラ
インと情報蓄積のマイナーループとから成り、上記3軸
対称の磁気バブル磁性膜の結晶軸を、前記マイナールー
プのバブル転送方向軸に対して2〜15°ずらして成る
請求項2記載の磁気バブルメモリデバイス。 4、上記非対称化手段として、イオン打ち込み方式によ
る磁気バブル転送路パターンの形状を、磁気バブル転送
方向に対して非対称化して成る請求項1記載の磁気バブ
ルメモリデバイス。 5、上記磁気バブル転送路パターンの形状を、鋸歯状と
した請求項4記載の磁気バブルメモリデバイス。 6、上記イオン打ち込み転送路は、磁性基板表面にイオ
ン打ち込みされた打ち込み領域と、イオン打ち込みされ
ない非イオン打ち込み領域との両領域界面から成ると共
に、上記非対称化手段として、前記非イオン打ち込み領
域内には第1の磁性薄膜パターンが、そして前記イオン
打ち込みされた打ち込み領域上の前記転送路パターンの
周囲の少なくとも凹部近傍には隣接して第2の磁性薄膜
パターンが形成されて成る請求項1記載の磁気バブルメ
モリデバイス。[Claims] 1. In a magnetic bubble memory device equipped with a magnetic bubble transfer path using an ion implantation method, transfer based on a difference in bias magnetic field margins in opposite transfer directions on the left and right sides of the magnetic bubble transfer path. A magnetic bubble memory device comprising, as a means for reducing characteristic imbalance, an asymmetry means for alleviating the difference between the bias magnetic field margins on the left and right sides of the magnetic bubble transfer path. 2. The magnetic bubble memory device according to claim 1, wherein the asymmetrical means comprises providing an intersection angle between the three-axis symmetrical crystal axis orientation of the magnetic bubble magnetic film into which ions are implanted and the magnetic bubble transfer direction. 3. The magnetic bubble transfer path is composed of a major line for information input/output and a minor loop for information storage, and the crystal axis of the 3-axis symmetrical magnetic bubble magnetic film is aligned with the bubble transfer direction axis of the minor loop. 3. The magnetic bubble memory device according to claim 2, wherein the magnetic bubble memory device is shifted by 2 to 15 degrees. 4. The magnetic bubble memory device according to claim 1, wherein the asymmetrical means makes the shape of the magnetic bubble transfer path pattern formed by ion implantation asymmetrical with respect to the magnetic bubble transfer direction. 5. The magnetic bubble memory device according to claim 4, wherein the magnetic bubble transfer path pattern has a sawtooth shape. 6. The ion implantation transfer path is composed of an interface between an implanted region where ions are implanted into the surface of the magnetic substrate and a non-ion implanted region where ions are not implanted. 2. A magnetic thin film pattern according to claim 1, wherein a first magnetic thin film pattern is formed, and a second magnetic thin film pattern is formed adjacently at least in the vicinity of the recess around the transfer path pattern on the implanted region where the ions are implanted. Magnetic bubble memory device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1124383A JPH02304794A (en) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | Magnetic bubble memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1124383A JPH02304794A (en) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | Magnetic bubble memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02304794A true JPH02304794A (en) | 1990-12-18 |
Family
ID=14884052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1124383A Pending JPH02304794A (en) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | Magnetic bubble memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02304794A (en) |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1124383A patent/JPH02304794A/en active Pending
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