JPH02286711A - Resin composition for laminate and laminate - Google Patents

Resin composition for laminate and laminate

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JPH02286711A
JPH02286711A JP10952989A JP10952989A JPH02286711A JP H02286711 A JPH02286711 A JP H02286711A JP 10952989 A JP10952989 A JP 10952989A JP 10952989 A JP10952989 A JP 10952989A JP H02286711 A JPH02286711 A JP H02286711A
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JP
Japan
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resin composition
epoxy
imide
molecule
groups
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Pending
Application number
JP10952989A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Sawa
澤 佳秀
Toshiharu Takada
高田 俊治
Tokio Yoshimitsu
吉光 時夫
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the title composition having excellent heat resistance and alkali resistance and a low dielectric dissipation factor by mixing a specified polyaromatic cyanate, a specified imide compound, a specified epoxy compound, a brominated bisphenol A, a curing agent, and a solvent. CONSTITUTION:This composition is prepared by mixing a polyaromatic cyanate having at least two cyanate groups in the molecule (e.g. a compound of the formula), an imide compound having at least two imide groups in the molecule (e.g. bismaleimide), an epoxy compound having at least two epoxy groups (e.g. brominated epoxy novolac resin), a brominated bisphenol A (e.g. tetrabromobisphenol A), a curing agent (e.g. imidazole), and a solvent (e.g. dimethylformamide).

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プリント配線板として用いられる積層板の樹
脂成分としてポリ芳香族シアネート樹脂を主成分とする
樹脂組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a resin composition containing a polyaromatic cyanate resin as a main component as a resin component of a laminate used as a printed wiring board.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

高周波領域で用いられるプリント配線板の基板である積
層板を構成する樹脂として、四フッ化エチレン樹脂やポ
リフェニレンオキサイドなどの樹脂が評価されているが
、ガラス転移温度が180〜200°Cにとどまり、耐
熱性に乏しい。
Resins such as tetrafluoroethylene resin and polyphenylene oxide are being evaluated as resins constituting laminated boards, which are the substrates of printed wiring boards used in the high frequency range, but their glass transition temperatures remain at 180 to 200°C. Poor heat resistance.

この様に高周波領域に有用な樹脂として、ガラス転移温
度が高く、信号伝播の遅延を短くする上で誘電率が小さ
く、かつ電力ロスを小さくする上で誘電正接が小さいポ
リ芳香族シアネート樹脂が新たに着目されつつある。
In this way, polyaromatic cyanate resins have been newly developed as useful resins in the high frequency range, as they have a high glass transition temperature, a low dielectric constant to shorten signal propagation delay, and a low dielectric loss tangent to reduce power loss. is attracting attention.

ところがこのポリ芳香族シアネート樹脂を主成分とした
樹脂組成物を基材に含浸させた後に硬化した積層板は、
耐熱性、耐アルカリ性に乏しく、プレッシャークシカー
テスト(PCT)では積層板に微細なりラックが発生す
る現象が認められ、実用に供されるには若干の問題を残
していた。そこで、本発明者らは誘電率及び誘電正接を
保持した上で、さらに耐アルカリ性と耐熱性の改善をは
かったポリ芳香族シアネートを主成分とする積層板用樹
脂組成物としてイミド樹脂とエポキシ樹脂の配合した組
成物が有用であることを見出しこの組成物をベースにし
て、誘電正接の一層小さい樹脂組成物を提供するに至っ
た。
However, a laminate that is cured after impregnating a base material with a resin composition mainly composed of polyaromatic cyanate resin,
It has poor heat resistance and alkali resistance, and in the pressure comb test (PCT), the phenomenon of fine cracks and racks occurring in the laminate was observed, leaving some problems for practical use. Therefore, the present inventors developed a resin composition for laminates based on polyaromatic cyanate, which maintains the dielectric constant and dielectric loss tangent and further improves alkali resistance and heat resistance, using imide resin and epoxy resin. It was discovered that a composition containing the following was useful, and based on this composition, a resin composition with a smaller dielectric loss tangent was provided.

〔課題を解決するための課題〕[Issues to be solved]

本発明は、誘電率及び誘電正接を保持した上で、さらに
耐アルカリ性と耐熱性の改善を図ったポリ芳香族シアネ
ートを主成分とする積層板用樹脂組成物において、特に
誘電正接がより一層小さい積層板用樹脂組成物を提供す
ることを目的とするものである。
The present invention provides a resin composition for laminates containing polyaromatic cyanate as a main component, which maintains dielectric constant and dielectric loss tangent and further improves alkali resistance and heat resistance. The object of the present invention is to provide a resin composition for laminates.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る積層板用樹脂組成物は分子中に2個以上の
シアネート基を有するポリ芳香族シアネートに分子中に
2個以上のイミド基を有するイミド化合物、分子中に2
個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、ブロム化
されたビスフェノルA、硬化剤、及び溶媒を配合した点
を特徴とするものである。
The resin composition for laminates according to the present invention comprises a polyaromatic cyanate having two or more cyanate groups in the molecule, an imide compound having two or more imide groups in the molecule, and a polyaromatic cyanate having two or more cyanate groups in the molecule;
It is characterized in that it contains an epoxy compound having at least three epoxy groups, brominated bisphenol A, a curing agent, and a solvent.

以下、本発明を詳説する。The present invention will be explained in detail below.

まずポリ芳香族シアネートとしては、式(1)で表わさ
れるシアネート化合物が用いられ、このものは特許出願
公表昭61−50043号公報に開示されているように
従来のポリトリアジンよりも加水分解作用に対して著し
く安定性を有し、その結果         (以 下
 余白)(OCN)r (D)t   (D)t (D)t  <D”)t (
D)t  ・・・式(1)優れた熱安定性を示す芳香族
ポリトリアジンを与えることが知られている。
First, as the polyaromatic cyanate, a cyanate compound represented by formula (1) is used, and as disclosed in Patent Application Publication No. 1988-50043, this compound has a more hydrolytic action than conventional polytriazine. As a result, (hereinafter margin) (OCN)r (D)t (D)t (D)t <D”)t (
D) t...Formula (1) is known to provide aromatic polytriazine exhibiting excellent thermal stability.

式(1)のシアネートにおいて、芳香族基Arは芳香族
基を含む総ての基を意味するものであり、例えばベンゼ
ン、ナフタリン、フェナントラセン、アントラセン、ま
たはビス芳香族基、アルキレン部分によって架橋された
2個以上の芳香族である。好適にはベンゼン、ナフタリ
ン、ビフェニル、ビナフチル、ジフェニルアルキレン基
でア13、特にベンゼン基であることが望ましい。Bは
07〜2oの多環式脂肪族基で、2個以上の環を含む脂
肪族基を意味するものであり、多環式脂肪族基には1つ
以上の二重結合または三重結合が含まれていてもよい。
In the cyanate of formula (1), the aromatic group Ar means any group containing an aromatic group, such as benzene, naphthalene, phenanthracene, anthracene, or a bisaromatic group, or a group crosslinked by an alkylene moiety. 2 or more aromatic groups. A13 is preferably a benzene, naphthalene, biphenyl, binaphthyl, or diphenylalkylene group, and particularly a benzene group. B is a polycyclic aliphatic group of 07 to 2o, meaning an aliphatic group containing two or more rings, and the polycyclic aliphatic group has one or more double bonds or triple bonds. May be included.

好適な多環式脂肪族基を列挙すれば次のものがある。Suitable polycyclic aliphatic groups include the following.

(式中Yは−CH2−−3−−3−−3であり、Dlは
C3〜5のアルキル基である)なかでも(a) (b)
 (c) (d) (e) (f) (g)又は(42
)のものが好適であり、より好適には(a) (b) 
(c) (d) (1)で、特に(a)のものが好まし
い。
(In the formula, Y is -CH2--3--3--3 and Dl is a C3-5 alkyl group) Among these, (a) (b)
(c) (d) (e) (f) (g) or (42
) are preferred, and more preferred are (a) (b)
(c) (d) Among (1), (a) is particularly preferred.

式(I)中のDは有機炭化水素基上に置換され得る総て
の置換基を意味するものであるが、活性水素原子を含む
置換基は除外される。活性水素原子とは酸素、硫黄、窒
素原子に結合した水素原子を意味する。式(1)中の各
りはそれぞれ 独立して規定されるものであり、例えば
、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アル
カリール、アルアルキル、ハロ、アルコキシ、ニトロ、
カルボキシレート、スルホン、スルフィド、カーボネー
トなどであり、好適にはC8〜1oのアルキル、01〜
1oのアルケニル、ニトロ、ハロであす。
D in formula (I) means all substituents that can be substituted on the organic hydrocarbon group, but substituents containing active hydrogen atoms are excluded. Active hydrogen atom means a hydrogen atom bonded to an oxygen, sulfur, or nitrogen atom. Each in formula (1) is defined independently, and includes, for example, alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl, alkaryl, aralkyl, halo, alkoxy, nitro,
carboxylate, sulfone, sulfide, carbonate, etc., preferably C8~1o alkyl, 01~
1o alkenyl, nitro, halo.

01〜3のアルキル、C+〜3のアルキニル、ブロム、
クロルが最も好ましい。
01-3 alkyl, C+-3 alkynyl, bromine,
Chlor is most preferred.

また式(1)中のtは0から4までの整数であり、なか
でもOll又は2の整数が好ましく、好適には0又は1
で、最適には0である。式(I)中の各tはそれぞれ独
立して規定される。 q。
In addition, t in formula (1) is an integer from 0 to 4, preferably an integer of Oll or 2, preferably 0 or 1.
and is optimally 0. Each t in formula (I) is defined independently. q.

r、sは0.1.2又は3の整数であり、最適には1で
ある。Q+r+3はそれぞれ独立して規定されるが、こ
れらの合計は2以上になるように設定される。さらにX
は0から5までの正数である。式(I)のポリ芳香族シ
アネートはXがO〜5までの化合物類の混合物として見
出だされるものであり、Xはこの混合物の平均の数とし
て規定されるものである。
r and s are integers of 0.1.2 or 3, and optimally 1. Q+r+3 are each defined independently, but their total is set to be 2 or more. Further X
is a positive number from 0 to 5. The polyaromatic cyanates of formula (I) are found as mixtures of compounds in which X is from O to 5, with X being defined as the average number of this mixture.

式(I)のポリ芳香族シアネートの好ましい実施態様は
次の式で表される。
A preferred embodiment of the polyaromatic cyanate of formula (I) is represented by the following formula.

しかして、式(1)のポリ芳香族シアネートから得られ
る芳香族ポリトリアジンは低誘電率と低誘電正接を示す
反面、アルカリ処理、プレッシャクツカーテストによる
と硬化した積層板に微細なりランク、白化現象の発生や
基材の布目の露出現象が認められる。そこで本発明者ら
は、ポリ芳香族シアネートに樹脂成分としてイミド化合
物とエポキシ化合物を併用することによって、特に耐熱
性と耐アルカリ性を改善した。
Therefore, the aromatic polytriazine obtained from the polyaromatic cyanate of formula (1) shows a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, but on the other hand, when subjected to alkali treatment and a pressure-cutting test, the cured laminate showed fine cracks, ranks, and whitening. Occurrence of the phenomenon and exposure of the grain of the base material are observed. Therefore, the present inventors particularly improved heat resistance and alkali resistance by using an imide compound and an epoxy compound together as resin components in polyaromatic cyanate.

そして、なお−層の電力ロスの削減、電子部品の動作電
圧の低電圧化に対応するのに、本発明では、樹脂組成物
の誘電正接を一層小さいくするために、さらに樹脂成分
としてブロム化されたビスフェノールA1具体的にはテ
トラブロムビスフェノールA(以下、TBBAと記す)
を配合する。
Furthermore, in order to reduce the power loss of the layer and lower the operating voltage of electronic components, in the present invention, in order to further reduce the dielectric loss tangent of the resin composition, bromine is added as a resin component. Bisphenol A1, specifically tetrabromobisphenol A (hereinafter referred to as TBBA)
Blend.

ここでイミド化合物は分子中に2個以上のイミド基を有
する化合物が用いられエポキシ化合物は同様に分子中に
2個以上のエポキシ基を有する化合物が用いられる。こ
れは、イミド化合物、エポキシ化合物が開環反応によっ
て架橋構造の硬化物を生成するのは、イミド基、エポキ
シ基が1個では架橋構造の生成物を与えず、耐熱性が増
大しないからである。
Here, as the imide compound, a compound having two or more imide groups in the molecule is used, and similarly as the epoxy compound, a compound having two or more epoxy groups in the molecule is used. This is because imide compounds and epoxy compounds produce cured products with a crosslinked structure through a ring-opening reaction, because a single imide group or epoxy group does not produce a product with a crosslinked structure and does not increase heat resistance. .

イミド化合物として代表的な化合物を挙げるとビスマレ
イミドが用いられ、エポキシ化合物としてはエポキシノ
ボラック樹脂が用いられる。ここでポリ芳香族シアネー
ト樹脂中のシアネートはイミド化合物のイミド基とエポ
キシ化合物のエポキシ基とTBBAの水酸基と反応を生
じる、他にエポキシ基とイミド基との反応、エポキシ基
とTBBAの水酸基との反応が生じて密度の高い架橋構
造の硬化物が生成する。したがって、ポリ芳香族シアネ
ートとイミド化合物とエポキシ化合物、TBBAの配合
量の割合によって架橋密度が異なり、耐熱性に影響を与
える。そして、TBBAの配合によって誘電正接の一層
の低減化が図れる。
Bismaleimide is used as a typical imide compound, and epoxy novolac resin is used as an epoxy compound. Here, the cyanate in the polyaromatic cyanate resin reacts with the imide group of the imide compound, the epoxy group of the epoxy compound, and the hydroxyl group of TBBA. A reaction occurs to produce a cured product with a dense crosslinked structure. Therefore, the crosslinking density varies depending on the blending ratio of the polyaromatic cyanate, the imide compound, the epoxy compound, and TBBA, which affects heat resistance. By adding TBBA, the dielectric loss tangent can be further reduced.

具体的には芳香族シアネート20〜60重量部(以下単
に部と記す)に対してイミド化合物は10〜40部、エ
ポキシ化合物は10〜40部、TBBAは同様に1〜2
0部が適当である。これら4成分の反応はイオン重合触
媒として用いられるイミダゾール類によって促進される
。このイミダゾール類は、上記のイミド化合物、特にビ
スマレイミド化合物の溶解性改良に役立ち、硬化反応を
均一に促進させる効用を有し添加量は樹脂成分全量に対
して0.001〜1重量%が適当である。
Specifically, the imide compound is 10 to 40 parts, the epoxy compound is 10 to 40 parts, and the TBBA is 1 to 2 parts by weight, based on 20 to 60 parts by weight of aromatic cyanate (hereinafter simply referred to as parts).
0 parts is appropriate. The reaction of these four components is promoted by imidazoles used as ionic polymerization catalysts. These imidazoles are useful for improving the solubility of the above-mentioned imide compounds, especially bismaleimide compounds, and have the effect of uniformly promoting the curing reaction, and the appropriate amount of addition is 0.001 to 1% by weight based on the total amount of resin components. It is.

さらには3価のコバルトイオンあるいは2価の亜鉛イオ
ンの存在によって上記4種の反応が促進される。これら
の金属イオンは微量で寸分であって多量の添加をしても
効果がなく、ポリ芳香族シアネートに対して重量比で5
〜11000ppの範囲が適当である。3価のコバルト
の有機金属塩の一例を挙げるとナフテン酸コバルトやオ
クチル酸コバルトなどが用いられる。なお、上記樹脂成
分の架橋反応の促進によって得られる硬化物の難燃性を
向上させるためには、エポキシ化合物として特にブロム
含を量が樹脂成分全量に対して10重景%以上のブロム
化したエポキシノボラック樹脂が有用である。
Furthermore, the presence of trivalent cobalt ions or divalent zinc ions promotes the above four reactions. These metal ions are in very small amounts and have no effect even if added in large amounts, with a weight ratio of 5 to the polyaromatic cyanate.
A range of 11,000 pp to 11,000 pp is suitable. Examples of trivalent cobalt organic metal salts include cobalt naphthenate and cobalt octylate. In addition, in order to improve the flame retardancy of the cured product obtained by promoting the crosslinking reaction of the resin component, the epoxy compound should have a bromine content of 10% or more based on the total amount of the resin component. Epoxy novolak resins are useful.

そして樹脂成分として上記式(1)で示されたポリ芳香
族シアネート、イミド化合物、エポキシ化合物、TBB
A、反応触媒としてイミダゾールその他を有機溶媒に溶
解することによって、ワニスを調製する。有機溶媒とし
てはポリ芳香族シアネートやイミド化合物、エポキシ化
合物、TBBAの予備反応物を溶解し反応に悪影響を与
えないものであればよく、たとえば芳香族、炭化水素、
アルコール、ケトン、アミドなど特に限定されない。
As a resin component, a polyaromatic cyanate, an imide compound, an epoxy compound, and TBB represented by the above formula (1) are used.
A. A varnish is prepared by dissolving imidazole and others as a reaction catalyst in an organic solvent. The organic solvent may be any solvent as long as it dissolves the polyaromatic cyanate, imide compound, epoxy compound, or pre-reactant of TBBA and does not adversely affect the reaction.
Alcohol, ketone, amide, etc. are not particularly limited.

例えばトルエン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメ
チルホルムアミド、メチルセロソルブなどを一種もしく
は二種以上を混合して用いることができる。ワニスの濃
度は固形分が50〜70重景%になるように調製するの
が一般的である。
For example, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, dimethyl formamide, methyl cellosolve, etc. can be used alone or in combination of two or more. The concentration of the varnish is generally adjusted so that the solid content is 50 to 70% by weight.

そして、プリプレグを製造するにあたっては、基材とし
ては特に限定されるものではないが、ガラス繊維の織布
あるいは不織布を使用するのが一般的であり、この基材
にワニスを含浸させて加熱乾燥する。基材へのワニスの
含浸量は、基材に対する樹脂成分全量とその他の添加剤
の全量に対して45重景%以上になるように設定するの
が好ましい。樹脂分の含有量によって誘電率の水準に影
響が出るものであり、基材をEガラスの布で形成した場
合は45重量%以上の含浸で誘電率4.0以下を達成す
ることができ、また基材をDガラスの布で形成した場合
は45重量%以上の含浸で誘電率3.5以下を達成する
ことができる。プリプレグを調製する際に加熱乾燥条件
は、反応触媒の配合量などによって影響されるが、例え
ば加熱温度が160°Cの場合は加熱時間を3〜10分
間程分間膜定することによって、所望のプリプレグのス
トロークゲルタイムを得るようにすることができる。プ
リプレグのストロークゲルタイムは成形条件等によって
異なるが、170 ’Cで2〜10分程度が一般的であ
る。そしてこのように調製したプリプレグを複数枚重ね
、さらに上下の両面もしくは片面に銅箔などの金属箔を
重ね、これを加熱加圧成形することによって、プリプレ
グ中のポリ芳香族シアネートが反応硬化して構成される
絶縁基板の両面又は片面に金属箔を積層接着した両面金
属箔張り、若しくは片面金属張り積層板を作成すること
ができる。
In manufacturing prepreg, the base material is not particularly limited, but it is common to use glass fiber woven or non-woven fabric, and this base material is impregnated with varnish and dried by heating. do. The amount of varnish impregnated into the base material is preferably set to be 45% or more based on the total amount of resin components and other additives in the base material. The dielectric constant level is affected by the resin content, and when the base material is made of E glass cloth, a dielectric constant of 4.0 or less can be achieved with impregnation of 45% by weight or more. Further, when the base material is formed of D glass cloth, a dielectric constant of 3.5 or less can be achieved by impregnation of 45% by weight or more. The heating drying conditions when preparing prepreg are influenced by the amount of reaction catalyst blended, etc., but for example, if the heating temperature is 160°C, the desired heating time can be set by setting the heating time for about 3 to 10 minutes. Prepreg stroke gel time can be obtained. The stroke gel time of prepreg varies depending on molding conditions, etc., but is generally about 2 to 10 minutes at 170'C. Then, by layering multiple sheets of prepreg prepared in this way, then layering metal foil such as copper foil on both or one side of the top and bottom, and molding this under heat and pressure, the polyaromatic cyanate in the prepreg is cured by reaction. It is possible to create a double-sided metal foil-clad or single-sided metal-clad laminate in which metal foil is laminated and bonded on both sides or one side of an insulating substrate.

成形条件は、加熱温度を170 ’C〜230℃、圧力
を最高圧力で30〜40kg/cJ程度、時間を90〜
120分程度に設定するのが一般的である。成形後22
0〜230°C程度の温度でアフターキュアーする場合
には成形温度は170〜180°C程度で十分である。
The molding conditions are: heating temperature of 170'C to 230°C, maximum pressure of about 30 to 40 kg/cJ, and time of 90 to 230°C.
Generally, it is set to about 120 minutes. 22 after molding
In the case of after-curing at a temperature of about 0 to 230°C, a molding temperature of about 170 to 180°C is sufficient.

この積層板はポリ芳香族シアネート、イミド化合物、エ
ポキシ化合物の3成分の樹脂で硬化させた場合と比べて
耐アルカリ性、誘電率を保持した上で誘電正接に一層優
れた性能を有し、このように作成した積層板の金属箔を
エツチング加工等して回路形成することによって得たプ
リント回路板は、電力ロスの削減のため、動作電圧の低
電圧化した電子部品の実装に適したものとなる。
This laminate maintains alkali resistance and dielectric constant, and has even better performance in terms of dielectric loss tangent than when cured with a three-component resin consisting of polyaromatic cyanate, imide compound, and epoxy compound. The printed circuit board obtained by forming a circuit by etching the metal foil of the laminated board created in 2015 is suitable for mounting electronic components with a lower operating voltage to reduce power loss. .

〔実施例] 以下、本発明を実施例と比較例によって詳述する。〔Example] Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例1は、次式に示されるポリ芳香族シアネト(ダウ
ミカル社製X U −71787)を50部、ビスマレ
イミド30部、ブロム化エポキシノボラック(東部化成
社製YDB−400) 19部、TBBA1部、オクチ
ル酸コバルト500ppmイミダゾールとして2 E 
4 M Z 0.5部をジメチルホルムアミド70部に
攪拌溶解させ樹脂組成物を得た。
Example 1 contains 50 parts of polyaromatic cyanate (XU-71787, manufactured by Daumical) represented by the following formula, 30 parts of bismaleimide, 19 parts of brominated epoxy novolac (YDB-400, manufactured by Tobu Kasei), and 1 part of TBBA. , cobalt octylate 500 ppm as imidazole 2 E
A resin composition was obtained by dissolving 0.5 part of 4M Z in 70 parts of dimethylformamide with stirring.

このワニスを2X16タイプのEガラス基材(日東紡績
社製116E)に固形分含有率が45重量%になるよう
に含浸し、150°C14分間の条件で加熱乾燥するこ
とによってプリプレグを調製した。
A prepreg was prepared by impregnating a 2×16 type E glass substrate (116E, manufactured by Nittobo Co., Ltd.) with this varnish so that the solid content was 45% by weight, and heating and drying it at 150° C. for 14 minutes.

次にこのプリプレグを4枚重ね、さらに35μの厚みを
有し、両面が粗化された銅箔を両側に重ねこれを成形温
度170°C1成形圧力40kg/c+fl、90分間
の条件で積層成形し、さらに成形後に電気オープンにて
230°C12時間の条件でアクタキュアして厚み0.
4 mmの両面胴貼り積層板を得た。
Next, four sheets of this prepreg were stacked, and copper foil with a thickness of 35μ and roughened on both sides was stacked on both sides, and this was laminated and molded at a molding temperature of 170°C and a molding pressure of 40kg/c+fl for 90 minutes. After molding, the film was cured at 230°C for 12 hours in an electric open oven to a thickness of 0.
A 4 mm double-sided body-bonded laminate was obtained.

実施例2は、実施例1のTBBAを5部、ブロム化エポ
キシノボラック15部と変えた以外は同様に行った。
Example 2 was carried out in the same manner as in Example 1 except that 5 parts of TBBA and 15 parts of brominated epoxy novolak were used.

実施例3は、実施例1のTBBAを10部、ブロム化エ
ポキシノボラック10部と変えた以外は同様に行った。
Example 3 was carried out in the same manner as in Example 1 except that 10 parts of TBBA and 10 parts of brominated epoxy novolak were used.

実施例4は、実施例1のTBBAを20部と変え、ブロ
ム化エポキシノボラックを配合しなかった以外は同様に
行った。
Example 4 was carried out in the same manner as in Example 1 except that TBBA was changed to 20 parts and brominated epoxy novolak was not blended.

実施例5は、実施例1のTBBAを25部と変え、ブロ
ム化エポキシノボラックを配合しなかった以外は同様に
行った。
Example 5 was carried out in the same manner as in Example 1 except that TBBA was changed to 25 parts and brominated epoxy novolak was not blended.

比較例1は、実施例1のTBBAを配合せず、ブロム化
エポキシノボラック20部配合した以外は同様に行った
Comparative Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1, except that TBBA was not blended and 20 parts of brominated epoxy novolak was blended.

上記のようにして得た実施例1〜5及び比較例1の0.
4 mm厚の積層板について、その電気的特性や耐熱性
を測定し、その結果を第1表に示す。
0.0 of Examples 1 to 5 and Comparative Example 1 obtained as described above.
The electrical properties and heat resistance of the 4 mm thick laminate were measured, and the results are shown in Table 1.

第1表において、誘電率、誘電正接、オーブン耐熱性は
JIS、、C6481に基づいて測定をおこない、さら
に耐アルカリ性については積層板を苛性ソーダ10重量
%の水溶液に80°Cで3〜10分浸漬した後に外観性
状を目視観察し微細なりラックによる白化現象が発生し
た場合を×、40分浸漬した後でも外観性状に変化が認
められなかった場合を○で示した。
In Table 1, dielectric constant, dielectric loss tangent, and oven heat resistance were measured based on JIS, C6481, and alkali resistance was measured by immersing the laminate in a 10% by weight aqueous solution of caustic soda at 80°C for 3 to 10 minutes. After immersion, the appearance was visually observed, and cases in which fine whitening due to rack occurred were marked as ×, and cases in which no change in appearance was observed even after 40 minutes of immersion were marked as ○.

(以 下 余 白) 第1表 第1表の結果にみられるように、実施例1〜5に係るT
BBAを配合したポリ芳香族シアネートの樹脂組成物を
用いた積層板は比較例1に係るTBBAを含まないポリ
芳香族シアネートの樹脂組成物を用いた積層板と比べて
誘電正接の一層の低減が確認できた。TBBAの配合を
樹脂成分100部に対して1〜20部に限定するのは第
1表の結果から、TBBAの1部配合で誘電正接の低減
に効果があり、TBBAの20部以上では誘電正接の低
減がなく、むしろ耐熱性の低下のみがあり好ましくない
からである。
(Margins below) Table 1 As seen in the results in Table 1, T according to Examples 1 to 5
The laminate using the polyaromatic cyanate resin composition blended with BBA has a further reduction in dielectric loss tangent compared to the laminate using the polyaromatic cyanate resin composition not containing TBBA according to Comparative Example 1. It could be confirmed. The reason why the content of TBBA is limited to 1 to 20 parts per 100 parts of the resin component is that from the results in Table 1, adding 1 part of TBBA is effective in reducing the dielectric loss tangent, and 20 parts or more of TBBA reduces the dielectric loss tangent. This is because there is no reduction in heat resistance, but rather only a decrease in heat resistance, which is undesirable.

(発明の効果〕 上述のように本発明によって、ポリ芳香族シアネート樹
脂の誘電正接を一層低減化することができるのである。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, the dielectric loss tangent of the polyaromatic cyanate resin can be further reduced.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)分子中に2個以上のシアネート基を有するポリ芳
香族シアネートに分子中に2個以上のイミド基を有する
イミド化合物、分子中に2個以上のエポキシ基を有する
エポキシ化合物、ブロム化されたビスフェノールA、硬
化剤、及び溶媒を配合して成る積層板用樹脂組成物。
(1) Polyaromatic cyanates having two or more cyanate groups in the molecule, imide compounds having two or more imide groups in the molecule, epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule, brominated A resin composition for a laminate comprising bisphenol A, a curing agent, and a solvent.
(2)上記ブロム化されたビスフェノールAがテトラブ
ロムビスフェノールAである請求項1記載の積層板用樹
脂組成物。
(2) The resin composition for a laminate according to claim 1, wherein the brominated bisphenol A is tetrabromobisphenol A.
(3)上記ポリ芳香族シアネートが式(1)で示される
請求項1、又は2記載の積層板用樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・式( I ) (式中Arは芳香族。BはC_7〜_2_0の多環式脂
肪族基。Dは各々独立に活性水素を含まない置換基。 q、r、s、は各々独立に0、1、2又は3の整数であ
り、ただしq、r、s、の合計は2より大きいか又は2
に等しい。tは各々独立に0から4までの整数。 Xは0〜5までの数)
(3) The resin composition for a laminate according to claim 1 or 2, wherein the polyaromatic cyanate is represented by formula (1). ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...Formula (I) (In the formula, Ar is aromatic. B is a polycyclic aliphatic group of C_7 to _2_0. D is each independently a substituent that does not contain active hydrogen. q, r, s are each independently an integer of 0, 1, 2 or 3, provided that the sum of q, r, s is greater than 2 or 2.
be equivalent to. t is an integer from 0 to 4, each independently. (X is a number from 0 to 5)
(4)上記イミド化合物がビスマレイミドである請求項
1ないし3のいずれか記載の積層板用樹脂組成物。
(4) The resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the imide compound is bismaleimide.
(5)上記のエポキシ化合物がブロム化エポキシノボラ
ック樹脂である請求項1ないし4のいずれか記載の積層
板用樹脂組成物。
(5) The resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the epoxy compound is a brominated epoxy novolak resin.
(6)3価のコバルト、又は2価の亜鉛の有機金属塩を
添加した請求項1ないし5のいずれか記載の積層板用樹
脂組成物。
(6) The resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 5, further comprising an organic metal salt of trivalent cobalt or divalent zinc.
(7)上記のポリ芳香族シアネートが20〜60重量部
、イミド化合物が10〜40重量部、エポキシ化合物が
10〜40重量部、テトラブロムビスフェノールAが1
〜20重量部の割合で配合して成る請求項1ないし6の
いずれか記載の積層板用樹脂組成物。
(7) 20 to 60 parts by weight of the above polyaromatic cyanate, 10 to 40 parts by weight of the imide compound, 10 to 40 parts by weight of the epoxy compound, and 1 part by weight of tetrabromobisphenol A.
The resin composition for a laminate according to any one of claims 1 to 6, wherein the resin composition is blended in a proportion of 20 parts by weight.
(8)分子中に2個以上のシアネート基を有するポリ芳
香族シアネートに分子中に2個以上のイミド基を有する
イミド化合物、分子中に2個以上のエポキシ基を有する
エポキシ化合物、テトラブロムビスフェノールA、硬化
剤、及び溶媒を配合して成る樹脂組成物が基材中で反応
硬化した樹脂を含んだことを特徴とする積層板。
(8) Polyaromatic cyanates having two or more cyanate groups in the molecule, imide compounds having two or more imide groups in the molecule, epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule, tetrabromobisphenol A laminate, characterized in that a resin composition formed by blending A, a curing agent, and a solvent contains a resin that is reacted and cured in a base material.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015157467A (en) * 2014-02-24 2015-09-03 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Method of producing copper-clad laminate

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