JPH0227598A - Shift register - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は薄膜トランジスタ回路に係り、特にシフトレジ
スタの最高動作周波数の向上と最低動作周波数の低下に
好適なシフトレジスタに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thin film transistor circuit, and particularly to a shift register suitable for increasing the maximum operating frequency and decreasing the minimum operating frequency of the shift register.
従来、薄膜MISトランジスタを用いてシフトレジスタ
を構成する場合は例えば集積回路工学(2)、コロナ社
、第5章に記載されている2相ダイナミツク型シフトレ
ジスタ、即ち第2図に示す回路を用いていた。ここで、
第2図に示す回路の動作を図中の下部に示したタイミン
グチャートを用いて説明すると、入力信号V 1nはク
ロックパルスφ1の立上りでトランジスタQ2のゲート
に取り込まれ、直ちにvlnの反転信号V t nがト
ランジスタQeのドレインに入力され、次にクロックパ
ルスφ2の立上りでV i nがトランジスタQ7のゲ
ートに取り込まれるので、直ちにvlfiの反転信号v
1.が出力信号V o u tとして出力される。Conventionally, when constructing a shift register using thin film MIS transistors, for example, a two-phase dynamic shift register described in Chapter 5 of Integrated Circuit Engineering (2), Corona Publishing, ie, the circuit shown in Fig. 2 was used. was. here,
To explain the operation of the circuit shown in FIG. 2 using the timing chart shown at the bottom of the figure, the input signal V 1n is taken into the gate of the transistor Q2 at the rising edge of the clock pulse φ1, and the inverted signal V t of vln is immediately taken in. n is input to the drain of the transistor Qe, and then at the rising edge of the clock pulse φ2, V i n is taken into the gate of the transistor Q7, so that the inverted signal v of vlfi is immediately inputted to the drain of the transistor Qe.
1. is output as the output signal V out .
即ち、vIllはグロックパルスφl、φ2によって制
御される。That is, vIll is controlled by Glock pulses φl and φ2.
ところで、第2図に示す回路を高速動作させる一つの手
段として電源電圧VOOを高くする方法がある。これは
、Vooを高くする、即ちトランジスタQa、Qaのゲ
ート電圧を高くすることにより、Qs、Qaのオン抵抗
が低くなるので、Qa、QBを通して次段のインバータ
の入力容量に充電する時間が短かくなる理由によるもの
である。By the way, one way to operate the circuit shown in FIG. 2 at high speed is to increase the power supply voltage VOO. This is because by increasing Voo, that is, by increasing the gate voltage of transistors Qa and Qa, the on-resistance of Qs and Qa is lowered, so the time to charge the input capacitance of the next stage inverter through Qa and QB is shortened. This is due to the following reasons.
ところで第2図に示した薄膜トランジスタ回路は電源電
圧Vooを通常の駆動電圧より高くすると容易に誤動作
することがわかった。動作としてはQz或はQlがオフ
状態で且つスイッチトランジスタロ1成はQeがオフ状
態にもかかわらず、VDDを大きくしていくとQl、或
はQBのリーク電流の増大によりQl或はQlがオン状
態になってしまう現象である。By the way, it has been found that the thin film transistor circuit shown in FIG. 2 easily malfunctions when the power supply voltage Voo is made higher than the normal driving voltage. In terms of operation, even though Qz or Ql is off and the switch transistor transistor 1 is off, Ql or Ql increases as VDD increases due to the increase in leakage current of Ql or QB. This is a phenomenon where the device turns on.
上記現象は薄膜MISトランジスタのソース。The above phenomenon occurs at the source of a thin film MIS transistor.
ドレイン耐圧が単結晶MoSトランジスタのそれと比べ
ると極めて低い理由によるものである。これは現状の薄
膜MISトランジスタでは完全なPN接合でソース、ド
レイン間のリーク電流を抑えていないことに起因する。This is because the drain breakdown voltage is extremely low compared to that of a single crystal MoS transistor. This is because current thin film MIS transistors do not have a perfect PN junction to suppress leakage current between the source and drain.
このため、Vooを高くすると負荷トランジスタQa、
Qa等を経由してスイッチトランジスタQl。Therefore, if Voo is increased, the load transistor Qa,
Switch transistor Ql via Qa etc.
Qa等のドレインに印加される電圧が高くなるので、そ
の結果スイッチトランジスタQs、Qθ等のリーク電流
が増大する。Since the voltage applied to the drains of Qa, etc. increases, as a result, leakage currents of switch transistors Qs, Qθ, etc. increase.
上記結果は薄膜トランジスタで形成したシフトレジスタ
の最低動作周波数の向上を意味する。The above results mean an improvement in the minimum operating frequency of a shift register formed using thin film transistors.
本発明の目的は薄膜トランジスタで形成したシフトレジ
スタの最高動作周波数の向上と最低動作周波数の低下を
実現することにある。An object of the present invention is to improve the maximum operating frequency and lower the minimum operating frequency of a shift register formed using thin film transistors.
上記目的は薄膜MISトランジスタで形成するシフトレ
ジスタ1段の回路構成において入力信号vlnをクロッ
クパルスφ1で制御されるスイッチトランジスタQ1の
ドレインに入力し、Qlのソースは電源電圧Voor−
接地間に構成されるE/E(エンハンスメント/エンハ
ンスメント)構成でレシオタイプのインバータINVI
の入力部、及び電源電圧VDD2−接地間に構成される
E/E構成でレシオレスタイプのインバータINV2の
入力部に接続し、INVIの出力はINV2の電源側の
トランジスタQ6のゲートに接続しINV2の出力はク
ロックパルスφ2で制御されるスイッチトランジスタQ
6のドレインに入力し、QaのソースはVDDl−接地
間に構成されるE/E構成でレシオタイプのインバータ
INV3の入力部、及びV oox−接地間に構成され
るE/E構成でレシオレスタイプのインバータINV4
の入力部に接続し、INV3の出力はINV4の電源側
のトランジスタQ10のゲートに接続し、INV4の出
力をシフトレジスタ1段の出力信号V o u t と
した回路構成で、左記回路はl VDDI I > l
VDD21の条件で駆動させるシフトレジスタを形成
することにより達成される。The above purpose is to input the input signal vln to the drain of the switch transistor Q1 controlled by the clock pulse φ1 in a circuit configuration of one stage of shift register formed by thin film MIS transistors, and the source of Ql is connected to the power supply voltage Voor-
Ratio type inverter INVI with E/E (enhancement/enhancement) configuration configured between ground
The input part of INVI is connected to the input part of a ratioless type inverter INV2 in an E/E configuration configured between the input part of the power supply voltage VDD2 and the ground, and the output of INVI is connected to the gate of the transistor Q6 on the power supply side of INV2. The output of switch transistor Q controlled by clock pulse φ2
6, and the source of Qa is the input part of the ratio type inverter INV3 with an E/E configuration configured between VDDl and ground, and the input part of the ratio type inverter INV3 is configured between V oox and ground. Type of inverter INV4
The output of INV3 is connected to the gate of transistor Q10 on the power supply side of INV4, and the output of INV4 is used as the output signal V out of one stage of the shift register. I > l
This is achieved by forming a shift register that is driven under the condition of VDD21.
上記シフトレジスタにおいて、VDDI を高くしてい
くとトランジスタQs t Qloのゲートに高い電圧
が印加されるので、Qs + Qzoのオン抵抗が小さ
くなり、その結果Qs 、 Ql(1を通して次段の負
荷容量に充電する時間が短かくなる。即ち、シフトレジ
スタの最高動作周波数が向上する。又、VC+01 I
> I VDD2 lの条件で上記回路は駆動してい
るのでVDDIを高くしても、スイッチトランジスタQ
r、Qsのソース、ドレイン間には最大VDD2 L/
か印加されないのでQt、Qeの急激なリーク電流の増
大はない、即ち、シフトレジスタの最低動作周波数は向
上しない、さらにVDD2を次段のトランジスタがオン
状態になる程度に低くすれば、Ql、Qeのリーク電流
はさらに小さくなる。In the above shift register, as VDDI increases, a higher voltage is applied to the gate of the transistor Qs t Qlo, so the on-resistance of Qs + Qzo becomes smaller, and as a result, the load capacitance of the next stage increases through Qs, Ql (1). In other words, the maximum operating frequency of the shift register is improved.Also, VC+01 I
> Since the above circuit is driven under the condition of I VDD2 l, even if VDDI is increased, the switch transistor Q
Maximum VDD2 L/ between the source and drain of r, Qs
Since no voltage is applied, there is no sudden increase in the leakage current of Qt and Qe.In other words, the minimum operating frequency of the shift register does not improve.Furthermore, if VDD2 is made low enough to turn on the next stage transistor, Ql, Qe The leakage current becomes even smaller.
即ち、シフトレジスタの最低動作周波数は低下する。That is, the minimum operating frequency of the shift register decreases.
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
第1図は多結晶シリコン薄膜トランジスタ(以下pol
y −Si T F Tと略す)を用いて形成した本発
明のシフトレジスタ1段の構成である。Figure 1 shows a polycrystalline silicon thin film transistor (hereinafter referred to as pol).
This is a one-stage structure of the shift register of the present invention formed using y-Si TFT).
回路構成は入力信号V s nをクロックパルスφ1で
制御されるスイッチTFTQ1のドレインに入力し、Q
lのソースは電源電圧Voos−接地間に構成されるE
/E (エンハンスメント/エンハンスメント)構成で
レシオタイプのインバータINV1の入力部、及び電源
電圧VDDZ−接地間に構成されるE/E構成でレシオ
レスタイプのインバータINV2の入力部に接続し、I
NVIの出力はINV2の電源側のTFTQsのゲート
に接続し、INV2の出力はクロックパルスφ2で制御
されるスイッチT F T Qsのドレインに入力し、
QaのソースはVDDI−接地間に構成されるE/E構
成でレシオタイプのインバータINV3の入力部、及び
VDD2−接地間に構成されるE/E構成でレシオレス
タイプのインバータINV4の入力部に接続し、INV
3(7)出力はINV4(7)電源側ノTFTQroの
ゲートに接続し、INV4の出力をシフトレジスタ1段
の出力信号V o u t としている。The circuit configuration is to input an input signal Vsn to the drain of a switch TFTQ1 controlled by a clock pulse φ1,
The source of l is configured between the power supply voltage Voos and ground.
/E (enhancement/enhancement) configuration, connect to the input part of the ratio type inverter INV1, and connect to the input part of the ratioless type inverter INV2, configured between the power supply voltage VDDZ and ground, and the E/E configuration.
The output of NVI is connected to the gate of TFTQs on the power supply side of INV2, and the output of INV2 is input to the drain of switch TFTQs controlled by clock pulse φ2.
The source of Qa is the input part of the ratio type inverter INV3 with an E/E configuration configured between VDDI and ground, and the input part of the ratioless type inverter INV4 with an E/E configuration configured between VDD2 and ground. Connect and INV
The output of INV4 (7) is connected to the gate of TFTQro on the power supply side, and the output of INV4 is used as the output signal V out of the first stage of the shift register.
ここで、TPTはnチャネルTFTでVDD2 =40
V、VDD2=15V、TFTのしきい値電圧VT=5
Vである。Here, TPT is an n-channel TFT and VDD2 = 40
V, VDD2=15V, TFT threshold voltage VT=5
It is V.
次に図中の下部に示したφ1.φ2.v51.vouu
のタイミングチャートを基に回路動作を説明する。Next, φ1 shown at the bottom of the figure. φ2. v51. vouu
The circuit operation will be explained based on the timing chart.
例えばv1n=Ovの時を仮定すると、φ1がOVから
30Vに立上がった時にvlnはTFTQzt及びQa
のゲートに転送され、φt=OVになってもT F T
Qz、 Qaのゲートに保持される。For example, assuming that v1n=Ov, when φ1 rises from OV to 30V, vln is TFTQzt and Qa
is transferred to the gate of T F T even if φt=OV.
It is held at the gates of Qz and Qa.
よって、INVI、INV2はオフ状態になるのでTF
TQ8のゲートにはVoot −VT:40 V −5
V=35Vが印加され、T F T Qa (7)ドレ
インにはVDD2= 15 Vが印加される0次にφ2
が0■から30Vに立上がった時にTFTQsがオン状
態になるのでT F T Q eのドレイン電圧15V
がTFTQ7 、TFTQeのゲートに転送され、φ2
= o v ニなッテもTFTQ71 Q9のゲートに
保持される。よって、INV3.INV4はオン状態に
なるので、TFTQ10のゲートにはOvに近い電圧が
印加され、シフトレジスタ1段の出力V o u tに
はOvが出力される。Therefore, since INVI and INV2 are in the off state, TF
Voot -VT: 40 V -5 at the gate of TQ8
V=35V is applied, T F T Qa (7) 0th order φ2 where VDD2=15V is applied to the drain
When TFTQs rises from 0 to 30V, TFTQs turns on, so the drain voltage of TFTQe is 15V.
is transferred to the gates of TFTQ7 and TFTQe, and φ2
= o v 2 is also held at the gate of TFT Q71 Q9. Therefore, INV3. Since INV4 is turned on, a voltage close to Ov is applied to the gate of TFTQ10, and Ov is output as the output V out of the first stage of the shift register.
ここで、上記条件だとVDD2が15Vと低いため、ス
イッチトランジスタQsのソース、ドレイン間には最大
15vしか印加されない、よって。Here, under the above conditions, since VDD2 is as low as 15V, only a maximum of 15V is applied between the source and drain of the switch transistor Qs.
TFTQeがオフ状態の時のリーク電流は小さい。Leakage current when TFTQe is off is small.
よって、シフトレジスタの最低動作周波数は比較的低い
、又、上記条件だとTFTQIIのゲートには35Vが
印加されるため、TFTQaのオン抵抗は充分低くなる
。よって、T F T Q s e Q eを通してT
F T Q 7 t Q 9のゲートに電荷を蓄積す
る時間が短かくなる。よって、シフトレジスタの最高動
作周波数は比較的高くなる。Therefore, the minimum operating frequency of the shift register is relatively low, and under the above conditions, 35V is applied to the gate of TFTQII, so the on-resistance of TFTQa becomes sufficiently low. Therefore, T through T F T Q s e Q e
The time for accumulating charge on the gate of F T Q 7 t Q 9 becomes shorter. Therefore, the maximum operating frequency of the shift register is relatively high.
第3図はPo1y−3iTFTのエンハンスメント型と
ディプレッション型を組み合わせて形成した本発明のシ
フトレジスタ1段の構成である。FIG. 3 shows the structure of a one-stage shift register of the present invention formed by combining enhancement type and depletion type Po1y-3i TFTs.
回路構成は入力信号vlをクロックパルスφ1で制御さ
れるスイッチTFTQ1のドレインに入力し、Qlのソ
ースは電源電圧VDD2−接地間に構成されるE/D
(エンハンスメント/ディプレッション)構成でレシオ
タイプのインバータINV 5の入力部、及び電源電圧
VDD2−接地間に構成されるE/E構成でレシオレス
タイプのインバータINV2の入力部に接続し、INV
5の出力はINV2の電源側のTFTQsのゲートに接
続し、INV2の出力はクロックパルスφ2で制御され
るスイッチTFTQeのドレインに入力し、Qeのソー
スはVDDI−接地間に構成されるE/D構成でレシオ
タイプのインバータINV6の入力部、及びVDD2−
接地間に構成されるE/E構成でレシオレスタイプのイ
ンバータINV4の入力部に接続し、INV6の出力は
INV4の電源側のTFTQzoのゲートに接続し、I
NV4の出力をシフトレジスタ1段の出力信号Vaut
としている。The circuit configuration is such that an input signal vl is input to the drain of a switch TFT Q1 controlled by a clock pulse φ1, and the source of Ql is an E/D connected between the power supply voltage VDD2 and ground.
(enhancement/depression) configuration and a ratioless type inverter INV2 configured between power supply voltage VDD2 and ground.
The output of INV2 is connected to the gate of TFTQs on the power supply side of INV2, the output of INV2 is input to the drain of switch TFTQe controlled by clock pulse φ2, and the source of Qe is connected to the E/D configured between VDDI and ground. Input section of ratio type inverter INV6 and VDD2-
It is connected to the input part of a ratioless type inverter INV4 in an E/E configuration configured between ground, and the output of INV6 is connected to the gate of TFTQzo on the power supply side of INV4.
Output of NV4 is output signal of one stage of shift register Vout
It is said that
ここで、TPTはnチャネルTFTでVDD2=40
V、 VDD2= 15 V、 T F T(7)VT
は、E型はVt=5V、D型はVT=−3Vとする。Here, TPT is an n-channel TFT and VDD2=40
V, VDD2= 15 V, T F T (7) VT
For E type, Vt=5V and for D type, VT=-3V.
次に図中の下部に示したφ1.φ2* Vt++@ V
outのタイミングチャートを基に回路動作を説明する
。Next, φ1 shown at the bottom of the figure. φ2* Vt++@V
The circuit operation will be explained based on the out timing chart.
例えば、vLll=Ovの時を仮定すると、φlがOv
から30 V ニ立上がった時ニvillはTFTQ2
.Qlのゲートに転送され、φ1=OvになってもTF
TQz、Qaのゲートに保持される。よって、INV5
.INV2はオフ状態になるのでTFTQll(7)ゲ
ートにはVoot= 40 Vが印加され、TFTQa
(7)ドレインニはVDD2= 15 Vが印加される
。次にφ2がOvから30Vに立上がった時にTFTQ
sがオン状態になるのでTFTQaのドレイン電圧L5
VがTFTQ7.Qeo)ゲートに転送され、$z=O
VになってもT F T Q 7 t Q sのゲート
に保持される。よって、I NV 6 、 INV4は
オン状態になるので、TFTQloのゲートにはOvに
近い電圧が印加され、シフトレジスタ1段の出力vou
tにはOvが出力される。For example, assuming that vLll=Ov, φl is Ov
When the voltage rises from 30 V, the voltage is TFTQ2.
.. is transferred to the gate of Ql, and even if φ1=Ov, TF
It is held at the gates of TQz and Qa. Therefore, INV5
.. Since INV2 is in the off state, Voot=40 V is applied to the TFTQll(7) gate, and TFTQa
(7) VDD2=15V is applied to the drain. Next, when φ2 rises from Ov to 30V, TFTQ
Since s is turned on, the drain voltage L5 of TFTQa
V is TFTQ7. Qeo) is transferred to the gate, $z=O
Even if the voltage becomes V, it is held at the gate of T F T Q 7 t Q s. Therefore, since INV 6 and INV4 are in the on state, a voltage close to Ov is applied to the gate of TFTQlo, and the output vou of the first stage of the shift register
Ov is output to t.
2二で、上記条件だとVDD2が15Vと低いため、ス
イッチトランジスタQeのソース、ドレイン間には最大
15vしか印加されない、よって、TFTQaがオフ状
態の時のリーク電流は小さい。22. Under the above conditions, since VDD2 is as low as 15V, only a maximum of 15V is applied between the source and drain of the switch transistor Qe. Therefore, the leakage current when the TFTQa is in the off state is small.
よって、シフトレジスタの最低動作周波数は比較的低い
、又、上記条件だとTFTQaのゲートには40Vが印
加されるため、 T F T Qsのオン抵抗は充分低
くなる。よって、T F T Q 5s Q aを通し
てTFTQ7.Qllのゲートに電荷を蓄積する時間が
短かくなる。よってシフトレジスタの最高動作周波数は
比較的高くなる。Therefore, the minimum operating frequency of the shift register is relatively low, and under the above conditions, 40V is applied to the gate of TFTQa, so the on-resistance of TFTQs becomes sufficiently low. Therefore, TFTQ7. through TFTQ5sQa. The time for accumulating charge on the gate of Qll becomes shorter. Therefore, the maximum operating frequency of the shift register is relatively high.
ところで、本発明のシフトレジスタは周辺回路内蔵型ア
クティブマトリクス液晶デイスプレィの周辺回路に用い
た場合、最も効果がある。By the way, the shift register of the present invention is most effective when used in the peripheral circuit of an active matrix liquid crystal display with a built-in peripheral circuit.
第4図は周辺回路内蔵型アクティブマトリクス液晶デイ
スプレィの周辺回路の一部である走査側駆動回路1段の
構成を示したものである。ここで、1はレベルシフタ、
2はバッファ、3は走査側から見た1ラインの容量であ
る。又、φ1.φ2゜V ine Vouc、Vout
のタイミングチャートを図中の下部に示しである。FIG. 4 shows the configuration of one stage of a scanning side drive circuit which is a part of the peripheral circuit of an active matrix liquid crystal display with a built-in peripheral circuit. Here, 1 is a level shifter,
2 is the buffer, and 3 is the capacity of one line as seen from the scanning side. Also, φ1. φ2゜V ine Vuc, Vout
The timing chart is shown at the bottom of the figure.
回路の動作としては、入力信号VIRは前記したシフト
レジスタの動作によりVot+tに変換され、V o
u iはレベルシフタ1.バッファ2によりV o u
tに増幅され、走査側から見た1ラインの容量3に印
加される。As for the operation of the circuit, the input signal VIR is converted to Vot+t by the operation of the shift register described above, and V o
u i is level shifter 1. By buffer 2, V ou
The signal is amplified to t and applied to the capacitor 3 of one line viewed from the scanning side.
本発明によれば薄膜トランジスタで形成したシフトレジ
スタの最高動作周波数の向上と最低動作周波数の低下が
実現できるので動作周波数範囲の拡大、ノイズマージン
が大きくなる等の効果がある。According to the present invention, it is possible to improve the maximum operating frequency and lower the minimum operating frequency of a shift register formed of thin film transistors, resulting in effects such as expanding the operating frequency range and increasing the noise margin.
第1図は本発明のシフトレジスタの回路構成図。
第2図は従来のシフトレジスタの回路構成図、第3図は
本発明のシフトレジスタの回路構成図、第4図は本発明
のシフトレジスタを周辺回路内蔵型アクティブマトリク
ス液晶デイスプレィの周辺回路に適用した一実施例を示
す図である。
1・・・レベルシフタ、2・・・バッファ、3・・・走
査側から見た1ラインの容量、Ql〜Q12・・・薄膜
トランジスタ。
第
図
第3図
第
図
Or。FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a shift register of the present invention. Fig. 2 is a circuit diagram of a conventional shift register, Fig. 3 is a circuit diagram of a shift register of the present invention, and Fig. 4 is an application of the shift register of the present invention to a peripheral circuit of an active matrix liquid crystal display with a built-in peripheral circuit. FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Level shifter, 2... Buffer, 3... Capacitance of 1 line seen from the scanning side, Ql to Q12... Thin film transistor. Figure 3 Figure 3 Or.
Claims (1)
iconductor)トランジスタで形成するシフト
レジスタ1段の回路構成において、入力信号V_i_m
をクロックパルスφ_1で制御されるスイッチトランジ
スタQ_1のドレインに入力し、Q_1のソースは電源
圧V_D_D_1−接地間に構成されるE/E(エンハ
ンスメント/エンハンスメント)構成でレシオタイプの
インバータINV1の入力部、及び電源電圧V_D_D
_2−接地間に構成されるE/E構成でレシオレスタイ
プのインバータINV2の入力部に接続し、INV1の
出力はINV2の電源側のトランジスタQ_5のゲート
に接続し、INV2の出力はクロックパルスφ_2で制
御されるスイッチトランジスタQ_■のドレインに入力
し、Q_■のソースはV_D_D_1−接地間に構成さ
れるE/E構成でレシオタイプのインバータINV3の
入力部、及びV_D_D_2−接地間に構成されるE/
E構成でレシオレスタイプのインバータINV4の入力
部に接続しINV3の出力はINV4の電源側のトラン
ジスタQ_1_0のゲートに接続し、INV4の出力を
シフトレジスタ1段の出力信号V_o_u_tとした回
路構成で、左記回路は|V_D_D_1|>|V_D_
D_2の条件で駆動することを特徴とするシフトレジス
タ。 2、薄膜MISトランジスタで形成するシフトレジスタ
1段の回路構成において、シフトレジスタを駆動すると
きに少なくとも2つ以上の電源電圧をシフトレジスタ1
段内で構成されているインバータ群に別々に印加し出力
段のインバータには一番低い電源電圧を印加することを
特徴とするシフトレジスタ。 3、薄膜MISトランジスタで形成するシフトレジスタ
1段の回路構成において、入力信号 V_i_nをクロックパルスφ_1で制御されるスイッ
チトランジスタQ_1のドレインに入力し、Q_1のソ
ースは電源電圧V_D_D_1−接地間に構成されるE
/D(エンハンスメント/デイプレツシヨン)構成でレ
シオタイプのインバータINV5の入力部、及び電源電
圧V_D_D_2−接地間に構成されるE/E構成でレ
シオレスタイプのインバータINV2の入力部に接続し
、INV5の出力はINV2の電源側のトランジスタQ
_5のゲートに接続し、INV2の出力はクロックパル
スφ_2で制御されるスイッチトランジスタQ_6のド
レインに入力し、Q_6のソースはV_D_D_1−接
地間に構成されるE/D構成でレシオタイプのインバー
タINV6の入力部、及びV_D_D_2−接地間に構
成されるE/E構成でレシオレスタイプのインバータI
NV4の入力部に接続しINV6の出力はINV4の電
源側のトランジスタQ_1_0のゲートに接続し、IN
V4の出力をシフトレジスタ1段の出力信号V_o_u
_tとした回路構成で左記回路は|V_D_D_1>|
V_D_D_2|の条件で駆動することを特徴とするシ
フトレジスタ。 4、請求範囲第1項、第2項または第3項記載のシフト
レジスタは多結晶シリコンで形成することを特徴とする
シフトレジスタ。 5、請求範囲第1項、第2項、第3項または第4項記載
のシフトレジスタはガラス基板上に形成することを特徴
とするシフトレジスタ。 6、請求範囲第1項から第5項までのいずれか1項にお
いて、シフトレジスタを周辺回路内蔵型アクティブマト
リクスディスプレイの周辺回路に用いることを特徴とす
るアクティブマトリクスディスプレイ。[Claims] 1. Thin film MIS (Metal Insulator Sem)
In a one-stage shift register circuit configuration formed by (conductor) transistors, the input signal V_i_m
is input to the drain of a switch transistor Q_1 controlled by a clock pulse φ_1, and the source of Q_1 is an input part of a ratio type inverter INV1 with an E/E (enhancement/enhancement) configuration configured between the power supply voltage V_D_D_1 and ground. and power supply voltage V_D_D
It is connected to the input part of a ratioless type inverter INV2 in an E/E configuration configured between _2 and ground, the output of INV1 is connected to the gate of transistor Q_5 on the power supply side of INV2, and the output of INV2 is connected to the clock pulse φ_2. The source of Q_■ is configured between V_D_D_1 and ground in an E/E configuration, and the input part of ratio type inverter INV3 is configured between V_D_D_2 and ground. E/
E configuration is connected to the input part of ratioless type inverter INV4, the output of INV3 is connected to the gate of transistor Q_1_0 on the power supply side of INV4, and the output of INV4 is the output signal V_o_u_t of one stage of shift register. The circuit shown on the left is |V_D_D_1|>|V_D_
A shift register characterized by being driven under the condition of D_2. 2. In a one-stage shift register circuit configuration formed by thin film MIS transistors, at least two power supply voltages are applied to the shift register 1 when driving the shift register.
A shift register characterized in that a power supply voltage is applied separately to a group of inverters configured within a stage, and the lowest power supply voltage is applied to an inverter in an output stage. 3. In a one-stage shift register circuit configuration formed by thin film MIS transistors, an input signal V_i_n is input to the drain of a switch transistor Q_1 controlled by a clock pulse φ_1, and the source of Q_1 is configured between the power supply voltage V_D_D_1 and ground. E
/D (enhancement/depression) configuration and the input of a ratioless type inverter INV5, and an E/E configuration configured between the power supply voltage V_D_D_2 and ground. is the transistor Q on the power supply side of INV2
The output of INV2 is input to the drain of switch transistor Q_6 controlled by clock pulse φ_2, and the source of Q_6 is connected to the gate of ratio type inverter INV6 in an E/D configuration between V_D_D_1 and ground. Ratioless type inverter I with E/E configuration configured between input section and V_D_D_2-ground
The output of INV6 is connected to the input part of NV4, and the output of INV6 is connected to the gate of transistor Q_1_0 on the power supply side of INV4.
The output of V4 is the output signal of one stage of shift register V_o_u
With the circuit configuration set to _t, the circuit shown on the left is |V_D_D_1>|
A shift register characterized in that it is driven under the condition of V_D_D_2|. 4. A shift register according to claim 1, 2, or 3, characterized in that the shift register is made of polycrystalline silicon. 5. A shift register according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein the shift register is formed on a glass substrate. 6. An active matrix display according to any one of claims 1 to 5, characterized in that a shift register is used in a peripheral circuit of an active matrix display with a built-in peripheral circuit.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176924A JPH0227598A (en) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | Shift register |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63176924A JPH0227598A (en) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | Shift register |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0227598A true JPH0227598A (en) | 1990-01-30 |
Family
ID=16022137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63176924A Pending JPH0227598A (en) | 1988-07-18 | 1988-07-18 | Shift register |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0227598A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7474284B2 (en) * | 2003-06-30 | 2009-01-06 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Shift register for driving display |
US7535259B2 (en) | 2002-09-25 | 2009-05-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Clocked inverter, NAND, NOR and shift register |
JP2013015845A (en) * | 2002-06-15 | 2013-01-24 | Samsung Electronics Co Ltd | Shift register driving method, shift register and liquid crystal display equipped therewith |
CN108806597A (en) * | 2018-08-30 | 2018-11-13 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | Shift register cell, gate driving circuit, display device and driving method |
-
1988
- 1988-07-18 JP JP63176924A patent/JPH0227598A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8264254B2 (en) | 2002-09-25 | 2012-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Clocked inverter, NAND, NOR and shift register |
US8432385B2 (en) | 2002-09-25 | 2013-04-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Clocked inverter, NAND, NOR and shift register |
US7474284B2 (en) * | 2003-06-30 | 2009-01-06 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Shift register for driving display |
CN108806597A (en) * | 2018-08-30 | 2018-11-13 | 合肥京东方卓印科技有限公司 | Shift register cell, gate driving circuit, display device and driving method |
US11227549B2 (en) | 2018-08-30 | 2022-01-18 | Hefei Boe Joint Technology Co., Ltd. | Shift register unit, driving method thereof, gate driver and display device |
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