JPH02290523A - 圧力検出装置 - Google Patents

圧力検出装置

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Publication number
JPH02290523A
JPH02290523A JP2021725A JP2172590A JPH02290523A JP H02290523 A JPH02290523 A JP H02290523A JP 2021725 A JP2021725 A JP 2021725A JP 2172590 A JP2172590 A JP 2172590A JP H02290523 A JPH02290523 A JP H02290523A
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JP
Japan
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diaphragm
ripple
ripples
pressure detection
spiral
Prior art date
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Pending
Application number
JP2021725A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshinori Shimada
敏則 島田
Shinichi Oogashi
大樫 真一
Shigeaki Motokawa
本川 恵昭
Teruo Watanabe
照夫 渡辺
Kihachi Onishi
喜八 大西
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tatsuta Electric Wire and Cable Co Ltd
Original Assignee
Tatsuta Electric Wire and Cable Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ダイヤフラムでもって被圧力検出流体の圧力
変動を検出して、所要量の変動を検出する圧力検出装置
に関するものである。
〔従来の技術及びその課題〕
この種の圧力検出装置は、第1図、第2図を参照して説
明すると、ケーシング1内に、ダイヤフラムDで区画さ
れた圧力検出室3を形成し、この圧力検出室3の一方3
aに被圧力検出流体aを導入するとともに、他方に前記
ダイヤフラムDの所要量の撓みで作動するスイッチ4を
設けたものが一般的である。
この圧力検出装置において、検出精度を高めるためには
、ダイヤフラムDの撓みの立上り特性が鋭いことが重要
な要素である。このため、従来では、第12図に示すよ
うに、ダイヤフラムDtの断面形状を、素材板の中心円
形10の周りに同心円状の波紋Pを呈する波形として、
前記撓み特性及び立上り特性を高めたものがある(図中
の波紋Pは谷部の軌跡を示す、第4図参照、以下、同様
)。
しかしながら、このダイヤフラムDzは、周辺固定部は
ろう付け等で固定されるので剛性が大きくなり、一方、
中心部も曲率半径が小さいので剛性が大となる.従って
、周辺部と中心部の撓みが小さく、その中間部に、撓み
が集中して素材板が金属の場合、金属疲労によって座屈
あるいはクラックが生ずる他、長期間の使用の内に特性
、特に復元力が変化する等の問題がある。復元力が変化
すれば、前記撓み・立上り特性が変化して圧力の検出値
等が変化する。
そこで、上記ダイヤフラムD2の問題解決策として、実
公昭40−33688号公報に開示され、第11図に示
すように、前記波紋Pを、素材板の中心円形100周り
にその2点対称位置から渦巻き状としたものが使用され
ている。
しかしながら、波紋Pは各谷部又は各山部が同一レベル
、すなわち中心円形10に向って傾斜していないフラッ
ト状となっているため、撓み度合(変位)も小さく、押
圧力に対する変位曲線が緩勾配となる。緩勾配の変位曲
線のものは、急激に圧力変化する流体の検出にはさほど
支障はないが、緩やかなものの場合、撓み変化が少なく
、精度的に問題が生じる。
本発明は、上記に鑑み、変位曲線を急勾配とすることを
課題とする。すなわち、撓み易くすることを課題とする
〔諜題を解決するための手段〕
上記課題を解決するために、本発明にあっては、前記の
従来周知の圧力検出装置において、そのダイヤフラムを
、素材板中心円形の周りに、その周り任意の点から、渦
巻き波紋を呈する波形断面とし、その渦巻き波紋は前記
中心円形に向って傾斜してなるものとしたのである。
上記波紋数は奇数が好ましく、その際、前記中心円形の
周り均等分位からスタートさせ、波紋の山部及び谷部は
連続曲面とするとよい。
また、上記素材板中心円形の周りに隣接して同心円形波
紋を形成すると共に、この同心円形波紋と同心でかつ所
定間隔をあけて外側円形波紋を形成し、両円形波紋間に
、上記渦巻き波紋を形成してもよい. この場合、上記渦巻き波紋の始終端を、上記同心円形波
紋又は外側円形波紋に合流させるとよい。
上記所定間隔は、ダイヤフラムの大きさ等を考慮して適
宜に決定する. 上記渦巻き波紋の傾斜度、すなわち、第4図における傾
斜高さhと径方向の長さlの比(h#)はl/5以下と
するとよい.好ましくは1/6以下とする.l/5以上
となると、プレス成形の際、現在の技術では、その成形
圧が、外向きの斜面と内向きの斜面とで大きく異なって
製造が不可能となるからである. 〔作用〕 上記の如く構成する本発明に係る圧力検出装置のダイヤ
フラムにあっては、その渦巻き波紋が中心円形に向って
傾斜しているので、剛性が低下して撓み易くなっており
、圧力変位曲線が急勾配のものとなる. したがって、被圧力検出流体の圧力上昇につれてダイヤ
フラムが円滑に撓み、その撓み量が所要値に達すると、
スイッチが作動して、被圧力検出流体の所要圧力上昇を
検出する. なお、波紋数を奇数とすれば、第11図において、a,
b部分のように、反対側のみならず、隣接部分(例えば
同図において、aに対しC部分)間の波紋曲率も近づき
、ダイヤフラムの剛性がより均一化される。
波紋の山部及び谷部を連続曲面とすれば、撓み作用が円
滑となる。
また、同心円形波紋及び外側円形波紋を設けたものは、
波紋のプレス成形時、中心部に生しる盛り上り状の歪は
同心円形波紋に吸収分敗され、外周囲に生じる皺状の歪
は外側円形波紋に吸収分散される.この吸収分散は、渦
巻き波紋の始終端を両円形波紋に合流させれば、より効
果が増す。
〔実施例〕
第1図、第2図に示すように、ケーシング1は、3部材
la,1b、1cとから成り、部材1a、1b間に圧力
検出室3が形成されている。両部材1a、1b間にはダ
イヤフラムDがパノキング2を介して介設されており、
このダイヤフラムDにより圧力検出室3が2室3a、3
bに区画されている.一方の検出室3aには、圧力導入
口5から被圧力検出流体aが導びかれ、この圧力変化に
基づきダイヤフラムDが撓む.両部材1a、1bの接合
面全周は、シーリング6により密封化されている。
ケーシング1のもう1つの部材1cは、ビス7により部
材1bに固着され、この部材1c内にスイソチ4が構成
されている。スイソチ4は、接点4a、そのレバー4b
、作動ラム40等から成る。
作動ラム4cは部材1bを貫通して、その上端がダイヤ
フラムDに接離可能となっており、下端がレバー4bに
当接している。レバー4bは、支杆4dにより揺動自在
に支持されており、その下面に部材1cをねじ通した作
動圧力調整子8がばね9を介して当接している。この調
整子8のねじ込み量を調整することにより、レバー4b
及び作動ラム4cの位置が決定され、この調整によって
、後述のダイヤフラムDの撓みにおける立上り特性のよ
い時、ダイヤフラムDが作動ラム4cを押して接点4a
を作動(オン又はオフ)するようにする。
つぎに、ダイヤフラムDについて説明する。
このダイヤフラムDは第3図に示すように、渦巻き波紋
Pを中心円形10周方向均等分位3個所から形成したも
のであり、まず、同図に示すように、中心円形10の周
りに三等分位から互に隣接させて渦巻き波紋Pを形成し
、第4図に示す波の高さ;t、ダイヤフラムDの外周と
中心の高低差;T1ダイヤフラムDの曲率:P1波紋P
の谷部曲率;r、同山部曲率:r′をそれぞれ所定値と
した.この各値は、ダイヤフラムDの使用箇所、材質等
を考慮して、実験等により適宜に選定する.中心円形1
0の部分も、第4図11 &ffのごとくわん曲させれ
ば、波紋Pとの境がなめらかとなる.上記ダイヤフラム
Dの製造は、その前記諸元(形状)に基づいて設計され
た金型によりプレス成形されて打抜かれる。金型は、放
電加工によって基本的に制作され、調整の上使用される
上記金型製造のための放電加工用電極Sの製作は、例え
ば、三次元数値制御可能なフライス盤にダイヤフラムD
の諸元を入力し、そのエンドミルにより、電極素材板の
表面に第5図に示す波紋Pを呈する凹凸を形成して製作
する。
このようにして得た電極Sに、第6図のごとくボス13
を介して電極取付け棒14を立設し、その電極Sを放電
加工機に装着し金型Wを制作する。
金型Wは雄型と雌型を必要とするが、上記放電加工によ
り得られる金型Wを2個形成し、この一方を逆に電極と
して前記の放電加工をすることにより、その加工品及び
残りの前記金型Wにより雄、雌両型が得られる。
上記製造手段によって、下記表1に示す諸元(L,T等
)の試作例1、2を製作した。なお、全てステンレス箔
(フープ)を使用し、その厚さ:0.015 mm,曲
率R : 100 wa、その曲率中心は内側、すなわ
ち傾斜は外向き凸面とし、ダイヤフラムDの仕上り外径
:25.4aIII1は各例同しである。
なお、波紋Pの巻回数は波紋Pの幅(谷間隔d)によっ
て決定されるが、試作例は2回であった。
表    1 BA:光輝軟化材、′八11 :4分の3軟化材、この
ようにして、製作したダイヤフラムDを、第1図、第2
図のごとくケーシング1に装着し、検出室3aに被圧力
検出流体aを導いた際のダイヤフラムDの圧力変位測定
結果を第7図に示す。
この結果から、200 〜500mmHzOにおいて大
きい立上りが生じており、この範囲でスイソチ4を作動
させるとよい.すなわち、試作例lのものでは、200
mmHzOを過ぎたところで、試作例2のものでは、4
00mllHzOを過ぎたところでスイッチ4が作動す
るようにするとよい。このとき、ダイヤフラムDが作動
ラム4cに当接した状態で撓む場合は、作動点は、ばね
9の弾性力を考慮して補償する。
また、例えば、ダイヤフラムDと作動ラム4cの間隙L
を0.3mm程度とすれば、試作例lのものでは、20
00111H.Oを過ぎたところで、試作例2のもので
は、4 0 0 mm H z Oを過ぎたところで、
ダイヤフラムDが作動ラム4cに当接してスインチ4が
作動することとなり、前記補償の必要はない。
ダイヤフラムDの他例として、第8図に示すように、中
心円形10の周りに、隣接して同心円形波紋P1を形成
するとともに、外側にも円形波紋P2を形成し、両波紋
P. 、P.間に、中心円形波紋P1の周囲3等分位か
らの渦巻き波紋P,を形成し、その波紋P.の始終端を
両波紋P,,P2に合流させたものも製作した。
このダイヤフラムDも、前記の例と同様に、まず、三次
元数値制御可能なフライス盤にそのダイヤフラムDの諸
元を入力し、そのエンドミルにより、電極素材板の表面
に第10図に示す波紋PPg、P3を呈する凹凸を形成
して電極Sを製作する。
つぎに、この電極Sを、前記と同様にして放電加工機に
装着し金型Wを製作し、この金型Wによるプレス加工で
もって、第8図、第9図に示したものを得た。
このプレス成形の際、内外側に円形波紋PP2を形成し
、両波紋P1、P2に渦巻き波紋P3の両端が合流して
いるため、渦巻き波紋P3の成形による歪が円形波紋P
, 、P.内に吸収されて皺は生じなかった. この例も、素材を、厚さ: 0.0+5 tmのステン
レス箔、仕上り外径: 25.4tm、曲率R : 1
00 m、その曲率中心は内側とし、第9図において、
各波紋P+、Pg,Ps  (総称二P)の幅d (谷
と谷の間、合流間は除<)、同心円形波紋P,の谷径:
q、外側波紋Pの内側谷径q′、渦巻き波紋P3の谷部
曲率r、山部曲率r′、波の高さし、高低差Tを下記表
2に示す値とした試作例3、4を製作し、第1図、第2
図のケーシング1に装着したところ、周方向に均等に撓
み、応力の偏りもなく、良好な立上り特性を得ることが
できた。
表   2 なお、渦巻き波紋P,は、中心円形波紋P,の等分位か
らスタートし、一回転余りで終了させているが、好まし
くは3周回以上させることが好ましく、また、一点のみ
からスタートして3周回以上させたものとすることがで
きる.実施例(第3図)のものにおいて、前記外側円形
波紋P2を形成し、その波紋P2に渦巻き波紋Pを合流
した構成とすることもできる. 各部寸法もこれに限るものではなく、ダイヤフラムDの
使用箇所、材質等を考慮して、実験等により適宜に選定
する。又、使用素材としてはステンレス箔の他、リン青
銅、ヘリリウム銅等の銅合金箔、ゴム、プラスチソクス
等公知のものを使用することができる。
さらに、スイッチ4は、実施例のごとく、有接触型に限
らず、近接スイッチ、光電スイッチ等の非接触型も採用
できることは勿論である。
〔発明の効果〕
本発明は、以上のように構成して、ダイヤフラムの剛性
を構造的に低下させて、その圧力変位曲線が急勾配とな
るものとしたので、被検出流体が緩やかに圧力変化する
場合でも、精度よく検出する.また、疲労の集中や、座
屈・クランクの発生がなく、復元力等の特性変化も少な
い。この効果は、波紋を奇数、波紋の谷及び山を曲面と
すれば、増進される。
また、内外側に円形波紋を形成するようにすれば、プレ
ス成形の際、中心部及び外周囲に皺等の歪が生しない効
果を発揮する。この効果は、渦巻き波紋を内外側円形波
紋に合流させれば、さらに増進される。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明に係る圧力検出装置の一実施例
の切断正面図及び切断側面図、第3図は第1図のダイヤ
フラムの一例の正面図、第4図は同断面図、第5図乃び
第6図は同例の制作説明図、第7図は圧力変位測定図、
第8図はダイヤフラムの他例の正面図、第9図は同断面
図、第lO図は同例の製作説明図、第11図、第12図
は従来例の説明図である. D, 、D. 、D・・・・・・ダイヤフラム、P、P
3 、P. 、P.・・・・・・波紋、Q・・・・・・
治工具、   R・・・・・・ダイヤフラム曲率、r・
・・・・・谷部曲率、  r′・・・・・・山部曲率、
S・・・・・・電掻、    W・・・・・・金型、1
・・・・・・ケーシング、 3、3a、3b・・・・・・圧力検出室、4・・・・・
・スイッチ、   10・・・・・・中心円形。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ケーシング1内に、ダイヤフラムDで区画された
    圧力検出室3を形成し、この圧力検出室3の一方3aに
    被圧力検出流体aを導入するとともに、他方3bに前記
    ダイヤフラムDの所要量の撓みで作動するスイッチ4を
    設けた圧力検出装置において、前記ダイヤフラムDを、
    素材板中心円形10の周りに、その周り任意の点から、
    渦巻き波紋Pを呈する波形断面とし、その渦巻き波紋P
    は前記中心円形10に向って傾斜してなるものとしたこ
    とを特徴とする圧力検出装置。
  2. (2)上記渦巻き波紋Pの傾斜高さhと径方向の長さl
    の比h/lを1/5以下としたことを特徴とする請求項
    (1)記載の圧力検出装置。
  3. (3)上記素材板中心円形10の周りに隣接して同心円
    形波紋P_1を形成すると共に、この同心円形波紋P_
    1と同心でかつ所定間隔をあけて外側円形波紋P_2を
    形成し、両円形波紋P_1、P_2間に、上記渦巻き波
    紋P_3を形成したことを特徴とする請求項(1)又は
    (2)記載の圧力検出装置。
  4. (4)上記渦巻き波紋P_3の始終端を、上記中心円形
    波紋P_1及び外側円形波紋P_2に合流させたことを
    特徴とする請求項(3)記載の圧力検出装置。
  5. (5)上記渦巻き波紋P、P_3を3条以上の奇数とし
    、その各波紋を、上記素材中心円形10の周り均等分位
    からスタートさせたことを特徴とする請求項(1)乃至
    (4)のいずれか1つに記載の圧力検出装置。
  6. (6)上記各波紋P、P_1、P_2の山部及び谷部を
    連続曲面としたことを特徴とする請求項(1)乃至(5
    )のいずれか1つに記載の圧力検出装置。
JP2021725A 1989-02-20 1990-01-30 圧力検出装置 Pending JPH02290523A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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JP1871889 1989-02-20
JP1-18718 1989-02-20

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JP (1) JPH02290523A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60227141A (ja) * 1984-01-06 1985-11-12 シュランベルジュ、インダストリーズ、ソシエテ、アノニム 圧力センサ用波形膜

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60227141A (ja) * 1984-01-06 1985-11-12 シュランベルジュ、インダストリーズ、ソシエテ、アノニム 圧力センサ用波形膜

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