JPH02273719A - Substrate index forming method - Google Patents
Substrate index forming methodInfo
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- JPH02273719A JPH02273719A JP1095291A JP9529189A JPH02273719A JP H02273719 A JPH02273719 A JP H02273719A JP 1095291 A JP1095291 A JP 1095291A JP 9529189 A JP9529189 A JP 9529189A JP H02273719 A JPH02273719 A JP H02273719A
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Landscapes
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、例えば薄膜トランジスタを構成する基板に
その識別用のタイトルのインデックスを形成する基板の
インデックス形成方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a substrate index forming method for forming an index of a title for identification on a substrate constituting, for example, a thin film transistor.
［従来の技術］
一般に薄膜トランジスタを製造する際には、その工程中
にガラス製の基板に製造ロフトなどを表す文字や記号の
タイトルのインデックスを施している。[Prior Art] Generally, when manufacturing thin film transistors, a title index of characters or symbols indicating the manufacturing loft or the like is applied to a glass substrate during the process.
従来、このようなインデックスを施す当っては、ガラス
製の基板の表面に炭酸ガスレーザを照射して所定の文字
や記号のタイトルを削り出すようにしている。Conventionally, in order to provide such an index, a carbon dioxide laser is irradiated onto the surface of a glass substrate to carve out a title of predetermined characters or symbols.
［発明が解決しようとする課８］
しかしながら、このように基板の表面を削ってインデッ
クスを形成する手段においては、その装置が大型で高価
となるばかりでなく、削り取った屑が基板の表面に残り
、薄膜トランジスタなどの製造上の障害となってしまう
難点がある。[Problem 8 to be solved by the invention] However, in this method of forming an index by scraping the surface of the substrate, not only is the device large and expensive, but also the scraped debris remains on the surface of the substrate. , there is a drawback that it becomes an obstacle in the production of thin film transistors and the like.
この発明はこのような点に着目してなされたもので、そ
の目的とするところは、簡単な構成で、また屑などの発
生を伴うことなく、容易に能率よく基板に所定のタイト
ルのインデックスを施すことができる基板のインデック
ス形成方法を提供することにある。This invention was made with attention to these points, and its purpose is to easily and efficiently mark a predetermined title index on a board with a simple configuration and without generating waste. An object of the present invention is to provide a method for forming an index on a substrate that can be applied.
［課題を解決するための手段］
この発明はこのような目的を達成するために、基板の表
面に金属−膜を形成し、この金属膜の上−にフォトレジ
ストを塗布し、このフォトレジストの上に、透過形の液
晶表示パネルを配置し、この液晶表示パネルの表示部に
前記基板に施すべきインデックスのタイトルを表示させ
、この表示部にフォトレジストの反対側から露光用の光
を照射しこの表示部を通してフォトレジストに対する露
光を行い、この露光後に前記フォトレジストを現像し、
前記金属膜をエツチングして前記タイトルのインデック
スを基板に形成するようにしたものである。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention forms a metal film on the surface of a substrate, coats a photoresist on the metal film, and coats the photoresist. A transmissive liquid crystal display panel is arranged above, the title of the index to be applied to the substrate is displayed on the display part of this liquid crystal display panel, and exposure light is irradiated onto this display part from the opposite side of the photoresist. exposing the photoresist through this display section, developing the photoresist after this exposure,
The index of the title is formed on the substrate by etching the metal film.
［作 用］
基板に塗布されたフォトレジストを液晶表示パネルの表
示部を通して露光し、この露光に基づいて基板にインデ
ックスを形成するものであるから、従来のような削り屑
の発生を伴うことがなく、また液晶表示パネルを制御し
てその表示部の表示を変えるだけで、容易に能率よく所
望のタイトルのインデックスを基板に施すことができる
。[Function] The photoresist coated on the substrate is exposed to light through the display area of the liquid crystal display panel, and the index is formed on the substrate based on this exposure, so there is no generation of scraps as in the conventional method. Furthermore, by simply controlling the liquid crystal display panel and changing the display on the display section, a desired title index can be easily and efficiently applied to the substrate.
［実施例］
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
図中１はガラス製の透明の基板ａを水平に支持して一方
向に搬送する搬送機構で、この搬送機構１に支持された
基板ａの表面には導電性の金属膜２が形成され、さらに
この金属膜２の上にフォトレジスト３が塗布され、この
フォトレジスト３が所定のパターンに露光されている。In the figure, 1 is a transport mechanism that horizontally supports a transparent substrate a made of glass and transports it in one direction.A conductive metal film 2 is formed on the surface of the substrate a supported by this transport mechanism 1. Furthermore, a photoresist 3 is coated on this metal film 2, and this photoresist 3 is exposed in a predetermined pattern.
そして前記フォトレジスト３の上には、基板ａの一端縁
から１０關以内の領域でかつフォトレジスト３の非露光
部分において、周知構造の透過形の液晶表示パネル４が
配置され、この液晶表示パネル４のコモン電極５および
セグメント電極６に駆動回路７が接続され、この駆動回
路７の制御によりノーマリ−ブラックの表示部８に光透
過性の所要の文字や記号のインデックス用のタイトルが
表示されるようになっている。そしてこの液晶表示パネ
ル４の上方にファイバースコープ束９が設けられ、この
ファイバースコープ束９の基端部に例えば紫外線を放射
する光源１０が設けられている。A transmissive liquid crystal display panel 4 having a well-known structure is arranged on the photoresist 3 in an area within 10 degrees from one edge of the substrate a and in a non-exposed portion of the photoresist 3. A drive circuit 7 is connected to the common electrode 5 and segment electrode 6 of 4, and under the control of this drive circuit 7, a title for an index of required light-transparent characters and symbols is displayed on a normally black display section 8. It looks like this. A fiberscope bundle 9 is provided above the liquid crystal display panel 4, and a light source 10 for emitting ultraviolet light, for example, is provided at the base end of the fiberscope bundle 9.
基板ａにインデックスを施す手順について述べると、ま
ず駆動回路７を介して液晶表示パネル４の表示部８に、
基板ａに施すべきインデックスに対応する光透過性の文
字や記号、例えばｒＢ −１２３Ｊというタイトルを表
示させる。この状態で光源１０の光をファイバースコー
プ束９を通して液晶表示パネル４の表示部８に照射する
。Describing the procedure for indexing the substrate a, first, the display section 8 of the liquid crystal display panel 4 is indexed via the drive circuit 7.
Light-transmissive characters or symbols, such as the title rB-123J, corresponding to the index to be applied to substrate a are displayed. In this state, the light from the light source 10 is irradiated onto the display section 8 of the liquid crystal display panel 4 through the fiber scope bundle 9.
この光は前記タイトルのｒＢ−１２３Ｊという白抜き部
分のみを通して基板ａに塗布されたフォトレジスト３の
表面に達し、したがってこのタイトルに対応する露光が
達成される。This light reaches the surface of the photoresist 3 coated on the substrate a through only the white portion of the title rB-123J, thus achieving exposure corresponding to this title.
こののち通常の工程と同様に、搬送機構１を介して基板
ａを現像部に搬送して前記フォトレジスト３を現像し、
この現像後に前記金属膜２に対するエツチング、フォト
レジスト３の剥離を行う。After this, in the same way as in a normal process, the substrate a is transported to the developing section via the transport mechanism 1 and the photoresist 3 is developed,
After this development, the metal film 2 is etched and the photoresist 3 is peeled off.
これにより基板ａの表面に金属膜２による所定のパター
ンと、ｒＢ−１２３Ｊというタイトルのインデックスが
形成される。As a result, a predetermined pattern of the metal film 2 and an index titled rB-123J are formed on the surface of the substrate a.
一方、他の基板ａに他のタイトルのインデックスを施す
場合には、駆動回路７を再び駆動して液晶表示パネル４
の表示部８にそのタイトルを表示させ、以後同様の工程
でインデックスを形成する。On the other hand, when indexing another title on another board a, the drive circuit 7 is driven again to display the liquid crystal display panel 4.
The title is displayed on the display section 8, and an index is formed in the same process thereafter.
なお、前記実施例においては、ノーマルブラックの表示
部に光透過性のタイトルを表示させるようにしたが、フ
ォトレジストとして光に対する反応が前記実施例とは逆
の特性のものを使用し、ノーマルホワイトの表示部に光
の非透過性のタイトルを表示させて前記フォトレジスト
を露光し、この露光に基づいて基板にインデックスを形
成するようにすることも可能である。In the above embodiment, a light-transmissive title was displayed on a normal black display area, but a photoresist with a reaction to light having characteristics opposite to that of the above embodiment was used, and a normal white display area was used. It is also possible to display a title that does not transmit light on the display section of the substrate, expose the photoresist to light, and form an index on the substrate based on this exposure.
［発明の効果］
以上説明したようにこの発明によれば、液晶表示パネル
の表示部にインデックス用のタイトルを表示させ、この
表示部を通してフォトレジストを露光し、この露光後に
エツチングおよびフォトレジストの剥離を行って基板に
インデックスを形成するようにしたから、従来のような
削り屑の発生という問題が全くなく、また装置も小型で
安価に構成できる。そして液晶表示パネルを制御してそ
の表示部の表示を切換えるだけで、基板に施すべきイン
デックスのタイトルを容易に能率よく変更することがで
きる利点がある。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, an index title is displayed on the display section of a liquid crystal display panel, a photoresist is exposed through this display section, and after this exposure, etching and peeling of the photoresist are performed. Since the index is formed on the substrate by performing this process, there is no problem of generation of shavings as in the conventional method, and the device can also be constructed in a small size and at low cost. There is an advantage that the title of the index to be applied to the board can be easily and efficiently changed simply by controlling the liquid crystal display panel and switching the display on the display section.
図はこの発明の一実施例を示し、第１図は基板に塗布さ
れたフォトレジストを液晶表示パネルの表示部を通して
露光する状態を示す斜視図、第２図は同じく断面図、第
３図はインデックスを形成した部分の基板の斜視図であ
る。
ａ・・・基板、２・・・金属膜、３・・・フォトレジス
ト、４・・・液晶表示パネル、８・・・表示部。
ａ・・・萎板
出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
第２図The figures show an embodiment of the present invention, in which Fig. 1 is a perspective view showing a state in which photoresist coated on a substrate is exposed through the display section of a liquid crystal display panel, Fig. 2 is a sectional view, and Fig. 3 is FIG. 3 is a perspective view of a portion of the substrate in which an index is formed. a...Substrate, 2...Metal film, 3...Photoresist, 4...Liquid crystal display panel, 8...Display section. a...Representative of the applicant Patent attorney Takehiko Suzue Figure 2
Claims (1)
レジストを塗布し、このフォトレジストの上に、透過形
の液晶表示パネルを配置し、この液晶表示パネルの表示
部に前記基板に施すべきインデックスのタイトルを表示
させ、この表示部にフォトレジストの反対側から露光用
の光を照射しこの表示部を通してフォトレジストに対す
る露光を行い、この露光後に前記フォトレジストを現像
し、前記金属膜をエッチングして前記タイトルのインデ
ックスを基板に形成することを特徴とする基板のインデ
ックス形成方法。A metal film is formed on the surface of the substrate, a photoresist is applied on the metal film, a transmissive liquid crystal display panel is placed on the photoresist, and the display portion of the liquid crystal display panel is coated with the substrate. The title of the index to be applied is displayed, and the display area is irradiated with exposure light from the opposite side of the photoresist to expose the photoresist through this display area. After this exposure, the photoresist is developed and the metal film is exposed. A method for forming an index on a substrate, characterized in that an index of the title is formed on the substrate by etching.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1095291A JPH02273719A (en) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | Substrate index forming method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1095291A JPH02273719A (en) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | Substrate index forming method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02273719A true JPH02273719A (en) | 1990-11-08 |
Family
ID=14133672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1095291A Pending JPH02273719A (en) | 1989-04-17 | 1989-04-17 | Substrate index forming method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02273719A (en) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219954A (en) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Fujitsu Ltd | Formation of pattern by liquid crystal panel |
| JPS61235838A (en) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Casio Comput Co Ltd | Exposure device for forming pattern of conductive body |
| JPS61289351A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-19 | Fujitsu Ltd | Pattern variable type photomask |
-
1989
- 1989-04-17 JP JP1095291A patent/JPH02273719A/en active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219954A (en) * | 1985-03-26 | 1986-09-30 | Fujitsu Ltd | Formation of pattern by liquid crystal panel |
| JPS61235838A (en) * | 1985-04-11 | 1986-10-21 | Casio Comput Co Ltd | Exposure device for forming pattern of conductive body |
| JPS61289351A (en) * | 1985-06-17 | 1986-12-19 | Fujitsu Ltd | Pattern variable type photomask |
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