JPH02301760A - Plate making method for damping waterless planographic printing plate - Google Patents

Plate making method for damping waterless planographic printing plate

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Publication number
JPH02301760A
JPH02301760A JP12226389A JP12226389A JPH02301760A JP H02301760 A JPH02301760 A JP H02301760A JP 12226389 A JP12226389 A JP 12226389A JP 12226389 A JP12226389 A JP 12226389A JP H02301760 A JPH02301760 A JP H02301760A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diazo resin
substrate
printing plate
planographic printing
photosensitive
Prior art date
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Pending
Application number
JP12226389A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Tomiyasu
富安 寛
Akio Kasakura
暁夫 笠倉
Norihito Suzuki
鈴木 則人
Akihisa Nakajima
彰久 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Konica Minolta Inc filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP12226389A priority Critical patent/JPH02301760A/en
Publication of JPH02301760A publication Critical patent/JPH02301760A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the damping waterless planographic printing plate having a good developed visible image property by processing the photosensitive planographic printing plate with a soln. contg. a coupler under an alkaline condition during or after development and bringing the same into coupling reaction with a diazo resin on a substrate. CONSTITUTION:A photosensitive layer contg. at least a diazo resin and a silicone rubber layer are applied, in this order from the substrate side, on the substrate having the surface subjected to an anion impartation treatment. The photosensitive planographic printing plate is processed with the liquid contg. the coupler under the alkaline condition during or after the development and is thereby brought into the coupling reaction with the diazo resin on the substrate. The paired anion of this diazo resin forms a stable salt with the diazo resin and includes the anion which makes the resin soluble in an org. solvent. The good developed image property of the positive image is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は湿し水不要感光性平版印刷版の製版方法に関す
るものであり、更に詳しくは、良好な現像可視画性を与
える湿し水不要感光性平版印刷版の製版方法に関する。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for making a photosensitive lithographic printing plate that does not require a dampening solution, and more specifically, a method for making a photosensitive lithographic printing plate that does not require a dampening solution and provides good developed visible image properties. This invention relates to a method for making a photosensitive lithographic printing plate.

[従来の技術] 従来、平版印刷においては、画線部の親油性と非画線部
の親水性を利用し、水とインキの微妙なバランスにより
印刷を行なう必要があり、かなりの熟練度が必要とされ
る。
[Prior art] Conventionally, in lithographic printing, it was necessary to perform printing by making use of the lipophilicity of the image area and the hydrophilicity of the non-image area, and by maintaining a delicate balance between water and ink, which required considerable skill. Needed.

すなわち従来の湿し水を必要とする印刷方式では親水性
の支持体上に親油性の感光層が塗設された版材に画像フ
ィルムを通して露光した後現像する事により画像状の親
油部分と非画線部である親水部分を設けて印刷版とする
。印刷にあたってはまず非画線部に水を転移させ次にイ
ンキを転移させる。インキは水が存在する非画線部には
(=I者ゼず、画線部のみに付着する。しかしこの方式
は、湿し水とインキの微妙なバランスのコン1〜ロール
が難しくインキの乳化をひきJ3こしたり、湿し水にイ
ンキがまざったりしてインキ濃度不良や地汚れをひきJ
5こし損紙の大きな原因となるなど大きな問題点を有し
ていた。
In other words, in the conventional printing method that requires dampening water, an image-like lipophilic portion is formed by passing an image film through a plate material coated with a lipophilic photosensitive layer on a hydrophilic support, and then developing it. A printing plate is prepared by providing a hydrophilic area which is a non-image area. During printing, water is first transferred to the non-image areas, and then ink is transferred. The ink does not adhere to the non-print areas where water is present, but only to the print areas. However, with this method, it is difficult to control the delicate balance between dampening water and ink. If you strain the emulsification or mix the ink with the dampening water, it will cause poor ink density and background stains.
This had major problems, such as being a major cause of wasted paper.

更に湿し水の被印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化
の原因となり特に多色刷り時には画像の鮮明さが損なわ
れるという欠点もあった、。
Furthermore, the transfer of dampening water to the printing material causes a change in the dimensions of the printing material, which also has the disadvantage that the sharpness of the image is impaired, especially when printing in multiple colors.

このため湿し水を必要としない平版印刷版(以下「水な
し平版」と称す)の開発が試みられておリ、例えば、特
公昭44−23042号及び同46−16044@には
、支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設(プた
構造の水なし平版が開示され、更に感光層が現像液で溶
解することにより上部のシリコーンゴム層が除去されて
画線部を形成する製版方法が記載されている。また、特
公昭54−26923@及び同56−23150号には
、支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設けた構
造という点では上記と同様であるが、感光層が現像液に
溶解せず、画像露光により感光層とシリコーンゴム層が
光接るあるいは光剥離をおこし、シリコーンゴム層のみ
を選択的に膨潤除去する方法が開示されている。
For this reason, attempts have been made to develop planographic printing plates that do not require dampening water (hereinafter referred to as "waterless planographic plates"). A waterless lithographic plate is disclosed in which a silicone rubber layer is provided on the upper photosensitive layer, and when the photosensitive layer is dissolved in a developer, the upper silicone rubber layer is removed to form an image area. A plate-making method is described in Japanese Patent Publications No. 54-26923@ and No. 56-23150, which are similar to the above in that a silicone rubber layer is provided on a photosensitive layer on a support. , a method is disclosed in which the photosensitive layer is not dissolved in a developer and the photosensitive layer and silicone rubber layer come into contact with light or undergo photoexfoliation by image exposure, and only the silicone rubber layer is selectively swelled and removed.

更に、特開昭49−68803号及び特開昭55−12
4148号各公報に明細感光性物質とシリコーンの混合
物が塗設された湿し水不要感光性平版印刷版が記載され
ている。
Furthermore, JP-A-49-68803 and JP-A-55-12
No. 4148 discloses a photosensitive lithographic printing plate coated with a mixture of a photosensitive material and silicone that does not require dampening water.

[発明が解決しようとする問題点] 一般に、平版印刷においては製版後印刷前に調子再現性
やカブリ等をチェックするために検版を行なう。このよ
うな検版は通常得られた正画像にて行なわれる。
[Problems to be Solved by the Invention] Generally, in planographic printing, plate inspection is performed to check tone reproducibility, fog, etc. after plate making and before printing. Such plate inspection is usually performed using the obtained original image.

しかしながら、前記の、特に特公昭44−23042号
等の湿し水不要感光性平版印刷版においては、その現像
可視画性は不十分であっl〔。
However, the above-mentioned photosensitive lithographic printing plates that do not require dampening water, especially those disclosed in Japanese Patent Publication No. 44-23042, have insufficient visible image development properties.

従って本発明の目的は、正画像の良好な現像可視画性を
得ることができる湿し水不要平版印刷版の製版方法を提
供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a method for making a lithographic printing plate that does not require dampening water and can obtain good developed visible image properties of a normal image.

[問題点を解決するための手段] 本発明者等は上記問題点に鑑みて、鋭意研究の結果、本
発明の上記目的は、表面がアニオン化処理された基板上
に少なくともジアゾ樹脂を含有づる感光層及びシリコー
ンゴム層を、該基板側からこの順に塗設した感光性平版
印刷版を現像時にあるいは現像後にアルカリ条件下でカ
ップラーを含有する液で処理して基板上のジアゾ樹脂と
カップリング反応させることを特徴とづ゛る湿し水不要
平版印刷版の製版方法を提供することにより)ヱ成され
ることを見出した。
[Means for Solving the Problems] In view of the above-mentioned problems, the present inventors have conducted extensive research and found that the above-mentioned object of the present invention is to provide a substrate containing at least a diazo resin on a substrate whose surface has been anionized. A photosensitive lithographic printing plate coated with a photosensitive layer and a silicone rubber layer in this order from the substrate side is treated with a solution containing a coupler under alkaline conditions during or after development to cause a coupling reaction with the diazo resin on the substrate. The inventors have discovered that the present invention can be achieved by providing a process for making a lithographic printing plate that does not require dampening water and is characterized by the following characteristics:

以下に本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明に使用される感光層はジアゾ樹脂を必須成分とし
て含むものである。
The photosensitive layer used in the present invention contains a diazo resin as an essential component.

上記ジアゾ樹脂としては、例えば、フォトグラフィック
・サイエンス・アンド・エンジニアリング(Pboto
、 Sci、 Eno、 )第17巻、第33頁(19
73) 、米国特許第2,063,631号、同第2,
679.498号、同第3.050.502号各明細書
、特開昭59−78340号公報等にその製造方法が記
載されているジアゾ化合物と活性カルボニル化合物(例
えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒドあるいはベン
ズアルデヒド等)とを、硫酸、リン酸、塩酸等の酸性媒
体中で縮合させて得られたジアゾ樹脂、特公昭119−
4001号公報にその製造方法が記載されているジアゾ
化合物とジフェニルエーテル誘導体とを縮合反応させて
得られるジアゾ樹脂等を使用することができる。
As the diazo resin, for example, Photographic Science and Engineering (Pboto
, Sci, Eno, ) Volume 17, Page 33 (19
73), U.S. Patent No. 2,063,631, U.S. Patent No. 2,
Diazo compounds and active carbonyl compounds (e.g. formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, etc.) whose production methods are described in the specifications of No. 679.498, No. 3.050.502, JP-A-59-78340, etc. Diazo resin obtained by condensation of
A diazo resin obtained by subjecting a diazo compound and a diphenyl ether derivative to a condensation reaction, the manufacturing method of which is described in Japanese Patent No. 4001, can be used.

本発明において使用されるジアゾ樹脂の対アニオンは、
該ジアゾ樹脂と安定な塩を形成し、且つ該樹脂を有機溶
媒に可溶となすアニオンを含む。
The counter anion of the diazo resin used in the present invention is
It contains an anion that forms a stable salt with the diazo resin and makes the resin soluble in organic solvents.

これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、
フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルボン酸を含み、
典型的な例としては、メタンスルボン酸、クロロエタン
スルボン酸、ドデカンスルフj\ン酸、ベンゼンスルボ
ン酸、1〜ルエンスルホン酸、メシヂ1ノンスルボン酸
及びアントラキノンスルボン酸、2−ヒドロキシ−4−
メ1〜キシベンゾフェノンー5−スルホン酸、ヒドロキ
ノンスルホン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジ
メチル−5−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳
香族スルホン酸、2.2’ 、4.4’ −テトラヒド
ロキシベンゾフェノン、1,2.:3−1−リヒドロキ
シベンゾフエノン、2.2’ 、4−トリヒドロギシベ
ンゾフエノン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフル
オロリン酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイ
ス酸、C/!、O−+、10.+等の過ハロゲン酸等が
挙げられるが、これに限られるものではない。β−ナフ
トールとのカンプリンゲイ本をゲルパーミェーションク
ロマ1〜グラフイー法(GPC)で測定した重量平均分
子聞は200〜10000 (スヂレン換算)の範囲が
好ましく、500〜5000の範囲がより好ましい。
These include organic carboxylic acids such as decanoic acid and benzoic acid;
Contains organic phosphoric acids such as phenyl phosphoric acid and sulfonic acids,
Typical examples include methanesulfonic acid, chloroethanesulfonic acid, dodecanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, 1-toluenesulfonic acid, mesidinonesulfonic acid and anthraquinonesulfonic acid, 2-hydroxy-4-
Aliphatic and aromatic sulfonic acids such as me-1-xybenzophenone-5-sulfonic acid, hydroquinonesulfonic acid, 4-acetylbenzenesulfonic acid, dimethyl-5-sulfoisophthalate, 2.2', 4.4'-tetra Hydroxybenzophenone, 1,2. : Hydroxyl group-containing aromatic compounds such as 3-1-lihydroxybenzophenone, 2.2', 4-trihydroxybenzophenone, halogenated Lewis acids such as hexafluorophosphoric acid and tetrafluoroboric acid, C/ ! , O-+, 10. Examples include perhalogen acids such as +, but are not limited thereto. The weight average molecular weight measured with β-naphthol by Gel Permeation Chroma 1 to Graphei method (GPC) is preferably in the range of 200 to 10,000 (in terms of styrene), and more preferably in the range of 500 to 5,000. preferable.

本発明における上記ジアゾ樹脂の感光層中に占める割合
は3〜60重量%が好ましく、更に5〜50重量%が好
ましい。
In the present invention, the proportion of the diazo resin in the photosensitive layer is preferably 3 to 60% by weight, more preferably 5 to 50% by weight.

また、本発明にお【プる感光層には水酸基含有ポリマー
を含むことができる。このような水酸基含有ポリマーと
してはアルコール性水酸基含有ポリ(メタ)アクリル酸
のエステル又はアミドが好ましく用いられる。
Further, the photosensitive layer according to the present invention can contain a hydroxyl group-containing polymer. As such a hydroxyl group-containing polymer, an alcoholic hydroxyl group-containing poly(meth)acrylic acid ester or amide is preferably used.

アルコール性水酸基を有するモノマーとしては、例えば
2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、N−(4−ヒドロキシエチルフェ
ニル)メタクリルアミド、ヒドロキシーメチルジアゼl
〜ン(メタ〉アクリルアミド等が挙げられる。
Examples of monomers having alcoholic hydroxyl groups include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, N-(4-hydroxyethylphenyl)methacrylamide, and hydroxymethyldiazel.
-(meth)acrylamide, etc.

上記水酸基含有モノマーと共重合可能なモノマーとして
は、 (1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、0−1m−1p
−ヒドロキシスチレン、0−1m−1p−ヒドロキシフ
ェニル−アクリレート又は−メタクリレート、 (2)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α、β−不飽和カルボン酸、 (3)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブヂル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2−ヒドロキシエチルアクリレート
、グリシジルアクリレ−1−1N−ジメチルアミノエチ
ルアクリレ−1〜等の(@換)アルキルアクリレート、 (I!I)メチルメタクリレ−1〜、エチルメタクリレ
−1〜、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレー
ト、アミルメタクリレ−1〜、シクロへキシルメタクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒ
ドロキシブチルメタクリレ−1・、グリシジルメタクリ
レート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレ−1〜等
の(置換)アルキルメタクリレート、 (5)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロ
ールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド
、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリル
アミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルア
ミド、N−二1−口フェニルアクリルアミド、N−エチ
ル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若
しくはメタクリルアミド類、 (6)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、 (7)ビニルアセテ−1〜、ビニルクロロアセテート、
ビニルブヂレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類、 (8)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(9)メチル
ビニルケ1〜ン、エチルビニルエーテル、プロピルビニ
ルケトン、フェニルビニルケ1−ン等のビニルケトン類
、 (10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
ェン、イソプレン等のオレフィン類、(11) N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリレートリル等、 等が挙げられる。
Monomers copolymerizable with the above hydroxyl group-containing monomers include (1) monomers having an aromatic hydroxyl group, such as N-(4
-Hydroxyphenyl)acrylamide, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, 0-1m-1p
-Hydroxystyrene, 0-1m-1p-hydroxyphenyl-acrylate or -methacrylate, (2) α, β-unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, (3) Methyl acrylate, acrylic acid Ethyl, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid-
(@-converted) alkyl acrylates such as 2-chloroethyl, 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate-1-1N-dimethylaminoethyl acrylate-1, (I!I) methyl methacrylate-1, ethyl methacrylate -1~, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate-1~, cyclohexyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate-1, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate-1 (Substituted) alkyl methacrylates such as (5) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-methylolmethacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, Acrylamides or methacrylamides such as N-phenylacrylamide, N-21-phenyl acrylamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, (6) ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl Vinyl ethers such as vinyl ether, octyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, (7) vinyl acetate-1~, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate; (8) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene; (9) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (10) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene, isoprene, (11) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylateril, etc. can be mentioned.

上記水酸基含有ポリマー中における水酸基含有モノマー
量は特に限定されないが、好ましくは5重量%〜95重
量%、特に好ましくは10重量%〜90重量%である。
The amount of the hydroxyl group-containing monomer in the hydroxyl group-containing polymer is not particularly limited, but is preferably 5% to 95% by weight, particularly preferably 10% to 90% by weight.

本発明の水M基含有ポリマーのGPC法で測定した重石
平均分子量は5000〜1000000  (スチレン
換算)が好ましい。5000より低い値だと露光後も感
光層の塗布溶剤あるいは現像液にやられる場合があり、
1000000より大きい値だと塗布溶剤の選択が難し
い。
The weight average molecular weight of the water M group-containing polymer of the present invention measured by GPC is preferably 5,000 to 1,000,000 (in terms of styrene). If the value is lower than 5000, it may be damaged by the coating solvent or developer of the photosensitive layer even after exposure.
If the value is larger than 1,000,000, it is difficult to select a coating solvent.

上記水酸基含有ポリマーの感光層中に占める割合は5〜
95重世%が好ましく、更に好ましくは10〜90重量
%である。
The proportion of the hydroxyl group-containing polymer in the photosensitive layer is 5 to 5.
It is preferably 95% by weight, more preferably 10 to 90% by weight.

ジアゾ樹脂と水酸基含有ポリマーの重量比率は、1/9
9〜90/10の範囲が好ましい。
The weight ratio of diazo resin and hydroxyl group-containing polymer is 1/9
The range of 9 to 90/10 is preferable.

また、本発明の感光層には、例えば、付加重合性ビニル
基を有する化合物等の光不溶化型感光性物質も併用して
含むこともできる。
Further, the photosensitive layer of the present invention may also contain a photoinsolubilizable photosensitive substance such as a compound having an addition polymerizable vinyl group.

付加重合性ビニル基を有する化合物としては、常圧下の
沸点が100℃以上で2vJA以上の重合可能な末端エ
チレン基を有する化合物、例えば、不飽和カルボン酸、
不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物とのエ
ステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化合
物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及
び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒド
ロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化
反応により得られるエステル等が挙げられ、具体的には
、特開昭59−71048号公報等に記載されている。
Compounds having an addition-polymerizable vinyl group include compounds having a polymerizable terminal ethylene group with a boiling point of 100° C. or higher and 2 vJA or higher under normal pressure, such as unsaturated carboxylic acids,
Esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydroxy compounds, esters of unsaturated carboxylic acids and aromatic polyhydroxy compounds, unsaturated carboxylic acids and polycarboxylic acids, and the aforementioned aliphatic polyhydroxy compounds, aromatic polyhydroxy Examples include esters obtained by an esterification reaction with a polyhydric hydroxy compound, and are specifically described in JP-A-59-71048 and the like.

また、本発明の感光層では、以上に説明した各素材の他
に必要に応じて更に染料や顔料あるいは露光可視画剤、
塗布性向上剤等を添加し、現像可視画性、露光可視画性
及び塗布性を向上させる事ができる。
In addition to the above-mentioned materials, the photosensitive layer of the present invention may also contain dyes, pigments, or exposure-visible agents, if necessary.
By adding a coating property improver or the like, it is possible to improve the developed visible image properties, the exposed visible image properties, and the coating properties.

上記染料としては、例えばビク1〜リアピコアープルー
BOH,オイルブルー#603、オイルピンク#312
、パチンミルピュアブルー、クリスタルバイオレット、
ロイコクリスタルバイオレッ1〜、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エリスロシ
ンB、ペイシックツクシン、マラカイトグリーン、ロイ
コマラカイ1〜グリーン、m−クレゾールパープル、ク
レゾールレッド、キシレノールブルー、ローダミンB1
オーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナ
フトキノン、シアノ−1)−ジエチルアミノフェニルア
セトアニリド等に代表される1−ジフェニルメタン系、
ジフェニルメタン系、オキリージン系、キザンテン系、
イミノナノ1〜キノン系、アゾメチン系またはアントラ
キノン系の色素が挙げられる。
Examples of the above-mentioned dyes include Bikku 1 to Rear Pico Blue BOH, Oil Blue #603, and Oil Pink #312.
, Pachinmil Pure Blue, Crystal Violet,
Leuco Crystal Violet 1~, Brilliant Green, Ethyl Violet, Methyl Green, Erythrosin B, Pesic Tsuksin, Malachite Green, Leuco Malachi 1~ Green, m-Cresol Purple, Cresol Red, Xylenol Blue, Rhodamine B1
1-diphenylmethane type typified by auramine, 4-p-diethylaminophenylimino naphthoquinone, cyano-1)-diethylaminophenylacetanilide, etc.
diphenylmethane series, ochrydine series, xanthene series,
Examples include imino nano-1 to quinone-based, azomethine-based, or anthraquinone-based dyes.

上記染料は、感光層中に通常的0.01〜約10重量%
、好ましくは約005〜8型温%含有さけl ることが好ましい。
The above dyes are generally present in the photosensitive layer in an amount of 0.01 to about 10% by weight.
, preferably about 0.05% to 8.0%.

塗布性向上剤としては、アルキルエーテル類(例えばエ
チルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活
性剤類や、ノニオン系界面活性剤(例えば、プルロニッ
クL−f)4 (加電化社製))FC−430(住友3
M製)等が挙げられる。
Examples of coating properties improvers include alkyl ethers (e.g., ethyl cellulose, methyl cellulose), fluorine-based surfactants, and nonionic surfactants (e.g., Pluronic L-f) (manufactured by Kadenka Co., Ltd.)) FC-430 ( sumitomo 3
(manufactured by M), etc.

また露光可視画剤としては、1〜リアジン化合物やオキ
サジアゾール化合物等が挙げられる。
Further, examples of the exposure-visible image agent include 1 to riazine compounds, oxadiazole compounds, and the like.

本発明においては感光層の膜厚は0.In+g/ (1
712〜30m(1/dv’が好ましく、0.5mO/
 di’ 〜10Ia+1/ dt’がより好ましい。
In the present invention, the thickness of the photosensitive layer is 0. In+g/ (1
712-30m (1/dv' is preferable, 0.5mO/
di' to 10Ia+1/dt' is more preferred.

本発明においては前記感光層上に更にシリコーンゴム層
が設けられるが該シリコーンゴム層に用いられるシリコ
ーンゴムとしては、線状あるいはある程度架橋したオル
ガノポリシロキサンが好ましい。該オルガノポリシロキ
サンは、分子量が通常子ないし数十刃のものであり、常
温では液体ないしはワックスまたは餅状に適度に架橋さ
れたものである。該オルガノポリシロキサンは架橋の方
法により綜合型と付加型に分けられる。
In the present invention, a silicone rubber layer is further provided on the photosensitive layer, and the silicone rubber used in the silicone rubber layer is preferably linear or crosslinked organopolysiloxane. The organopolysiloxane usually has a molecular weight of 10 to 100 yen, and is suitably crosslinked in the form of a liquid, wax, or cake at room temperature. The organopolysiloxanes are classified into integrated type and addition type depending on the crosslinking method.

ユ2 綜合型は綜合反応によって架橋が行なわれるもので反応
によって水、アルコール、有機酸などが放出される。特
に有用な綜合型のシリコーンゴムとしては、両末端ある
いは主鎖の1部に水酸基を有する線状オルガノポリシロ
キサンとシリコーン架橋剤の混合物が、水酸基にシリコ
ーン架橋剤を反応させたものが挙げられ、いずれも縮合
触媒を加えた方が架橋速度の点で有利である。
U2 The integrated type is one in which crosslinking is performed by an integrated reaction, and water, alcohol, organic acids, etc. are released by the reaction. Particularly useful integrated silicone rubbers include those prepared by reacting a silicone crosslinking agent with a linear organopolysiloxane having hydroxyl groups at both ends or a part of the main chain, and reacting the hydroxyl groups with the silicone crosslinking agent. In either case, adding a condensation catalyst is advantageous in terms of crosslinking speed.

上記オルガノポリシロキサンは主鎖に下記の繰り返し単
位を有する。
The organopolysiloxane has the following repeating units in its main chain.

→S: −O← 式中、R1及びR2は各々シアノ基、ハロゲン原子、水
酸基等の置換基を有していてもよいアルキル、アリール
、アルケニルまたはその組み合ねせでありメチル基、フ
ェニル基、ビニル基、トリフルオロプロピル基が好まし
く、特にメグール基も好ましい。
→S: -O← In the formula, R1 and R2 are alkyl, aryl, alkenyl, or a combination thereof, each of which may have a substituent such as a cyano group, a halogen atom, or a hydroxyl group, and a methyl group or a phenyl group. , a vinyl group, and a trifluoropropyl group are preferable, and a megul group is also particularly preferable.

上記シリコーン架橋剤としては、 または−〇H(式中、RとR′はアルキル基である)で
表わされる官能基を持つ、いわゆる脱酢酸型、脱オキシ
ム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱水型などの縮合
型シリコーン架橋剤が挙げられる。このような架橋剤の
例としては、テトラアセトキシシラン、メチルトリアセ
トキシシラン、エチルトリアゼトキシシラン、フェニル
トリアセ1〜キシシラン、ジメチルジアセトキシシラン
、ジエチルジアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシ
シラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、メチルトリス(
アセトンオキシム)シラン、メチルトリ(N−メチル、
N−アセチルアミノ)シラン、ビニルl〜す(メチルエ
チルケトオキシム)シラン、メチルトリ(メチルエチル
ケトオキシム)シランまたはそのオリゴマーなどを挙げ
ることができる。
The above-mentioned silicone crosslinking agents include so-called acetic acid-removal type, oxime-removal type, alcohol-removal type, deamine-removal type, which have a functional group represented by -〇H (in the formula, R and R' are alkyl groups); Examples include condensation type silicone crosslinking agents such as dehydrated type. Examples of such crosslinkers include tetraacetoxysilane, methyltriacetoxysilane, ethyltriazetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, diethyldiacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, Silane, dimethyldimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, methyltris(
acetone oxime) silane, methyltri(N-methyl,
Examples include N-acetylamino)silane, vinyl l-su(methylethylketoxime)silane, methyltri(methylethylketoxime)silane, and oligomers thereof.

これらの架橋剤はいずれもオルガノポリシロキサン10
0重量部に対して05〜30重量部の範囲とするのがよ
い。
All of these crosslinking agents are organopolysiloxane 10
It is preferable that the amount is in the range of 05 to 30 parts by weight relative to 0 parts by weight.

前記縮合触媒としては、有機のカルボン酸、チタン酸エ
ステル、ナフテン酸等があげられる。
Examples of the condensation catalyst include organic carboxylic acids, titanate esters, naphthenic acids, and the like.

付加型とは、本体中の不飽和基、例えばビニル基(−C
H=CH2)に架橋剤中の水酸基がイ」加して架橋する
ようなものを言う。
The addition type refers to an unsaturated group in the main body, such as a vinyl group (-C
It refers to something that is crosslinked by adding a hydroxyl group in a crosslinking agent to H=CH2).

具体的にはビニル基含有Aルガノボリシロキサン、水素
化オルガノポリシロキサン等に白金系触媒く例えば塩化
白金!!i)等を混合させたちのが挙げられる。
Specifically, platinum-based catalysts such as vinyl group-containing A luganoborisiloxane, hydrogenated organopolysiloxane, etc., such as platinum chloride! ! One example is a mixture of i), etc.

該オルガノポリシロキサンは主鎖に前記縮合型と同様の
繰り返し単位を有する。
The organopolysiloxane has repeating units similar to those of the condensed type in the main chain.

本発明のシリコーンゴム層には、縮合型及び付加型シリ
コーンゴムのいずれかあるいは両方用いる事が可11シ
である。
In the silicone rubber layer of the present invention, either or both of a condensation type silicone rubber and an addition type silicone rubber can be used.

また1つのオルガノポリシロキサンの中に水酸基、不飽
和基等を有する縮合かつ付加型のものを使用する事も可
能である。
It is also possible to use condensed and addition type organopolysiloxanes having hydroxyl groups, unsaturated groups, etc. in one organopolysiloxane.

本発明に係るシリコーンゴムとして入手しうる市販品の
内、好ましい例としては、信越■製KS−705F、 
KE−41,42,44、東芝シリコーン(製) Y 
E 5505.Y F 3057、東しシリコーン(製
)SH−781、PRX−305、5t−1−2,37
等の縮合型シリコーンゴム及び信越■製KS−837,
,KE−103、KE−106、KE−1300、東芝
シリコーン(pIA)TSE−3032,RTU−B、
東しシリコーン(製)SH−9555等の付加型シリコ
ーンゴムがあげられる。
Among the commercial products available as the silicone rubber according to the present invention, preferred examples include KS-705F manufactured by Shin-Etsu,
KE-41, 42, 44, Toshiba Silicone (manufactured) Y
E 5505. Y F 3057, Toshi Silicone (manufactured by) SH-781, PRX-305, 5t-1-2,37
Condensation type silicone rubber such as KS-837 manufactured by Shin-Etsu,
, KE-103, KE-106, KE-1300, Toshiba Silicone (pIA) TSE-3032, RTU-B,
Examples include additive silicone rubber such as SH-9555 manufactured by Toshi Silicone Co., Ltd.

また、シリコーンゴムの強度を向上させる目的で、シリ
カ、酸化チタン、酸化アルミニウムなどの無機質充填剤
を添加しても良く、特にシリカは好ましく用いられる。
Furthermore, for the purpose of improving the strength of silicone rubber, inorganic fillers such as silica, titanium oxide, and aluminum oxide may be added, and silica is particularly preferably used.

このような充填剤としては分散性あるいは分散安定性の
点から平均粒子径500μm以下のものが好ましい。
From the viewpoint of dispersibility or dispersion stability, such fillers preferably have an average particle diameter of 500 μm or less.

本発明においてシリコーンゴム層の膜厚は、画質及び現
像性の点からは薄い程好ましく、耐刷性、印刷汚れ等の
点からは逆にある程度の厚さを必要とするため、一般に
は3 mu/ di2〜50 mg/ dm’が好まし
く、5 mg/ di’ 〜30 m(1/ (In’
がより好ましい。
In the present invention, the thickness of the silicone rubber layer is preferably as thin as possible from the point of view of image quality and developability, but on the other hand, a certain thickness is required from the point of view of printing durability, printing stains, etc., so generally 3 mu /di2 to 50 mg/dm' is preferable, and 5 mg/di' to 30 m(1/(In'
is more preferable.

尚、本発明においては感光層とシリコーン層との間にエ
ポキシ樹脂等から成る接着層を設けても良く、接着層に
は種々の反応性架橋剤、シランカップリング剤等を含む
こともでき、また接着層の膜厚としては0. img/
 d12〜5 mo/ dn’が好ましい。
In the present invention, an adhesive layer made of epoxy resin or the like may be provided between the photosensitive layer and the silicone layer, and the adhesive layer may contain various reactive crosslinking agents, silane coupling agents, etc. The thickness of the adhesive layer is 0. img/
d12-5 mo/dn' is preferred.

更に本発明にお(プる水なし平版はシリコーンゴム層の
上に保護層を設けても良く、該保護層を設ける方法とし
て特公昭61−614号に記載のポリプロピレンフィル
ム等をラミネー1〜する方法や特開昭61−27547
1号に記載の高分子重合体を塗布する方法等が知られて
いる。
Furthermore, in the present invention, a protective layer may be provided on the silicone rubber layer in the waterless lithographic plate, and a method for providing the protective layer is to laminate a polypropylene film or the like described in Japanese Patent Publication No. 61-614. Method and Japanese Unexamined Patent Publication No. 61-27547
The method of applying the high molecular weight polymer described in No. 1 is known.

本発明において用いられる基板は、アニオン化処理され
た基板である。
The substrate used in the present invention is an anionized substrate.

このような基板としては、アルミニウム板、又は、アル
ミニウム箔等が好ましく、耐刷性の点か1、Q ら、アルミニウム板が特に好ましい。
As such a substrate, an aluminum plate or an aluminum foil is preferable, and an aluminum plate is particularly preferable from the viewpoint of printing durability.

本発明においては、アルミニウム板、又はアルミニウム
箔の表面を、必要に応じ砂目立てし、陽極酸化処理しl
c後アニオン化処理する。その際、アニオン化処理は、
例えば、濃度0.1〜10%のケイ酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、リン酸等のアニオン化処理剤の水溶液に
、温度30〜95℃で1秒〜2分間浸漬して行なわれ、
好ましくは、その後に40〜95℃の水に10秒〜2分
間浸漬して処理される。かかるアニオン化処理により、
前記感光層中のジアゾ樹脂と基板との接着性がよくなる
In the present invention, the surface of the aluminum plate or aluminum foil is grained and anodized if necessary.
After c, anionization treatment is performed. At that time, the anionization process is
For example, it is carried out by immersion in an aqueous solution of an anionizing treatment agent such as sodium silicate, sodium phosphate, phosphoric acid, etc. with a concentration of 0.1 to 10% at a temperature of 30 to 95 ° C. for 1 second to 2 minutes.
Preferably, it is then treated by immersing it in water at a temperature of 40 to 95°C for 10 seconds to 2 minutes. Through such anionization treatment,
Adhesion between the diazo resin in the photosensitive layer and the substrate is improved.

本発明においては、上記の如く作製した感光性平版印刷
版を像様露光した後、通常の方法で現像液で現像して未
露光部の感光層を溶解し、その上のシリコーンゴム層と
共に除去することによって基板が画像部として露出し、
水なし平版が形成される。その際、画像部の基板上には
少量のジアゾ樹脂が残存する。
In the present invention, after the photosensitive lithographic printing plate prepared as described above is imagewise exposed, it is developed with a developer using a conventional method to dissolve the photosensitive layer in the unexposed area and removed together with the silicone rubber layer thereon. By doing so, the board is exposed as an image area,
A waterless lithography is formed. At this time, a small amount of diazo resin remains on the substrate in the image area.

そこで、本発明においては、アルカリ条件下でカップラ
ーを含有する液で処理して、該カップラーと基板上の残
存ジアゾ樹脂とをカップリング反応さゼ画像部を染色し
て可視画像を得る。カップラーと残存ジアゾ樹脂とのカ
ップリング反応は現像時に行なってもよいし、現像後に
行なってもよい。
Therefore, in the present invention, the substrate is treated with a solution containing a coupler under alkaline conditions to cause a coupling reaction between the coupler and the remaining diazo resin on the substrate, and the image area is dyed to obtain a visible image. The coupling reaction between the coupler and the remaining diazo resin may be carried out during or after development.

上記カップラーとしては(a)フェノール性水酸基を有
するフェノール類又はナノ1〜−ル類、 (b)芳香族
アミン、(C)アセトアセ1〜アニリドなどのエノール
化可能なケト基を有する脂肪族化合物、(d)5−ピラ
ゾロン、ピロールなとの複素環式化合物等が用いられ、
好ましくは(a)フェノール性水酸基を有するフェノー
ル類またはナフトール類ないしは (b)芳香族アミン
が用いられる。このようなカップラーは水、エタノール
、ジオキサン、アセトン等の溶媒に溶解され、0.1〜
20重里%溶液として使用されることが好ましい。
The above-mentioned couplers include (a) phenols or nano-ols having a phenolic hydroxyl group, (b) aromatic amines, (C) aliphatic compounds having an enolizable keto group such as acetoacetanilide, (d) Heterocyclic compounds such as 5-pyrazolone and pyrrole are used,
Preferably, (a) phenols or naphthols having a phenolic hydroxyl group or (b) aromatic amines are used. Such couplers are dissolved in a solvent such as water, ethanol, dioxane, acetone, etc.
Preferably, it is used as a 20% solution.

上記カップラーのジアゾ樹脂とのカップリング反応はア
ルカリ条件下で行なわれるが、好ましくはpH値が7〜
13の条件下で行なう。
The coupling reaction of the above coupler with the diazo resin is carried out under alkaline conditions, preferably at a pH value of 7 to 7.
The test was carried out under 13 conditions.

上記カップラー含有液による処理は通常カップラー含有
液に版を浸漬したり、版面にカップラー含有液を注いだ
後又はカップラー含有液を含んだ布、ブラシ等でこする
ことにより行なう。
The treatment with the coupler-containing solution is usually carried out by immersing the plate in the coupler-containing solution, by pouring the coupler-containing solution onto the plate surface, or by rubbing it with a cloth, brush, etc. containing the coupler-containing solution.

露光に用いられる光源としては、180nm以上の紫外
線、可視光線を含む汎用の光源ならばどのようなもので
も良いが、特にカーボンアーク灯、水銀灯、キセノンラ
ンプ、メタルハライドランプ、ストロボ等がよい。
As the light source used for exposure, any general-purpose light source including ultraviolet rays of 180 nm or more and visible light may be used, but carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, etc. are particularly preferred.

現像処理に用いられる現像液としては、水に下記の極性
溶媒、アミン類等のアルカリ化合物、界面活性剤、更に
必要に応じて脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
″′アイソパーE1日、G″(エッソ化学製脂肪族炭化
水素類の商品名)あるいはガソリン、灯油など)、芳香
族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)あるいはハロ
ゲン化炭化水素類(トリクレンなど)を添加したものが
好適である。
The developer used in the development process includes water, the following polar solvents, alkaline compounds such as amines, surfactants, and, if necessary, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, etc.).
``Isopar E1, G'' (trade name of aliphatic hydrocarbons manufactured by Esso Chemical) or gasoline, kerosene, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), or halogenated hydrocarbons (triclene, etc.). Those added are suitable.

極性溶媒 アルコール類(メタノール、エタノール、水など) エーテル類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルピトール、エチルカルピト
ール キサンなど) ケトン類(アセトン、メチルエチルケトンなど)エステ
ル類(酢酸エチル、メチルセロソルブアセテート、セロ
ソルブアセテート、カルピトールアセテートなど) 現像は、例えば上記のような現像液を含む現像用パッド
でこすったり、現像液を版面に注いだ後に現像ブラシで
こするなど、公知の種々の方法で行なうことができる。
Polar solvent alcohols (methanol, ethanol, water, etc.) Ethers (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carpitol, ethyl carpitol xane, etc.) Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, etc.) Esters (ethyl acetate, methyl cellosolve acetate) , cellosolve acetate, carpitol acetate, etc.) Development can be carried out by various known methods, such as rubbing with a developing pad containing a developer as described above, or rubbing with a developing brush after pouring a developer onto the printing plate. be able to.

[実施例コ 以下本発明を実施例により更に詳述するが本発明は実施
例に限定されるものではない。
[Example] The present invention will be explained in more detail with reference to Examples below, but the present invention is not limited to the Examples.

(ジアゾ樹脂−1の合成) p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩145gを水冷下で
409gの濃硫酸に溶解した。この反応液に10gのバ
ラホルムアルデヒドを反応温度が10つつ ℃を越えないJ:うにゆっくり滴下した。その後、2時
間水冷下にて撹拌を続(プた。この反応混合物を氷冷下
、500vQのエタノールに滴下し、生じた沈澱を濾過
した。エタノールで洗浄後、この沈澱物を1oovlの
純水に溶解し、この液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した
冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈澱を濾過した後、エタ
ノールで洗浄し、これを150dの純水に溶解した。こ
の液に、8gのへキサフルオロリン酸アンモニウムを溶
解した冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈澱を濾取し水洗
した後、30℃で一昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た
(Synthesis of Diazo Resin-1) 145 g of p-diazodiphenylamine sulfate was dissolved in 409 g of concentrated sulfuric acid under water cooling. To this reaction solution, 10 g of rose formaldehyde was slowly added dropwise so that the reaction temperature did not exceed 10°C. Thereafter, stirring was continued under water cooling for 2 hours. The reaction mixture was added dropwise to 500 vQ of ethanol under ice cooling, and the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol, the precipitate was washed with 100 ml of pure water. A cold concentrated aqueous solution containing 6.8 g of zinc chloride was added to this solution.The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and dissolved in 150 d of pure water.To this solution, A cold concentrated aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved was added.The resulting precipitate was collected by filtration, washed with water, and then dried at 30°C overnight to obtain diazo resin-1.

β−ナフトールとのカップリング物をGPC法で測定し
たスチレン換算の重量平均分子m (MW )は150
0、数平均分子■は500であった。
The weight average molecule m (MW) in terms of styrene measured by GPC method of the coupled product with β-naphthol is 150
0, and the number average molecular weight was 500.

(ポリマー1の合成) N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド49
.6Q 、アクリロニトリル36.IQ 、メタクリル
酸メチル172Qを蒸留アセトン190舖、蒸留メタノ
ール190112に溶解させ(1〜−タルモノマー濃度
:5.3モル/i)、アゾビスイソブチロニトリル12
(+を投入しく37モル%)、窒素気流中、還流状態で
8時間重合反応を行った。反応終了後、水に落として分
離して、168gの白色状樹脂(ポリマー1)を得た。
(Synthesis of Polymer 1) N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide 49
.. 6Q, acrylonitrile 36. IQ, methyl methacrylate 172Q was dissolved in distilled acetone 190 or distilled methanol 190112 (1--tal monomer concentration: 5.3 mol/i), azobisisobutyronitrile 12
The polymerization reaction was carried out under reflux in a nitrogen stream for 8 hours (37 mol % by adding +). After the reaction was completed, the mixture was poured into water and separated to obtain 168 g of a white resin (Polymer 1).

GPC法による測定値を以下に示ず。Measured values by GPC method are not shown below.

MW :  2.4X 10′1.分散比=2.1実施
例−1 脱脂洗浄したアルミニウム板を3重量%塩酸水溶液中、
25℃、電流密度3A/du’の条件で5分間電解エツ
チングにより砂目立てを行ない、次いで09重(5)%
水酸化ナトリウム水溶液でデスマツ1へ処理し、水洗し
た後、/10重量%硫酸水溶液中、30℃、  1.5
A/ di’の条件で2分間陽極酸化処理を行ない水洗
した。更に1重量%ケイ酸ソーダ水溶液にて85℃の条
件で25秒間ケイ酸ソーダ処理を行なった後、水洗を行
ない基板−1を得た。
MW: 2.4X 10'1. Dispersion ratio = 2.1 Example-1 A degreased and washed aluminum plate was placed in a 3% by weight aqueous hydrochloric acid solution.
Graining was carried out by electrolytic etching for 5 minutes at 25°C and a current density of 3 A/du', and then 09 weight (5)%
After treating Despine 1 with an aqueous sodium hydroxide solution and washing with water, it was treated with a 10% by weight sulfuric acid aqueous solution at 30°C, 1.5
Anodic oxidation treatment was performed for 2 minutes under the conditions of A/di' and washed with water. Further, the substrate was treated with sodium silicate using a 1% by weight aqueous sodium silicate solution at 85° C. for 25 seconds, and then washed with water to obtain Substrate-1.

得られた基板−1に下記感光性組成物をホワラーにより
55℃で塗布し、85℃で3分間乾燥させて感光層を設
けた。乾燥膜厚は31H/ di’であった。
The following photosensitive composition was coated on the obtained substrate-1 at 55°C using a whirler, and dried at 85°C for 3 minutes to provide a photosensitive layer. The dry film thickness was 31H/di'.

感光性組成物 ポリマー−1100部 ジアゾ樹脂−120部 メチルセロソルブ         1000部エチル
セロソルブ         1000部上記感光層上
に、下記シリコーンゴム組成物を乾燥重量で20 mo
/ di2になるよう55℃でホワラー塗布し乾燥して
シリコーンゴム層を設りた。
Photosensitive composition Polymer - 1100 parts Diazo resin - 120 parts Methyl cellosolve 1000 parts Ethyl cellosolve 1000 parts The following silicone rubber composition was placed on the above photosensitive layer at a dry weight of 20 mo
/di2 at 55°C and dried to form a silicone rubber layer.

シリコーンゴム層 東しシリコーン製S H−237100部メチルトリス
(メチルエチルケト オキシム)シラン           4部ジブチル
錫ジアセテート        1部得られた印刷原板
にポジフィルムを重ね3KW超高圧水銀灯で100mJ
 / (12露光した後、下記の現像液に1分間浸漬し
、現像バットでこすり、未露光部の感光層とシリコーン
ゴムを除去した。
Silicone rubber layer made of silicone S H-237 100 parts Methyl tris (methyl ethyl ketoxime) silane 4 parts Dibutyltin diacetate 1 part A positive film was placed on the obtained printing original plate and heated at 100 mJ with a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp.
/ (After 12 exposures, it was immersed in the following developer for 1 minute and rubbed with a development bat to remove the photosensitive layer and silicone rubber in the unexposed areas.

1像1 フェニルセロソルブ         10部どq ジェタノールアミン          4部パイオニ
ンA−44B(竹本油脂■製)  6部水      
                     80部こ
の版を下記染色液−1に浸漬したところ、ポジの着色画
像が得られた。
1 image 1 phenyl cellosolve 10 parts Jetanolamine 4 parts Pionin A-44B (manufactured by Takemoto Yushi) 6 parts water
When 80 copies of this plate were immersed in the following stain solution 1, a positive colored image was obtained.

染色液−1 β−ナフトール            5部Na O
H5部 よ                 9部部実施例−
2 実施例−1で作製された版を下記に示したカップラーを
それぞれ含有する下記染色液−2及び−3に浸漬し各々
ポジの着色画像を得た。
Staining solution-1 β-naphthol 5 parts Na O
H5 part 9 part example-
2 The plate prepared in Example-1 was immersed in the following staining solutions -2 and -3 containing the couplers shown below, respectively, to obtain positive colored images.

染色液−2及び−3 カップラー              5部1刈a○
1」5部 水                        
    90部カンブラー (共に大束化学(株)製) 実施例−3 実施例−1で用いた基板を更に40%Ha PO4水溶
液に50℃で30秒浸漬して得られた板を用いた以外は
実施例−1と同様にして版を作製し、同様に染色したと
ころ着色濃度の高いポジ画像が得られた。
Dyeing liquid-2 and -3 coupler 5 parts 1 cut a○
1" 5 parts water
90 parts Cumbler (both manufactured by Ohtsuka Kagaku Co., Ltd.) Example-3 The same procedure was carried out except that a board obtained by further immersing the substrate used in Example-1 in a 40% Ha PO4 aqueous solution at 50°C for 30 seconds was used. A plate was prepared in the same manner as in Example 1, and when dyed in the same manner, a positive image with high color density was obtained.

実施例−4 実施例−1で得られた現像後の版を下記染色液4又は5
に浸漬したところ、全て着色濃度の高いポジ画像が得ら
れた。
Example-4 The developed plate obtained in Example-1 was dyed with the following stain solution 4 or 5.
When immersed in water, positive images with high color density were obtained in all cases.

染色液−4,5 カップラー              5部Na O
H5部 水                        
     90部5−ピラゾロン (染色液−5) [発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の製版方法により、
良好な現像可視画性を有する湿し水不要平版印刷版を得
ることができる。
Staining solution-4,5 Coupler 5 parts NaO
H5 part water
90 parts 5-pyrazolone (staining solution-5) [Effects of the invention] As explained in detail above, by the plate-making method of the present invention,
A lithographic printing plate that does not require dampening water and has good developing and visible image properties can be obtained.

特許出願人 三菱化成株式会社(他1名)?8Patent applicant Mitsubishi Kasei Corporation (1 other person)? 8

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 表面がアニオン化処理された基板上に少なくともジアゾ
樹脂を含有する感光層及びシリコーンゴム層を、該基板
側からこの順に塗設した感光性平版印刷版を現像時にあ
るいは現像後にアルカリ条件下でカップラーを含有する
液で処理して基板上のジアゾ樹脂とカップリング反応さ
せることを特徴とする湿し水不要平版印刷版の製版方法
A photosensitive lithographic printing plate, in which a photosensitive layer containing at least a diazo resin and a silicone rubber layer are coated in this order from the substrate side on a substrate whose surface has been anionized, is coated with a coupler under alkaline conditions during or after development. A method for making a lithographic printing plate that does not require dampening water, characterized in that it is treated with a solution containing a solution to cause a coupling reaction with a diazo resin on a substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS62157037A (en) * 1985-12-20 1987-07-13 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Photosensitve printing plate for anhydrous offset printing

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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