JPH02282344A - 1-(2-haloethoxy)-4-(2-alkoxyethyl)dialkylbenzenes, its synthetic intermediate and production thereof - Google Patents

1-(2-haloethoxy)-4-(2-alkoxyethyl)dialkylbenzenes, its synthetic intermediate and production thereof

Info

Publication number
JPH02282344A
JPH02282344A JP1100175A JP10017589A JPH02282344A JP H02282344 A JPH02282344 A JP H02282344A JP 1100175 A JP1100175 A JP 1100175A JP 10017589 A JP10017589 A JP 10017589A JP H02282344 A JPH02282344 A JP H02282344A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
compound represented
following formula
lower alkyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1100175A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2585422B2 (en
Inventor
Mikito Kashima
加島 幹人
Noboru Kakeya
登 掛谷
Koichi Kashiwagi
公一 柏木
Yumitatsu Noda
結実樹 野田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP1100175A priority Critical patent/JP2585422B2/en
Publication of JPH02282344A publication Critical patent/JPH02282344A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2585422B2 publication Critical patent/JP2585422B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Abstract

NEW MATERIAL:The compound of formula I (R<1> to R<3> are lower alkyl; X<1> is halogen). EXAMPLE:1-(2-Chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene. USE:A synthetic intermediate for pharmacenticals or agricultural chemicals, especially a compound exhibiting high activity as an insecticide. PREPARATION:The compound of formula I can be produced e.g. by reacting a compound of formula II with formaldehyde or its polymer and a hydrogen halide and reacting the resultant novel compound of formula III (X<2>=X<1>) with a compound of formula IV (X<3>=X<1>) in N2 gas stream usually at <=80 deg.C optionally in the presence of a solvent (e.g. tetrahydrofuran) and a catalyst (e.g. I2).

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、新規な1−(2−ハロエトキシ)−4−(2
−アルコキシエチル〕ジアルキルベンゼン類(以下、「
化合物(■)」という)及びその合成中間体並びにそれ
らの製造法に関する。
Detailed Description of the Invention [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention provides novel 1-(2-haloethoxy)-4-(2
-alkoxyethyl]dialkylbenzenes (hereinafter referred to as “
This invention relates to compounds (referred to as "■)"), synthetic intermediates thereof, and methods for producing them.

化合物(I)は、一般に、医薬、農薬の有用な中間体で
あること、特に、殺虫剤として高活性を示す化合物の中
間体の一群に属することが知られているが、従来、文献
未記載の新規な化合物である。
Compound (I) is generally known to be a useful intermediate for pharmaceuticals and agricultural chemicals, and in particular to belong to a group of compound intermediates that exhibit high activity as insecticides, but it has not been described in any literature so far. It is a new compound.

(従来の技術及び発明が解決しようとする課題)従来の
公知技術を利用して化合物(I)を製造する場合、工業
的に安価なジアルキルフェノール類を出発原料とし、こ
れにまずクロロエチル基を導入し、1−(2−クロロエ
トキシ)ジアルキルベンゼン類を製造し、次いでアルコ
キシエチル基を導入し、化合物(I)を製造する方法が
工程数も少なく有利である。
(Prior art and problems to be solved by the invention) When producing compound (I) using conventionally known technology, industrially inexpensive dialkylphenols are used as a starting material, and a chloroethyl group is first introduced into this. However, the method of producing compound (I) by producing 1-(2-chloroethoxy)dialkylbenzenes and then introducing an alkoxyethyl group is advantageous because it requires fewer steps.

まず、り四ロエチル基の導入については、フェノール類
のハロエチルエーテル化法がよく知られており(例えば
、Organic 5ynthesis Ca1l  
↓。
First, regarding the introduction of tetraloethyl groups, the haloethyl etherification method of phenols is well known (for example, Organic 5ynthesis Ca1l
↓.

435)、この場合、同様の方法でジアルキルフェノー
ルに、安価な1,2−ジクロロエタンを作用させること
により、容易に1−(2−クロロエトキシ)ジアルキル
ベンゼン類を製造することができる。
435), in this case, 1-(2-chloroethoxy)dialkylbenzenes can be easily produced by reacting dialkylphenol with inexpensive 1,2-dichloroethane in a similar manner.

しかし、次工程のアルコキシエチル基の導入は、従来の
公知の方法で、収率よく行なうことは困難である。例え
ば、芳香環へのエトキシエチル基の導入例である、(2
−アルコキシエチル)ベンゼン類の合成法としては、従
来、1−アルコキシ−2−フェニルアセチレンの還元+
T、 LJacobs、  W、  R,5cott 
Jr、、 J、  Am、  Chem、  5oc7
5、5497(1953)) 、フェニルリチウムと1
−クロロ−2−アルコキシエタンとの反応[L、 Su
mmersM、 L、 Larson  J、 Am、
 Chem、 Soc、  74.4498(1952
)) 、フェネチルアルコール体の〇−エチル化(S、
 Mamedov、 D、 N、 Khydyrov、
 Zh、 0bsh。
However, it is difficult to introduce an alkoxyethyl group in the next step with a good yield using conventionally known methods. For example, (2
-alkoxyethyl)benzenes, conventional methods include reduction of 1-alkoxy-2-phenylacetylene +
T, LJacobs, W,R,5cott
Jr,, J, Am, Chem, 5oc7
5, 5497 (1953)), phenyllithium and 1
-Reaction with chloro-2-alkoxyethane [L, Su
mmersM, L, Larson J, Am.
Chem, Soc, 74.4498 (1952
)), 〇-ethylation of phenethyl alcohol (S,
Mamedov, D.N., Khydyrov,
Zh, 0bsh.

Khim、、 32.1431(1962); A、 
Mers、 Angew、 ChemInternat
、 Edit、、 12.816(197311などの
方法が知られている。
Khim, 32.1431 (1962);
Mers, Angew, ChemInternat
, Edit, , 12.816 (197311) and other methods are known.

しかし、これらは工業的に実施するには、原料が高価で
経済性に乏しい、あるいは、工程数が多くなるなどの欠
点があり、工業的製法としては満足できるものではなか
った。
However, these methods are unsatisfactory as industrial production methods because they have disadvantages such as expensive raw materials, poor economic efficiency, and a large number of steps.

本発明者らは、これらの実情に鑑み、安価な原料から少
ない工程数で化合物(I)を製造できる工業的製法を開
発することを目的として鋭意検討を行なった結果、1−
(2−ハロエトキシ)ジアルキルベンゼン類から少ない
工程数で安価に製造できる各種合成中間体を利用するこ
とにより化合物(I)を製造することに成功し、本発明
を完成した。
In view of these circumstances, the present inventors conducted intensive studies with the aim of developing an industrial manufacturing method that can produce compound (I) from inexpensive raw materials with a small number of steps, and as a result, the following results were obtained: 1-
The present invention was completed by successfully producing compound (I) by utilizing various synthetic intermediates that can be produced from (2-haloethoxy)dialkylbenzenes at low cost and in a small number of steps.

[発明の構成] (課題を解決するための手段及び作用)本発明は、 次式(1): (式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立して、低
級アルキル基を表わし;x′はハロゲン原子を表わす。
[Structure of the Invention] (Means and Effects for Solving the Problems) The present invention provides the following formula (1): (wherein, R1, R2 and R3 each independently represent a lower alkyl group; x' represents a halogen atom.

) で示される化合物及びその合成中間体並びにそれらの製
造法に関するものである。
), their synthetic intermediates, and their production methods.

本発明の化合物(I)は、以下に示す種々のルートに従
って合成することができる。
Compound (I) of the present invention can be synthesized according to various routes shown below.

前記式中、R’、R2、R3及びR5は、それぞれ独立
して、低級アルキル基を表わし:XX2及びX4は、そ
れぞれ独立して、ハロゲン原子を表わす。
In the above formula, R', R2, R3 and R5 each independently represent a lower alkyl group; XX2 and X4 each independently represent a halogen atom.

前記低級アルキル基とは、炭素数1〜6の直鎖状又は分
枝状のアルキル基をいい、例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
、5ec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基が挙げられ、前記ハロゲン原子としては、
例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
The lower alkyl group refers to a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group,
Examples of the halogen atom include propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, 5ec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, and hexyl group.
Examples include chlorine atom, bromine atom, and iodine atom.

本発明の化合物(I)の具体例としては以下のような化
合物が挙げられる。
Specific examples of the compound (I) of the present invention include the following compounds.

1−(2−クロロエトキシ) −4−(2−エトキシエ
チル)−2,3−ジメチルベンゼン、1−(2−クロロ
エトキシ)−4−(2−メトキシエチル)−2,3−ジ
メチルベンゼン、1−(2−クロロエトキシ)−4−(
2−エトキシエチル)−2,5−ジメチルベンゼン、1
−(2−クロロエトキシ)−4−(2−メトキシエチル
)−2,5−ジメチルベンゼン、1−(2−クロロエト
キシ)−4−(2−工[・キシエチル)−2,6−ジメ
チルベンゼン、1−(2−クロロエトキシ)−4−(2
−メトキシエチル)−2,6−ジメチルベンゼン、1−
(2−クロロエトキシ)−4−(2−エトキシエチル)
−3,5−ジメチルベンゼン、1−(2−クロロエトキ
シ)−4−(2−メトキシエチル)−3,5−ジメチル
ベンゼン、1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エ
トキシエチル)−3,5−ジーtert−ブチルベンゼ
ン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−メトキシエチ
ル)−3,5−ジーtert−ブチルベンゼン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エトキシエチ
ル)−3,5−ジー5ec−ブチルベンゼン、 ■−(2−クロロエトキシ)−4−(2−メトキシエチ
ル)−3,5−ジー5eC−プチルベンゼン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エトキシエチ
ル)−2,5−ジーtert−ブチルベンゼン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−メトキシエチ
ル)−2,5−ジーtert−ブチルベンゼン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エトキシエチ
ル)−2,6−シーtert−ブチルベンゼン、 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−メトキシエチ
ル)−2,6−シーtert−ブチルベンゼン。
1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(
2-ethoxyethyl)-2,5-dimethylbenzene, 1
-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,5-dimethylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-en[·xyethyl)-2,6-dimethylbenzene , 1-(2-chloroethoxy)-4-(2
-methoxyethyl)-2,6-dimethylbenzene, 1-
(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)
-3,5-dimethylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-3,5-dimethylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl) -3,5-di-tert-butylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-3,5-di-tert-butylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4- (2-ethoxyethyl)-3,5-di5ec-butylbenzene, ■-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-3,5-di5eC-butylbenzene, 1-(2- chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,5-di-tert-butylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,5-di-tert-butylbenzene , 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,6-tert-butylbenzene, 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,6 -tert-butylbenzene.

工程」」u二ニエIf) 前記式(III)で示される化合物と、ホルムアルデヒ
ド又はその重合物と、ハロゲン化水素とを反応させるこ
とにより前記式(II)で示される化合物を製造するこ
とができる。
Step "If) The compound represented by the formula (II) can be produced by reacting the compound represented by the formula (III), formaldehyde or a polymer thereof, and hydrogen halide. .

本反応は、通常、化合物(III)を適当な有機溶媒と
ハロゲン化水素酸中に入れておき、そこヘホルムアルデ
ヒド又はその重合物とハロゲン化水素ガスを導入するこ
とにより行う。また、本反応は有機溶媒だけ又はハロゲ
ン化水素酸だけでも行うこともできる。
This reaction is usually carried out by placing compound (III) in a suitable organic solvent and hydrohalic acid, and then introducing heformaldehyde or a polymer thereof and hydrogen halide gas therein. Moreover, this reaction can also be carried out using only an organic solvent or only a hydrohalic acid.

本反応に用いられるホルムアルデヒドは、そのまま、又
は水溶液(ホルマリン)の状態で用いられる。ホルマリ
ンを用いる場合、その濃度が50〜10重量%のものが
好ましい。濃度が高すぎると沈殿が生じやすく、濃度が
低すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。ホルム
アルデヒドの重合物としては、バラホルムアルデヒドや
トリオキサンが用いられる。ホルムアルデヒドは化合物
(III)に対して、通常1〜20倍(モル比)、好ま
しくは2〜10倍(モル比)が用いられる(ホルマリン
や重合物の場合にはホルムアルデヒドに換算して用いる
)。ホルムアルデヒドが少なすぎると反応液がうまく混
ざらなくなり収率が低下し、多すぎると副生物が増加す
る。
Formaldehyde used in this reaction is used as it is or in the form of an aqueous solution (formalin). When formalin is used, its concentration is preferably 50 to 10% by weight. If the concentration is too high, precipitation is likely to occur, and if the concentration is too low, the reaction rate will be slow and the yield will be reduced. As the formaldehyde polymer, rose formaldehyde and trioxane are used. Formaldehyde is usually used in an amount of 1 to 20 times (molar ratio), preferably 2 to 10 times (molar ratio) relative to compound (III) (in the case of formalin or a polymer, it is used in terms of formaldehyde). If there is too little formaldehyde, the reaction solution will not mix well and the yield will decrease, while if it is too much, by-products will increase.

本反応に用いられる有機溶媒としては、例えば四塩化炭
素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエクン、テ
トラクロロエタン、ジオキサン、酢酸、ベンゼン、トル
エン、クロルベンゼン、炭素数が4〜10の飽和炭化水
素が挙げられる。この中でも四塩化炭素が最も好適に用
いられる。化合物(III )の濃度は、有機溶媒に対
して、通常0.1〜15モル/氾、好ましくは0,5〜
10モル/℃である。あまり濃度が高すぎると撹拌が困
難となり、低すぎると反応速度が遅くなり収率が低下す
る。
Examples of the organic solvent used in this reaction include carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroecune, tetrachloroethane, dioxane, acetic acid, benzene, toluene, chlorobenzene, and saturated hydrocarbons having 4 to 10 carbon atoms. . Among these, carbon tetrachloride is most preferably used. The concentration of compound (III) is usually 0.1 to 15 mol/flood, preferably 0.5 to 15 mol/f of the organic solvent.
It is 10 mol/°C. If the concentration is too high, stirring becomes difficult, and if the concentration is too low, the reaction rate slows and the yield decreases.

ハロゲン化水素酸(ハロゲン化水素の10〜60%水溶
液)は化合物(III)1モルに対して、通常0〜50
モル、好ましくは0.2〜10モル用いる。ハロゲン化
水素酸が多すぎると反応速度が遅くなり、導入するハロ
ゲン化水素ガスが多量に必要となる。少なすぎると導入
するハロゲン化水素が充分吸収されなくなる。このハロ
ゲン化水素酸を相当する水に置き換えて導入するハロゲ
ン水素ガスをその分増加させてもよい。
Hydrohalic acid (10-60% aqueous solution of hydrogen halide) is usually 0-50% per mole of compound (III).
mol, preferably 0.2 to 10 mol is used. If the amount of hydrohalic acid is too large, the reaction rate will be slow, and a large amount of hydrogen halide gas will be required to be introduced. If it is too small, the introduced hydrogen halide will not be absorbed sufficiently. The amount of hydrogen halogen gas introduced may be increased by replacing this hydrohalic acid with the corresponding water.

ハロゲン化水素ガスは、化合物(Ill)1モルに対し
て、通常1〜200モル、好ましくは5〜50モル用い
る。ハロゲン化水素ガスが少なずぎると反応速度が非常
に遅く収率が低下し、多すぎると過剰のハロゲン化水素
ガスが吸収されずむだになり、かつ副生成物が増加する
The hydrogen halide gas is usually used in an amount of 1 to 200 mol, preferably 5 to 50 mol, per 1 mol of compound (Ill). If the amount of hydrogen halide gas is too small, the reaction rate will be very slow and the yield will decrease; if it is too large, excess hydrogen halide gas will not be absorbed and will be wasted, and by-products will increase.

反応温度は、通常−30〜20°C1好ましくは一20
〜10°Cである。反応温度が高すぎると副反応が進行
してしまい収率が低下し、低すぎると反応速度が低下し
て収率が低下する。
The reaction temperature is usually -30 to 20°C, preferably -20°C.
~10°C. If the reaction temperature is too high, side reactions will proceed and the yield will decrease; if the reaction temperature is too low, the reaction rate will decrease and the yield will decrease.

ハロゲン化水素ガスの導入は、通常05〜50時間、好
ましくは1〜20時間で行う。短すぎるとハロゲン化水
素ガスが充分には吸収されず、温度制御も困難になる。
The introduction of the hydrogen halide gas is usually carried out for 5 to 50 hours, preferably for 1 to 20 hours. If it is too short, hydrogen halide gas will not be absorbed sufficiently and temperature control will also become difficult.

長ずざると副生成物が増加して収率が低下する。ホルム
アルデヒド又はその重合物はハロゲン化水素ガス導入中
に加え終るようにする。
If the process is not carried out for a long time, by-products will increase and the yield will decrease. Formaldehyde or its polymer is added during the introduction of the hydrogen halide gas.

ハロゲン化水素ガス導入終了後に未反応原料が残ってい
る場合は、更に0.5〜5時間反応させる。長すぎると
副反応が進行する。
If unreacted raw materials remain after the introduction of the hydrogen halide gas, the reaction is continued for an additional 0.5 to 5 hours. If it is too long, side reactions will proceed.

また、前記式(II)で示される化合物は、前記式(I
II)で示される化合物と、 次式(C):   R’0CH2X2   (C)(式
中、R4は前述の低級アルキル基を表わし、X2は前記
と同義である。) で示される化合物を、酢酸及びx2に対応するハロゲン
化水素水溶液の存在下で反応させることによっても製造
することができる。
Further, the compound represented by the formula (II) is the compound represented by the formula (I)
II) and the compound represented by the following formula (C): R'0CH2X2 (C) (wherein R4 represents the above-mentioned lower alkyl group, and X2 has the same meaning as above), acetic acid It can also be produced by reacting in the presence of an aqueous hydrogen halide solution corresponding to x2.

本反応は、高価な金属触媒を必要とせず、かつ、ハロゲ
ン化水素ガス又は硫酸、発煙硫酸等の取り扱いの難しい
酸を使用することなく、温和な条件下、簡便な設備、簡
便な装置で化合物(II )を製造できることから、工
業的に適した優れた製造法である。
This reaction does not require expensive metal catalysts, does not use hydrogen halide gas or difficult-to-handle acids such as sulfuric acid or fuming sulfuric acid, and can be carried out under mild conditions with simple equipment and equipment. Since it can produce (II), it is an excellent production method that is industrially suitable.

前記式(C)で示される化合物の具体例としては、り四
ロメチルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテル
、ヨードメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエ
ーテル、ブロモメチルエチルエーテル、ヨードメチルエ
チルエーテル、クロロメチルブチルエーテル、クロロメ
チル−tertブチルエーテル、クロロメチルプロピル
エーテル等が挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the formula (C) include tetraromethyl methyl ether, bromomethyl methyl ether, iodomethyl methyl ether, chloromethyl ethyl ether, bromomethyl ethyl ether, iodomethyl ethyl ether, and chloromethyl butyl ether. , chloromethyl-tertbutyl ether, chloromethylpropyl ether, and the like.

化合物(C)は、化合物(III)に対して、通常Ol
〜20.0倍モル、好ましくは10〜50倍モル使用す
る。
Compound (C) is usually Ol
~20.0 times the mole, preferably 10 to 50 times the mole.

酢酸の使用量は化合物(Ill )に対して、通常05
倍モル以上であることが好ましい。
The amount of acetic acid used is usually 0.5 ml per compound (Ill).
It is preferable that the amount is twice the molar amount or more.

これ以下でも構わないが、反応速度が低下する。Although it may be less than this, the reaction rate will decrease.

ハロゲン化水素水溶液のハロゲン水素濃度は5%以上、
好ましくは15%以上で、特に好ましくは20〜50%
である。ハロゲン化水素量は、化合物(Ill )に対
して、通常02モル以上、好ましくは0.5モル以上で
ある。
The halogen hydrogen concentration of the hydrogen halide aqueous solution is 5% or more,
Preferably 15% or more, particularly preferably 20 to 50%
It is. The amount of hydrogen halide is usually 0.2 mol or more, preferably 0.5 mol or more, based on compound (Ill).

溶媒は使用しても、しなくてもよいが、使用する場合は
、溶媒として、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレ
ン、ジクロロエタン、ジオキサン、ベンゼン、り四ロベ
ンゼン、炭素数5〜10の飽和炭化水素が用いられる。
A solvent may or may not be used, but when used, the solvent may be carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, dioxane, benzene, tetralobenzene, or a saturated hydrocarbon having 5 to 10 carbon atoms. is used.

中でも四塩化炭素が好適である。反応温度は、通常80
℃以下、好ましくは0〜40°Cである。これ以下でも
構わないが反応速度が低下する。
Among them, carbon tetrachloride is preferred. The reaction temperature is usually 80
℃ or less, preferably 0 to 40°C. It may be less than this, but the reaction rate will decrease.

工呈(TI  →(I) 前記式(II)で示される化合物と、 次式(A):   X”CH20R’    (A)(
式中、R1は前記と同義であり;x3は前述のハロゲン
原子を表わす。) で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
させることにより前記式(I)で示される化合物を製造
することができる。
The compound represented by the formula (II) and the following formula (A): X"CH20R' (A) (
In the formula, R1 has the same meaning as above; x3 represents the above-mentioned halogen atom. ) The compound represented by formula (I) can be produced by reacting the compound represented by formula (I) in the presence of metal magnesium.

金属マグネシウムは、通常グリニヤール反応に使用する
ものであれば、形状その他、特に制限はない。
There are no particular limitations on the shape or other aspects of metallic magnesium as long as it is normally used in Grignard reactions.

化合物(A)は、化合物(II)に対して、通常0.1
〜200倍モル、好ましくは10〜5.0倍モル使用す
る。金属マグネシウムは、化合物(II)に対して、通
常Ol〜20,0倍グラム原子、好ましくは1.0〜5
.0倍グラム原子使用する。
Compound (A) is usually 0.1 to compound (II).
It is used in an amount of 200 to 200 times the mole, preferably 10 to 5.0 times the mole. Magnesium metal usually has an amount of 1 to 20.0 times the gram atom of compound (II), preferably 1.0 to 5
.. Use 0x gram atoms.

溶媒は、化合物(II)が瀉解さえしていれば、使用し
ても、しなくてもよいが、使用する場合は、一般にグリ
ニヤール反応に用いられる溶媒、即ち、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルセロソ
ルブ、ジグリム、ジメトキシメタン、ジェトキシメタン
等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼン
、トルエン等の炭化水素類の単一又は混合系溶媒が挙げ
られる。
The solvent may or may not be used as long as compound (II) is dissolved, but when used, solvents generally used in Grignard reactions, such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, Examples include single or mixed solvents of ethers such as dimethyl cellosolve, diglyme, dimethoxymethane and jetoxymethane, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene.

反応温度は、通常80°C以下、好ましくは30℃以下
、特に好ましくは0℃〜−20℃である。
The reaction temperature is usually 80°C or lower, preferably 30°C or lower, particularly preferably 0°C to -20°C.

この反応を行うに際し、触媒を共存させてもよい。共存
させる場合、触媒としては、ヨウ素、塩化第二水銀、臭
化メチル、臭化エチル等りリ二ヤール反応で一般に使用
されているものが挙げられる。
A catalyst may be present in the reaction. When used together, examples of the catalyst include catalysts commonly used in Rigniard reactions, such as iodine, mercuric chloride, methyl bromide, and ethyl bromide.

この反応は、空気存在下で行っても構わないが、通常は
アルゴン、ヘリウム、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下
に行う方が好適である。
Although this reaction may be carried out in the presence of air, it is usually more suitable to carry out it in an inert gas atmosphere such as argon, helium, or nitrogen gas.

次に、反応の実施方法について説明する。Next, a method for carrying out the reaction will be explained.

溶媒又は触媒の共存下又は非共存下、マグネシウムに化
合物(1■)を作用させ、クリ二ヤール反芯剤を製造し
、これに化合物(A)を作用させることにより、化合物
(丁)を製造することができる。
In the presence or absence of a solvent or a catalyst, compound (1) is made to act on magnesium to produce a Kliniyar anti-core agent, and compound (A) is made to act on this to produce compound (1). can do.

ただし、マグネシウムに化合物(1丁)及び(A)を作
用させる順序は、これに限られることはなく、マグネシ
ウムに化合物(A)を作用させた後、化合物(II)を
作用させても、また化合物(ii )及び(A>をマグ
ネシウムに同時に作用させてもよい。
However, the order in which compound (1 block) and (A) are made to act on magnesium is not limited to this, and even if compound (II) is made to act on magnesium after compound (A) is made to act on it, Compound (ii) and (A>) may be allowed to act on magnesium simultaneously.

本反応に用いる前記式(A)で示される化合物は、好ま
しくは、アルカリを含有する、次式(B):   R’
OF((B) (式中、R1は前記と同義である。) で示されるアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応
させた後、ハロゲン化水素で処理することにより製造す
ることができる。
The compound represented by the formula (A) used in this reaction preferably contains an alkali and has the following formula (B): R'
It can be produced by reacting the alcohol represented by OF((B) (wherein R1 has the same meaning as above) with paraformaldehyde and then treating with hydrogen halide.

本反応に用いられるパラホルムアルデヒドは、好ましく
は市販の純度80%以上のものである。
The paraformaldehyde used in this reaction is preferably commercially available and has a purity of 80% or more.

アルコール(B)は、パラホルムアルデヒドに対して、
通常0.5〜2倍モル、好ましくは0.7〜1.5倍モ
ル、更に好ましくは0.9〜1.1(音モルが用いられ
る。アルコール(B)が少なすぎると未反応のパラホル
ムアルデヒドが残り、多すぎるとホルムアルデヒドジア
ルキルアセタールの副生が増加する。
Alcohol (B) is for paraformaldehyde,
Usually 0.5 to 2 times the mole, preferably 0.7 to 1.5 times the mole, more preferably 0.9 to 1.1 times the mole. If the alcohol (B) is too small, unreacted Formaldehyde remains, and if there is too much formaldehyde, the by-product of formaldehyde dialkyl acetal increases.

本反応で用いるアルカリとしては、水酸化すトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化リチウム、ナトリウムアルコラード、カリウ
ムアルコラード、マグネシウムアルコラード、リチウム
アルコラードが挙げられ(アルコラードは反応に用いる
アルコール由来のものが好ましい。)、好ましくは、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムアルコラ
ード、カリウムアルコラードが用いられる。
The alkali used in this reaction is thorium hydroxide,
Examples include potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, lithium hydroxide, sodium alcoholade, potassium alcoholade, magnesium alcoholade, and lithium alcoholade (alcolade is preferably derived from the alcohol used in the reaction), and is preferred. Sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium alcoholade, and potassium alcoholade are used.

これらのアルカリは、そのまま又は水溶液もしくはアル
コール溶液としてアルコール中に加えられる。用いられ
るアルカリの量は、パラホルムアルデヒドに対して、通
常0.00001〜O1倍モル、好ましくは0.000
1〜0.01倍モルである。アルカリ量が少なすぎると
パラホルムアルデヒドの溶解速度が遅くなり、多すぎる
とハロゲン化水素ガス導入初期の発熱が多くなり温度調
節が困難になる。
These alkalis are added to the alcohol as such or as an aqueous or alcoholic solution. The amount of alkali used is usually 0.00001 to 1 mole of O per paraformaldehyde, preferably 0.000
It is 1 to 0.01 times the mole. If the amount of alkali is too small, the dissolution rate of paraformaldehyde will be slow, and if it is too large, heat generation will increase in the initial stage of introduction of the hydrogen halide gas, making temperature control difficult.

バラホルムアルデヒドにアルカリ含有アルコールを作用
させる温度は、通常10〜200°C1好ましくは30
〜100℃である。温度が低すぎるとバラホルムアルデ
ヒドの溶解に時間を要し、高すぎるとハロゲン化水素導
入前の冷却に時間を要する。
The temperature at which the alkali-containing alcohol is allowed to act on rose formaldehyde is usually 10 to 200°C, preferably 30°C.
~100°C. If the temperature is too low, it will take time to dissolve formaldehyde, and if the temperature is too high, it will take time to cool down before introducing hydrogen halide.

塩化水素ガスの量は、通常、パラホルムアルデヒドの1
.2〜3倍モルである。ハロゲン化水素ガスが少なすぎ
るとホルムアルデヒドジアルキルアセクールが増加して
、多すぎるとハロメチルアルキルエーテルの水層への溶
解量が増加してしまう。
The amount of hydrogen chloride gas is usually 1 % of paraformaldehyde.
.. It is 2 to 3 times the mole. If the amount of hydrogen halide gas is too small, formaldehyde dialkyl acecule will increase, and if it is too large, the amount of halomethyl alkyl ether dissolved in the aqueous layer will increase.

ハロゲン化水素ガス導入時の温度は、通常15〜−25
℃、好ましくは10〜−20℃である。反応温度が高す
ぎるとホルムアルデヒドジアルキルアセクールが増加し
、低すぎると反応速度が遅くなる。ハロゲン化水素導入
の時間は、冷却能力により大きく異なる。通常1〜10
時間程度で導入を行うが、短すぎると温度調節が困難と
なる。しかし、ハロゲン化水素ガス導入の時間が10時
間をはるかに超えても反応には何らさしつかえない。
The temperature when hydrogen halide gas is introduced is usually 15 to -25
℃, preferably 10 to -20℃. If the reaction temperature is too high, formaldehyde dialkyl acecure will increase, and if the reaction temperature is too low, the reaction rate will be slow. The time for introducing hydrogen halide varies greatly depending on the cooling capacity. Usually 1-10
The introduction takes about an hour, but if it is too short, it will be difficult to control the temperature. However, even if the time for introducing the hydrogen halide gas far exceeds 10 hours, there is no problem in the reaction.

直重」璽Y二」ヱエ 前記式(VIII)で示される化合物を、次式(D):
   (R’CC00)n   (D)(式中、R6は
前記と同義であり1Mは1価又は2価の金属を表わし:
nは1又は2を表わす。) で示される化合物と反応させることにより前記式(■)
で示される化合物を製造することができる。
The compound represented by the above formula (VIII) is converted into the following formula (D):
(R'CC00)n (D) (wherein, R6 has the same meaning as above, and 1M represents a monovalent or divalent metal;
n represents 1 or 2. ) By reacting with a compound represented by the formula (■)
A compound represented by can be produced.

前記式(D)において、Mで表わされる金属原子は、1
価又は2価のアルカリ金属又はアルカリ土類金属であり
、好ましくはナトリウム又はカリウムである。
In the formula (D), the metal atom represented by M is 1
It is a valent or divalent alkali metal or alkaline earth metal, preferably sodium or potassium.

用いる溶媒は、原料(■)を溶解し、カルボン酸金属塩
(D)の全部又は一部を溶解し、反応を阻害しないもの
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロ
リドン等が挙げられ、特にジメチルホルムアミドが好ま
しい。
The solvent used may be any solvent as long as it dissolves the raw material (■), all or part of the carboxylic acid metal salt (D), and does not inhibit the reaction, such as methanol, ethanol, acetone, dimethylformamide. , dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, etc., with dimethylformamide being particularly preferred.

反応温度は、通常0〜100℃、好ましくは30〜60
°Cである。カルボン酸金属塩(D)の使用量は、原料
(■)に対して、通常1〜10倍、好ましくは1.5〜
3倍当量である。
The reaction temperature is usually 0 to 100°C, preferably 30 to 60°C.
It is °C. The amount of carboxylic acid metal salt (D) used is usually 1 to 10 times, preferably 1.5 to 10 times, relative to the raw material (■).
It is 3 times equivalent.

反応の進行は、反応溶液の一部をとり、ガスクロマトグ
ラフィーにより分析し、追跡することができる。原料(
■)が消費されたところで常圧又は減圧下において反応
溶媒を留去し、残渣を水中にあけ、有機溶媒で抽出後、
水洗、乾燥し、抽出溶媒を留去すると化合物(V)が得
られる。必要に応じて、カラムクロマトグラフィー、再
結晶、蒸留等の方法を用いて精製することができるが、
通常は精製なしで十分な純度のものが得られる。
The progress of the reaction can be monitored by taking a portion of the reaction solution and analyzing it by gas chromatography. material(
When (ii) is consumed, the reaction solvent is distilled off under normal pressure or reduced pressure, the residue is poured into water, and after extraction with an organic solvent,
Compound (V) is obtained by washing with water, drying, and distilling off the extraction solvent. If necessary, it can be purified using methods such as column chromatography, recrystallization, distillation, etc.
Usually, sufficient purity can be obtained without purification.

本反応で用いる前記式(VIII)で示される化合物は
、例えば以下のようにして製造することができる。
The compound represented by the formula (VIII) used in this reaction can be produced, for example, as follows.

前記式(IX)で示されるフェノール類と、次式(E)
:   Z’CH2CH,X’   (E)(式中、Z
′はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基又はア
リールスルホニルオキシ基を表わし;xlは前記と同義
である。)で示される化合物を塩基の存在下で反応させ
ると、前記式(III )で示される化合物が得られる
A phenol represented by the above formula (IX) and the following formula (E)
: Z'CH2CH,X' (E) (in the formula, Z
' represents a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group; xl has the same meaning as above. ) is reacted in the presence of a base to obtain a compound represented by the formula (III).

次いで、この化合物(IfF )をルイス酸の存在下、 次式(F):   X5COCH2X’    (F)
(式中、×6はハロゲン原子、水酸基又は式ニー0CC
H,X’で示される基を表わし+X’は前記と同義であ
る。) で示される化合物と反応させることにより化合物(■)
を製造することができる。
Next, this compound (IfF) is converted into the following formula (F) in the presence of a Lewis acid: X5COCH2X' (F)
(In the formula, ×6 is a halogen atom, a hydroxyl group, or a formula
It represents a group represented by H and X', and +X' has the same meaning as above. ) By reacting with the compound shown in (■)
can be manufactured.

前記式(F)で示される化合物としては、クロロ酢酸ク
ロリド、ブロモ酢酸プロミド等の酸ハロゲン化物、無水
クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸等の酸無水物;及びクロロ
酢酸、ブロモ酢酸等のカルボン酸が挙げられるが、好ま
しくはクロロ酢酸クロリドが挙げられる。その使用量は
、化合物(III)に対して、通常1〜3倍当量、好ま
しくは1〜1.5倍当量である。
Examples of the compound represented by the formula (F) include acid halides such as chloroacetic acid chloride and bromoacetic acid bromide; acid anhydrides such as chloroacetic anhydride and bromoacetic anhydride; and carboxylic acids such as chloroacetic acid and bromoacetic acid. Among them, chloroacetic acid chloride is preferred. The amount used is usually 1 to 3 times equivalent, preferably 1 to 1.5 times equivalent, relative to compound (III).

用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、り四ロベンゼン
、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、塩化メチレン、四
塩化炭素、二硫化炭素等、反応に関与しないものであれ
ば如何なるものでもよい。
Any solvent may be used as long as it does not participate in the reaction, such as nitrobenzene, tetralobenzene, dichlorobenzene, nitromethane, methylene chloride, carbon tetrachloride, and carbon disulfide.

反応温度は、通常−20〜100℃、好ましくは0〜3
0℃である。
The reaction temperature is usually -20 to 100°C, preferably 0 to 3
It is 0°C.

用いるルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化アル
ミニウム、三塩化ホウ素、四塩化チタン、三フッ化ホウ
素、塩化第二スズ、塩化亜鉛等が挙げられる。その使用
量は、化合物(III)に対して、通常1〜5倍当量、
好ましくは1〜3倍当量である。
Examples of the Lewis acid used include aluminum chloride, aluminum bromide, boron trichloride, titanium tetrachloride, boron trifluoride, stannic chloride, and zinc chloride. The amount used is usually 1 to 5 times equivalent to compound (III),
Preferably it is 1 to 3 times equivalent.

反応の進行は、反応液の一部に水を加えて反応を停止し
、有機層をガスクロマトグラフィーにより分析して追跡
することができる。化合物(III )が消費されたら
、水を加えてルイス酸を分解し、有機溶媒で抽出後、水
洗、乾燥する。溶媒を留去することにより、化合物(■
)を得ることができる。必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィー、再結晶、蒸留等により精製することができる
The progress of the reaction can be monitored by adding water to a portion of the reaction solution to stop the reaction and analyzing the organic layer by gas chromatography. When compound (III) is consumed, water is added to decompose the Lewis acid, extracted with an organic solvent, washed with water, and dried. By distilling off the solvent, the compound (■
) can be obtained. If necessary, it can be purified by column chromatography, recrystallization, distillation, etc.

上平 ■ → IV 前記式(V)で示される化合物を、水素化ホウ素ナトリ
ウム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤で
処理することにより前記式(IV)で示される化合物を
製造することができる。
Kamihira ■ → IV The compound represented by the above formula (IV) can be produced by treating the compound represented by the above formula (V) with a reducing agent consisting of sodium borohydride and boron trifluoride ether complex salt. can.

従来、芳香族ケトンをメチレン鎖に還元する方法はいく
つか知られているが、例えば亜鉛アマルガムを用いるク
レメンゼン還元、ヒドラジンと水酸化アルカリを用いる
つオルフーキッシュナー還元及び金属触媒を用いた水素
添加法等が一般的である。しかし、これらの方法を用い
、化合物(V)を還元する場合、次のような問題点があ
る。
Conventionally, several methods are known for reducing aromatic ketones to methylene chains, such as Clemensen reduction using zinc amalgam, Orfu-Kishner reduction using hydrazine and alkali hydroxide, and hydrogenation using a metal catalyst. Laws etc. are common. However, when reducing compound (V) using these methods, there are the following problems.

l)ウォルフーキッシュナー還元では、強塩基を用いる
ため原料のアシルオキシアシル基の分解、重合が起こる
l) In the Wolff-Kishner reduction, the acyloxyacyl group of the raw material is decomposed and polymerized because a strong base is used.

2)タレメンゼン還元では、水銀を用いるため医農薬中
間体合成には適当でなく、またアマルガムの発火の危険
及び反応後の処理の問題がある。
2) Talemensen reduction uses mercury, so it is not suitable for the synthesis of pharmaceutical and agricultural intermediates, and there is also a risk of ignition of the amalgam and problems with post-reaction treatment.

3)金属触媒を用いる水素添加では、例えばRL、  
C1arkらが J、  Am、  Chem、  S
oc、、  77、 661(1955)中で示してい
るように、Pd−炭素ではアシルオキシアシル基はアシ
ル基に還元され、本反応で目的とするヒドロキシエチル
基を与えない。
3) In hydrogenation using metal catalysts, for example, RL,
C1ark et al. J, Am, Chem, S
oc, 77, 661 (1955), the acyloxyacyl group is reduced to an acyl group on Pd-carbon, and the desired hydroxyethyl group is not provided in this reaction.

また、H,Adkinsらは、J、 Am、 Chem
、 5oc53、1091(1931)及び70.31
21 (1948)中でCuC’r○触媒を用い、アセ
ト酢酸エチルを還元し、3−ヒドロキシ酪酸及び1.3
−ブタンジオールをそれぞれ選択的に合成しているが、
従来、ケトエステルのケトン部をメチレンにエステル部
をアルコールに選択的に同時に還元する方法は文献記載
がなかった。
Also, H. Adkins et al., J. Am. Chem.
, 5oc53, 1091 (1931) and 70.31
21 (1948) using a CuC'r○ catalyst to reduce ethyl acetoacetate to 3-hydroxybutyric acid and 1.3
-butanediol is selectively synthesized,
Conventionally, there has been no literature describing a method for selectively and simultaneously reducing the ketone moiety of a ketoester to methylene and the ester moiety to alcohol.

水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、原料(V)に対し
て、通常1〜10倍当量、好ましくは2〜5倍当量であ
る。
The amount of sodium borohydride used is usually 1 to 10 times the equivalent, preferably 2 to 5 times the equivalent of the raw material (V).

三フッ化ホウ素エーテル錨塩の使用量は、原料(V)に
対して、5〜50倍当量、好ましくは10〜30イ音当
量である。
The amount of boron trifluoride ether anchor salt used is 5 to 50 equivalents, preferably 10 to 30 sonic equivalents, based on the raw material (V).

本反応は無溶媒でも行うことができるが、通常は溶媒を
用いる。溶媒としては、反応を阻害しないものであれば
如何なるものでもよいが、好ましくはテトラヒドロフラ
ン、ジグリム、ジオキサン、ジエチルエーテル、イソプ
ロピルエーテル等のエーテル系溶媒を挙げられる。
Although this reaction can be carried out without a solvent, a solvent is usually used. Any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction, but ether solvents such as tetrahydrofuran, diglyme, dioxane, diethyl ether, and isopropyl ether are preferred.

反応温度は、通常0〜80℃である。The reaction temperature is usually 0 to 80°C.

反応の進行は、反応液の一部をとり、水又は希酸により
反応試薬を分解した後、適当な有機溶媒で抽出し、有機
層をガスクロマトグラフィー又は薄層クロマトグラフィ
ー等により分析して追跡することかできる。原料が消費
されたところで、水又は希鉱酸を加えて反応試薬を分解
し、適当な有機溶媒で抽出後、水洗、乾燥して抽出溶媒
を留去すると化合物(IV)が得られる6必要に応じて
カラムクロマトグラフィー、蒸留等の方法を用いて精製
することができるが、通常は精製なしで充分な純度のも
のが得られる。
The progress of the reaction can be monitored by taking a portion of the reaction solution, decomposing the reaction reagent with water or dilute acid, extracting with a suitable organic solvent, and analyzing the organic layer by gas chromatography or thin layer chromatography. I can do something. When the raw materials are consumed, add water or dilute mineral acid to decompose the reaction reagent, extract with a suitable organic solvent, wash with water, dry and distill off the extraction solvent to obtain compound (IV)6. Depending on the situation, it can be purified using methods such as column chromatography or distillation, but usually products of sufficient purity can be obtained without purification.

工1(IV  →(■ 前記式(IV )で示される化合物を、アルカリの存在
下でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式(I
)で示される化合物を製造することができる。
Process 1 (IV → (■) The compound represented by the formula (IV) is reacted with dialkyl sulfuric acid in the presence of an alkali to form the compound represented by the formula (I).
) can be produced.

1呈(V → Vl 前記式(V)で示される化合物を、ラネーニッケルの存
在下、水素加圧下で処理することにより前記式(VI)
で示される化合物を製造することができる。
1. (V → Vl) The compound represented by the formula (V) is treated under hydrogen pressure in the presence of Raney nickel to form the compound represented by the formula (VI).
A compound represented by can be produced.

従来、アシルオキシアシル基を2−アシルオキシエチル
基に選択的に還元する方法は知られていない。
Conventionally, no method has been known for selectively reducing an acyloxyacyl group to a 2-acyloxyethyl group.

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられる溶媒で
あれば如何なるものでもよ(、例えばメタノール、エタ
ノール、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ジオキサン、
シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、ジメチルホ
ルムアミド等が挙げられる。
The solvent used may be any solvent commonly used in catalytic hydrogenation (for example, methanol, ethanol, diethyl ether, ethyl acetate, dioxane, etc.).
Examples include cyclohexane, water, tetrahydrofuran, dimethylformamide, and the like.

反応温度は、通常50〜200°C1好ましくは80〜
150℃である。
The reaction temperature is usually 50-200°C, preferably 80-200°C.
The temperature is 150°C.

ラネーニッケルの使用量は、原料(V)に対して、通常
1〜100重量%、好ましくは5〜50重量%である。
The amount of Raney nickel used is usually 1 to 100% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the raw material (V).

水素圧は、通常10〜100kg/Cm2Gであり、好
ましくは20〜70 kg/ cm2Gである。反応の
進行は、反応中の圧力の減少、又は反応液の一部をとり
ガスクロマトグラフィーで分析して追跡することができ
る。反応後は、放冷して水素を解放後、ラネーニッケル
を決別し、反応溶媒を留去することにより粗製の化合物
(VI)を得ることができる。必要に応じてカラムクロ
マトグラフィ蒸留、再結晶等の方法を用いて精製するこ
とがてきる。
The hydrogen pressure is usually 10 to 100 kg/cm2G, preferably 20 to 70 kg/cm2G. The progress of the reaction can be monitored by reducing the pressure during the reaction or by taking a portion of the reaction solution and analyzing it by gas chromatography. After the reaction, crude compound (VI) can be obtained by allowing the reaction mixture to cool to release hydrogen, separating out the Raney nickel, and distilling off the reaction solvent. If necessary, it can be purified using methods such as column chromatography distillation and recrystallization.

工 (■ → ■ 前記式(V)で示される化合物を、ラネーニッケルの存
在下、常圧で処理することにより前記式(vn )で示
される化合物を製造することができる。
(■ → ■) The compound represented by the formula (vn) can be produced by treating the compound represented by the formula (V) at normal pressure in the presence of Raney nickel.

従来、アシルオキシアシル基を1−ヒドロキシ−2−ア
シルオキシエチル基に選択的に還元する方法は知られて
いない。
Hitherto, no method has been known for selectively reducing an acyloxyacyl group to a 1-hydroxy-2-acyloxyethyl group.

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられるもので
あれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エタ
ノール、酢酸エチル、ジオキサン、水、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、好まし
くはエタノール及びメタノールである。
The solvent to be used may be any solvent used in normal catalytic hydrogenation, such as methanol, ethanol, ethyl acetate, dioxane, water, tetrahydrofuran, dimethylformamide, etc., but preferably ethanol and methanol. .

反応温度は、通常0〜100°C1好ましくは20〜8
0℃である。
The reaction temperature is usually 0 to 100°C, preferably 20 to 8°C.
It is 0°C.

ラネーニッケルの使用量は、原$1(V)に対して、通
常1〜150重量%、好ましくは5〜50重量%である
The amount of Raney nickel used is usually 1 to 150% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the original $1(V).

反応の進行は、反応液の一部をとり、薄層クロマトグラ
フィーにより分析して追跡することができる。反応後は
、ラネーニッケルを炉別し、反応溶媒を留去することに
より化合物(vn)を得ることができる。通常は精製な
しで充分な純度のものが得られるが、必要に応じてカラ
ムクロマトグラフィー、再結晶等で精製することができ
る。
The progress of the reaction can be tracked by taking a portion of the reaction solution and analyzing it by thin layer chromatography. After the reaction, the compound (vn) can be obtained by separating the Raney nickel and distilling off the reaction solvent. Usually, a product of sufficient purity can be obtained without purification, but if necessary, it can be purified by column chromatography, recrystallization, etc.

1呈 vn  → Vl 前記式(vn )で示される化合物を、ラネーニッケル
の存在下、常圧水素で還元することにより前記式(VI
)で示される化合物を製造することができる。
1 Presentation vn → Vl By reducing the compound represented by the above formula (vn) with atmospheric hydrogen in the presence of Raney nickel, the above formula (VI
) can be produced.

1我」Ju二二工上り 前記式(VI)で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式(I)
で示される化合物を製造することができる。
By reacting the compound represented by the above formula (VI) with dialkyl sulfuric acid in the presence of an alkali, the above formula (I)
A compound represented by can be produced.

以上詳述したように、本発明の化合物(I)は、ルート
 [1] (Ix) −(Irr) −(H) −(I )、ルー
ト [2] (IX) −(Ill) −(■)−(V)−(IV)
−(I)  、 ルート [3] (IX) −(1丁) −(■) −(V) −(Vr
) −(IV) → (I)  、 ルート [4] : (IX) −(III) −(VII[) −(V) 
−(Vn) −(VI) −(JV)→(I)、 及び ルート [5] (IX) −(IIT) −(■)−(V)−(V旧→
(vr)→(I) の5通りの合成ルートで製造することができるが、工程
数が少ないルート[1]が特に好ましい。
As detailed above, the compound (I) of the present invention has the root [1] (Ix) -(Irr) -(H) -(I ), the root [2] (IX) -(Ill) -(■ )-(V)-(IV)
-(I), Root [3] (IX) -(1 piece) -(■) -(V) -(Vr
) −(IV) → (I), root [4]: (IX) −(III) −(VII[) −(V)
-(Vn) -(VI) -(JV)→(I), and root [5] (IX) -(IIT) -(■)-(V)-(V old→
It can be produced by five synthetic routes: (vr)→(I), but route [1] with fewer steps is particularly preferred.

(発明の実施例) 以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、こ
れらの実施例は、本発明の範囲を何ら制限するものでは
ない。
(Examples of the Invention) Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples, but these Examples are not intended to limit the scope of the present invention in any way.

実施例1l−(2−クロロエトキシ)−4(クロロメチ
ル)−2,3−ジメチル ベンゼン(1■)の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン184.69g (1,00モル)を四塩化炭素40
0−に溶解させておき、36%濃塩酸300−を加え一
5°Cに冷却した。撹拌しながら塩化水素ガスの導入と
35%ホルマリン430.90g (5,00モル)の
滴下を行った。ホルマリンは3時間で滴下した。塩化水
素ガスは4時間で665.0g (18,20モル)の
導入を終了した。この間、温度は一10〜0°Cに保っ
た。塩化水素ガス導入終了後に一5°Cで45分間撹拌
した。
Example 1 Synthesis of l-(2-chloroethoxy)-4(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene (1■) 184.69 g of 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene (1, 00 mol) to carbon tetrachloride 40
The mixture was dissolved in 300°C of 36% concentrated hydrochloric acid and cooled to -5°C. While stirring, hydrogen chloride gas was introduced and 430.90 g (5.00 mol) of 35% formalin was added dropwise. Formalin was added dropwise over 3 hours. The introduction of 665.0 g (18.20 mol) of hydrogen chloride gas was completed in 4 hours. During this time, the temperature was maintained at -10-0°C. After completing the introduction of hydrogen chloride gas, the mixture was stirred at -5°C for 45 minutes.

有機相を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。窒素
を導入して塩化水素ガスを除き、濃縮して得た293.
OOgの残渣は減圧蒸留で精製した。
The organic phase was separated and dried over anhydrous calcium chloride. 293. was obtained by introducing nitrogen to remove hydrogen chloride gas and concentrating it.
The OOg residue was purified by vacuum distillation.

収量  195.84g (84%) bp     145−152℃(2,5mmHg)m
p      58〜61℃ 元素分析  CHCff 理論値 5667% 6.05%  30.41%実測
値 56.43% 6.01%  3069%MS (
m/e) : 233 H−NMR((1:DCム)δ: 2.20 (3H,
sl 、 2.33 (3H,s)3、82 (2H,
t、 J・6Hz) 、 4.21 (2Ht、J−6
Hzl、 4.61(2H,s)、 6.65(IH,
d、J=8Hzl、 7.11DH,d。
Yield 195.84g (84%) bp 145-152℃ (2.5mmHg)m
p 58-61°C Elemental analysis CHCff Theoretical value 5667% 6.05% 30.41% Actual value 56.43% 6.01% 3069% MS (
m/e): 233H-NMR ((1:DC)δ: 2.20 (3H,
sl, 2.33 (3H, s) 3,82 (2H,
t, J・6Hz), 4.21 (2Ht, J-6
Hzl, 4.61 (2H, s), 6.65 (IH,
d, J=8Hzl, 7.11DH,d.

J=8Hz) IRfKBr)cm−’:2915. 1585. 1
475. 12951255、1100.1030.7
95.650実施例2l−(2−クロロエトキシ)−4
−(クロロメチル)−2,3−ジメチル ベンゼン(II )の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン60.00g (0,348モル)を四塩化炭素17
0−に溶解させておき、水68−を加え室温で20分間
塩化水素ガスを導入した。−5℃まで冷却して35%ホ
ルマリン149.39g (1,67iモル)を1.5
時間で滴下した。ホルマリンの滴下中も塩化水素ガスは
続けて導入して224.0g (6,145モル)を3
時間で加えた。この間温度は−8〜−2°Cに保ち激し
く撹拌した。更にその温度で0.5時間撹拌した。後処
理と精製は実施例1と同様に行った。
J=8Hz) IRfKBr)cm-':2915. 1585. 1
475. 12951255, 1100.1030.7
95.650 Example 2l-(2-chloroethoxy)-4
Synthesis of -(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene (II) 1-60.00 g (0,348 mol) of -(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene was added to 17 mol of carbon tetrachloride.
0- was dissolved in 0-, water 68- was added, and hydrogen chloride gas was introduced at room temperature for 20 minutes. Cool to -5°C and add 149.39 g (1,67 imol) of 35% formalin to 1.5
It dripped in time. Hydrogen chloride gas was continuously introduced while formalin was being added, and 224.0 g (6,145 mol) was
Added in time. During this time, the temperature was kept at -8 to -2°C and vigorously stirred. The mixture was further stirred at that temperature for 0.5 hour. Post-treatment and purification were performed in the same manner as in Example 1.

収量  59.79g (73,7%)実施例3l−(
2−クロロエトキシ)−4−(クロロメチル)−2,3
−ジメチル ベンゼン(II)の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン89.20g (0,483モル)を四塩化炭素20
0−に溶解させておき、36%濃塩酸145−を加え一
4℃に冷却した。撹拌しながら塩化水素ガスの導入と3
5%ホルマリン85.78g (1,000モル)の滴
下を行った。ホルマリンは2時間で滴下した。塩化水素
ガスは4時間で820g (22,50モル)の導入を
終了した。この間、温度は一5〜0℃に保つた。塩化水
素ガス導入終了後、更にその温度で2時間撹拌した。後
処理と精製は実施例1と同様に行った。
Yield 59.79g (73.7%) Example 3l-(
2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3
- Synthesis of dimethylbenzene (II) 1-89.20 g (0,483 mol) of -(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene was added to 20 g of carbon tetrachloride.
36% concentrated hydrochloric acid was added thereto, and the mixture was cooled to -4°C. Introducing hydrogen chloride gas while stirring and 3.
85.78 g (1,000 mol) of 5% formalin was added dropwise. Formalin was added dropwise over 2 hours. The introduction of 820 g (22.50 mol) of hydrogen chloride gas was completed in 4 hours. During this time, the temperature was maintained at -5 to 0°C. After completing the introduction of hydrogen chloride gas, the mixture was further stirred at that temperature for 2 hours. Post-treatment and purification were performed in the same manner as in Example 1.

収量  80.40g(71%) 実施例4l−(2−クロロエトキシ)−4=(クロロメ
チル)−2,3−ジメチル ベンゼン(II )の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン2.98g (15,6mmol) 、酢酸5−1濃
塩酸(35%)5−1四塩化炭素5−を採り、これにり
四ロメチルエチルエーテル3、Log (32,4mm
ol)を滴下して加えた。
Yield 80.40g (71%) Example 4 Synthesis of l-(2-chloroethoxy)-4=(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene (II) 1-(2-chloroethoxy)-2,3- Take 2.98 g (15.6 mmol) of dimethylbenzene, 5-1 acetic acid, 5-1 concentrated hydrochloric acid (35%), 5-1 carbon tetrachloride, and add to this 3, Log (32,4 mm
ol) was added dropwise.

室温下2時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウ
ムで乾燥後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ
、1−(2−クロロエトキシ)−4−(クロロメチル)
−2,3−ジメチルベンゼンが92%の収率で生成して
いた。
After stirring at room temperature for 2 hours, the mixture was separated. After drying the organic phase with calcium chloride, analysis by gas chromatography revealed that 1-(2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)
-2,3-dimethylbenzene was produced with a yield of 92%.

実施例5l−(2−クロロエトキシ)−4(クロロメチ
ル)−2,3−ジメチル ベンゼン(II)の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.35g (48,9mmol)、酢酸45d、濃
塩酸(35%)15i、四塩化炭素15m1を採り、こ
れにクロロメチルエチルエーテル9 、 56 g (
l O0、1mmol)を滴下して加えた。室温下3時
間撹拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾燥後
、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、1−(2
−クロロエトキシ)−4−(クロロメチル)−2,3−
ジメチルベンゼンが86%の収率で生成していた。
Example 5 Synthesis of l-(2-chloroethoxy)-4(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene (II) 9.35 g (48.9 mmol) of 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene ), 45 d of acetic acid, 15 i of concentrated hydrochloric acid (35%), and 15 ml of carbon tetrachloride, and to this were added 9.56 g of chloromethyl ethyl ether (
l O0, 1 mmol) was added dropwise. After stirring at room temperature for 3 hours, the mixture was separated. After drying the organic phase with calcium chloride, analysis by gas chromatography revealed that 1-(2
-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3-
Dimethylbenzene was produced with a yield of 86%.

実施例6l−(2−クロロエトキシ)−4−(クロロメ
チル)−2,3−ジメチル ベンゼン(IT)の合成 1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン46.0g (240,5mmol)、酢酸50d、
濃塩酸(35%)50−1四塩化炭素5O−In!!を
採り、これにクロロメチルエチルエーテル4.7. 5
6 g (497,8mmol)を滴下して加えた。室
温下3時間撹拌後、分液した。有機相を塩化カルシウム
で乾燥後、溶媒を留去して53.77gの残渣を得た。
Example 6 Synthesis of l-(2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene (IT) 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene 46.0 g (240, 5 mmol), acetic acid 50 d,
Concentrated hydrochloric acid (35%) 50-1 carbon tetrachloride 5O-In! ! and chloromethyl ethyl ether 4.7. 5
6 g (497.8 mmol) were added dropwise. After stirring at room temperature for 3 hours, the mixture was separated. After drying the organic phase with calcium chloride, the solvent was distilled off to obtain 53.77 g of residue.

これを減圧下蒸留して120〜125°C10,5mm
Hgの留分として45.60gの1−(2−クロロエト
キシ)−4−〔クロロメチル)−2,3−ジメチルベン
ゼンを得た。(収率80%) 比較例1 l−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン3. Ol g (15,7mmol) 、酢酸5−
1四塩化炭素5−を採り、クロロメチルエチルエーテル
3.08g (32,2mmol)を滴下して加えた。
Distill this under reduced pressure to 120-125°C10.5mm
45.60 g of 1-(2-chloroethoxy)-4-[chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene was obtained as a Hg fraction. (Yield 80%) Comparative Example 1 l-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene3. Ol g (15.7 mmol), acetic acid 5-
1 Carbon tetrachloride 5- was taken, and 3.08 g (32.2 mmol) of chloromethyl ethyl ether was added dropwise.

室温下13時間撹拌後、分液し有機相をガスクロマトグ
ラフィーで分析したところ、1−(2−クロロエトキシ
)−2,3−ジメチルベンゼンが79%未反応のまま残
存し、ビス[4−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジ
メチルフェニル]メタンが19%の収率で生成していた
After stirring at room temperature for 13 hours, the layers were separated and the organic phase was analyzed by gas chromatography. As a result, 79% of 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene remained unreacted, and bis[4- (2-chloroethoxy)-2,3-dimethylphenyl]methane was produced in a yield of 19%.

比較例2 l−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.32g (48,7mmol)、酢酸15m1、
四塩化炭素15−を採り、水冷下塩化水素ガスを吹き込
みながら、クロロメチルエチルエーテル9.63g (
100,8mmol)を滴下して加えた。5時間反応後
、塩化水素ガスの吹き込みを止め分液した。有機相をガ
スクロマトグラフィーで分析したところ、ビス[4−(
2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルフェニル1メ
クンが92%の収率で生成していた。
Comparative Example 2 l-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene 9.32g (48.7mmol), acetic acid 15ml,
Carbon tetrachloride 15- was taken, and while cooling with water and blowing hydrogen chloride gas into it, 9.63 g of chloromethyl ethyl ether (
100.8 mmol) was added dropwise. After 5 hours of reaction, the blowing of hydrogen chloride gas was stopped and the mixture was separated. Analysis of the organic phase by gas chromatography revealed that bis[4-(
2-chloroethoxy)-2,3-dimethylphenyl 1 mecne was produced in a yield of 92%.

比較例3 l−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン3.00g (15,7mmol) 、四塩化炭素5
mA’、濃塩酸(35%)5−を採り、これにクロロメ
チルエチルエーテル3.10g(32,4mmol)を
滴下して加えた。室温下1時間撹拌後、分液し有機相を
ガスクロマトグラフィーで分析したところ、1−(2−
クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼンが57%
未反応のまま残存し、ビス[4−(2−クロロエトキシ
)−2,3−ジメチルフェニル1メクンが38%の収率
で生成していた。
Comparative example 3 l-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene 3.00 g (15.7 mmol), carbon tetrachloride 5
mA', concentrated hydrochloric acid (35%) 5- was taken, and 3.10 g (32.4 mmol) of chloromethyl ethyl ether was added dropwise thereto. After stirring for 1 hour at room temperature, the layers were separated and the organic phase was analyzed by gas chromatography.
57% chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene
It remained unreacted, and bis[4-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylphenyl 1 mecne was produced in a yield of 38%.

比較例4 l−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼ
ン3.03g (15,8mmol)、酢酸5i、四塩
化炭素5−1濃塩酸(35%)5艷を採り、これにホル
マリン(37%)2.55g(31、4mmol)を滴
下して加えた。室温下20時間撹拌後、分液した。有機
相をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1−(
2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチルベンゼンが3
5%未反応のまま残存し、ビス[4−(2−クロロエト
キシ)−2,3−ジメチルフェニルコメタンが44%の
収率て生成していた。
Comparative Example 4 3.03 g (15.8 mmol) of l-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene, 5 parts of acetic acid, 5 parts of concentrated hydrochloric acid (35%) of 5 parts of carbon tetrachloride were taken, and formalin was added to this. (37%) 2.55 g (31.4 mmol) were added dropwise. After stirring at room temperature for 20 hours, the mixture was separated. When the organic phase was analyzed by gas chromatography, it was found that 1-(
2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene is 3
5% remained unreacted, and bis[4-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylphenylcomethane was produced at a yield of 44%.

実施例7 クロロメチルエチルエーテル(A)の合成 エタノール1018.6g (22,00モル)に水酸
化すトリウム1.20g (0,0279モル)を加え
65°Cで撹拌して溶解させた。
Example 7 Synthesis of chloromethyl ethyl ether (A) 1.20 g (0,0279 mol) of thorium hydroxide was added to 1018.6 g (22,00 mol) of ethanol and dissolved by stirring at 65°C.

そこへ、バラホルムアルデヒド(市販80%)825.
8g(ホルムアルデヒドに換算して、22.00モル)
を加え、1時間65℃で加熱撹拌してバラホルムアルデ
ヒドを溶解させた。
Then rose formaldehyde (commercially available 80%) 825.
8g (22.00 moles in terms of formaldehyde)
was added, and the mixture was heated and stirred at 65° C. for 1 hour to dissolve the formaldehyde.

バラホルムアルデヒド溶解後に冷却して0〜10°Cに
保ちながら、塩化水素ガス1127g(30,92モル
)を65時間かけて導入撹拌した。
After dissolving the formaldehyde, 1127 g (30.92 mol) of hydrogen chloride gas was introduced and stirred over 65 hours while cooling and maintaining the temperature at 0 to 10°C.

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム5.
OOgを加えて乾燥後に炉別して、炉液な80℃で1.
5時間加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。
After the reaction is completed, the organic phase is separated and anhydrous calcium chloride5.
After adding OOg and drying, separate the oven and heat at 80°C for 1.
Hydrogen chloride gas was removed by heating for 5 hours, followed by distillation.

収量 1613.4g(78%) bp   80〜84℃ 実施例8 クロロメチルブチルエーテル(A)の合成 ブタノール74.12g (1,oooモル)に水酸化
ナトリウム0.05g (0,001モル)を加え65
℃で撹拌して溶解させた。そこへ、バラホルムアルデヒ
ド(市販80%)37.54g(ホルムアルデヒドに換
算して1.000モル)を加え、1時間65°Cで加熱
撹拌した。
Yield 1613.4g (78%) bp 80-84℃ Example 8 Synthesis of chloromethyl butyl ether (A) Add 0.05g (0,001 mol) of sodium hydroxide to 74.12 g (1,00 mol) of butanol and add 65
Stir to dissolve at ℃. 37.54 g (1.000 mol in terms of formaldehyde) of rose formaldehyde (commercially available 80%) was added thereto, and the mixture was heated and stirred at 65°C for 1 hour.

バラホルムアルデヒド溶解後に冷却して0〜10℃に保
ちながら、塩化水素ガス51.23g(1,406モル
)を3時間かけて導入撹拌した。
After dissolving the formaldehyde, 51.23 g (1,406 mol) of hydrogen chloride gas was introduced and stirred over 3 hours while cooling and maintaining the temperature at 0 to 10°C.

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム0.
30gを加えて乾燥後に炉別して、炉液な130℃で1
.5時間加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した
After the reaction is completed, the organic phase is separated and anhydrous calcium chloride is added.
30g was added, and after drying, it was separated in the oven, and the oven liquid was heated to 130℃.
.. Hydrogen chloride gas was removed by heating for 5 hours, followed by distillation.

収量 105.43g (86%) bp   130〜134℃ 比較例5 35%ホルマリン128.70g (1,500モル)
とエタノール69.45g (1,500モル)を混合
しておき、塩化水素ガス199.0g(5,614モル
)を5.5時間かけて導入して撹拌した。塩化水素ガス
導入中は3〜8℃に保った。
Yield 105.43g (86%) bp 130-134°C Comparative Example 5 35% formalin 128.70g (1,500 mol)
and 69.45 g (1,500 mol) of ethanol were mixed, and 199.0 g (5,614 mol) of hydrogen chloride gas was introduced over 5.5 hours and stirred. The temperature was maintained at 3 to 8°C during the introduction of hydrogen chloride gas.

塩化水素ガス導入終了後に無水塩化カルシウム30.0
gを加えて撹拌して溶解させた(この塩析を行わないと
目的物が水層に溶解する。)。
After hydrogen chloride gas introduction, anhydrous calcium chloride 30.0
(If this salting out is not performed, the target substance will be dissolved in the aqueous layer.)

有機物を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。The organic matter was separated and dried over anhydrous calcium chloride.

乾燥剤を?戸別して窒素を30分間通して塩化水素を除
き、蒸留した。
Desiccant? Hydrogen chloride was removed by passing nitrogen through each door for 30 minutes, and the mixture was distilled.

収量 95.95g bp   77〜83℃ ここで得られたオイルのNMRスペクトルを測定した結
果、クロロメチルエチルエーテル:り四ロメチルメチル
エーテル−87:13のモル比であることがわかった。
Yield 95.95g bp 77-83°C As a result of measuring the NMR spectrum of the oil obtained here, it was found that the molar ratio of chloromethyl ethyl ether: tetraromethyl methyl ether was 87:13.

従って、クロロメチルエチルエーテルの収率は61%と
低かった。また、蒸留だけでクロロメチルエチルエーテ
ルを単離しようとすると、その収率は20〜30%程度
まで低下してしまった。
Therefore, the yield of chloromethyl ethyl ether was as low as 61%. Furthermore, when attempting to isolate chloromethyl ethyl ether by distillation alone, the yield decreased to about 20-30%.

実施例9l−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エト
キシエチル)−2,3−ジ メチルベンゼン(1)の合成 金属マグネシウム27.43g (1,13gatml
、テトラヒドロフラン200−を採り、窒素気流下−5
℃に撹拌しながら冷却した。これに、1−(2−クロロ
エトキシ)−4−(クロロメチル)−2,3〜ジメチル
ベンゼン188.8g (809,8mmol)のテト
ラヒドロフラン(1140mf’)溶液を反応液温が0
℃を越えないように3.5時間かけて滴下して加えた。
Example 9 Synthesis of l-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene (1) 27.43 g (1,13 gatml) of magnesium metal
, 200 ml of tetrahydrofuran was taken and heated under nitrogen stream.
Cooled to 0.degree. C. with stirring. To this, a solution of 188.8 g (809.8 mmol) of 1-(2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene in tetrahydrofuran (1140 mf') was added at a temperature of 0.
The mixture was added dropwise over 3.5 hours so as not to exceed .degree.

次いで、クロロメチルエチルエーテル1082g(11
32,5mmol)のテトラヒドロフラン(200mf
f)溶液を2時間かけて滴下して加えた。−5〜10℃
で30分反応した。水30〇−加え30分撹拌後、トル
エン500−を加えた。
Next, 1082 g of chloromethyl ethyl ether (11
32,5 mmol) of tetrahydrofuran (200 mf
f) The solution was added dropwise over 2 hours. -5~10℃
The reaction took place for 30 minutes. After adding 300 ml of water and stirring for 30 minutes, 500 ml of toluene was added.

分液後、有機相を飽和食塩水200iで洗浄した。これ
を濃縮して213.84gの釜残を得た。これを減圧蒸
留して137〜b 闘Hgの留分として、166.3gの1−(2−クロロ
エトキシ)−4−(2−エトキシエチル)2.3−ジメ
チルベンゼンを得た。収率80%元素分析  CHCβ 理論値 65.49   B、24  13.87実測
値 65,26  8.01  13.91MS(m/
e): 256(M″″1.197(M”−CH20C
Jsl。
After separation, the organic phase was washed with 200 i of saturated brine. This was concentrated to obtain 213.84 g of residue. This was distilled under reduced pressure to obtain 166.3 g of 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)2.3-dimethylbenzene as a fraction of 137-b Hg. Yield 80% Elemental analysis CHCβ Theoretical value 65.49 B, 24 13.87 Actual value 65,26 8.01 13.91 MS (m/
e): 256(M″″1.197(M″-CH20C
Jsl.

135 (197−CH2=CHC,&1’ H−NM
R(fl;Cム)δ: 1.15〜1.23 (3H,
t)、2、15 (3H,s) 2、20 (3H,s) 。
135 (197-CH2=CHC, &1'H-NM
R(fl; Cmu) δ: 1.15-1.23 (3H,
t), 2, 15 (3H, s) 2, 20 (3H, s).

2.82〜2.90 2H,t 3.45−3.60 4H,m 3.75〜3.80 2H,t  。2.82-2.90 2H,t 3.45-3.60 4H, m 3.75-3.80 2H, t.

4.10〜4.20 2H,t 6.60〜6.65 1H,d  。4.10~4.20 2H,t 6.60-6.65 1H, d.

6.95〜7.00  LH,d IRjNaCJ板)cm−’:2850−2960.1
590.14801370.1300.1260.11
00実施例10 1−(2−クロロエトキシ)−4−(
2−エトキシエチル)−2,3 ジメチルベンゼン(I)の合成 金属マグネシウム9.75g (401,2mgatm
)、テトラヒドロフラン50−を採り、窒素気流下撹拌
しなから0°Cに冷却した。これに、■(2−クロロエ
トキシ)−4−(クロロメチル)−2,3−ジメチルベ
ンゼン4692g (201,3mmol)のテトラヒ
ドロフラン(150d)溶液を数−加えた。グリニヤー
ル化反応が開始したことを確認後、上記溶液をテトラヒ
ドロフラン(150i)で更に希釈し、これを反応液温
がO′Cを越えないように滴下して加えた。滴下後、−
8〜0°Cで2時間反応させた。不溶のマグネシウムを
決別後、クロロメチルエチルエーテル21.26g (
222,5mmol)のテトラヒドロフラン(50m&
)溶液を滴下して加えた。滴下後、同温度で2時間更に
反応させた。トルエン500−1水50−を加えた後、
IN塩酸を20−加え酸性にした。分液後、水相をトル
エン250献で抽出し、有機相を合わせて水200dで
2回洗浄した。芒硝で乾燥後、溶媒を留去して淡黄色液
体54.44gを得た。これを減圧下蒸留して136〜
139°C/ 2 mmHgの留分として、32.82
gの1−(2−クロロエトキシ) −4−(2−エトキ
シエチル)−2,3−ジメチルベンゼンを得た。収率6
7% 実施例11 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−
エトキシエチル)−2,3 ジメチルベンゼン(I)の合成 金属マグネシウム1.81g (74,47mgatm
)、痕跡量のヨウ素を採り、室温下、窒素気流下1−(
2−クロロエトキシ)−4−(クロロメチル)−2,3
−ジメチルベンゼン996g(42,72mmol)の
テトラヒドロフラン40m1溶液を数i加えた。グリニ
ヤール化反応が起こったことを確認後、上記溶液を更に
テトラヒドロフラン30−で希釈後、冷却し反応液温が
O′Cを越えないように滴下して加えた。滴下後、−5
〜0°Cで3時間反応後、クロロメチルエチルエーテル
7、OOg (73,27mmol)のテトラヒドロフ
ラン5〇−溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後2時
間同温度で反応させた後、10%塩化アンモニウム水溶
液300−を加え、1時間撹拌後、トルエン500献を
加え抽出した。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣に
ヘキサン50艷を加え不溶物を決別した。7戸液を濃縮
し淡黄液体10.47gを得た。これをシリカゲル力ラ
ム(展開液トルエン)にかけ、1−(2−クロロエトキ
シ)−4−(2−エトキシエチル)−23−ジメチルベ
ンゼン9.02gを分離した。収率82% 実施例12 1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−
エトキシエチル)−2,3− ジメチルベンゼン(I)の合成 金属マグネシウム12.51g (514,6mgat
m)、痕跡量のヨウ素、テトラヒドロフラン100艷を
窒素気流下採り、冷却下1−(2−クロロエトキシ)−
4−(り四口メチル)−2゜3−ジメチルベンゼン10
0.3g (430,2mmol) 、クロロメチルエ
チルエーテル49.20g (515,0mmol)の
テトラヒドロフラン600mf’溶液を反応液温が0°
Cを越えないように2.5時間かけて滴下して加えた。
6.95-7.00 LH, d IRjNaCJ board) cm-': 2850-2960.1
590.14801370.1300.1260.11
00 Example 10 1-(2-chloroethoxy)-4-(
Synthesis of 2-ethoxyethyl)-2,3 dimethylbenzene (I) Metallic magnesium 9.75g (401,2mgatm
), 50% of tetrahydrofuran was taken and cooled to 0°C while stirring under a nitrogen stream. To this, a solution of 4692 g (201.3 mmol) of (2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3-dimethylbenzene in tetrahydrofuran (150 d) was added. After confirming that the Grignard reaction had started, the above solution was further diluted with tetrahydrofuran (150i), which was added dropwise so that the temperature of the reaction solution did not exceed O'C. After dropping, -
The reaction was carried out at 8-0°C for 2 hours. After separating the insoluble magnesium, 21.26 g of chloromethyl ethyl ether (
222,5 mmol) of tetrahydrofuran (50 m&
) solution was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was further reacted at the same temperature for 2 hours. After adding 500 parts of toluene and 50 parts of water,
The mixture was made acidic by adding 20% of IN hydrochloric acid. After separation, the aqueous phase was extracted with 250 g of toluene, and the organic phases were combined and washed twice with 200 g of water. After drying with Glauber's salt, the solvent was distilled off to obtain 54.44 g of a pale yellow liquid. This was distilled under reduced pressure to give 136~
32.82 as a fraction at 139°C/2 mmHg
g of 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene was obtained. Yield 6
7% Example 11 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-
Synthesis of magnesium metal (ethoxyethyl)-2,3 dimethylbenzene (I) 1.81g (74,47mgatm
), a trace amount of iodine was collected, and it was heated at room temperature under a stream of nitrogen (1-(
2-chloroethoxy)-4-(chloromethyl)-2,3
- A solution of 996 g (42.72 mmol) of dimethylbenzene in 40 ml of tetrahydrofuran was added several times. After confirming that the Grignard reaction had occurred, the above solution was further diluted with 30% of tetrahydrofuran, cooled, and added dropwise so that the temperature of the reaction solution did not exceed O'C. After dropping, -5
After reacting at ~0°C for 3 hours, a solution of chloromethyl ethyl ether 7, OOg (73.27 mmol) in 50% tetrahydrofuran was added dropwise at the same temperature. After the dropwise addition, the mixture was reacted at the same temperature for 2 hours, and then 300 g of a 10% aqueous ammonium chloride solution was added, and after stirring for 1 hour, 500 g of toluene was added for extraction. After drying with Glauber's salt, the solvent was distilled off, and 50 g of hexane was added to the resulting residue to separate out insoluble materials. The seven door liquid was concentrated to obtain 10.47 g of pale yellow liquid. This was subjected to a silica gel ram (toluene developer) to separate 9.02 g of 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-23-dimethylbenzene. Yield 82% Example 12 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-
Synthesis of magnesium metal (ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene (I) 12.51g (514.6mgat
m), trace amounts of iodine and 100 g of tetrahydrofuran were taken under a nitrogen stream, and 1-(2-chloroethoxy)- was added under cooling.
4-(rishikou methyl)-2゜3-dimethylbenzene 10
A solution of 0.3 g (430.2 mmol) and 49.20 g (515.0 mmol) of chloromethyl ethyl ether in 600 mf' of tetrahydrofuran was added at a reaction temperature of 0°.
It was added dropwise over 2.5 hours so as not to exceed C.

更に、−5〜−10℃で2時間反応させた後、水150
艷を加えた。30分撹拌後、トルエン250−を加え分
液した。有機相を濃縮して釜残115.72gを得た。
Furthermore, after reacting at -5 to -10°C for 2 hours, water 150
Added a bow. After stirring for 30 minutes, 250 g of toluene was added to separate the layers. The organic phase was concentrated to obtain 115.72 g of pot residue.

これを減圧蒸留し、142〜149°C/3mmHgの
留分として1−(2−クロロエトキシ)−4−(2−エ
トキシエチル)−2,3−ジメチルベンゼン69.59
gを得た。収率63%実施例13 1−(2−クロロエ
トキシ)−4−(2−メトキシエチル)−2,3− ジメチルベンゼン(I)の合成 金属マグネシウム1.94g (79,82mgatm
)、痕跡量のヨウ素を採り、室温下、窒素気流下1−(
2−クロロエトキシ)−4−(り四口メチル)−2,3
−ジメチルベンゼン12.41g(53,23mmal
)のテトラヒドロフラン50−溶液を数−加えた。グリ
ニヤール化反応が起こったことを確認後、上記溶液を更
にテトラヒドロフラン30−で希釈後、冷却し反応液温
が0°Cを越えないように滴下して加えた。滴下後、−
5〜0℃で3時間反応後、クロロメチルエチルエーテル
6 、40 g (79、49mmol)のテトラヒド
ロフラン50−溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後
2時間同温度で反応させた後、lO%塩化アンモニウム
水溶液300−を加え、1時間撹拌後、トルエン500
dを加え抽出した。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残
渣にヘキサン50−を加え不溶物を炉別した。炉液を濃
縮し淡黄液体9.69gを得た。これをシリカゲルカラ
ム(展開液トルエン)にかけ、1−(2−クロロエトキ
シ)−4−(2−メトキシエチル)−2,3−ジメチル
ベンゼン8.40gを分離した。収率65% 元素分析  CHC氾 理論値 63.93% 861%  14.34%実測
値 63.75% 8.53%  14.52%MSf
m/el: 244(M”)、 197.135実施例
14 1−(2−クロロエトキシ)−4−(クロロアセ
チル)−2,3−ジメ チルベンゼン(■)の合成 ニトロベンゼン360艷に塩化アルミニウム87.25
g (0,65mol)を溶解し氷冷した。これに、り
ロワ酢酸クロリド65.05g(0,66mol)を3
0分間で滴下し、次いで1−(2−クロロエトキシ)−
2,3−ジメチルベンゼン92.35g (0,5ma
llを滴下した。水冷下で1時間撹拌した後、室温で1
.5時間撹拌した。再び水冷し、氷水400dを加え塩
化アルミニウムを分解した。塩化アルミニウムを完全に
分解した後、静置し、ニトロベンゼン層を分液した。水
層を塩化メチレン200−で抽出し、これを先のニトロ
ベンゼン層と合わせて3%塩酸300−で2回、次いて
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液300献で2回、最後に
水洗し乾燥した。
This was distilled under reduced pressure and the fraction at 142-149°C/3mmHg was 69.59 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-ethoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene.
I got g. Yield 63% Example 13 Synthesis of 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene (I) Metallic magnesium 1.94g (79,82mgatm
), a trace amount of iodine was collected, and it was heated at room temperature under a stream of nitrogen (1-(
2-Chloroethoxy)-4-(di-4-methyl)-2,3
-dimethylbenzene 12.41g (53.23mmal
) in tetrahydrofuran were added several times. After confirming that the Grignard reaction had occurred, the above solution was further diluted with 30% of tetrahydrofuran, cooled, and added dropwise so that the temperature of the reaction solution did not exceed 0°C. After dropping, -
After reacting for 3 hours at 5-0°C, a solution of 6.40 g (79.49 mmol) of chloromethyl ethyl ether in tetrahydrofuran 50 was added dropwise at the same temperature. After being reacted at the same temperature for 2 hours after the dropwise addition, 300% of a 10% ammonium chloride aqueous solution was added, and after stirring for 1 hour, 500% of toluene was added.
d was added and extracted. After drying with Glauber's salt, the solvent was distilled off, and 50% of hexane was added to the obtained residue to remove insoluble matter. The furnace liquid was concentrated to obtain 9.69 g of pale yellow liquid. This was applied to a silica gel column (toluene developer) to separate 8.40 g of 1-(2-chloroethoxy)-4-(2-methoxyethyl)-2,3-dimethylbenzene. Yield 65% Elemental analysis CHC flood theoretical value 63.93% 861% 14.34% Actual value 63.75% 8.53% 14.52% MSf
m/el: 244 (M”), 197.135 Example 14 Synthesis of 1-(2-chloroethoxy)-4-(chloroacetyl)-2,3-dimethylbenzene (■) 360 units of nitrobenzene and 87 units of aluminum chloride .25
g (0.65 mol) was dissolved and cooled on ice. To this, 65.05 g (0.66 mol) of Rirowa acetic chloride was added to 3
0 minutes, then 1-(2-chloroethoxy)-
2,3-dimethylbenzene 92.35g (0.5ma
1 liter was added dropwise. After stirring for 1 hour under water cooling,
.. Stirred for 5 hours. The mixture was cooled with water again, and 400 d of ice water was added to decompose the aluminum chloride. After the aluminum chloride was completely decomposed, the solution was allowed to stand and the nitrobenzene layer was separated. The aqueous layer was extracted with 200 mm of methylene chloride, and this was combined with the previous nitrobenzene layer, washed twice with 300 mm of 3% hydrochloric acid, then twice with 300 mm of saturated aqueous sodium bicarbonate solution, and finally washed with water and dried.

溶媒を留去した後、塩化メチレン100−に瀉解し、こ
れにヘキサン400−を加え、析出する白色固体を枦集
した。炉集物を減圧乾燥し、97.22gの1−(2−
クロロエトキシ)4−(クロロアセチル)−2,3−ジ
メチルベンゼンを得た。収率75% MS(m/e) : M”2B0.211.149.1
211R(c+t+−’): 1770.1260.1
22(1,1095,795’H−NMR(C;DCム
)δ 2.20(3H,s)、 2.40(3H,s)
3.87F2H,tl、 4.27(2+(、tl4.
56(3H,s)、 6.70(]、H,d)7、44
 (11(、d) 実施例15 4−アセトキシアセチル−1−(2−クロ
ロエトキシ)−2,3 ジメチルベンゼン(V)の合成 1−(2−クロロエトキシ)−4−(クロロアセチル)
−2,3−ジメチルベンゼン13.06g (0,05
mol)、酢酸ナトリウム8.20g(0、1mail
をジメチルホルムアミド(DMF)120ml’に加え
、50°Cで1.5時間撹拌した。
After distilling off the solvent, the mixture was dissolved in 100% methylene chloride, 400% hexane was added thereto, and the precipitated white solid was collected. The furnace collection was dried under reduced pressure to obtain 97.22 g of 1-(2-
chloroethoxy)4-(chloroacetyl)-2,3-dimethylbenzene was obtained. Yield 75% MS (m/e): M”2B0.211.149.1
211R(c+t+-'): 1770.1260.1
22 (1,1095,795'H-NMR (C; DC) δ 2.20 (3H, s), 2.40 (3H, s)
3.87F2H,tl, 4.27(2+(,tl4.
56 (3H, s), 6.70 (], H, d) 7, 44
(11(,d) Example 15 Synthesis of 4-acetoxyacetyl-1-(2-chloroethoxy)-2,3 dimethylbenzene (V) 1-(2-chloroethoxy)-4-(chloroacetyl)
-2,3-dimethylbenzene 13.06g (0,05
mol), sodium acetate 8.20g (0, 1mail
was added to 120 ml' of dimethylformamide (DMF) and stirred at 50°C for 1.5 hours.

その後、減圧下(5〜8 mmHg)でDMFを留去し
た。放冷後、5%塩酸100艷、トルエン100−を加
え分液した。水層をトルエン7〇−で抽出し、先のトル
エン層と合わせ5%塩酸100−で1回、水100dで
2回洗浄し乾燥した。その後、トルエンを留去し、4−
アセトキシアセチル−1−(2−クロロエトキシ)−2
3−ジメチルベンゼン13.61gを得た。収率96% MS(m/el : M”284.211.149.1
211R(cm−’): 1745.1590.123
0.1110.101060H−N [COOム)δ:
 2.15(6H,s)、 2.38(31(、s13
.82(2H,tl、  4.22(2H,t、)5.
1Of2)1.s)、  6.68[IH,d)。
Thereafter, DMF was distilled off under reduced pressure (5-8 mmHg). After cooling, 100 g of 5% hydrochloric acid and 100 g of toluene were added to separate the layers. The aqueous layer was extracted with 70ml of toluene, combined with the previous toluene layer, washed once with 100ml of 5% hydrochloric acid, twice with 100ml of water, and dried. After that, toluene was distilled off, and 4-
Acetoxyacetyl-1-(2-chloroethoxy)-2
13.61 g of 3-dimethylbenzene was obtained. Yield 96% MS (m/el: M”284.211.149.1
211R (cm-'): 1745.1590.123
0.1110.101060H-N [COOm)δ:
2.15 (6H, s), 2.38 (31 (, s13
.. 82 (2H, tl, 4.22 (2H, t,)5.
1Of2)1. s), 6.68 [IH, d).

7.42(IH,d) 実施例16 1−(2−クロロエトキシ)−23−ジメ
チル−4−(2−ヒドロキ シエチル)ベンゼン(IV)の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム1.33gをテト
ラヒドロフラン(THF)15mj+に懸濁し氷冷した
。これに、同温で三フッ化ホウ素エーテル錯塩24.5
g (173mmol)を10分間で滴下し、これに4
−アセトキシアセチル−1−(2−クロロエトキシ)−
2,3−ジメチルベンゼン4. 72 g (16,6
mmol)をTHF5−に溶解した溶液を5分間で滴下
した。水冷下で1時間撹拌した後、2時間還流した。反
応後、再び氷冷し、5%塩酸を滴下し、完全に反応試薬
を分解し、イソプロピルエーテル100−を加え抽出し
た。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で有機相
を洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。硫
酸ナトリウムを決別後、イソプロピルエーテルを留去し
1−(2−クロロエトキシ)−2,3−ジメチル−4−
(2−ヒドロキシエチル)ベンゼン3.63gを得た。
7.42 (IH, d) Example 16 Synthesis of 1-(2-chloroethoxy)-23-dimethyl-4-(2-hydroxyethyl)benzene (IV) Under a nitrogen stream, 1.33 g of sodium borohydride was added. The suspension was suspended in 15mj+ of tetrahydrofuran (THF) and cooled on ice. To this, at the same temperature, boron trifluoride ether complex salt 24.5
g (173 mmol) was added dropwise over 10 minutes, and 4
-acetoxyacetyl-1-(2-chloroethoxy)-
2,3-dimethylbenzene4. 72 g (16,6
A solution of 5 mmol) dissolved in THF was added dropwise over 5 minutes. After stirring for 1 hour under water cooling, the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the mixture was cooled on ice again, 5% hydrochloric acid was added dropwise to completely decompose the reaction reagent, and 100-isopropyl ether was added for extraction. The organic phase was washed with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After separating off the sodium sulfate, the isopropyl ether was distilled off and 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethyl-4-
3.63 g of (2-hydroxyethyl)benzene was obtained.

収率96% IR(cm−’l:  3400. 1260. 11
05. 800’ H−NMR(COOム)δ: 1.
69(IH,s)、 2.19(3H,s)2.22(
3H,s)、  2.86(2H,tl3.762H,
t 、  3.80(2H,t)4.18(2H,tl
、  6.64(ILdl。
Yield 96% IR (cm-'l: 3400.1260.11
05. 800'H-NMR (COOm) δ: 1.
69 (IH, s), 2.19 (3H, s) 2.22 (
3H,s), 2.86(2H,tl3.762H,
t, 3.80 (2H, t) 4.18 (2H, tl
, 6.64 (ILdl.

6.96 1H,d MS(m/e)  : M”228. 197. 13
5. 105実施例17 1−(2−クロロエトキシ)
−23−ジメチル−4−(2−ヒドロキ シエチル)ベンゼン(IV)の合成 窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム0,27g (7
、02mmol)をTF(F6−に懸濁し水冷した。こ
れに、4−アセトキシアセチル−1−(2−クロロエト
キシ)−2,3−ジメチルベンゼン100gを三フッ化
ホウ素エーテル錯塩557gに溶解したものを1時間で
滴下した。
6.96 1H,d MS (m/e): M”228.197.13
5. 105 Example 17 1-(2-chloroethoxy)
Synthesis of -23-dimethyl-4-(2-hydroxyethyl)benzene (IV) Under a nitrogen stream, 0.27 g of sodium borohydride (7
, 02 mmol) was suspended in TF (F6-) and cooled with water.To this, 100 g of 4-acetoxyacetyl-1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethylbenzene was dissolved in 557 g of boron trifluoride ether complex salt. was added dropwise over 1 hour.

滴下後、更に1時間還流した。反応後、氷冷し、5%塩
酸で反応試薬を完全に分解した後、イソプロピルエーテ
ル50献を加え抽出した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液、次いで水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにより
乾燥し、イソプロピルエーテルを留去すると1−(2−
クロロエトキシ)−2,3−ジメチル−4−(2−ヒド
ロキシエチル)ベンゼン0.73gが得られた。収率9
1% 実施例18 1−(2−クロロエトキシ)−2゜3−ジ
メチル−4−(2−アセトキ シエチル)ベンゼン(vr)の合成 4−アセトキシアセデル−1−(2−クロロエトキシ)
−2,3−ジメチルベンゼン0.89g(3,1mmo
l) 、ジオキサン10m1、ラネーニッケル(W21
0.5gをオートクレーブに仕込み、水素を30 kg
/ ’cm2Gまで圧入し、120°Cで6時間反応さ
せた。放冷後、水素を解放しニッケルを決別し、溶媒を
留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲ
ル/塩化メチレン)により分離し、1−(2−クロロエ
トキシ)−2,3−ジメチル−4−(2−アセトキシエ
チル)ベンゼンo、80gを得た。収率72% MS(m/e) : M”270.210.197.1
48.135IR(cm−’l : 1730.126
0.1235HNMR(CDCI:+)δ: 2.D4
f3H,s)、 2.19(3H,s)2、24 (3
H,s) 、 2.91 (2H,t) 。
After the addition, the mixture was further refluxed for 1 hour. After the reaction, the mixture was cooled on ice and the reaction reagent was completely decomposed with 5% hydrochloric acid, followed by extraction with 50 parts of isopropyl ether. After washing with a saturated aqueous sodium bicarbonate solution and then with water, drying with anhydrous sodium sulfate and distilling off isopropyl ether, 1-(2-
0.73 g of chloroethoxy)-2,3-dimethyl-4-(2-hydroxyethyl)benzene was obtained. Yield 9
1% Example 18 Synthesis of 1-(2-chloroethoxy)-2゜3-dimethyl-4-(2-acetoxyethyl)benzene (vr) 4-acetoxyacedel-1-(2-chloroethoxy)
-2,3-dimethylbenzene 0.89 g (3,1 mmo
l), dioxane 10ml, Raney nickel (W21
Put 0.5g into an autoclave and add 30kg of hydrogen.
/'cm2G and reacted at 120°C for 6 hours. After cooling, hydrogen was released, nickel was separated, and the solvent was distilled off. The residue was separated by column chromatography (silica gel/methylene chloride) to obtain 80 g of 1-(2-chloroethoxy)-2,3-dimethyl-4-(2-acetoxyethyl)benzene. Yield 72% MS (m/e): M”270.210.197.1
48.135IR (cm-'l: 1730.126
0.1235HNMR (CDCI:+)δ: 2. D4
f3H,s), 2.19(3H,s)2,24 (3
H,s), 2.91 (2H,t).

3.8Of2)T、tl、 4.1−4.25(4H,
m16.64(IH,d)、 6.96(l)T、d+
実施例19 1−(2−クロロエトキシ)−2゜3−ジ
メチル−4−(l−ヒドロキ シ−2−アセトキシエチル)ベンゼ ン(vn)の合成 4−アセトキシアセチル−1−(2−クロロエトキシ)
−2,3−ジメチルベンゼン1.29g(4,5mmo
l)をエタノール1〇−溶解し、これにラネーニッケル
(W210.6gを加えた後、反応容器内を水素で満た
した。常に反応容器内が水素で常圧に保たれている状態
で50℃で8時間撹拌した。反応後、ラネーニッケルを
?戸別し、溶媒を留去し、1−(2−クロロエトキシ)
−23−ジメチル−4−(1−ヒドロキシ−2−アセト
キシエチル)ベンゼン1.22gを得た。収率94% IR(cm−’):  3400. 1740. 12
60. 1230MS(m/el : M”286.2
69.226.197.179.149’H−NMR(
COOム)δ: 2.11(3H,s)、 2.19(
3H,s)2.25(3H,s)、 2.50(LH,
s)3.82(2H,t)、 4.0−4.3(4H,
m)5.17(lH,dd)、 6.72T11(、d
d)7、31 (LH,dl [発明の効果] 本発明によれば、医薬、農薬、特に殺虫剤として有用な
化合物を提供することができる。
3.8Of2)T, tl, 4.1-4.25(4H,
m16.64 (IH, d), 6.96 (l) T, d+
Example 19 Synthesis of 1-(2-chloroethoxy)-2゜3-dimethyl-4-(l-hydroxy-2-acetoxyethyl)benzene (vn) 4-acetoxyacetyl-1-(2-chloroethoxy)
-2,3-dimethylbenzene 1.29 g (4,5 mmo
1) was dissolved in ethanol, 10.6 g of Raney nickel (W2) was added thereto, and the inside of the reaction vessel was filled with hydrogen.The inside of the reaction vessel was always kept at normal pressure with hydrogen at 50°C. The mixture was stirred for 8 hours. After the reaction, the Raney nickel was separated from each other, the solvent was distilled off, and 1-(2-chloroethoxy)
1.22 g of -23-dimethyl-4-(1-hydroxy-2-acetoxyethyl)benzene was obtained. Yield 94% IR (cm-'): 3400. 1740. 12
60. 1230MS (m/el: M”286.2
69.226.197.179.149'H-NMR (
COOm) δ: 2.11 (3H, s), 2.19 (
3H, s) 2.25 (3H, s), 2.50 (LH,
s) 3.82 (2H, t), 4.0-4.3 (4H,
m) 5.17 (lH, dd), 6.72T11 (, d
d) 7, 31 (LH, dl [Effects of the Invention] According to the present invention, compounds useful as medicines, agricultural chemicals, and especially insecticides can be provided.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1、R^2及びR^3は、それぞれ独立し
て、低級アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を
表わす。) で示される化合物。
(1) The following formula (I): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(I) (In the formula, R^1, R^2 and R^3 each independently represent a lower alkyl group; X^1 represents a halogen atom.) A compound represented by:
(2)次式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^2及びR^3は、それぞれ独立して、低級
アルキル基を表わし;X^1及びX^2は、それぞれ独
立して、ハロゲン原子を表わす。)で示される化合物。
(2) The following formula (II): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼(II) (In the formula, R^2 and R^3 each independently represent a lower alkyl group; X^1 and X^2 each independently represents a halogen atom).
(3)請求項2記載の化合物と、 次式(A):X^3CH_2OR^1(A)(式中、R
^1は低級アルキル基を表わし;X^3はハロゲン原子
を表わす。) で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
させることを特徴とする請求項1記載の化合物の製造法
(3) The compound according to claim 2, and the following formula (A): X^3CH_2OR^1(A) (in the formula, R
^1 represents a lower alkyl group; X^3 represents a halogen atom. 2. The method for producing a compound according to claim 1, wherein the compound represented by the following formula is reacted in the presence of metallic magnesium.
(4)アルカリを含有する次式(B): R^1OH(B) (式中、R^1は低級アルキル基を表わす。)で示され
るアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応させた後
、ハロゲン化水素で処理することを特徴とする請求項3
において式(A)で示される化合物の製造法。
(4) After reacting an alkali-containing alcohol represented by the following formula (B): R^1OH (B) (in the formula, R^1 represents a lower alkyl group) with paraformaldehyde, halogenation Claim 3 characterized in that the treatment is performed with hydrogen.
A method for producing a compound represented by formula (A).
(5)次式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R^2及びR^3は、それぞれ独立して、低級
アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を表わす。 ) で示される化合物と、ホルムアルデヒド又はその重合物
と、ハロゲン化水素とを反応させることを特徴とする請
求項2記載の化合物の製造法。
(5) The following formula (III): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (III) (In the formula, R^2 and R^3 each independently represent a lower alkyl group; X^1 is 3. The method for producing a compound according to claim 2, which comprises reacting a compound represented by (representing a halogen atom), formaldehyde or a polymer thereof, and hydrogen halide.
(6)請求項5において式(III)で示される化合物と
、 次式(C):R^4OCH_2X^2(C)(式中、R
^4は低級アルキル基を表わし;X^2はハロゲン原子
を表わす。) で示される化合物を、酢酸及びX^2に対応するハロゲ
ン化水素水溶液の存在下で反応させることを特徴とする
請求項2記載の化合物の製造法。
(6) A compound represented by formula (III) in claim 5, and the following formula (C): R^4OCH_2X^2(C) (in the formula, R
^4 represents a lower alkyl group; X^2 represents a halogen atom. 3. The method for producing a compound according to claim 2, characterized in that the compound represented by the following formula is reacted in the presence of acetic acid and an aqueous hydrogen halide solution corresponding to X^2.
(7)次式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^2及びR^3は、それぞれ独立して、低級
アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を表わす。 ) で示される化合物。
(7) The following formula (IV): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (IV) (In the formula, R^2 and R^3 each independently represent a lower alkyl group; X^1 is ) represents a halogen atom.
(8)次式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中、R^2、R^3及びR^5は、それぞれ独立し
て、低級アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を
表わす。) で示される化合物。
(8) The following formula (V): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (V) (In the formula, R^2, R^3 and R^5 each independently represent a lower alkyl group; X^1 represents a halogen atom.) A compound represented by:
(9)請求項8記載の化合物を、水素化ホウ素ナトリウ
ム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤で処
理することを特徴とする請求項7記載の化合物の製造法
(9) A method for producing the compound according to claim 7, which comprises treating the compound according to claim 8 with a reducing agent consisting of sodium borohydride and boron trifluoride ether complex salt.
(10)次式(VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中、R^2、R^3及びR^5は、それぞれ独立し
て、低級アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を
表わす。) で示される化合物。
(10) The following formula (VI): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VI) (In the formula, R^2, R^3 and R^5 each independently represent a lower alkyl group; X^1 represents a halogen atom.) A compound represented by:
(11)請求項8記載の化合物を、ラネーニッケルの存
在下、水素加圧下で処理することを特徴とする請求項1
0記載の化合物の製造法。
(11) Claim 1, characterized in that the compound according to Claim 8 is treated under hydrogen pressure in the presence of Raney nickel.
Method for producing the compound described in 0.
(12)次式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中、R^2、R^3及びR^5は、それぞれ独立し
て、低級アルキル基を表わし;X^1はハロゲン原子を
表わす。) で示される化合物。
(12) The following formula (VII): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VII) (In the formula, R^2, R^3 and R^5 each independently represent a lower alkyl group; X^1 represents a halogen atom.) A compound represented by:
(13)請求項8記載の化合物を、ラネーニッケルの存
在下、常圧で処理することを特徴とする請求項12記載
の化合物の製造法。
(13) A method for producing the compound according to claim 12, which comprises treating the compound according to claim 8 at normal pressure in the presence of Raney nickel.
(14)次式(VIII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) (式中、R^2及びR^3は、それぞれ独立して、低級
アルキル基を表わし;X^1及びX^4は、それぞれ独
立して、ハロゲン原子を表わす。)で示される化合物を
、 次式(D):(R^5COO)_nM(D)式中、R^
5は低級アルキル基を表わし;Mは1価又は2価の金属
を表わし;nは1又は2を表わす。) で示される化合物と反応させることを特徴とする請求項
8記載の化合物の製造法。
(14) The following formula (VIII): ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (VIII) (In the formula, R^2 and R^3 each independently represent a lower alkyl group; X^4 each independently represents a halogen atom.) A compound represented by the following formula (D): (R^5COO)_nM (D) where R^
5 represents a lower alkyl group; M represents a monovalent or divalent metal; n represents 1 or 2; 9. The method for producing the compound according to claim 8, which comprises reacting with a compound represented by:
(15)請求項14において式(VIII)で示される化合
物。
(15) A compound represented by formula (VIII) in claim 14.
JP1100175A 1989-04-21 1989-04-21 1- (2-Haloethoxy) -4- (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes, intermediates for synthesis thereof, and methods for producing them Expired - Lifetime JP2585422B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1100175A JP2585422B2 (en) 1989-04-21 1989-04-21 1- (2-Haloethoxy) -4- (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes, intermediates for synthesis thereof, and methods for producing them

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1100175A JP2585422B2 (en) 1989-04-21 1989-04-21 1- (2-Haloethoxy) -4- (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes, intermediates for synthesis thereof, and methods for producing them

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02282344A true JPH02282344A (en) 1990-11-19
JP2585422B2 JP2585422B2 (en) 1997-02-26

Family

ID=14266984

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1100175A Expired - Lifetime JP2585422B2 (en) 1989-04-21 1989-04-21 1- (2-Haloethoxy) -4- (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes, intermediates for synthesis thereof, and methods for producing them

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2585422B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102731449A (en) * 2011-04-01 2012-10-17 浙江九洲药业股份有限公司 Synthetic technology of darifenacin intermediate 5-(2-bromomethyl)-2,3-dihydro-1-coumarone
CN103987739A (en) * 2011-12-16 2014-08-13 阿克伦大学 Substituted phenacyl molecules and photoresponsive polymers

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102731449A (en) * 2011-04-01 2012-10-17 浙江九洲药业股份有限公司 Synthetic technology of darifenacin intermediate 5-(2-bromomethyl)-2,3-dihydro-1-coumarone
CN103987739A (en) * 2011-12-16 2014-08-13 阿克伦大学 Substituted phenacyl molecules and photoresponsive polymers

Also Published As

Publication number Publication date
JP2585422B2 (en) 1997-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61158947A (en) Optically active 2-(4-hydroxyphenoxy)propionic acid
JP4641839B2 (en) Process for producing 4-methyl-3-trifluoromethylbenzoic acid
JPH02282344A (en) 1-(2-haloethoxy)-4-(2-alkoxyethyl)dialkylbenzenes, its synthetic intermediate and production thereof
JP4649733B2 (en) Method for producing acetophenone compound containing trifluoromethyl group
JPS629098B2 (en)
US4210766A (en) Process for producing 2-halo-4-bromophenols
EP0209905B1 (en) 1,1-(3-ethylphenyl)phenylethylene and method for its preparation
EP2789603B1 (en) Method for producing pentafluorosulfanyl benzoic acid
JP2003055285A (en) 4-tert-BUTOXY-4&#39;-HALOGENOBIPHENYL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING 4-HALOGENO-4&#39;- HYDROXYBIPHENYL
JPH03127753A (en) Production of 4-chloro-4&#39;-hydroxybenzophenones
JPH0352839A (en) Production of p-or m-tert-butoxybenzaldehyde
JPS61122240A (en) Manufacture of halogenated 3,3_dimethyl_5_ hexen_2_one
JPH05320085A (en) P-tertiary butoxyphenyldimethylcarbinol and its production
JP3509419B2 (en) Preparation of diaryl carbonate
WO2023073080A1 (en) Process for preparing acyl derivatives
JP3482786B2 (en) Preparation of diaryl carbonate
JP2649722B2 (en) Method for producing 4,4 &#39;-(1-phenylethylidene) bisphenol
CN116640064A (en) Synthesis method of 4&#39; -chloro-2-aminobiphenyl
JP3206451B2 (en) Method for producing diaryl carbonate
JP3030347B2 (en) Monoalkylation method
JP3509416B2 (en) Method for producing diaryl carbonate
US20200377515A1 (en) Process for the preparation of dihalobenzophenones, new chemicals useful for its implementation and methods for preparing said chemicals
JPH07247267A (en) Production of phenyl ethers
JPH0327338A (en) Production of bis(2-hydroxyhexafluoro-2-propyl)-benzene derivative
JP2005519948A (en) Alkoxy-substituted indanes and their preparation