JP2585422B2

JP2585422B2 - 1- (2-Haloethoxy) -4- (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes, intermediates for synthesis thereof, and methods for producing them

Info

Publication number: JP2585422B2
Application number: JP1100175A
Authority: JP
Inventors: 幹人加島; 登掛谷; 公一柏木; 結実樹野田
Original assignee: Sankyo Co Ltd; Ube Industries Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd; Ube Corp
Priority date: 1989-04-21
Filing date: 1989-04-21
Publication date: 1997-02-26
Anticipated expiration: 2012-02-26
Also published as: JPH02282344A

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）本発明は、新規な１−（２−ハロエトキシ）−４−
（２−アルコキシエチル）ジアルキルベンゼン類（以
下、「化合物（Ｉ）」という）及びその合成中間体並び
にそれらの製造法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial application field) The present invention relates to a novel 1- (2-haloethoxy) -4-
The present invention relates to (2-alkoxyethyl) dialkylbenzenes (hereinafter, referred to as "compound (I)"), synthetic intermediates thereof, and methods for producing them.

化合物（Ｉ）は、一般に、医薬、農薬の有用な中間体
であること、特に、殺虫剤として高活性を示す化合物の
中間体の一群に属することが知られているが、従来、文
献未記載の新規な化合物である。Compound (I) is generally known to be a useful intermediate of medicines and agricultural chemicals, and in particular, belongs to a group of intermediates of compounds having high activity as insecticides. Is a novel compound.

（従来の技術及び発明が解決しようとする課題）従来の公知技術を利用して化合物（Ｉ）を製造する場
合、工業的に安価なジアルキルフェノール類を出発原料
とし、これにまずクロロエチル基を導入し、１−（２−
クロロエトキシ）ジアルキルベンゼン類を製造し、次い
でアルコキシエチル基を導入し、化合物（Ｉ）を製造す
る方法が工程数も少なく有利である。(Prior Art and Problems to be Solved by the Invention) When compound (I) is produced by using a conventional known technique, an industrially inexpensive dialkylphenol is used as a starting material, and a chloroethyl group is first introduced into this. And 1- (2-
A method of producing a compound (I) by producing a chloroethoxy) dialkylbenzene and then introducing an alkoxyethyl group is advantageous in that the number of steps is small.

まず、クロロエチル基の導入については、フェノール
類のハロエチルエーテル化法がよく知られており（例え
ば、Organic Synthesis Coll.１,435）、この場合、同
様の方法でジアルキルフェノールに、安価な1,2−ジク
ロロエタンを作用させることにより、容易に１−（２−
クロロエトキシ）ジアルキルベンゼン類を製造すること
ができる。First, as for the introduction of a chloroethyl group, a method of haloethyl etherification of phenols is well known (for example, Organic Synthesis Coll. 1 , 435). By reacting 2-dichloroethane, 1- (2-
(Chloroethoxy) dialkylbenzenes can be produced.

しかし、次工程のアルコキシエチル基の導入は、従来
の公知の方法で、収率よく行なうことは困難である。例
えば、芳香環へのエトキシエチル基の導入例である、
（２−アルコキシエチル）ベンゼン類の合成法として
は、従来、１−アルコキシ−２−フェニルアセチレンの
還元（T.L.Jacobs,W.R.Scott Jr.,J.Am.Chem.Soc.,75,5
497（1953））、フェニルリチウムと１−クロロ−２−
アルコキシエタンとの反応（L.Summers,M.L.Larson,J.A
m.Chem.Soc.,74,4498（1952））、フェネチルアルコー
ル体のＯ−エチル化（S.Mamedov,D.N.Khydyrov,Zh.Obs
h.Khim.,32,1431（1962）;A.Mers,Angew.Chem.Interna
t.Edit.,12,816（1973））などの方法が知られている。However, it is difficult to introduce an alkoxyethyl group in the next step by a conventionally known method with a high yield. For example, an example of introduction of an ethoxyethyl group into an aromatic ring,
As a method for synthesizing (2-alkoxyethyl) benzenes, conventionally, reduction of 1-alkoxy-2-phenylacetylene (TLJacobs, WRScott Jr., J. Am. Chem. Soc., 75 , 5)
497 (1953)), phenyllithium and 1-chloro-2-
Reaction with alkoxyethane (L. Summers, MLLarson, JA
m. Chem. Soc., 74 , 4498 (1952)), O-ethylation of phenethyl alcohol (S. Mamedov, DNKhydyrov, Zh. Obs)
h.Khim., 32 , 1431 (1962); A. Mers, Angew. Chem. Interna
t. Edit., 12 , 816 (1973)).

しかし、これらは工業的に実施するには、原料が高価
で経済性に乏しい、あるいは、工程数が多くなるなどの
欠点があり、工業的製法としては満足できるものではな
かった。However, these methods have disadvantages such as expensive raw materials and low economical efficiency, or increase in the number of steps to be carried out industrially, and they have not been satisfactory as industrial production methods.

本発明者らは、これらの実情に鑑み、安価な原料から
少ない工程数で化合物（Ｉ）を製造できる工業的製法を
開発することを目的として鋭意検討を行なった結果、１
−（２−ハロエトキシ）ジアルキルベンゼン類から少な
い工程数で安価に製造できる各種合成中間体を利用する
ことにより化合物（Ｉ）を製造することに成功し、本発
明を完成した。In view of these circumstances, the present inventors have conducted intensive studies for the purpose of developing an industrial production method capable of producing compound (I) from inexpensive raw materials in a small number of steps.
The compound (I) was successfully produced by utilizing various synthetic intermediates which can be produced inexpensively with a small number of steps from-(2-haloethoxy) dialkylbenzenes, thereby completing the present invention.

［発明の構成］（課題を解決するための手段及び作用）本発明は、次式（Ｉ）：（式中、R¹、R²及びR³は、それぞれ独立して、低級アル
キル基を表わし;X¹はハロゲン原子を表わす。）で示される化合物及びその合成中間体並びにそれらの製
造法に関するものである。[Structure of the Invention] (Means and Actions for Solving the Problems) The present invention provides the following formula (I): (Wherein, R ¹ , R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom) and a synthetic intermediate thereof, and a process for producing them. It is.

本発明の化合物（Ｉ）は、以下に示す種々のルートに
従って合成することができる。Compound (I) of the present invention can be synthesized according to various routes shown below.

前記式中、R¹、R²、R³及びR⁵は、それぞれ独立して、
低級アルキル基を表わし;X¹、X²及びX⁴は、それぞれ独
立して、ハロゲン原子を表わす。 In the above formula, R ¹ , R ² , R ³ and R ⁵ are each independently
Represents a lower alkyl group; X ¹ , X ² and X ⁴ each independently represent a halogen atom.

前記低級アルキル基とは、炭素数１〜６の直鎖状又は
分枝状のアルキル基をいい、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基が挙げられ、前記ハロゲン原子としては、例
えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。The lower alkyl group refers to a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group,
A hexyl group is exemplified, and examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

本発明の化合物（Ｉ）の具体例としては以下のような
化合物が挙げられる。Specific examples of the compound (I) of the present invention include the following compounds.

１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,3−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,3−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,5−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,5−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,6−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,6−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジメチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−3,5−ジ−sec−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−3,5−ジ−sec−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,5−ジ−tert−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエ
チル）−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエ
チル）−2,6−ジ−tert−ブチルベンゼン。1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,5-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,5-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,6-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,6-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -3,5-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -3,5-dimethylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2 Ethoxyethyl) -3,5-di-tert-butylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -3,5-di-tert-butylbenzene, 1- (2-chloro Ethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -3,5-di-sec-butylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -3,5-di-sec-butyl Benzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,5-di-tert-butylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2 1,5-di-tert-butylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,6-di-tert-butylbenzene, 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,6-di-tert-butylbenzene.

工程（III）→（II）前記式（III）で示される化合物と、ホルムアルデヒ
ド又はその重合物と、ハロゲン化水素とを反応させるこ
とにより前記式（II）で示される化合物を製造すること
ができる。Step (III) → (II) The compound represented by the formula (II) can be produced by reacting the compound represented by the formula (III) with formaldehyde or a polymer thereof and hydrogen halide. .

本反応は、通常、化合物（III）を適当な有機溶媒と
ハロゲン化水素酸中に入れておき、そこへホルムアルデ
ヒド又はその重合物とハロゲン化水素ガスを導入するこ
とにより行う。また、本反応は有機溶媒だけ又はハロゲ
ン化水素酸だけでも行うこともできる。This reaction is generally carried out by placing compound (III) in an appropriate organic solvent and hydrohalic acid, and introducing formaldehyde or a polymer thereof and a hydrogen halide gas thereto. This reaction can also be carried out using only an organic solvent or only hydrohalic acid.

本反応に用いられるホルムアルデヒドは、そのまま、
又は水溶液（ホルマリン）の状態で用いられる。ホルマ
リンを用いる場合、その濃度が50〜10重量％のものが好
ましい。濃度が高すぎると沈殿が生じやすく、濃度が低
すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。ホルムア
ルデヒドの重合物としては、パラホルムアルデヒドやト
リオキサンが用いられる。ホルムアルデヒドは化合物
（III）に対して、通常１〜20倍（モル比）、好ましく
は２〜10倍（モル比）が用いられる（ホルマリンや重合
物の場合にはホルムアルデヒドに換算して用いる）。ホ
ルムアルデヒドが少なすぎると反応液がうまく混ざらな
くなり収率が低下し、多すぎると副生物が増加する。The formaldehyde used in this reaction is
Alternatively, it is used in the state of an aqueous solution (formalin). When formalin is used, its concentration is preferably 50 to 10% by weight. If the concentration is too high, precipitation tends to occur, and if the concentration is too low, the reaction rate is slowed and the yield is reduced. As a formaldehyde polymer, paraformaldehyde or trioxane is used. Formaldehyde is generally used in a molar ratio of 1 to 20 times, preferably 2 to 10 times (molar ratio) to the compound (III) (in the case of formalin or a polymer, it is used in terms of formaldehyde). If the amount of formaldehyde is too small, the reaction mixture will not mix well and the yield will decrease, while if it is too large, the by-products will increase.

本反応に用いられる有機溶媒としては、例えば四塩化
炭素、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、
テトラクロロエタン、ジオキサン、酢酸、ベンゼン、ト
ルエン、クロルベンゼン、炭素数が４〜10の飽和炭化水
素が挙げられる。この中でも四塩化炭素が最も好適に用
いられる。化合物（III）の濃度は、有機溶媒に対し
て、通常0.1〜15モル／、好ましくは0.5〜10モル／
である。あまり濃度が高すぎると攪拌が困難となり、低
すぎると反応速度が遅くなり収率が低下する。As the organic solvent used in this reaction, for example, carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroethane,
Examples thereof include tetrachloroethane, dioxane, acetic acid, benzene, toluene, chlorobenzene, and saturated hydrocarbons having 4 to 10 carbon atoms. Among them, carbon tetrachloride is most preferably used. The concentration of the compound (III) is usually 0.1 to 15 mol /, preferably 0.5 to 10 mol / with respect to the organic solvent.
It is. If the concentration is too high, stirring becomes difficult, and if the concentration is too low, the reaction rate becomes slow and the yield decreases.

ハロゲン化水素酸（ハロゲン化水素の10〜60％水溶
液）は化合物（III）１モルに対して、通常０〜50モ
ル、好ましくは0.2〜10モル用いる。ハロゲン化水素酸
が多すぎると反応速度が遅くなり、導入するハロゲン化
水素ガスが多量に必要となる。少なすぎると導入するハ
ロゲン化水素が充分吸収されなくなる。このハロゲン化
水素酸を相当する水に置き換えて導入するハロゲン水素
ガスをその分増加させてもよい。Hydrohalic acid (10 to 60% aqueous solution of hydrogen halide) is generally used in an amount of 0 to 50 mol, preferably 0.2 to 10 mol, per 1 mol of compound (III). If the amount of hydrohalic acid is too large, the reaction rate becomes slow, and a large amount of hydrogen halide gas to be introduced is required. If the amount is too small, the introduced hydrogen halide is not sufficiently absorbed. This hydrohalic acid may be replaced with the corresponding water to increase the amount of hydrogen halide gas introduced.

ハロゲン化水素ガスは、化合物（III）１モルに対し
て、通常１〜200モル、好ましくは５〜50モル用いる。
ハロゲン化水素ガスが少なすぎると反応速度が非常に遅
く収率が低下し、多すぎると過剰のハロゲン化水素ガス
が吸収されずむだになり、かつ副生成物が増加する。The hydrogen halide gas is used usually in an amount of 1 to 200 mol, preferably 5 to 50 mol, per 1 mol of compound (III).
If the amount of the hydrogen halide gas is too small, the reaction rate is extremely slow, and the yield decreases. If the amount is too large, excess hydrogen halide gas is not absorbed, and the by-products increase.

反応温度は、通常−30〜20℃、好ましくは−20〜10℃
である。反応温度が高すぎると副反応が進行してしまい
収率が低下し、低すぎると反応速度が低下して収率が低
下する。The reaction temperature is usually −30 to 20 ° C., preferably −20 to 10 ° C.
It is. If the reaction temperature is too high, a side reaction proceeds and the yield decreases, and if it is too low, the reaction rate decreases and the yield decreases.

ハロゲン化水素ガスの導入は、通常0.5〜50時間、好
ましくは１〜20時間で行う。短すぎるとハロゲン化水素
ガスが充分には吸収されず、温度制御も困難になる。長
すぎると副生成物が増加して収率が低下する。ホルムア
ルデヒド又はその重合物はハロゲン化水素ガス導入中に
加え終るようにする。The introduction of the hydrogen halide gas is usually performed for 0.5 to 50 hours, preferably 1 to 20 hours. If it is too short, the hydrogen halide gas will not be sufficiently absorbed, and it will be difficult to control the temperature. If it is too long, by-products increase and the yield decreases. Formaldehyde or a polymer thereof is added during the introduction of the hydrogen halide gas.

ハロゲン化水素ガス導入終了後に未反応原料が残って
いる場合は、更に0.5〜５時間反応させる。長すぎると
副反応が進行する。When unreacted raw materials remain after the introduction of the hydrogen halide gas, the reaction is further performed for 0.5 to 5 hours. If it is too long, a side reaction proceeds.

また、前記式（II）で示される化合物は、前記式（II
I）で示される化合物と、次式（Ｃ）： R⁴OCH₂X² （Ｃ）（式中、R⁴は前述の低級アルキル基を表わし;X²は前記
と同義である。）で示される化合物を、酢酸及びX²に対応するハロゲン化
水素水溶液の存在下で反応させることによっても製造す
ることができる。Further, the compound represented by the formula (II) is
A compound represented by the formula (I); and a compound represented by the following formula (C): R ⁴ OCH ₂ X ² (C) (wherein R ⁴ represents the lower alkyl group described above; X ² has the same meaning as described above). the compounds can also be prepared by reacting in the presence of aqueous hydrogen halide corresponding to the acetic acid and X ^2.

本反応は、高価な金属触媒を必要とせず、かつ、ハロ
ゲン化水素ガス又は硫酸、発煙硫酸等の取り扱いの難し
い酸を使用することなく、温和な条件下、簡便な設備、
簡便な装置で化合物（II）を製造できることから、工業
的に適した優れた製造法である。This reaction does not require an expensive metal catalyst, and uses simple equipment under mild conditions without using difficult-to-handle acids such as hydrogen halide gas or sulfuric acid, fuming sulfuric acid,
Since the compound (II) can be produced by a simple apparatus, it is an excellent production method industrially suitable.

前記式（Ｃ）で示される化合物の具体例としては、ク
ロロメチルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテ
ル、ヨードメチルメチルエーテル、クロロメチルエチル
エーテル、ブロモメチルエチルエーテル、ヨードメチル
エチルエーテル、クロロメチルブチルエーテル、クロロ
メチル−tert−ブチルエーテル、クロロメチルプロピル
エーテル等が挙げられる。Specific examples of the compound represented by the formula (C) include chloromethyl methyl ether, bromomethyl methyl ether, iodomethyl methyl ether, chloromethyl ethyl ether, bromomethyl ethyl ether, iodomethyl ethyl ether, chloromethyl butyl ether, and chloromethyl butyl ether. Methyl-tert-butyl ether, chloromethyl propyl ether and the like can be mentioned.

化合物（Ｃ）は、化合物（III）に対して、通常0.1〜
20.0倍モル、好ましくは1.0〜5.0倍モル使用する。Compound (C) is generally used in an amount of 0.1 to
It is used in a molar amount of 20.0 times, preferably 1.0 to 5.0 times.

酢酸の使用量は化合物（III）に対して、通常0.5倍モ
ル以上であることが好ましい。これ以下でも構わない
が、反応速度が低下する。The amount of acetic acid to be used is preferably generally 0.5 moles or more relative to compound (III). Although it may be less than this, the reaction rate decreases.

ハロゲン化水素水溶液のハロゲン水素濃度は５％以
上、好ましくは15％以上で、特に好ましくは20〜50％で
ある。ハロゲン化水素量は、化合物（III）に対して、
通常0.2モル以上、好ましくは0.5モル以上である。The hydrogen halide concentration of the aqueous hydrogen halide solution is 5% or more, preferably 15% or more, and particularly preferably 20 to 50%. The amount of hydrogen halide is based on compound (III)
It is usually at least 0.2 mol, preferably at least 0.5 mol.

溶媒は使用しても、しなくてもよいが、使用する場合
は、溶媒として、四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、ジオキサン、ベンゼン、クロロ
ベンゼン、炭素数５〜10の飽和炭化水素が用いられる。
中でも四塩化炭素が好適である。反応温度は、通常80℃
以下、好ましくは０〜40℃である。これ以下でも構わな
いが反応速度が低下する。The solvent may or may not be used, but when used, carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, dichloroethane, dioxane, benzene, chlorobenzene, and a saturated hydrocarbon having 5 to 10 carbon atoms are used. Can be
Among them, carbon tetrachloride is preferred. Reaction temperature is usually 80 ° C
Hereinafter, it is preferably 0 to 40 ° C. Although it may be less than this, the reaction rate decreases.

工程（II）→（Ｉ）前記式（II）で示される化合物と、次式（Ａ）： X³CH₂OR¹ （Ａ）（式中、R¹は前記と同義であり;X³は前述のハロゲン原
子を表わす。）で示される化合物を、金属マグネシウムの存在下で反応
させることにより前記式（Ｉ）で示される化合物を製造
することができる。And step (II) → (I) wherein formula (II) compound, the following formula ^{_{(A): X 3 CH 2}} OR 1 (A) ( In the formula, R ¹ is an defined as above; X ³ is The compound represented by the above formula (I) can be produced by reacting the compound represented by the formula (1) in the presence of metallic magnesium.

金属マグネシウムは、通常グリニャール反応に使用す
るものであれば、形状その他、特に制限はない。There is no particular limitation on the shape and other properties of the metallic magnesium as long as it is generally used for Grignard reaction.

化合物（Ａ）は、化合物（II）に対して、通常0.1〜2
0.0倍モル、好ましくは1.0〜5.0倍モル使用する。金属
マグネシウムは、化合物（II）に対して、通常0.1〜20.
0倍グラム原子、好ましくは1.0〜5.0倍グラム原子使用
する。Compound (A) is usually 0.1 to 2 relative to compound (II).
It is used in a molar amount of 0.0 times, preferably 1.0 to 5.0 times. Metallic magnesium is usually 0.1 to 20.
A 0-fold gram atom, preferably 1.0 to 5.0-fold gram atom is used.

溶媒は、化合物（II）が溶解さえしていれば、使用し
ても、しなくてもよいが、使用する場合は、一般にグリ
ニャール反応に用いられる溶媒、即ち、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルセロソ
ルブ、ジグリム、ジメトキシメタン、ジエトキシメタン
等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン等の炭化水素類の単一又は混合系溶媒が挙
げられる。The solvent may or may not be used as long as the compound (II) is dissolved, but when used, a solvent generally used for Grignard reaction, that is, diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethyl Single or mixed solvents of ethers such as cellosolve, diglyme, dimethoxymethane, and diethoxymethane, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene, and toluene.

反応温度は、通常80℃以下、好ましくは30℃以下、特
に好ましくは０℃〜−20℃である。The reaction temperature is usually 80 ° C or lower, preferably 30 ° C or lower, particularly preferably 0 ° C to -20 ° C.

この反応を行うに際し、触媒を共存させてもよい。共
存させる場合、触媒としては、ヨウ素、塩化第二水銀、
臭化メチル、臭化エチル等グリニャール反応で一般に使
用されているものが挙げられる。In carrying out this reaction, a catalyst may be allowed to coexist. When coexisting, as a catalyst, iodine, mercuric chloride,
Those generally used in Grignard reactions, such as methyl bromide and ethyl bromide, may be mentioned.

この反応は、空気存在下で行っても構わないが、通常
はアルゴン、ヘリウム、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気
下に行う方が好適である。This reaction may be carried out in the presence of air, but is usually preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as argon, helium or nitrogen gas.

次に、反応の実施方法について説明する。 Next, a method for carrying out the reaction will be described.

溶媒又は触媒の共存下又は非共存下、マグネシウムに
化合物（II）を作用させ、グリニャール反応剤を製造
し、これに化合物（Ａ）を作用させることにより、化合
物（Ｉ）を製造することができる。Compound (I) can be produced by reacting compound (II) with magnesium in the presence or absence of a solvent or a catalyst to produce a Grignard reactant, and then reacting compound (A) therewith. .

ただし、マグネシウムに化合物（II）及び（Ａ）を作
用させる順序は、これに限られることはなく、マグネシ
ウムに化合物（Ａ）を作用させた後、化合物（II）を作
用させても、また化合物（II）及び（Ａ）をマグネシウ
ムに同時に作用させてもよい。However, the order in which the compounds (II) and (A) act on magnesium is not limited to this, and the compound (A) may act on magnesium and then the compound (II) may act on the magnesium. (II) and (A) may act simultaneously on magnesium.

本反応に用いる前記式（Ａ）で示される化合物は、好
ましくは、アルカリを含有する、次式（Ｂ）： R¹OH （Ｂ）（式中、R¹は前記と同義である。）で示されるアルコールと、パラホルムアルデヒドを反応
させた後、ハロゲン化水素で処理することにより製造す
ることができる。The compound represented by the formula (A) used in this reaction preferably contains an alkali. The following formula (B): R ¹ OH (B) (wherein, R ¹ has the same meaning as described above). It can be produced by reacting the indicated alcohol with paraformaldehyde and treating with hydrogen halide.

本反応に用いられるパラホルムアルデヒドは、好まし
くは市販の純度80％以上のものである。The paraformaldehyde used in this reaction is preferably commercially available with a purity of 80% or more.

アルコール（Ｂ）は、パラホルムアルデヒドに対し
て、通常0.5〜２倍モル、好ましくは0.7〜1.5倍モル、
更に好ましくは0.9〜1.1倍モルが用いられる。アルコー
ル（Ｂ）が少なすぎると未反応のパラホルムアルデヒド
が残り、多すぎるとホルムアルデヒドアルキルアセター
ルの副生が増加する。The alcohol (B) is usually 0.5 to 2 moles, preferably 0.7 to 1.5 moles, based on paraformaldehyde,
More preferably, it is used in a molar amount of 0.9 to 1.1 times. If the alcohol (B) is too small, unreacted paraformaldehyde remains, and if it is too large, the by-product of formaldehyde alkyl acetal increases.

本反応で用いるアルカリとしては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カル
シウム、水酸化リチウム、ナトリウムアルコラート、カ
リウムアルコラート、マグネシウムアルコラート、リチ
ウムアルコラートが挙げられ（アルコラートは反応に用
いるアルコール由来のものが好ましい。）、好ましく
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムア
ルコラート、カリウムアルコラートが用いられる。Examples of the alkali used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium hydroxide, lithium hydroxide, sodium alcoholate, potassium alcoholate, magnesium alcoholate, and lithium alcoholate (alcoholate is derived from the alcohol used in the reaction). Are preferable.) Preferably, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium alcoholate and potassium alcoholate are used.

これらのアルカリは、そのまま又は水溶液もしくはア
ルコール溶液としてアルコール中に加えられる。用いら
れるアルカリの量は、パラホルムアルデヒドに対して、
通常0.00001〜0.1倍モル、好ましくは0.0001〜0.01倍モ
ルである。アルカリ量が少なすぎるとパラホルムアルデ
ヒドの溶解速度が遅くなり、多すぎるとハロゲン化水素
ガス導入初期の発熱が多くなり温度調節が困難になる。These alkalis are added to the alcohol as it is or as an aqueous solution or an alcohol solution. The amount of alkali used is based on paraformaldehyde.
It is usually 0.00001 to 0.1 times mol, preferably 0.0001 to 0.01 times mol. If the amount of alkali is too small, the dissolution rate of paraformaldehyde will be slow, and if it is too large, the heat generation at the beginning of the introduction of the hydrogen halide gas will increase, making it difficult to control the temperature.

パラホルムアルデヒドにアルカリ含有アルコールを作
用させる温度は、通常10〜200℃、好ましくは30〜100℃
である。温度が低すぎるとパラホルムアルデヒドの溶解
に時間を要し、高すぎるとハロゲン化水素導入前の冷却
に時間を要する。The temperature at which the alkali-containing alcohol is allowed to act on paraformaldehyde is usually 10 to 200 ° C, preferably 30 to 100 ° C.
It is. If the temperature is too low, it takes time to dissolve paraformaldehyde, and if it is too high, it takes time to cool before introducing the hydrogen halide.

塩化水素ガスの量は、通常、パラホルムアルデヒドの
1.2〜３倍モルである。ハロゲン化水素ガスが少なすぎ
るとホルムアルデヒドジアルキルアセタールが増加し
て、多すぎるとハロメチルアルキルエーテルの水層への
溶解量が増加してしまう。The amount of hydrogen chloride gas is usually
It is 1.2 to 3 times mol. If the amount of hydrogen halide gas is too small, the amount of formaldehyde dialkyl acetal increases, and if the amount is too large, the amount of halomethylalkyl ether dissolved in the aqueous layer increases.

ハロゲン化水素ガス導入次の温度は、通常15〜−25
℃、好ましくは10〜−20℃である。反応温度が高すぎる
とホルムアルデヒドジアルキルアセタールが増加し、低
すぎると反応速度が遅くなる。ハロゲン化水素導入の時
間は、冷却能力により大きく異なる。通常１〜10時間程
度で導入を行うが、短すぎると温度調節が困難となる。
しかし、ハロゲン化水素ガス導入の時間が10時間をはる
かに超えても反応には何らさしつかえない。The temperature following the introduction of hydrogen halide gas is usually 15 to -25
° C, preferably 10 to -20 ° C. If the reaction temperature is too high, the amount of formaldehyde dialkyl acetal increases, and if it is too low, the reaction rate becomes slow. The time for introducing hydrogen halide varies greatly depending on the cooling capacity. Usually, the introduction is carried out in about 1 to 10 hours, but if it is too short, it becomes difficult to control the temperature.
However, even if the time of introduction of the hydrogen halide gas is much longer than 10 hours, there is no problem in the reaction.

工程（VIII）→（Ｖ）前記式（VIII）で示される化合物を、次式（Ｄ）：（R⁵COO）_nM （Ｄ）（式中、R⁵は前記と同義であり;Mは１価又は２価の金属
を表わし;nは１又は２を表わす。）で示される化合と反応させることにより前記式（Ｖ）で
示される化合物を製造することができる。Step (VIII) → (V) A compound represented by the formula (VIII) is converted into a compound represented by the following formula (D): (R ⁵ COO) _n M (D) (wherein R ⁵ has the same meaning as described above; Represents a monovalent or divalent metal; n represents 1 or 2), whereby the compound represented by the formula (V) can be produced.

前記式（Ｄ）において、Ｍで表わされる金属原子は、
１価又は２価のアルカリ金属又はアルカリ土類金属であ
り、好ましくはナトリウム又はカリウムである。In the formula (D), the metal atom represented by M is
It is a monovalent or divalent alkali metal or alkaline earth metal, preferably sodium or potassium.

用いる溶媒は、原料（VIII）を溶解し、カルボン酸金
属塩（Ｄ）の全部又は一部を溶解し、反応を阻害しない
ものであれば如何なるものでもよく、例えばメタノー
ル、エタノール、アセトン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられ、特にジメチルホルムアミド
が好ましい。反応温度は、通常０〜100℃、好ましくは3
0〜60℃である。カルボン酸金属塩（Ｄ）の使用量は、
原料（VIII）に対して、通常１〜10倍、好ましくは1.5
〜３倍当量である。Any solvent may be used as long as it dissolves the raw material (VIII), dissolves all or part of the metal carboxylate (D), and does not inhibit the reaction. For example, methanol, ethanol, acetone, dimethylformamide Dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, and the like, with dimethylformamide being particularly preferred. The reaction temperature is usually 0 to 100 ° C., preferably 3
0-60 ° C. The amount of the metal carboxylate (D) used is
Usually 1 to 10 times, preferably 1.5 times the amount of the raw material (VIII).
~ 3 equivalents.

反応の進行は、反応溶液の一部をとり、ガスクロマト
グラフィーにより分析し、追跡することができる。原料
（VIII）が消費されたところで常圧又は減圧下において
反応溶媒を留去し、残渣を水中にあけ、有機溶媒で抽出
後、水洗、乾燥し、抽出溶媒を留去すると化合物（Ｖ）
が得られる。必要に応じて、カラムクロマトグラフィ
ー、再結晶、蒸留等の方法を用いて精製することができ
るが、通常は精製なしで十分な純度のものが得られる。The progress of the reaction can be analyzed and monitored by taking a part of the reaction solution and analyzing it by gas chromatography. When the raw material (VIII) is consumed, the reaction solvent is distilled off under normal pressure or reduced pressure, the residue is poured into water, extracted with an organic solvent, washed with water and dried, and the extraction solvent is distilled off to obtain a compound (V).
Is obtained. If necessary, purification can be carried out using a method such as column chromatography, recrystallization, or distillation, but usually sufficient purity can be obtained without purification.

本反応で用いる前記式（VIII）で示される化合物は、
例えば以下のようにして製造することができる。The compound represented by the formula (VIII) used in this reaction is
For example, it can be manufactured as follows.

前記式（IX）で示されるフェノール類と、次式（Ｅ）： Z¹CH₂CH₂X¹ （Ｅ）（式中、Z¹はハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ
基又はアリールスルホニルオキシ基を表わし;X¹は前記
と同義である。）で示される化合物を塩基の存在下で反応させると、前記
式（III）で示される化合物が得られる。A phenol represented by the above formula (IX), and the following formula (E): Z ¹ CH ₂ CH ₂ X ¹ (E) (wherein, Z ¹ represents a halogen atom, an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group. X ¹ has the same meaning as described above.) When the compound is reacted in the presence of a base, the compound represented by the formula (III) is obtained.

次いで、この化合物（III）をルイス酸の存在下、次式（Ｆ）： X⁵COCH₂X⁴ （Ｆ）（式中、X⁵はハロゲン原子、水酸基又は式：で示される基を表わし;X⁴は前記と同義である。）で示される化合物と反応させることにより化合物（VII
I）を製造することができる。Then, the compound (III) is converted into a compound represented by the following formula (F): X ⁵ COCH ₂ X ⁴ (F) (X ⁵ is a halogen atom, a hydroxyl group or a compound represented by the formula: And X ⁴ is as defined above. The compound (VII)
I) can be manufactured.

前記式（Ｆ）で示される化合物としては、クロロ酢酸
クロリド、ブロモ酢酸ブロミド等の酸ハロゲン化物；無
水クロロ酢酸、無水ブロモ酢酸等の酸無水物；及びクロ
ロ酢酸、ブロモ酢酸等のカルボン酸が挙げられるが、好
ましくはクロロ酢酸クロリドが挙げられる。その使用量
は、化合物（III）に対して、通常１〜３倍当量、好ま
しくは１〜1.5倍当量である。Examples of the compound represented by the formula (F) include acid halides such as chloroacetic acid chloride and bromoacetic acid bromide; acid anhydrides such as chloroacetic anhydride and bromoacetic anhydride; and carboxylic acids such as chloroacetic acid and bromoacetic acid. Preferably, chloroacetic acid chloride is used. The amount of use is usually 1 to 3 equivalents, preferably 1 to 1.5 equivalents, relative to compound (III).

用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼン、ニトロメタン、塩化メチレン、
四塩化炭素、二硫化炭素等、反応に関与しないものであ
れば如何なるものでもよい。The solvents used are nitrobenzene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitromethane, methylene chloride,
Any material that does not participate in the reaction, such as carbon tetrachloride and carbon disulfide, may be used.

反応温度は、通常−20〜100℃、好ましくは０〜30℃
である。The reaction temperature is usually −20 to 100 ° C., preferably 0 to 30 ° C.
It is.

用いるルイス酸としては、塩化アルミニウム、臭化ア
ルミニウム、三塩化ホウ素、四塩化チタン、三フッ化ホ
ウ素、塩化第二スズ、塩化亜鉛等が挙げられる。その使
用量は、化合物（III）に対して、通常１〜５倍当量、
好ましくは１〜３倍当量である。Examples of the Lewis acid to be used include aluminum chloride, aluminum bromide, boron trichloride, titanium tetrachloride, boron trifluoride, stannic chloride, zinc chloride and the like. The amount to be used is generally 1 to 5 equivalents to compound (III),
Preferably it is 1 to 3 equivalents.

反応の進行は、反応液の一部に水を加えて反応を停止
し、有機層をガスクロマトグラフィーにより分析して追
跡することができる。化合物（III）が消費されたら、
水を加えてルイス酸を分解し、有機溶媒で抽出後、水
洗、乾燥する。溶媒を留去することにより、化合物（VI
II）を得ることができる。必要に応じてカラムクロマト
グラフィー、再結晶、蒸留等により精製することができ
る。The progress of the reaction can be monitored by adding water to a part of the reaction solution to stop the reaction, and analyzing the organic layer by gas chromatography. When compound (III) is consumed,
Water is added to decompose the Lewis acid, extracted with an organic solvent, washed with water and dried. By distilling off the solvent, the compound (VI
II) can be obtained. If necessary, it can be purified by column chromatography, recrystallization, distillation and the like.

工程（Ｖ）→（IV）前記式（Ｖ）で示される化合物を、水素化ホウ素ナト
リウム及び三フッ化ホウ素エーテル錯塩からなる還元剤
で処理することにより前記式（IV）で示される化合物を
製造することができる。Step (V) → (IV) The compound represented by the formula (IV) is produced by treating the compound represented by the formula (V) with a reducing agent comprising sodium borohydride and a boron trifluoride etherate. can do.

従来、芳香族ケトンをメチレン鎖に還元する方法はい
くつか知られているが、例えば亜鉛アマルガムを用いる
クレメンゼン還元、ヒドラジンと水酸化アルカリを用い
るウォルフ−キッシュナー還元及び金属触媒を用いた水
素添加法等が一般的である。しかし、これらの方法を用
い、化合物（Ｖ）を還元する場合、次のような問題点が
ある。Conventionally, several methods for reducing an aromatic ketone to a methylene chain are known, for example, Clementen reduction using zinc amalgam, Wolf-Kishner reduction using hydrazine and alkali hydroxide, and hydrogenation method using a metal catalyst. Etc. are common. However, when the compound (V) is reduced using these methods, there are the following problems.

１）ウォルフ−キッシュナー還元では、強塩基を用いる
ため原料のアシルオキシアシル基の分解、重合が起こ
る。1) In the Wolf-Kishner reduction, the decomposition and polymerization of the acyloxyacyl group as a raw material occur because a strong base is used.

２）クレメンゼン還元では、水銀を用いるため医農薬中
間体合成には適当でなく、またアマルガムの発火の危険
及び反応後の処理の問題がある。2) Clementene reduction uses mercury and is not suitable for the synthesis of pharmaceutical and agricultural chemical intermediates. There is also a risk of ignition of amalgam and a problem of treatment after the reaction.

３）金属触媒を用いる水素添加では、例えばR.L.Clark
らがJ.Am.Chem.Soc.,77,661（1955）中で示しているよ
うに、Pd−炭素ではアシルオキシアシル基はアシル基に
還元され、本反応で目的とするヒドロキシエチル基を与
えない。3) In hydrogenation using a metal catalyst, for example, RLClark
As shown in J. Am. Chem. Soc., 77 , 661 (1955), at Pd-carbon, an acyloxyacyl group is reduced to an acyl group to give a desired hydroxyethyl group in this reaction. Absent.

また、H.Adkinsらは、J.Am.Chem.Soc.53,1091（193
1）及び70,3121（1948）中でCu−CrO触媒を用い、アセ
ト酢酸エチルを還元し、３−ヒドロキシ酪酸及び1,3−
ブタンジオールをそれぞれ選択的に合成しているが、従
来、ケトエステルのケトン部をメチレンにエステル部を
アルコールに選択的に同時に還元する方法は文献記載が
なかった。H. Adkins et al., J. Am. Chem. Soc. 53 , 1091 (193
1) and 70 , 3121 (1948) using a Cu-CrO catalyst to reduce ethyl acetoacetate to give 3-hydroxybutyric acid and 1,3-
Although butanediols are selectively synthesized, there is no description in the literature of a method for selectively reducing the ketone moiety of a ketoester and the ester moiety to an alcohol at the same time.

水素化ホウ素ナトリウムの使用量は、原料（Ｖ）に対
して、通常１〜10倍当量、好ましくは２〜５倍当量であ
る。The amount of sodium borohydride to be used is generally 1 to 10 equivalents, preferably 2 to 5 equivalents, relative to the raw material (V).

三フッ化ホウ素エーテル錯塩の使用量は、原料（Ｖ）
に対して、５〜50倍当量、好ましくは10〜30倍当量であ
る。The amount of the boron trifluoride etherate used depends on the amount of raw material (V)
5 to 50 equivalents, preferably 10 to 30 equivalents.

本反応は無溶媒でも行うことができるが、通常は溶媒
を用いる。溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば如何なるものでもよいが、好ましくはテトラヒドロフ
ラン、ジグリム、ジオキサン、ジエチルエーテル、イソ
プロピルエーテル等のエーテル系溶媒を挙げられる。This reaction can be carried out without solvent, but usually a solvent is used. As the solvent, any solvent may be used as long as it does not inhibit the reaction, and preferred examples thereof include ether solvents such as tetrahydrofuran, diglyme, dioxane, diethyl ether and isopropyl ether.

反応温度は、通常０〜80℃である。 The reaction temperature is usually 0 to 80 ° C.

反応の進行は、反応液の一部をとり、水又は希酸によ
り反応試薬を分解した後、適当な有機溶媒で抽出し、有
機層をガスクロマトグラフィー又は薄層クロマトグラフ
ィー等により分析して追跡することができる。原料が消
費されたところで、水又は希鉱酸を加えて反応試薬を分
解し、適当な有機溶媒で抽出後、水洗、乾燥して抽出溶
媒を留去すると化合物（IV）が得られる。必要に応じて
カラムクロマトグラフィー、蒸留等の方法を用いて精製
することができるが、通常は精製なしで充分な純度のも
のが得られる。The progress of the reaction is traced by taking a part of the reaction solution, decomposing the reaction reagent with water or dilute acid, extracting with an appropriate organic solvent, and analyzing the organic layer by gas chromatography or thin-layer chromatography. can do. When the raw materials have been consumed, the reaction reagent is decomposed by adding water or a dilute mineral acid, extracted with an appropriate organic solvent, washed with water, dried and the extraction solvent is distilled off to obtain compound (IV). If necessary, purification can be performed using a method such as column chromatography or distillation. However, usually, purification with sufficient purity can be obtained without purification.

工程（IV）→（Ｉ）前記式（IV）で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ）
で示される化合物を製造することができる。Step (IV) → (I) The compound represented by the formula (IV) is reacted with a dialkyl sulfuric acid in the presence of an alkali to react the compound represented by the formula (IV).
Can be produced.

工程（Ｖ）→（VI）前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの
存在下、水素加圧下で処理することにより前記式（VI）
で示される化合物を製造することができる。Step (V) → (VI) The compound represented by the formula (V) is treated under hydrogen pressure in the presence of Raney nickel to give the compound of the formula (VI)
Can be produced.

従来、アシルオキシアシル基を２−アシルオキシエチ
ル基に選択的に還元する方法は知られていない。Heretofore, a method for selectively reducing an acyloxyacyl group to a 2-acyloxyethyl group has not been known.

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられる溶媒
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、ジエチルエーテル、酢酸エチル、ジオキサ
ン、シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド等が挙げられる。The solvent to be used may be any solvent as long as it is a solvent used for ordinary catalytic hydrogenation, and examples thereof include methanol, ethanol, diethyl ether, ethyl acetate, dioxane, cyclohexane, water, tetrahydrofuran, and dimethylformamide.

反応温度は、通常50〜200℃、好ましくは80〜150℃で
ある。The reaction temperature is usually 50 to 200 ° C, preferably 80 to 150 ° C.

ラネーニッケルの使用量は、原料（Ｖ）に対して、通
常１〜100重量％、好ましくは５〜50重量％である。The amount of Raney nickel used is usually 1 to 100% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the raw material (V).

水素圧は、通常10〜100kg/cm²Gであり、好ましくは20
〜70kg/cm²Gである。反応の進行は、反応中の圧力の減
少、又は反応液の一部をとりガスクロマトグラフィーで
分析して追跡することができる。反応後は、放冷して水
素を解放後、ラネーニッケルを別し、反応溶媒を留去
することにより粗製の化合物（VI）を得ることができ
る。必要に応じてカラムクロマトグラフィー、蒸留、再
結晶等の方法を用いて精製することができる。Hydrogen pressure is usually 10 to 100 kg / cm ² G, preferably 20
Is a ~70kg / cm ² G. The progress of the reaction can be monitored by decreasing the pressure during the reaction or by analyzing a part of the reaction solution by gas chromatography. After the reaction, the mixture is allowed to cool to release hydrogen, then Raney nickel is separated, and the reaction solvent is distilled off to obtain a crude compound (VI). If necessary, it can be purified by a method such as column chromatography, distillation, recrystallization and the like.

工程（Ｖ）→（VII）前記式（Ｖ）で示される化合物を、ラネーニッケルの
存在下、常圧で処理することにより前記式（VII）で示
される化合物を製造することができる。Step (V) → (VII) The compound represented by the formula (VII) can be produced by treating the compound represented by the formula (V) at normal pressure in the presence of Raney nickel.

従来、アシルオキシアシル基を１−ヒドロキシ−２−
アシルオキシエチル基に選択的に還元する方法は知られ
ていない。Conventionally, an acyloxyacyl group is 1-hydroxy-2-
There is no known method for selective reduction to an acyloxyethyl group.

用いる溶媒は、通常の接触水素添加に用いられるもの
であれば如何なるものでもよく、例えばメタノール、エ
タノール、酢酸エチル、ジオキサン、水、テトラヒドロ
フラン、ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、好ま
しくはエタノール及びメタノールである。The solvent used is not particularly limited as long as it is used for ordinary catalytic hydrogenation, and examples thereof include methanol, ethanol, ethyl acetate, dioxane, water, tetrahydrofuran, and dimethylformamide, and preferably ethanol and methanol. .

反応温度は、通常０〜100℃、好ましくは20〜80℃で
ある。The reaction temperature is generally 0-100 ° C, preferably 20-80 ° C.

ラネーニッケルの使用量は、原料（Ｖ）に対して、通
常１〜150重量％、好ましくは５〜50重量％である。The amount of Raney nickel used is usually 1 to 150% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on the raw material (V).

反応の進行は、反応液の一部をとり、薄層クロマトグ
ラフィーにより分析して追跡することができる。反応後
は、ラネーニッケルを別し、反応溶媒を留去すること
により化合物（VII）を得ることができる。通常は精製
なしで充分な純度のものが得られるが、必要に応じてカ
ラムクロマトグラフィー、再結晶等で精製することがで
きる。The progress of the reaction can be monitored by taking a part of the reaction solution and analyzing by thin layer chromatography. After the reaction, the compound (VII) can be obtained by separating the Raney nickel and distilling off the reaction solvent. Usually, a product of sufficient purity can be obtained without purification, but if necessary, it can be purified by column chromatography, recrystallization or the like.

工程（VII）→（VI）前記式（VII）で示される化合物を、ラネーニッケル
の存在下、常圧水素で還元することにより前記式（VI）
で示される化合物を製造することができる。Step (VII) → (VI) The compound represented by the formula (VII) is reduced with normal pressure hydrogen in the presence of Raney nickel to obtain the compound represented by the formula (VI).
Can be produced.

工程（VI）→（Ｉ）前記式（VI）で示される化合物を、アルカリの存在下
でジアルキル硫酸と反応させることにより前記式（Ｉ）
で示される化合物を製造することができる。Step (VI) → (I) The compound represented by the formula (I) is reacted with a dialkyl sulfate in the presence of an alkali to react the compound represented by the formula (VI).
Can be produced.

以上詳述したように、本発明の化合物（Ｉ）は、ルート［１］：（IX）→（III）→（II）→（Ｉ）、ルート［２］：（IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（IV）→
（Ｉ）、ルート［３］：（IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VI）→（I
V）→（Ｉ）、ルート［４］：（IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VII）→（V
I）→（IV）→（Ｉ）、及びルート［５］：（IX）→（III）→（VIII）→（Ｖ）→（VII）→（V
I）→（Ｉ）の５通りの合成ルートで製造することができるが、工程
数が少ないルート［１］が特に好ましい。As described in detail above, the compound (I) of the present invention can be obtained from route [1]: (IX) → (III) → (II) → (I), route [2]: (IX) → (III) → (VIII) → (V) → (IV) →
(I), route [3]: (IX) → (III) → (VIII) → (V) → (VI) → (I
V) → (I), Route [4]: (IX) → (III) → (VIII) → (V) → (VII) → (V
I) → (IV) → (I) and Route [5]: (IX) → (III) → (VIII) → (V) → (VII) → (V
Although it can be produced by five synthetic routes of I) → (I), the route [1] having a small number of steps is particularly preferable.

（発明の実施例）以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、
これらの実施例は、本発明の範囲を何ら制限するもので
はない。Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
These examples do not limit the scope of the invention in any way.

実施例１１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン184.69g（1.00モル）を四塩化炭素400mlに溶解させて
おき、36％濃塩酸300mlを加え−５℃に冷却した。攪拌
しながら塩化水素ガスの導入と35％ホルマリン430.90g
（5.00モル）の滴下を行った。ホルマリンは３時間で滴
下した。塩化水素ガスは４時間で665.0g（18.20モル）
の導入を終了した。この間、温度は−10〜０℃に保っ
た。塩化水素ガス導入終了後に−５℃で45分間攪拌し
た。Example 1 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 184.69 g (1.00 mol) of 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene was dissolved in 400 ml of carbon tetrachloride, and 300 ml of 36% concentrated hydrochloric acid was added. Cooled to -5 ° C. While stirring, introduce hydrogen chloride gas and 430.90g of 35% formalin
(5.00 mol) was added dropwise. Formalin was added dropwise in 3 hours. 665.0 g (18.20 mol) of hydrogen chloride gas in 4 hours
The introduction of was finished. During this time, the temperature was kept at -10 to 0C. After completion of the introduction of the hydrogen chloride gas, the mixture was stirred at -5 ° C for 45 minutes.

有機相を分取して無水塩化カルシウムで乾燥した。窒
素を導入して塩化水素ガスを除き、濃縮して得た293.00
gの残渣は減圧蒸留で精製した。The organic phase was separated and dried over anhydrous calcium chloride. 293.00 obtained by introducing nitrogen to remove hydrogen chloride gas and concentrating.
The residue of g was purified by distillation under reduced pressure.

収量 195.84g（84％） bp 145〜152℃（2.5mmHg） mp 58〜61℃ 元素分析ＣＨ Cl 理論値 56.67％ 6.05％ 30.41％実測値 56.43％ 6.01％ 30.69％ MS（m/e）:233¹ H−NMR（CDCl₃）δ:2.20（3H,s）,2.33（3H,s）,3.82
（2H,t,J＝6Hz）,4.21（2H,t,J＝6Hz）,4.61（2H,s）,
6.65（1H,d,J＝8Hz）,7.11（1H,d,J＝8Hz） IR（KBr）cm^-1:2915,1585,1475,1295,1255,1100,1030,7
95,650 実施例２１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン60.00g（0.348モル）を四塩化炭素170mlに溶解させて
おき、水68mlを加え室温で20分間塩化水素ガスを導入し
た。−５℃まで冷却して35％ホルマリン149.39g（1.671
モル）を1.5時間で滴下した。ホルマリンの滴下中も塩
化水素ガスは続けて導入して224.0g（6.145モル）を３
時間で加えた。この間温度は−８〜−２℃に保ち激しく
攪拌した。更にその温度で0.5時間攪拌した。後処理と
精製は実施例１と同様に行った。Yield 195.84 g (84%) bp 145-152 ° C (2.5 mmHg) mp 58-61 ° C Elemental analysis CHCl Theoretical 56.67% 6.05% 30.41% Found 56.43% 6.01% 30.69% MS (m / e): 233 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ: 2.20 (3H, s), 2.33 (3H, s), 3.82
(2H, t, J = 6Hz), 4.21 (2H, t, J = 6Hz), 4.61 (2H, s),
6.65 (1H, d, J = 8Hz), 7.11 (1H, d, J = 8Hz) IR (KBr) cm ^-1 : 2915,1585,1475,1295,1255,1100,1030,7
95,650 Example 2 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 6-0.00 g (0.348 mol) of 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene was dissolved in 170 ml of carbon tetrachloride, 68 ml of water was added, and 20 Hydrogen chloride gas was introduced for one minute. Cool to -5 ° C and 149.39g of 35% formalin (1.671
Mol) was added dropwise over 1.5 hours. Hydrogen chloride gas was continuously introduced even during the dropping of formalin to make 224.0 g (6.145 mol) of 3
Added by time. During this time, the temperature was kept at -8 to -2 ° C and the mixture was vigorously stirred. The mixture was further stirred at that temperature for 0.5 hour. Post-treatment and purification were performed as in Example 1.

収量 59.79g（73.7％）実施例３１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン89.20g（0.483モル）を四塩化炭素200mlに溶解させて
おき、36％濃塩酸145mlを加え−４℃に冷却した。攪拌
しながら塩化水素ガスの導入と35％ホルマリン85.78g
（1.000モル）の滴下を行った。ホルマリンは２時間で
滴下した。塩化水素ガスは４時間で820g（22.50モル）
の導入を終了した。この間、温度は−５〜０℃に保っ
た。塩化水素ガス導入終了後、更にその温度で２時間攪
拌した。後処理と精製は実施例１と同様に行った。Yield 59.79 g (73.7%) Example 3 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 89.20 g (0.483 mol) of 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene was dissolved in 200 ml of carbon tetrachloride, and 145 ml of 36% concentrated hydrochloric acid was added. Cooled to -4 ° C. Introduce hydrogen chloride gas while stirring and 85.78g of 35% formalin
(1.000 mol) was added dropwise. Formalin was added dropwise over 2 hours. 820 g (22.50 mol) of hydrogen chloride gas in 4 hours
The introduction of was finished. During this time, the temperature was kept at -5 to 0C. After the introduction of the hydrogen chloride gas, the mixture was further stirred at that temperature for 2 hours. Post-treatment and purification were performed as in Example 1.

収量 80.40g（71％）実施例４１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン2.98g（15.6mmol）、酢酸5ml、濃塩酸（35％）5ml、
四塩化炭素5mlを採り、これにクロロメチルエチルエー
テル3.10g（32.4mmol）を滴下して加えた。室温下２時
間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾燥
後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−
（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−2,3
−ジメチルベンゼンが92％の収率で生成していた。Yield 80.40 g (71%) Example 4 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 2.98 g (15.6 mmol), acetic acid 5 ml, concentrated hydrochloric acid (35%) 5 ml,
5 ml of carbon tetrachloride was taken, and 3.10 g (32.4 mmol) of chloromethyl ethyl ether was added dropwise thereto. After stirring at room temperature for 2 hours, the layers were separated. The organic phase was dried over calcium chloride and analyzed by gas chromatography to find 1-
(2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl) -2,3
-Dimethylbenzene was produced in a yield of 92%.

実施例５１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.35g（48.9mmol）、酢酸45ml、濃塩酸（35％）15m
l、四塩化炭素15mlを採り、これにクロロメチルエチル
エーテル9.56g（100.1mmol）を滴下して加えた。室温下
３時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで乾
燥後、ガスクロマトグラフィーで分析したところ、１−
（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−2,3
−ジメチルベンゼンが86％の収率で生成していた。Example 5 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 9.35 g (48.9 mmol), acetic acid 45 ml, concentrated hydrochloric acid (35%) 15 m
l, 15 ml of carbon tetrachloride was taken, and 9.56 g (100.1 mmol) of chloromethylethyl ether was added dropwise thereto. After stirring at room temperature for 3 hours, the layers were separated. The organic phase was dried over calcium chloride and analyzed by gas chromatography to find 1-
(2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl) -2,3
-Dimethylbenzene was produced in a yield of 86%.

実施例６１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼン（II）の合成１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼ
ン46.0g（240.5mmol）、酢酸50ml、濃塩酸（35％）50m
l、四塩化炭素50mlを採り、これにクロロメチルエチル
エーテル47.56g（497.8mmol）を滴下して加えた。室温
下３時間攪拌後、分液した。有機相を塩化カルシウムで
乾燥後、溶媒を留去して53.77gの残渣を得た。これを減
圧下蒸留して120〜125℃/0.5mmHgの留分として45.60gの
１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチル）−
2,3−ジメチルベンゼンを得た。（収率80％）比較例１１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.01g（15.7mmol）、酢酸5ml、四塩化炭素5mlを採り、
クロロメチルエチルエーテル3.08g（32.2mmol）を滴下
して加えた。室温下13時間攪拌後、分液し有機相をガス
クロマトグラフィーで分析したところ、１−（２−クロ
ロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼンが79％未反応の
まま残存し、ビス［４−（２−クロロエトキシ）−2,3
−ジメチルフェニル］メタンが19％の収率で生成してい
た。Example 6 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (II) 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 46.0 g (240.5 mmol), acetic acid 50 ml, concentrated hydrochloric acid (35%) 50 m
l, 50 ml of carbon tetrachloride was taken, and 47.56 g (497.8 mmol) of chloromethyl ethyl ether was added dropwise thereto. After stirring at room temperature for 3 hours, the layers were separated. After the organic phase was dried over calcium chloride, the solvent was distilled off to obtain 53.77 g of a residue. This was distilled under reduced pressure to obtain 45.60 g of 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl)-as a fraction at 120 to 125 ° C./0.5 mmHg.
2,3-Dimethylbenzene was obtained. Comparative Example 1 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene
Take 3.01 g (15.7 mmol), acetic acid 5 ml, carbon tetrachloride 5 ml,
3.08 g (32.2 mmol) of chloromethylethyl ether were added dropwise. After stirring at room temperature for 13 hours, the layers were separated and the organic phase was analyzed by gas chromatography. As a result, 79% of 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene remained unreacted and bis [4- (2-chloroethoxy) -2,3
[Dimethylphenyl] methane was produced in a yield of 19%.

比較例２１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
9.32g（48.7mmol）、酢酸15ml、四塩化炭素15mlを採
り、水冷下塩化水素ガスを吹き込みながら、クロロメチ
ルエチルエーテル9.63g（100.8mmol）を滴下して加え
た。５時間反応後、塩化水素ガスの吹き込みを止め分液
した。有機相をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、ビス［４−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチ
ルフェニル］メタンが92％の収率で生成していた。Comparative Example 2 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene
9.32 g (48.7 mmol), 15 ml of acetic acid and 15 ml of carbon tetrachloride were taken, and 9.63 g (100.8 mmol) of chloromethylethyl ether was added dropwise while blowing hydrogen chloride gas under water cooling. After the reaction for 5 hours, blowing of hydrogen chloride gas was stopped and liquid separation was performed. When the organic phase was analyzed by gas chromatography, bis [4- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylphenyl] methane was produced in a yield of 92%.

比較例３１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.00g（15.7mmol）、四塩化炭素5ml、濃塩酸（35％）5m
lを採り、これにクロロメチルエチルエーテル3.10g（3
2.4mmol）を滴下して加えた。室温下１時間攪拌後、分
液し有機相をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベン
ゼンが57％未反応のまま残存し、ビス［４−（２−クロ
ロエトキシ）−2,3−ジメチルフェニル］メタンが38％
の収率で生成していた。Comparative Example 3 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene
3.00g (15.7mmol), carbon tetrachloride 5ml, concentrated hydrochloric acid (35%) 5m
l, and add 3.10 g (3.
2.4 mmol) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, the layers were separated and the organic phase was analyzed by gas chromatography. As a result, 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene remained unreacted at 57%, and bis [4- 38% of (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylphenyl] methane
In a yield of

比較例４１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン
3.03g（15.8mmol）、酢酸5ml、四塩化炭素5ml、濃塩酸
（35％）5mlを採り、これにホルマリン（37％）2.55g
（31.4mmol）を滴下して加えた。室温下20時間攪拌後、
分液した。有機相をガスクロマトグラフィーで分析した
ところ、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル
ベンゼンが35％未反応のまま残存し、ビス［４−（２−
クロロエトキシ）−2,3−ジメチルフェニル］メタンが4
4％の収率で生成していた。Comparative Example 4 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene
Take 3.03 g (15.8 mmol), 5 ml of acetic acid, 5 ml of carbon tetrachloride, and 5 ml of concentrated hydrochloric acid (35%), and add 2.55 g of formalin (37%) to this.
(31.4 mmol) was added dropwise. After stirring at room temperature for 20 hours,
Separated. When the organic phase was analyzed by gas chromatography, 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene remained unreacted at 35%, and bis [4- (2-
Chloroethoxy) -2,3-dimethylphenyl] methane
It was formed in a yield of 4%.

実施例７クロロメチルエチルエーテル（Ａ）の合成エタノール1018.6g（22.00モル）に水酸化ナトリウム
1.20g（0.0279モル）を加え65℃で攪拌して溶解させ
た。そこへ、パラホルムアルデヒド（市販80％）825.8g
（ホルムアルデヒドに換算して、22.00モル）を加え、
１時間65℃で加熱攪拌してパラホルムアルデヒドを溶解
させた。Example 7 Synthesis of chloromethylethyl ether (A) Sodium hydroxide was added to 1018.6 g (22.00 mol) of ethanol.
1.20 g (0.0279 mol) was added and dissolved by stirring at 65 ° C. There, 825.8g of paraformaldehyde (80% on the market)
(In terms of formaldehyde, 22.00 mol)
The mixture was heated and stirred at 65 ° C. for 1 hour to dissolve paraformaldehyde.

パラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜10℃に保
ちながら、塩化水素ガス1127g（30.92モル）を6.5時間
かけて導入攪拌した。After dissolving paraformaldehyde, 1127 g (30.92 mol) of hydrogen chloride gas was introduced and stirred over 6.5 hours while cooling and keeping the temperature at 0 to 10 ° C.

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム5.
00gを加えて乾燥後に別して、液を80℃で1.5時間加
熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。After completion of the reaction, the organic phase is separated and dried over anhydrous calcium chloride 5.
The solution was heated at 80 ° C. for 1.5 hours to remove the hydrogen chloride gas, and then distilled off.

収量 1613.4g（78％） bp 80〜84℃ 実施例８クロロメチルブチルエーテル（Ａ）の合成ブタノール74.12g（1.000モル）に水酸化ナトリウム
0.05g（0.001モル）を加え65℃で攪拌して溶解させた。
そこへ、パラホルムアルデヒド（市販80％）37.54g（ホ
ルムアルデヒドに換算して1.000モル）を加え、１時間6
5℃で加熱攪拌した。Yield 1613.4 g (78%) bp 80-84 ° C Example 8 Synthesis of chloromethyl butyl ether (A) 74.12 g (1.000 mol) of butanol was added with sodium hydroxide.
0.05 g (0.001 mol) was added and dissolved by stirring at 65 ° C.
To this was added 37.54 g of paraformaldehyde (80% commercially available) (1.000 mol in terms of formaldehyde), and the mixture was added for 6 hours.
The mixture was heated and stirred at 5 ° C.

パラホルムアルデヒド溶解後に冷却して０〜10℃に保
ちながら、塩化水素ガス51.23g（1.406モル）を３時間
かけて導入攪拌した。After dissolving paraformaldehyde, 51.23 g (1.406 mol) of hydrogen chloride gas was introduced and stirred for 3 hours while cooling and keeping the temperature at 0 to 10 ° C.

反応終了後に有機相を分取して無水塩化カルシウム0.
30gを加えて乾燥後に別して、液を130℃で1.5時間
加熱して塩化水素ガスを除き、続いて蒸留した。After the reaction is completed, the organic phase is separated and dried over anhydrous calcium chloride.
The solution was heated at 130 ° C. for 1.5 hours to remove hydrogen chloride gas, and then distilled off.

収量 105.43g（86％） bp 130〜134℃ 比較例５ 35％ホルマリン128.70g（1.500モル）とエタノール6
9.45g（1.500モル）を混合しておき、塩化水素ガス199.
0g（5.614モル）を5.5時間かけて導入して攪拌した。塩
化水素ガス導入中は３〜８℃に保った。Yield 105.43 g (86%) bp 130-134 ° C. Comparative Example 5 128.70 g (1.500 mol) of 35% formalin and ethanol 6
9.45 g (1.500 mol) were mixed and hydrogen chloride gas was added to 199.
0 g (5.614 mol) was introduced over 5.5 hours and stirred. During the introduction of the hydrogen chloride gas, the temperature was maintained at 3 to 8 ° C.

塩化水素ガス導入終了後に無水塩化カルシウム30.0g
を加えて攪拌して溶解させた（この塩析を行わないと目
的物が水層に溶解する。）。有機物を分取して無水塩化
カルシウムで乾燥した。After completion of hydrogen chloride gas introduction, anhydrous calcium chloride 30.0 g
Was added and stirred to dissolve (the target product would dissolve in the aqueous layer if this salting-out was not performed). The organic matter was separated and dried over anhydrous calcium chloride.

乾燥剤を別して窒素を30分間通して塩化水素を除
き、蒸留した。Apart from the desiccant, nitrogen was passed through for 30 minutes to remove hydrogen chloride and distilled.

収量 95.95g bp 77〜83℃ ここで得られたオイルのNMRスペクトルを測定した結
果、クロロメチルエチルエーテル：クロロメチルメチル
エーテル＝87:13のモル比であることがわかった。従っ
て、クロロメチルエチルエーテルの収率は61％と低かっ
た。また、蒸留だけでクロロメチルエチルエーテルを単
離しようとすると、その収率は20〜30％程度まで低下し
てしまった。Yield 95.95 g bp 77-83 ° C. The NMR spectrum of the obtained oil was measured, and it was found that the molar ratio of chloromethyl ethyl ether: chloromethyl methyl ether was 87:13. Therefore, the yield of chloromethyl ethyl ether was as low as 61%. Further, when trying to isolate chloromethyl ethyl ether only by distillation, the yield was reduced to about 20 to 30%.

実施例９１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成金属マグネシウム27.43g（1.13g atm）、テトラヒド
ロフラン200mlを採り、窒素気流下−５℃に攪拌しなが
ら冷却した。これに、１−（２−クロロエトキシ）−４
−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼン188.8g（8
09.8mmol）のテトラヒドロフラン（1140ml）溶液を反応
液温が０℃を越えないように3.5時間かけて滴下して加
えた。次いで、クロロメチルエチルエーテル108.2g（11
32.5mmol）のテトラヒドロフラン（200ml）溶液を２時
間かけて滴下して加えた。−５〜10℃で30分反応した。
水300ml加え30分攪拌後、トルエン500mlを加えた。分液
後、有機層を飽和食塩水200mlで洗浄した。これを濃縮
して213.84gの釜残を得た。これを減圧蒸留して137〜13
8℃/2mmHgの留分として、166.3gの１−（２−クロロエ
トキシ）−４−（２−エトキシエチル）−2,3−ジメチ
ルベンゼンを得た。収率80％元素分析 C H Cl 理論値 65.49 8.24 13.87 実測値 65.26 8.01 13.91 MS（m/e）:256（M⁺）,197（M⁺−CH₂OC₂H₅）,135（197−
CH₂＝CHCl）¹ H−NMR（CCl₄）δ:1.15〜1.23（3H,t）,2.15（3H,s）,
2.20（3H,s）,2.82〜2.90（2H,t）,3.45〜3.60（4H,
m）,3.75〜3.80（2H,t）,4.10〜4.20（2H,t）,6.60〜6.
65（1H,d）,6.95〜7.00（1H,d） IR（NaCl板）cm^-1:2850〜2960,1590,1480,1370,1300,12
60,1100,800,660 実施例10 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成金属マグネシウム9.75g（401.2mg atm）、テトラヒド
ロフラン50mlを採り、窒素気流下攪拌しながら０℃に冷
却した。これに、１−（２−クロロエトキシ）−４−
（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼン46.92g（20
1.3mmol）のテトラヒドロフラン（150ml）溶液を数ml加
えた。グリニャール化反応が開始したことを確認後、上
記溶液をテトラヒドロフラン（150ml）で更に希釈し、
これを反応液温が０℃を越えないように滴下して加え
た。滴下後、−８〜０℃で２時間反応させた。不溶のマ
グネシウムを別後、クロロメチルエチルエーテル21.2
6g（222.5mmol）のテトラヒドロフラン（50ml）溶液を
滴下して加えた。滴下後、同温度で２時間更に反応させ
た。トルエン500ml、水50mlを加えた後、1N塩酸を20ml
加え酸性にした。分液後、水相をトルエン250mlで抽出
し、有機相を合わせて水200mlで２回洗浄した。芒硝で
乾燥後、溶媒を留去して淡黄色液体54.44gを得た。これ
を減圧下蒸留して136〜139℃/2mmHgの留分として、32.8
2gの１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシ
エチル）−2,3−ジメチルベンゼンを得た。収率67％実施例11 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成金属マグネシウム1.81g（74.47mg atm）、痕跡量のヨ
ウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（２−クロロエト
キシ）−４−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼ
ン9.96g（42.72mmol）のテトラヒドロフラン40ml溶液を
数ml加えた。グリニャール化反応が起こったことを確認
後、上記溶液に更にテトラヒドロフラン30mlで希釈後、
冷却し反応液温が０℃を越えないように滴下して加え
た。滴下後、−５〜０℃で３時間反応後、クロロメチル
エチルエーテル7.00g（73.27mmol）のテトラヒドロフラ
ン50ml溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後２時間同
温度で反応させた後、10％塩化アンモニウム水溶液300m
lを加え、１時間攪拌後、トルエン500mlを加え抽出し
た。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣にヘキサン50
mlを加え不溶物を別した。液を濃縮し淡黄液体10.4
7gを得た。これをシリカゲルカラム（展開液トルエン）
にかけ、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エト
キシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン9.02gを分離し
た。収率82％実施例12 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−エトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成金属マグネシウム12.51g（514.6mg atm）、痕跡量の
ヨウ素、テトラヒドロフラン100mlを窒素気流下採り、
冷却下１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロメチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン100.3g（430.2mmol）、ク
ロロメチルエチルエーテル49.20g（515.0mmol）のテト
ラヒドロフラン600ml溶液を反応液温が０℃を越えない
ように2.5時間かけて滴下して加えた。更に、−５〜−1
0℃で２時間反応させた後、水150mlを加えた。30分攪拌
後、トルエン250mlを加え分液した。有機相を濃縮して
釜残115.72gを得た。これを減圧蒸留し、142〜149℃/3m
mHgの留分として１−（２−クロロエトキシ）−４−
（２−エトキシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン69.59
gを得た。収率63％実施例13 １−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メトキシエチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン（Ｉ）の合成金属マグネシウム1.94g（79.82mg atm）、痕跡量のヨ
ウ素を採り、室温下、窒素気流下１−（２−クロロエト
キシ）−４−（クロロメチル）−2,3−ジメチルベンゼ
ン12.41g（53.23mmol）のテトラヒドロフラン50ml溶液
を数ml加えた。グリニャール化反応が起こったことを確
認後、上記溶液を更にテトラヒドロフラン30mlで希釈
後、冷却し反応液温が０℃を越えないように滴下して加
えた。滴下後、−５〜０℃で３時間反応後、クロロメチ
ルメチルエーテル6.40g（79.49mmol）のテトラヒドロフ
ラン50ml溶液を同温度で滴下して加えた。滴下後２時間
同温度で反応させた後、10％塩化アンモニウム水溶液30
0mlを加え、１時間攪拌後、トルエン500mlを加え抽出し
た。芒硝で乾燥後、溶媒留去して得た残渣にヘキサン50
mlを加え不溶物を別した。液を濃縮し淡黄液体9.69
gを得た。これをシリカゲルカラム（展開液トルエン）
にかけ、１−（２−クロロエトキシ）−４−（２−メト
キシエチル）−2,3−ジメチルベンゼン8.40gを分離し
た。収率65％元素分析ＣＨ Cl 理論値 63.93％ 8.61％ 14.34％実測値 63.75％ 8.53％ 14.52％ MS（m/e）:244（M⁺）,197,135 実施例14 １−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセチル）
−2,3−ジメチルベンゼン（VIII）の合成ニトロベンゼン360mlに塩化アルミニウム87.25g（0.6
5mol）を溶解し氷冷した。これに、クロロ酢酸クロリド
65.05g（0.66mol）を30分間で滴下し、次いで１−（２
−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン92.35g
（0.5mol）を滴下した。氷冷下で１時間攪拌した後、室
温で1.5時間攪拌した。再び氷冷し、氷水400mlを加え塩
化アルミニウムを分解した。塩化アルミニウムを完全に
分解した後、静置し、ニトロベンゼン層を分液した。水
層を塩化メチレン200mlで抽出し、これを先のニトロベ
ンゼン層と合わせて３％塩酸300mlで２回、次いで飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液300mlで２回、最後に水洗し
乾燥した。溶媒を留去した後、塩化メチレン100mlに溶
解し、これにヘキサン400mlを加え、析出する白色固体
を集した。集物を減圧乾燥し、97.22gの１−（２−
クロロエトキシ）−４−（クロロアセチル）−2,3−ジ
メチルベンゼンを得た。収率75％ MS（m/e）:M⁺260,211,149,121 IR（cm^-1）:1770,1260,1220,1095,795¹ H−NMR（CDCl₃）δ:2.20（3H,s）,2.40（3H,s）,3.87
（2H,t）,4.27（2H,t）,4.56（3H,s）,6.70（1H,d）,7.
44（1Hd）実施例15 ４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキシ）
−2,3−ジメチルベンゼン（Ｖ）の合成１−（２−クロロエトキシ）−４−（クロロアセチ
ル）−2,3−ジメチルベンゼン13.06g（0.05mol）、酢酸
ナトリウム8.20g（0.1mol）をジメチルホルムアミド（D
MF）120mlに加え、50℃で1.5時間攪拌した。その後、減
圧下（５〜8mmHg）でDMFを留去した。放冷後、５％塩酸
100ml、トルエン100mlを加え分液した。水層をトルエン
70mlで抽出し、先のトルエン層と合わせ５％塩酸100ml
で１回、水100mlで２回洗浄し乾燥した。その後、トル
エンを留去し、４−アセトキシアセチル−１−（２−ク
ロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン13.61gを得
た。収率96％ MS（m/e）:M⁺284,211,149,121 IR（cm^-1）:1745,1590,1230,1110,1060¹ H−NMR（CDCl₃）δ:2.15（6H,s）,2.38（3H,s）,3.82
（2H,t）,4.22（2H,t）,5.10（2H,s）,6.68（1H,d）,7.
42（1H,d）実施例16 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−ヒドロキシエチル）ベンゼン（IV）の合成窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム1.33gをテトラ
ヒドロフラン（THF）15mlに懸濁し氷冷した。これに、
同温で三フッ素ホウ素エーテル錯塩24.5g（173mmol）を
10分間で滴下し、これに４−アセトキシアセチル−１−
（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチルベンゼン4.72g
（16.6mmol）をTHF5mlに溶解した溶液を５分間で滴下し
た。氷冷下で１時間攪拌した後、２時間還流した。反応
後、再び氷冷し、５％塩酸を滴下し、完全に反応試薬を
分解し、イソプロピルエーテル100mlを加え抽出した。
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で有機相を洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。硫酸ナ
トリウムを別後、イソプロピルエーテルを留去し１−
（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−（２−
ヒドロキシエチル）ベンゼン3.63gを得た。収率96％ IR（cm^-1）:3400,1260,1105,800¹ H−NMR（CDCl₃）δ:1.69（1H,s）,2.19（3H,s）,2.22
（3H,s）,2.86（2H,t）,3.76（2H,t）,3.80（2H,t）,4.
18（2H,t）,6.64（1H,d）,6.96（1H,d） MS（m/e）:M⁺228,197,135,105 実施例17 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−ヒドロキシエチル）ベンゼン（IV）の合成窒素気流下、水素化ホウ素ナトリウム0.27g（7.02mmo
l）をTHF6mlに懸濁し氷冷した。これに、４−アセトキ
シアセチル−１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメ
チルベンゼン1.00gを三フッ化ホウ素エーテル錯塩5.57g
に溶解したものを１時間で滴下した。滴下後、更に１時
間還流した。反応後、氷冷し、５％塩酸で反応試薬を完
全に分解した後、イソプロピルエーテル50mlを加え抽出
した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで水で洗浄
した後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、イソプロピ
ルエーテルを留去すると１−（２−クロロエトキシ）−
2,3−ジメチル−４−（２−ヒドロキシエチル）ベンゼ
ン0.73gが得られた。収率91％実施例18 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（２−アセトキシエチル）ベンゼン（VI）の合成４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキ
シ）−2,3−ジメチルベンゼン0.89g（3.1mmol）、ジオ
キサン10ml、ラネーニッケル（W₂）0.5gをオートクレー
ブに仕込み、水素を30kg/cm²Gまで圧入し、120℃で６時
間反応させた。放冷後、水素を解放しニッケルを別
し、溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル／塩化メチレン）により分離し、１−（２
−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−（２−アセ
トキシエチル）ベンゼン0.80gを得た。収率72％ MS（m/e）:M⁺270,210,197,148,135 IR（cm^-1）:1730,1260,1235¹ H−NMR（CDCl₃）δ:2.04（3H,s）,2.19（3H,s）,2.24
（3H,s）,2.91（2H,t）,3.80（2H,t）,4.1〜4.25（4H,
m）,6.64（1H,d）,6.96（1H,d）実施例19 １−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４−
（１−ヒドロキシ−２−アセトキシエチル）ベンゼン
（VII）の合成４−アセトキシアセチル−１−（２−クロロエトキ
シ）−2,3−ジメチルベンゼン1.29g（4.5mmol）をエタ
ノール10ml溶解し、これにラネーニッケル（W₂）0.6gを
加えた後、反応容器内を水素で満たした。常に反応容器
内が水素で常圧に保たれている状態で50℃で８時間攪拌
した。反応後、ラネーニッケルを別し、溶媒を留去
し、１−（２−クロロエトキシ）−2,3−ジメチル−４
−（１−ヒドロキシ−２−アセトキシエチル）ベンゼン
1.22gを得た。収率94％ IR（cm^-1）:3400,1740,1260,1230 MS（m/e）:M⁺286,269,226,197,179,149,135¹ H−NMR（CDCl₃）δ:2.11（3H,s）,2.19（3H,s）,2.25
（3H,s）,2.50（1H,s）,3.82（2H,t）,4.0〜4.3（4H,
m）,5.17（1H,dd）,6.72（1H,dd）,7.31（1H,d）［発明の効果］本発明によれば、医薬、農薬、特に殺虫剤として有用
な化合物を提供することができる。Example 9 Synthesis of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene (I) 27.43 g (1.13 g atm) of magnesium metal and 200 ml of tetrahydrofuran were taken and placed under a stream of nitrogen. The mixture was cooled to −5 ° C. with stirring. In addition, 1- (2-chloroethoxy) -4
-(Chloromethyl) -2,3-dimethylbenzene 188.8 g (8
(09.8 mmol) in tetrahydrofuran (1140 ml) was added dropwise over 3.5 hours so that the reaction solution temperature did not exceed 0 ° C. Then, 108.2 g of chloromethyl ethyl ether (11
(32.5 mmol) in tetrahydrofuran (200 ml) was added dropwise over 2 hours. The reaction was performed at -5 to 10 ° C for 30 minutes.
After adding 300 ml of water and stirring for 30 minutes, 500 ml of toluene was added. After liquid separation, the organic layer was washed with 200 ml of saturated saline. This was concentrated to obtain 213.84 g of a residue. This is distilled under reduced pressure to 137 ~ 13
As a fraction at 8 ° C./2 mmHg, 166.3 g of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene was obtained. 80% Elemental analysis CH Cl theoretical yield 65.49 8.24 13.87 Found 65.26 8.01 13.91 MS (m / e ): 256 (M +), 197 (M + -CH 2 OC 2 H 5), 135 (197-
CH ₂ CHCHCl) ¹ H-NMR (CCl ₄ ) δ: 1.15 to 1.23 (3H, t), 2.15 (3H, s),
2.20 (3H, s), 2.82 to 2.90 (2H, t), 3.45 to 3.60 (4H,
m), 3.75-3.80 (2H, t), 4.10-4.20 (2H, t), 6.60-6.
65 (1H, d), 6.95 ~ 7.00 (1H, d) IR (NaCl plate) cm ^-1 : 2850 ~ 2960,1590,1480,1370,1300,12
60,1100,800,660 Example 10 Synthesis of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene (I) 9.75 g (401.2 mg atm) of magnesium metal and 50 ml of tetrahydrofuran The sample was collected and cooled to 0 ° C. while stirring under a nitrogen stream. In addition, 1- (2-chloroethoxy) -4-
46.92 g of (chloromethyl) -2,3-dimethylbenzene (20
A few milliliters of a 1.3 mmol) solution in tetrahydrofuran (150 ml) was added. After confirming that the Grignard reaction had started, the above solution was further diluted with tetrahydrofuran (150 ml),
This was added dropwise so that the reaction solution temperature did not exceed 0 ° C. After the addition, the reaction was carried out at -8 to 0 ° C for 2 hours. After separating the insoluble magnesium, chloromethyl ethyl ether 21.2
A solution of 6 g (222.5 mmol) in tetrahydrofuran (50 ml) was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was further reacted at the same temperature for 2 hours. After adding 500 ml of toluene and 50 ml of water, 20 ml of 1N hydrochloric acid was added.
It was acidified. After liquid separation, the aqueous phase was extracted with 250 ml of toluene, and the combined organic phases were washed twice with 200 ml of water. After drying over sodium sulfate, the solvent was distilled off to obtain 54.44 g of a pale yellow liquid. This was distilled under reduced pressure to obtain a fraction of 136 to 139 ° C./2 mmHg, 32.8
2 g of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene were obtained. Yield 67% Example 11 Synthesis of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene (I) 1.81 g (74.47 mg atm) of magnesium metal, trace amount of iodine And a few ml of a solution of 9.96 g (42.72 mmol) of 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl) -2,3-dimethylbenzene in 40 ml of tetrahydrofuran was added at room temperature under a nitrogen stream. After confirming that the Grignard reaction occurred, the above solution was further diluted with 30 ml of tetrahydrofuran,
The mixture was cooled and added dropwise so that the temperature of the reaction solution did not exceed 0 ° C. After the dropwise addition, the mixture was reacted at −5 to 0 ° C. for 3 hours, and a solution of 7.00 g (73.27 mmol) of chloromethylethyl ether in 50 ml of tetrahydrofuran was added dropwise at the same temperature. After reacting for 2 hours at the same temperature after dropping, 300m of 10% aqueous ammonium chloride solution
After stirring for 1 hour, 500 ml of toluene was added for extraction. After drying over sodium sulfate, the residue obtained by evaporating the solvent was added to hexane 50
ml was added to separate insolubles. Concentrate the liquid and light yellow liquid 10.4
7 g were obtained. This is a silica gel column (developing solution toluene)
And 9.02 g of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene was separated. Yield 82% Example 12 Synthesis of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene (I) 12.51 g (514.6 mg atm) of magnesium metal, trace amount of iodine , Take 100 ml of tetrahydrofuran under a nitrogen stream,
Under cooling, a solution of 100.3 g (430.2 mmol) of 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl) -2,3-dimethylbenzene and 49.20 g (515.0 mmol) of chloromethylethyl ether in 600 ml of tetrahydrofuran was heated to a reaction solution temperature. It was added dropwise over 2.5 hours without exceeding 0 ° C. Further, -5 to -1
After reacting at 0 ° C. for 2 hours, 150 ml of water was added. After stirring for 30 minutes, 250 ml of toluene was added and the layers were separated. The organic phase was concentrated to obtain 115.72 g of a residue. This is distilled under reduced pressure, 142-149 ° C / 3m
1- (2-chloroethoxy) -4- as a fraction of mHg
(2-ethoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene 69.59
g was obtained. Yield 63% Example 13 Synthesis of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene (I) 1.94 g (79.82 mg atm) of metallic magnesium, trace amount of iodine Then, a few ml of a solution of 12.41 g (53.23 mmol) of 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloromethyl) -2,3-dimethylbenzene in 50 ml of tetrahydrofuran was added at room temperature under a nitrogen stream. After confirming that the Grignard reaction had occurred, the above solution was further diluted with 30 ml of tetrahydrofuran, cooled, and added dropwise so that the reaction solution temperature did not exceed 0 ° C. After the dropwise addition, the mixture was reacted at −5 to 0 ° C. for 3 hours, and a solution of 6.40 g (79.49 mmol) of chloromethyl methyl ether in 50 ml of tetrahydrofuran was added dropwise at the same temperature. After reacting at the same temperature for 2 hours after dropping, 30% aqueous ammonium chloride solution 30
After adding 0 ml and stirring for 1 hour, 500 ml of toluene was added and extracted. After drying over sodium sulfate, the residue obtained by evaporating the solvent was added to hexane 50
ml was added to separate insolubles. Concentrate the liquid and light yellow liquid 9.69
g was obtained. This is a silica gel column (developing solution toluene)
Then, 8.40 g of 1- (2-chloroethoxy) -4- (2-methoxyethyl) -2,3-dimethylbenzene was separated. Yield 65% Elemental analysis CHCl theoretical 63.93% 8.61% 14.34% found 63.75% 8.53% 14.52% MS (m / e): 244 (M ⁺ ), 197,135 Example 14 1- (2-Chloroethoxy) -4- (chloroacetyl)
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (VIII) 87.25 g (0.6
(5 mol) was dissolved and cooled on ice. In addition, chloroacetic acid chloride
65.05 g (0.66 mol) was added dropwise over 30 minutes, then 1- (2
-Chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 92.35 g
(0.5 mol) was added dropwise. After stirring for 1 hour under ice cooling, the mixture was stirred at room temperature for 1.5 hours. The mixture was cooled on ice again, and 400 ml of ice water was added to decompose aluminum chloride. After the aluminum chloride was completely decomposed, it was allowed to stand, and the nitrobenzene layer was separated. The aqueous layer was extracted with 200 ml of methylene chloride, combined with the previous nitrobenzene layer, washed twice with 300 ml of 3% hydrochloric acid, then twice with 300 ml of a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and finally washed with water and dried. After the solvent was distilled off, the residue was dissolved in methylene chloride (100 ml), hexane (400 ml) was added thereto, and the precipitated white solid was collected. The collected material was dried under reduced pressure, and 97.22 g of 1- (2-
(Chloroethoxy) -4- (chloroacetyl) -2,3-dimethylbenzene was obtained. Yield 75% MS (m / e) : M + 260,211,149,121 IR (cm -1): 1770,1260,1220,1095,795 1 H-NMR (CDCl 3) δ: 2.20 (3H, s), 2.40 (3H , s), 3.87
(2H, t), 4.27 (2H, t), 4.56 (3H, s), 6.70 (1H, d), 7.
44 (1Hd) Example 15 4-acetoxyacetyl-1- (2-chloroethoxy)
Synthesis of 2,3-dimethylbenzene (V) 13.6-g (0.05 mol) of 1- (2-chloroethoxy) -4- (chloroacetyl) -2,3-dimethylbenzene and 8.20 g (0.1 mol) of sodium acetate Dimethylformamide (D
MF) and stirred at 50 ° C. for 1.5 hours. Thereafter, DMF was distilled off under reduced pressure (5 to 8 mmHg). After cooling, 5% hydrochloric acid
100 ml and 100 ml of toluene were added to carry out liquid separation. Water layer in toluene
Extract with 70ml, combine with the previous toluene layer and add 5% hydrochloric acid 100ml
And once with 100 ml of water and dried. Thereafter, toluene was distilled off to obtain 13.61 g of 4-acetoxyacetyl-1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene. Yield 96% MS (m / e): M ⁺ 284,211,149,121 IR (cm ^-1 ): 1745,1590,1230,1110,1060 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ: 2.15 (6H, s), 2.38 (3H , s), 3.82
(2H, t), 4.22 (2H, t), 5.10 (2H, s), 6.68 (1H, d), 7.
42 (1H, d) Example 16 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4-
Synthesis of (2-hydroxyethyl) benzene (IV) Under a nitrogen stream, 1.33 g of sodium borohydride was suspended in 15 ml of tetrahydrofuran (THF) and cooled with ice. to this,
At the same temperature, 24.5 g (173 mmol) of trifluoride boron ether complex
It was added dropwise over 10 minutes, and 4-acetoxyacetyl-1- was added thereto.
(2-Chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 4.72 g
A solution of (16.6 mmol) dissolved in 5 ml of THF was added dropwise over 5 minutes. After stirring for 1 hour under ice cooling, the mixture was refluxed for 2 hours. After the reaction, the mixture was ice-cooled again, 5% hydrochloric acid was added dropwise to completely decompose the reaction reagent, and 100 ml of isopropyl ether was added for extraction.
The organic phase was washed with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate and then with water, and then dried over anhydrous sodium sulfate. After separating sodium sulfate, isopropyl ether was distilled off and 1-
(2-chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4- (2-
3.63 g of (hydroxyethyl) benzene were obtained. Yield 96% IR (cm ^-1 ): 3400,1260,1105,800 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ: 1.69 (1H, s), 2.19 (3H, s), 2.22
(3H, s), 2.86 (2H, t), 3.76 (2H, t), 3.80 (2H, t), 4.
18 (2H, t), 6.64 (1H, d), 6.96 (1H, d) MS (m / e): M ⁺ 228,197,135,105 Example 17 1- (2-Chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4-
Synthesis of (2-hydroxyethyl) benzene (IV) 0.27 g (7.02 mmo) of sodium borohydride under a nitrogen stream
l) was suspended in 6 ml of THF and cooled with ice. To this, 4-acetoxyacetyl-1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene (1.00 g) was mixed with boron trifluoride etherate (5.57 g).
Was added dropwise over 1 hour. After the addition, the mixture was further refluxed for 1 hour. After the reaction, the mixture was cooled on ice, and the reaction reagent was completely decomposed with 5% hydrochloric acid, and 50 ml of isopropyl ether was added for extraction. After washing with a saturated aqueous solution of sodium hydrogencarbonate and then with water, drying over anhydrous sodium sulfate and distilling off isopropyl ether, 1- (2-chloroethoxy)-is obtained.
0.73 g of 2,3-dimethyl-4- (2-hydroxyethyl) benzene was obtained. Example 18 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4-
(2-acetoxyethyl) benzene (VI) Synthesis of 4-acetoxy-acetyl-1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene 0.89 g (3.1 mmol), dioxane 10 ml, Raney nickel (W ₂₎ 0.5 g The solution was charged into an autoclave, hydrogen was injected to 30 kg / cm ² G, and reacted at 120 ° C. for 6 hours. After cooling, hydrogen was released to separate nickel, and the solvent was distilled off. The residue was separated by column chromatography (silica gel / methylene chloride) and 1- (2
-Chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4- (2-acetoxyethyl) benzene 0.80 g was obtained. Yield 72% MS (m / e): M ⁺ 270,210,197,148,135 IR (cm ^-1 ): 1730,1260,1235 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ: 2.04 (3H, s), 2.19 (3H, s), 2.24
(3H, s), 2.91 (2H, t), 3.80 (2H, t), 4.1 ~ 4.25 (4H,
m), 6.64 (1H, d), 6.96 (1 H, d) Example 19 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4-
Synthesis of (1-hydroxy-2-acetoxyethyl) benzene (VII) 1.29 g (4.5 mmol) of 4-acetoxyacetyl-1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethylbenzene was dissolved in 10 ml of ethanol, and dissolved in 10 ml of ethanol. After adding 0.6 g of Raney nickel (W ₂ ), the reaction vessel was filled with hydrogen. The mixture was stirred at 50 ° C. for 8 hours while keeping the inside of the reaction vessel at normal pressure with hydrogen. After the reaction, Raney nickel was separated, the solvent was distilled off, and 1- (2-chloroethoxy) -2,3-dimethyl-4 was removed.
-(1-hydroxy-2-acetoxyethyl) benzene
1.22 g was obtained. Yield 94% IR (cm ^-1 ): 3400,1740,1260,1230 MS (m / e): M ⁺ 286,269,226,197,179,149,135 ¹ H-NMR (CDCl ₃ ) δ: 2.11 (3H, s), 2.19 (3H, s) ), 2.25
(3H, s), 2.50 (1H, s), 3.82 (2H, t), 4.0 ~ 4.3 (4H,
m), 5.17 (1H, dd), 6.72 (1H, dd), 7.31 (1H, d) [Effect of the Invention] According to the present invention, it is possible to provide a compound useful as a medicine, a pesticide, particularly a pesticide. it can.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者柏木公一千葉県市原市五井南海岸８―１宇部興産株式会社千葉研究所内 (72)発明者野田結実樹千葉県市原市五井南海岸８―１宇部興産株式会社千葉研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続き Continuing on the front page (72) Koichi Kashiwagi, Inventor 8-1 Goi Minami Coast, Ichihara-shi, Chiba Prefecture Ube Industries, Ltd. Chiba Research Institute (72) Inventor Yumiki Noda 8-Goi Minami Coast, Ichihara-shi, Chiba Prefecture 1 Ube Industries, Ltd. Chiba Research Laboratory

Claims

(57) [Claims]

1. The following formula (I): (Wherein, R ¹ , R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom).

2. The following formula (II): (Wherein, R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ and X ² each independently represent a halogen atom).

3. The compound according to claim 2, wherein the compound is represented by the following formula (A): X ³ CH ₂ OR ¹ (A) (wherein R ¹ represents a lower alkyl group; X ³ represents a halogen atom) The method for producing a compound according to claim 1, wherein the compound represented by the following formula is reacted in the presence of metallic magnesium.

4. The following formula (III): (Wherein R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom.), Formaldehyde or a polymer thereof, and a hydrogen halide 3. The method for producing a compound according to claim 2, wherein

And 5. The claim 4 of the formula (III) compound, the following formula ^{_{(C): R 4 OCH 2}} X 2 (C) ( wherein, R ⁴ represents a lower alkyl group; X ² methods for preparation of the compounds of the compound of claim 2, wherein the reaction is carried out in the presence of aqueous hydrogen halide corresponding to the acetic acid and X ² represented by a halogen atom.).

6. The following formula (IV): (Wherein, R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom).

7. The following equation (V): (Wherein, R ² , R ³ and R ⁵ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom.)

8. The method for producing a compound according to claim 6, wherein the compound according to claim 7 is treated with a reducing agent comprising sodium borohydride and a boron trifluoride ether complex.

9. The following formula (VI): (Wherein, R ² , R ³ and R ⁵ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom).

10. The process according to claim 9, wherein the compound according to claim 7 is treated under hydrogen pressure in the presence of Raney nickel.

11. The following formula (VII): (Wherein, R ² , R ³ and R ⁵ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ represents a halogen atom).

12. The compound according to claim 7, which is treated at normal pressure in the presence of Raney nickel.
A method for producing the described compound.

13. The following formula (VIII): (Wherein R ² and R ³ each independently represent a lower alkyl group; X ¹ and X ⁴ each independently represent a halogen atom). A compound represented by the following formula (D ): (R ⁵ COO) _n M (D) (wherein, R ⁵ represents a lower alkyl group; M represents a monovalent or divalent metal; n represents 1 or 2). 8. The method for producing a compound according to claim 7, wherein the compound is reacted.

14. A compound represented by the formula (VIII) according to claim 13.