JPH02273513A - Filter for removing harmful substances and its manufacture - Google Patents

Filter for removing harmful substances and its manufacture

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JPH02273513A
JPH02273513A JP1095886A JP9588689A JPH02273513A JP H02273513 A JPH02273513 A JP H02273513A JP 1095886 A JP1095886 A JP 1095886A JP 9588689 A JP9588689 A JP 9588689A JP H02273513 A JPH02273513 A JP H02273513A
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filter
semiconductor
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harmful substances
harmful
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JP1095886A
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Kenichi Sekiguchi
謙一 関口
Tsunehisa Ueda
植田 恒久
Yoshio Natsuume
伊男 夏梅
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Zeon Corp
Original Assignee
Nippon Zeon Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a filter which enables rapid and efficient removal of a variety of harmful substances by attaching a semiconductor having a forbidden band of specific range to a filter holding electrostatic forces. CONSTITUTION:A semiconductor of zinc oxide, tungsten trioxide, etc., which has a forbidden band of 0.5 to 5eV, i.e., a semiconductor which effects photocatalyst reactions, is used. And said semiconductor is attached directly to an electret filter of polyethylene-tetrafluoride, polypropylenehexafluoride, etc., without using binder. The filter for removing harmful substances thus prepared can remove hydrogen sulfide, formaldehyde, ethylene, etc., in gases simultaneously, rapidly, and efficiently.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[産業上の利用分野] 本発明は気体中の悪臭成分あるいは刺激性成分及び青果
物や花*mなどの保存に有害な成長促進成分などの被酸
化性有害物質を除去する方法に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a method for removing oxidizable harmful substances such as malodorous or irritating components and growth-promoting components harmful to the preservation of fruits, vegetables, flowers, etc. in gases.

【従来の技術】[Conventional technology]

近年、生活レベルの向上や食物嗜好の高級化に伴い、工
業的に発生する悪臭や刺激性成分のみならず、家庭や飲
食店における廃棄物や調理時に発生する悪臭や刺激性成
分の除去が要求されるようになってさた。 一方、青果物や花弁類などについても、常に新鮮な又は
最適熟成度の青果物や外国産の珍しい果物あるいは収穫
時ではない青果物や花弁類の需要など消費者の要求が多
様化している。このような多様な要求においては、倉庫
内、陳列中及び輸送中などの流通過程の鮮度保持が重要
な問題となる。 これらの問題には、冑果類などの保存環境における空気
中の有害物質蒸気の存在が悪い影響を与えている。 このような空気中に存在する有害物質蒸気の主成分は、
■悪臭成分としては、硫化水素、アンモニア、メルカプ
タン、アミン及びアルデヒドなどであり、■刺激性成分
としては、ホルムアルデヒド、アクロレイ〉゛などのア
ルダ1=ド類及びオシ〕・などであり、■責果物や花卉
類の鮮度保存に関しては、植物成長ホルモ〉・であるエ
チμ〉・などである。 これらの有害成分を除去Jるフィルターとして(、t、
、従来より次の方法が知られていl:。 (1)活性73′!、フルミナ、シリカゲル、ゼオライ
トなどの吸蒼剤からなるフィルター ■a性(塩基!1.)の有害成分を塩基性(酸性)物質
で中和する薬剤を用いたフィルター ■過マンガ〉・酸カリウムや二酸化塩素などの化学的酸
化剤からなるフィルター Q)二11らのvI数の薬剤あるいはフィルターを組み
合わせたフィルター しかし、なから、これらの方法は必ずし、も満足でさる
ものではない。 即ち、■のノイルターにはアンモニアなどの塩基性物質
やエチレンの吸着能が1−分でなく、まt5、吸着容量
が限られているという問題があり、aりのフイノユタ〜
には用いる化合物によって除去できる有害成分の種類が
限られるという欠点があり、■のフィルターには除去速
度が遅いという欠点があり、■のフィルターには異なる
薬剤同上がIJj害、反応したり、フィルター・を重ね
る場合は圧力損失が大さ(なるという欠点が4も乙。 さら[、こrらのフィルター・には吸着能力や酸化能力
が再活性化されないため、どうしても除去能力1こ飽和
点が現れるという本質的な欠点がある1、[発明が解決
しようとする課題1 本発明の目的は、気体中に含まれる硫化水素、アンモニ
ア、メルカプタン、アミン及びアルデヒドなどの悪臭績
:分やホルムアルデヒド、アクL]レイン及びオゾンな
どの刺激性成分及び)エチレンなどの熟成促進成分など
の総ての有害物質を同時に迅速に効率よく除去″ζるの
j:、優ね、11作用をもつh害物質除去フィルター及
びその製造方法を提供することにある。 [課題を解決するための手段] 本発明者らはこの[1的を達成すべく鋭意研究を行っj
−結果、特定の化合物を付着さけた静電気力を保持1.
2j−フィルターに、有害物質を含む空気を通過さ→」
ると、これらの有害物質が効率よく除去(写れしかも該
有害物質通過の際にフィルター上にイ・1着させた特定
の化合物に紫外線を照射することにより格段に除去能力
が向上し、しかも経時的に除去活性か落ちないことを見
い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った
。 すなわち、本発明は、0.5−・5eVの禁止帯幅髪・
イl−?る半導体を静電気力を保持したフィルターに(
1着させt5.ことを特徴とする有害物質除去フィルタ
ー・、及び、粒径が1〜10O0nrr+で(165〜
SeVの禁1ノニ帯輻を有する半導体粒子を静電気力を
保持し、t・フィルターにバインダーを使用しないで直
接付着させることを特徴とする有害物質除去ノイルター
の製造方法を提供するもの〒ある。 本発明において用いられる0、5−・−5eVの禁止帯
幅をh゛−→る半導体とは、光触媒反応を生じる半導体
であり、好jニジ<は、1〜3eVの禁止帯幅を持′)
ものT′あ61 D ぞの作用としては、禁止侘幅以」二のエネルギーの光照
射1−より、価電子帯から伝導帯へ、の電子励起が生じ
、価電子帯に正孔、伝導帯に電子が生成する。 これらの正孔及び電子が半導体表面に拡散等により現れ
、気相、液相での光触媒反応を行うことが知られている
。 本発明1こ用いる半導体としては、前記禁止帯幅を有す
るものであれば特tこ制限はなく使用でさ、例えば、二
酸化スズ、酸化亜鉛、三酸化タングステン、二酸化チタ
ン、チタン酸バリウム、酸化第二鉄などの金属酸化物二
個λば、硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化鉛、セ[−ン
化亜鉛、セレン化カドミウム、などの金属カルコゲナイ
ド:例えば、/1[Z7ン、ゲルマニウムなどの第■族
元素;例えば、ガリウムリン、ガリウムリン、インジウ
ムリンなどの111N−V族化合物半導体;例えば、ポ
リアセ4L・ン、ポリビロー・ル、ポリチオフェン、ポ
リアニリン、ボリビ、−ルカルバゾールなどの有機半導
体を挙げることができる。 また、以上挙げた半導体に、ヒ素、リン、アルミニウム
、ホウ素、ナトリウム、ハロゲンなどの不純物をドープ
しt;ものも同様に本発明に使用することができる。 特に好ましくは、酸化亜鉛、三酸化タングステン、二酸
化チタン、酸化セリウムなどの金属酸化物及びその混晶
物を使用することができる。 まtこ、これらの半導体表面に白金、パラジウムなどの
貴金属を担持することにより、触媒効果の向上をはかる
ことができる。 さらに、活性炭や酸化白土などの吸着剤を併用してもよ
い。 本発明において好適に用いられる静電気力を保持したフ
ィルターとは、例えば、半永久的に電荷又は分極を保持
している物質(以後略してエレクトレットという)から
なるフィルター(以後略してエレクトレットフィルター
という)である。 本発明において用いられるエレクトレットを形成する材
料としては、無機化合物では、例えば、チタン酸マグネ
シウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、アル
ミナなどを用いることができ、有機高分子材料としては
、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸メチル、ナイロン
、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリ四7ツ化エチレン、ポリ六7ツ化プロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリフッ化ビニリ
デン、ポリプロピレンの単独あるいは複合体を用いるこ
とができる。また、有機/無機複合体を用いることもで
きる。 その中でも、特に電気絶縁性に優れ、成形加工が容易な
ポリ四フッ化エチレン、ポリ六フッ化プロピレン、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリプロピレンなどが好まし
い。 エレクトレフトを形成させる方法としては、特に制限は
なくどのような方法も使用でき、例えば、絶縁材料を軟
化点、又は溶融温度まで加熱し、これに直流の高電圧を
印加しながら冷却する方法や絶縁材料表面にコロナ放電
させるか、絶縁破壊に近い高電圧(〜lO’V/cm)
を印加する方法や絶縁材料に真空中で低エネルギーの電
子線(10〜40keV)を照射する方法や絶縁材料を
高温で強い静磁場を作用させながら冷やす方法や絶縁材
料を塑性変形させ、摩擦などで電荷分離させ、種々なト
ラップにより空間電荷を形成する方法などを使用するこ
とができる。 本発明において用いられるエレクトレット74ルターは
、どのようなものでも使用できるが、例えば、フィルム
状のエレクトレットを形成した材料を加工したもの又は
不織布フィルターなどを使用することができる。 とくに、高い分極率を得、しかも繊維間に形成された電
界により本発明において用いられる半導体粉末を強固に
固定でき、フィルターとしての圧損も少ない不織布フィ
ルターを好適に使用することができる。 該半導体粉末をエレクトレフトフィルターに付着させる
本発明の有害物質除去フィルターの製造方法としては、
基本的には本発明において用いられる半導体粉末をエレ
クトレットフィルターに振り掛は過剰分を除去すればよ
いが、均一に分散付着させるために、例えば、風洞を形
成するような中空の筒状容器内にエレクトレットフィル
ターを設置し、風上からファンなどで該半導体粉末を飛
、散させ、付着させる方法が均一性の点から好適である
。 別に、例えば、該半導体粉末を水やメタノール、エタノ
ール、エチルエーテル、アセトン等ノ低沸点有機溶剤に
投入して該半導体の懸濁液を調製し、該液中にエレクト
レフトフィルターを浸したり、スプレーなどで吹きかけ
、その後自然乾燥や60〜100℃程度の温度で乾燥さ
せる方法も用いることができる。 本発明の有害物質除去フィルターの形状としては、特に
制限はなく、ガス又は液体がフィルターを通過する形状
であればとのようなものでも使用でき、例えば、平凡な
平面型や円筒型、さらに、波板状、ハニカム状、その他
非常に複雑な形状に加工したものを適宜使用することが
できる。 このようにして製造された本発明の有害物質除去フィル
ターは、半導体を付着させる際にパインター【使用1/
1′:いないため、光触媒反応により有害物質を除去す
る活性点がバインダーなどで榎われるご: 、l:、が
なく半導体自体の性能をxoob利用です、シかも工し
・り)−L−ソ]・フィルター独自の静電的なり一[5
ン力と誘起力IJより、有害物質を吸着、濃縮rさ、光
触媒反応6・より効率的に利用し2で有害物質を・除去
できる。 また、不織布やハニカム状フィルターを用い!−場合空
隙がたくさんあるため、紫外線をフィルタ〜の内部に深
く照射でさる利点がある。 本発!1(jにおいC用いられる紫外線とは、波長が4
00−200 n mの近紫外線が、反応効率の点工゛
好j:1.いが、200nm以下の真空紫外線が含ま4
1でいても差し支えない。 これらの紫外線は超高圧水銀灯、キセノン灯、低:IF
水銀りJを単独あるいは併用することによって発生さt
t aことがCさるが、放電管内に水銀と希カス以外の
ガリウム、タリウムなどの第三成分を共存さゼーr目的
に合致した波長分布特性を有するJうに改良されI−光
源を使用量゛ることができる。 もちろA2、紫夕)線以外の光線、例えば可視九線秀、
・含むものを使用することができる。 本発明(、−Bいでフィルターに対する照射d′:用い
らtしる紫外線ランプは、1個又は2個以上ケ使用する
2で、とかt″き、゛ノイルターの気体や液体の流入方
向に設置されてもよいし、流出方向に設8さ11でもよ
い。if−、フィルターで周囲を囲j:れていてもよい
。ラング表面の汚れを防ぐため、特I、″好ましくは、
流出方向あるいは流れの周囲を囲む、l。 う1ニランプを設置することができる。 本発明のフィルターへ被処理気体を導入する方法は、紫
外線照射装貿付きフィルターを設りり、 f二特定の反
応器−二接処理気体を連続方戊又はパン1方式で導入す
る方法を使用することかでさる。 本発明フィルターに処理気体を導入する11目−処。 環気体中の塵埃などの固体又は液体の浮遊微粒子を除去
しておくのがフィルターの除去活性を低Fさ(すない点
で望ましい。 浮遊@精子の除去は、公知の通常のフィルターを使用で
さ、例えば、不織布、ろ紙、、不・/l・などを使用A
゛ることがでさ、また、静電気弐の吸着装!!i′r〕
、−)で除去することかでさる。 このよう−こすれば、浮遊微粒子用フィルターのみを定
期的に交換Vるだけで、本発明フィルター九ノ)活性を
長期間持続させることが〒きるとともに、被処理1境の
空気を清潔にすることができる。 本発明りこおいて用いられるフィルターを設置す?:1
打害物質除去反応器は開放系でも密閉系でもよく、該反
応器にノ7ンを用いて送風する通風系でもよい。 本発明のノイルターに用いる半導体の使用量は本発明の
フィルターの形状、通路の容積、形状、対象となる有害
物質の種類、m成、混合比及び光源の種類と電力使用量
によって相違し、適宜選択1、て使用量ることかでさる
。 本発明のフィルター上で起こる反応は硫jI酸化物、窒
素酸化物、炭化水素化合物、含ハロゲン化合物など種々
の有害物質や水や有機溶媒などの媒体が共存し1いても
起こるので極めて有用な有害物質除去フィルタ である
。 [実施例〕 以丁、本発明を実施例(こよりさらに詳細に説明する。 なお、実施例中の部及び%の単位は重量基準である。 実施例1〜4 第1表に示すよう(−1市販の4種の°ト導体粉末すな
わち、二酸化チタン(粒(1;20目m)、三酸化タン
グステン(粒径;150nm)、酸化亜鉛(粒径;40
目m)、酸化セリウム(粒径:30目m)を、それぞれ
、住友スリーエム製エレクトレッ[・エアーフィルター
[フィルタレ・・J[・!に、均一にふりかけ、過剰量
の粉末をフィルターを振動させて落として、はぼ均一番
ご分散付着さ刊だ。 このフィルターを1.5 cax 4 cma月こ切断
し、試料片と11、フィルターの評価にはこの試料片2
枚を用いた。 ついで、作製した試料片2枚を3Or++(lのパイレ
ックスガラス製三角フラスコ内に置き、それぞれのフン
スコ内空気を、第1表に示す初濃度の角゛害成分を含む
空気で置換しt;後、シリコンゴム製ゴム栓で密閉した
。 この三角フラスコから20crnの距離に設置された超
高圧水銀灯(照度10 m W / cmj、主波長3
65nm)によりこの三角フラスコを照射し、容器内の
有害成分の濃度の経時変化をガスクロマトグラフィーで
追跡し、フィルターの性能の評価を行った・ 結果を第1表に示した。 (以下余白) Jt較例1−4 比較のため1″試料を装置Jずに、第1表i、″示4イ
れぞれσ)有害物質を入れデーフラスコ17紫外線照射
のみへ、行−1〉I:系に一ついC#1同樟に有害成分
のIJl腹の経時変化を測定した。 結果を第1表に示しt二。 第1表の結果から、本発明のフィルターにより、紫外線
照射下でエチレン、メルカプタン、アミン及びホルム5
”ルデヒドが迅速i′″除去されるのに対しで、本発明
のフィルターを用いない場合は。紫外線を照射しでも上
記各有害成分がほとんど除去されないことが分かる。 実施例5 フィルタ・−の性能評価をするために、実施例1〜・t
と同様に作成した試料片を第2表に示を重量になるJう
lごして、[ff55c躍の円形Iこ切断した開1]部
最大(14,8c房のパイレックスガラス製ロー−1−
2偕の開口部間1:を合わせ、その合わせ目の間に11
記円形試料を挟んで装着り、スプリングで固定1.た1
、 そして第2表の初濃度の有害成分を5む空気を注射器や
気体発生器などU: !l−力の口から注入し、フィル
ターを通り他方の[]から出た空気の濃。 度にガスクロマトグラフィ、−で測定!、、、、、、 
f:、 、その際フィルタ一部分は測定中、20cmの
距離に設・置されノー超高圧水銀灯(照度X01nW/
cm”、主波長365nm)により紫外線全照射しt工
。 測定結果を第2表に示す1、 第2表の結果から、1丁害物質を本発明のフィルターを
通過させること1″:より、効率よく除去できるこkが
分かる1、 (以下余白) 比較例5 二酸化チタンをカルボキシル変性スチレンブタジェン系
重合体ラテックス(固形分43%)に、固形分重量比が
l:1になるように分散させた。 次にこの分散液に市販の不織布(呉羽センイ社製、ポン
デンエアフィルター)を含浸し、次いで乾燥して、上記
重合体をバインダーとして二酸化チタンを担持させた不
織布フィルターを得た。このフィルターを、二酸化チタ
ン含有量が第3表に示す量になるように長方形に切断し
、試料とした。 この試料について除去性能の評価を実施例1と同様三角
フラスコを用いて行った。 結果を第3表に示した。この結果によれば、バインダー
を用いて不織布でも、メルカプタン、アミンあるいはア
ルデヒド類はある程度は除去可能である。しかし、エチ
レンの除去にはほとんど効果を示さないことが明らかで
ある。 実施例6〜7 担体の影響を調べるため、第4表に示す量の二酸化チタ
ンを担持又は付着させた下記の各試料(使用量は第4表
に示す)を使用して、実施例1と同様の操作により除去
性能を評価し、第4表の結果を得た。 ■二酸化チタン担持エレクトレットフィルター■市販の
二酸化チタン粉末 ■市販の二酸化チタンハニカム成形体 (京セラ株式会社製) ■二酸化チタン担持石膏 ■二酸化チタン担持セメント ■処理剤なし この結果、二酸化チタンを他の担体に担持した場合でも
、メルカプタン、アミンあるいはアルデヒド類はある程
度は除去可能である。しかし、エチレンの除去にはほと
んど効果を示さないことが明らかである。 また、二酸化チタンをエレクトレットフィルターに付着
させると二酸化チタン粉末に比べ、エチレン、メルカプ
タンの除去効率が向上することが分かる。 実施例8 !l*Mif41で用い!−二二酸化チン担持エレクト
レッlフィルターを7fv度実施例1と同様の三角プラ
ス811:久jlて、市販のオゾン発生装置で発JEさ
せたオゾンを約1100ppになるよう添加17.た後
。 紫外線照射べ開始141、Aゾ〉濃度の経時変化をガス
テ゛ツク社製検知管N018Lで調べた。なお、測定は
16倍に希釈して行−2だ。−f−の結果を第5表に示
しまた。 比較例B 第5表に示j除去剤の存在下で実施例9と同様の条件で
オゾン濃度の経時変化を調べた。 結果を第5表に示しI−0 第5表の結果から、本発明のフィルターを使用Vる1(
=二酸化f−タンを粉末のJ:」5、あるいはハニty
 i、成形体と1.て使用する#台にくらべて、より迅
速にオゾンが除去でさることが分かる。 実施例9 実施例i”t’=実験に用いた使用俊の二酸化チタン相
持f−1,、,7ト1.・・、・トフィレター・を実施
例1f用いl二と同様の801の−EjJ7ラスmff
 lこ(可度入ね、10o00ppmの、Y、fl、 
> i□添加l、クラス−2内のエチ17ン濃彦が飽和
またことを確y= +−1j−後、紫外線照射を・開始
した4忙、″、ろ、エチL・ン濃度が減少17始め2時
間後1こ半M L fニー 。 このことから、本発明のjJ法では、紫外線熱9.i′
により有害物質除去フィルターの有害物質除去活性が再
生されることを示12.ている。 [発明の効果] 本発明のフィルターによ矛1ば、従来技術に比較し、て
、硫化水票、ア:・士−で、T1 メルカブタ、/、ア
ミン及びアルダヒトなどの悪臭成分、ホルムアルデヒド
、アクロレインなどの刺激性成分並びに青果物及び花p
F類の保存11有害h゛エチl〜ンなどを含むり1体 
有害物質 種類−関係なく同時に迅速(”〕効率よく除
去することかでき、I、かも除去活性が全く低下しない
利点かある、 このl−め、青果物等の保存倉庫、輸送1〉・テナある
l/ Xは冷蔵庫などに適し[いる5、まj−、、家庭
や業務用に用いる空句目青浄I貸用の゛クイル・ターや
脱Q装置用フィルタ・−とじても適している。さらに、
しR処理や汚水処理などで大量のオゾンを使用する施設
での余剰のオゾンの除去やOA機器などにより発生する
オゾンの除去に用いることもできるなと広範囲の用途に
適用することができる。さらl″′、本発明のフィルタ
ーは、耐久性のある恒久的設備と1.て使用でき5ので
効率的である、また、本発明のフィノじターは、安全性
が高く、使用6.゛際1.丁特別な薬剤の供給などが不
要で無人操作’tt理が容易であるので、シス1−ム化
が簡単となり、イ・の産業的意義は極めて大きい。 特許出願人 日本ゼAン株式会社
In recent years, as living standards have improved and food preferences have become more sophisticated, there has been a demand for the removal of not only industrially generated foul odors and irritating ingredients, but also waste from households and restaurants, as well as foul odors and irritating ingredients generated during cooking. It started to happen. On the other hand, consumer demands for fruits and vegetables and flower petals are diversifying, including demand for fruits and vegetables that are always fresh or at optimal ripeness, rare fruits from foreign countries, and fruits and flower petals that are not ready for harvest. In response to such diverse demands, maintaining freshness during distribution processes such as in warehouses, during display, and during transportation becomes an important issue. These problems are adversely affected by the presence of toxic vapors in the air in the storage environment for fruits and vegetables. The main components of such toxic vapors present in the air are:
■Bad odor components include hydrogen sulfide, ammonia, mercaptans, amines, and aldehydes; ■Irritant components include formaldehyde, aldas such as acrolei, and oxidants; Regarding preserving the freshness of plants and flowers, there are plant growth hormones such as Echiμ. As a filter to remove these harmful components (,t,
The following methods have been known so far: (1)Activity 73′! , Flumina, silica gel, zeolite, and other absorbing agents ■ Filters using agents that neutralize a-based (basic! 1.) harmful components with basic (acidic) substances ■ Overmanga > acid potassium, etc. Filters consisting of chemical oxidizing agents such as chlorine dioxide Q) Filters combining agents or filters with vI numbers such as 211 However, these methods are not always satisfactory. In other words, the problem is that the adsorption capacity of basic substances such as ammonia and ethylene is not limited to 1 minute, and the adsorption capacity is limited.
The disadvantage is that the types of harmful components that can be removed are limited depending on the compounds used, and the disadvantage of the ■ filter is that the removal rate is slow. If the filters are stacked, the disadvantage is that the pressure loss will be large.Furthermore, since these filters do not have reactivated adsorption capacity or oxidation capacity, the removal capacity will inevitably reach the saturation point. [Problem to be Solved by the Invention 1] The purpose of the present invention is to eliminate bad odors such as hydrogen sulfide, ammonia, mercaptans, amines, and aldehydes contained in gases. Quickly and efficiently removes all harmful substances such as irritating ingredients such as rain and ozone, and ripening accelerating ingredients such as ethylene. An object of the present invention is to provide a filter and a method for manufacturing the same. [Means for Solving the Problems] The present inventors have conducted intensive research to achieve the first objective.
- As a result, retains electrostatic force that prevents specific compounds from adhering 1.
2j - Air containing harmful substances passes through the filter →
By irradiating ultraviolet rays onto a specific compound placed on the filter as the harmful substances pass through, the removal ability is greatly improved. It was discovered that the removal activity did not decrease over time, and based on this knowledge, the present invention was completed.In other words, the present invention has the ability to eliminate
Il-? A filter that retains electrostatic force (
1st place t5. Harmful substance removal filter characterized by
There is provided a method for producing a noirter for removing harmful substances, which is characterized in that semiconductor particles having a band of SeV are directly attached to a T-filter without using a binder while maintaining electrostatic force. The semiconductor used in the present invention with a forbidden band width of 0, 5--5 eV is a semiconductor that causes a photocatalytic reaction, and the preferred semiconductor has a forbidden band width of 1 to 3 eV. )
As for the effect of T'A61 D, electronic excitation from the valence band to the conduction band occurs due to light irradiation with energy below the forbidden width, and a hole is created in the valence band, and a hole is created in the conduction band. electrons are generated. It is known that these holes and electrons appear on the semiconductor surface by diffusion or the like, and carry out a photocatalytic reaction in the gas phase or liquid phase. The semiconductor used in the present invention 1 is not particularly limited and may be used as long as it has the above-mentioned forbidden band width. Two metal oxides such as diiron, metal chalcogenides such as zinc sulfide, cadmium sulfide, lead sulfide, zinc selenide, cadmium selenide, etc.: For example, /1 [Z7, germanium, etc. Group elements; for example, 111N-V group compound semiconductors such as gallium phosphide, gallium phosphide, and indium phosphide; for example, organic semiconductors such as polyacetate, polyvirol, polythiophene, polyaniline, boribi, and carbazole; can. Further, the above semiconductors doped with impurities such as arsenic, phosphorus, aluminum, boron, sodium, and halogen can also be used in the present invention. Particularly preferably, metal oxides and mixed crystals thereof such as zinc oxide, tungsten trioxide, titanium dioxide, and cerium oxide can be used. Furthermore, by supporting noble metals such as platinum and palladium on the surface of these semiconductors, the catalytic effect can be improved. Furthermore, an adsorbent such as activated carbon or oxidized clay may be used in combination. The filter that retains electrostatic force that is preferably used in the present invention is, for example, a filter that is made of a substance that retains electric charge or polarization semi-permanently (hereinafter simply referred to as electret) (hereinafter simply referred to as electret filter). . As the material forming the electret used in the present invention, inorganic compounds such as magnesium titanate, barium titanate, calcium titanate, alumina, etc. can be used, and organic polymer materials include polyvinyl chloride, Polymethyl methacrylate, nylon, polyester, polystyrene, polyethylene terephthalate, polytetratthanized ethylene, polyhextated propylene, polycarbonate, polyimide, polyvinylidene fluoride, and polypropylene can be used alone or in combination. Moreover, organic/inorganic composites can also be used. Among these, preferred are polytetrafluoroethylene, polyhexafluoropropylene, polyethylene terephthalate, polypropylene, etc., which have excellent electrical insulation properties and are easy to mold. There are no particular restrictions on the method of forming the electleft, and any method can be used. For example, heating the insulating material to its softening point or melting temperature and cooling it while applying a high DC voltage; Cause corona discharge on the surface of the insulating material or apply high voltage close to dielectric breakdown (~1O'V/cm)
A method of applying a low-energy electron beam (10 to 40 keV) to an insulating material in a vacuum, a method of cooling the insulating material while applying a strong static magnetic field at high temperature, and a method of plastically deforming the insulating material to reduce friction, etc. It is possible to use methods such as separating the charges by using a method and forming space charges using various traps. Any type of electret 74 router can be used in the present invention, and for example, a processed material made from a film-like electret or a nonwoven filter can be used. In particular, a nonwoven fabric filter can be preferably used, which has a high polarizability, can firmly fix the semiconductor powder used in the present invention by the electric field formed between the fibers, and has little pressure loss as a filter. The method for manufacturing a harmful substance removal filter of the present invention in which the semiconductor powder is attached to an electric left filter includes:
Basically, it is sufficient to sprinkle the semiconductor powder used in the present invention on an electret filter and remove the excess, but in order to distribute it evenly, it is necessary to place it in a hollow cylindrical container that forms a wind tunnel. From the viewpoint of uniformity, it is preferable to install an electret filter and scatter the semiconductor powder using a fan or the like from upwind to make it adhere. Separately, for example, a suspension of the semiconductor may be prepared by adding the semiconductor powder to water or a low-boiling organic solvent such as methanol, ethanol, ethyl ether, acetone, etc., and an electric left filter may be immersed in the liquid or sprayed. It is also possible to use a method in which the material is sprayed on the surface and then dried naturally or at a temperature of about 60 to 100 degrees Celsius. The shape of the harmful substance removal filter of the present invention is not particularly limited, and any shape that allows gas or liquid to pass through the filter can be used.For example, it may be an ordinary flat shape, a cylindrical shape, or Corrugated plates, honeycomb shapes, and other shapes processed into extremely complicated shapes can be used as appropriate. The harmful substance removal filter of the present invention manufactured in this way is used in a paint printer [Use 1/
1': Because there is no active site that removes harmful substances through photocatalytic reaction, it is removed by a binder, etc.; ]・Filter's unique electrostatic properties [5
Harmful substances can be removed by adsorption, concentration, and photocatalytic reaction by using the energizing force and induced force IJ more efficiently. We also use non-woven fabric and honeycomb filters! - Since there are many voids in the filter, there is an advantage in irradiating the ultraviolet rays deep inside the filter. The real deal! 1 (j odor C) The ultraviolet light used has a wavelength of 4
Near ultraviolet light of 00-200 nm improves reaction efficiency: 1. However, it contains vacuum ultraviolet light of 200 nm or less4.
There is no problem even if it is 1. These ultraviolet rays are produced by ultra-high pressure mercury lamps, xenon lamps, low: IF
Generated by using mercury J alone or in combination.
Although it is common to use a third component such as gallium or thallium other than mercury and dilute scum in the discharge tube, the light source has been improved to have a wavelength distribution characteristic that meets the purpose. can be done. Light rays other than Mochiro A2, Shiyu) rays, such as the visible nine rays,
・You can use things that include. In the present invention (-B, irradiation d' on the filter: one or more ultraviolet lamps are used, and the ultraviolet lamp is installed in the direction in which the gas or liquid inflows into the filter). or may be provided in the outflow direction.If-, it may be surrounded by a filter.In order to prevent dirt on the surface of the rung, it is preferable that
In the outflow direction or around the flow, l. Another lamp can be installed. The method of introducing the gas to be treated into the filter of the present invention is to install a filter with an ultraviolet irradiation device, and to introduce the gas to be treated two ways into a specific reactor using a continuous method or a pan method. It's a monkey. The 11th stage of introducing the treatment gas into the filter of the present invention. It is desirable to remove solid or liquid suspended particulates such as dust in the surrounding gas to reduce the removal activity of the filter to a low F.Removal of floating @sperm can be done using a known ordinary filter. For example, use non-woven fabric, filter paper, etc.
You can also use a static electricity adsorption device! ! i′r〕
, -) to remove it. By rubbing in this way, by simply replacing the suspended particulate filter regularly, the activity of the filter of the present invention can be maintained for a long period of time, and the air in the area to be treated can be cleaned. I can do it. How to install the filter used in the present invention? :1
The harmful substance removal reactor may be an open system or a closed system, or may be a ventilation system in which air is blown into the reactor using a nozzle. The amount of semiconductor used in the filter of the present invention varies depending on the shape of the filter of the present invention, the volume and shape of the passage, the type of target harmful substance, composition, mixing ratio, type of light source, and amount of power used. Choice 1: It depends on how much you use. The reaction that occurs on the filter of the present invention occurs even in the presence of various harmful substances such as sulfur oxides, nitrogen oxides, hydrocarbon compounds, and halogen-containing compounds, as well as media such as water and organic solvents, making it extremely useful and harmful. It is a substance removal filter. [Example] The present invention will be explained in more detail in the following example. In addition, the units of parts and % in the examples are based on weight. Examples 1 to 4 As shown in Table 1 (- 1. Four types of commercially available conductor powders, namely titanium dioxide (particles (1; 20 m), tungsten trioxide (particle size: 150 nm), zinc oxide (particle size: 40 nm),
m) and cerium oxide (particle size: 30 m), respectively, using Sumitomo 3M's Electret air filter [Filterre...J[-! Sprinkle it evenly over the powder, vibrate the filter to remove excess powder, and make sure it is evenly distributed. This filter was cut into pieces of 1.5 cax 4 cm, and sample pieces 11 and 2 were used for filter evaluation.
A sheet was used. Next, the two prepared sample pieces were placed in a 3 Or++ (l) Pyrex glass Erlenmeyer flask, and the air in each flask was replaced with air containing the angular harmful components at the initial concentration shown in Table 1. The flask was sealed with a rubber stopper made of silicone rubber. An ultra-high pressure mercury lamp (illuminance 10 mW/cmj, dominant wavelength 3) was installed at a distance of 20 crn from this Erlenmeyer flask.
The Erlenmeyer flask was irradiated with 65 nm), and the change over time in the concentration of harmful components in the container was followed by gas chromatography to evaluate the performance of the filter.The results are shown in Table 1. (Left space below) Jt Comparative Example 1-4 For comparison, a 1" sample was placed in Table 1 (i) and "4 (σ) in Table 1, respectively, without the apparatus J. 1>I: C#1, which is one in the system, measured changes over time in IJI, which is a harmful component to camphor. The results are shown in Table 1. From the results in Table 1, it can be seen that the filter of the present invention can reduce ethylene, mercaptan, amine, and form 5 under ultraviolet irradiation.
``rudehyde is rapidly i'' removed, whereas without using the filter of the present invention. It can be seen that even when irradiated with ultraviolet rays, the above-mentioned harmful components are hardly removed. Example 5 In order to evaluate the performance of the filter, Examples 1 to t
A sample piece prepared in the same manner as above was passed through the weight shown in Table 2. −
Align the 1: between the 2 openings, and 11 between the joints.
Attach the circular sample and fix it with a spring 1. Ta1
, and use a syringe, gas generator, etc. to supply air containing the harmful components at the initial concentration shown in Table 2. l - The concentration of air that is injected from the port of the force, passes through the filter, and exits from the other []. Measured by gas chromatography, -! ,,,,,,,
f:, At that time, part of the filter was installed and placed at a distance of 20 cm during the measurement, and no ultra-high pressure mercury lamp (illuminance x01nW/
The measurement results are shown in Table 2. From the results in Table 2, it can be seen that 1 inch of harmful substances can be passed through the filter of the present invention. Comparative Example 5 Titanium dioxide was dispersed in carboxyl-modified styrene-butadiene polymer latex (solid content 43%) so that the solid content weight ratio was 1:1. I let it happen. Next, a commercially available nonwoven fabric (manufactured by Kureha Sen'i Co., Ltd., Ponden Air Filter) was impregnated with this dispersion, and then dried to obtain a nonwoven fabric filter on which titanium dioxide was supported using the above polymer as a binder. This filter was cut into a rectangular shape so that the titanium dioxide content was as shown in Table 3, and used as a sample. The removal performance of this sample was evaluated using an Erlenmeyer flask as in Example 1. The results are shown in Table 3. According to these results, mercaptans, amines, and aldehydes can be removed to some extent even with nonwoven fabrics using a binder. However, it is clear that it has little effect on removing ethylene. Examples 6 to 7 In order to examine the influence of the carrier, the following samples on which titanium dioxide was supported or attached in the amounts shown in Table 4 (the amounts used are shown in Table 4) were used to test Example 1 and The removal performance was evaluated by the same operation, and the results shown in Table 4 were obtained. ■Titanium dioxide-supported electret filter ■Commercially available titanium dioxide powder ■Commercially available titanium dioxide honeycomb molded body (manufactured by Kyocera Corporation) ■Titanium dioxide-supported gypsum ■Titanium dioxide-supported cement ■No treatment agent As a result, titanium dioxide can be used in other carriers. Even when supported, mercaptans, amines, or aldehydes can be removed to some extent. However, it is clear that it has little effect on removing ethylene. It is also found that when titanium dioxide is attached to the electret filter, the removal efficiency of ethylene and mercaptan is improved compared to titanium dioxide powder. Example 8! Used in l*Mif41! - Add tin dioxide-supported electret filter to 7 fv triangular plus 811 as in Example 1: Add ozone generated using a commercially available ozone generator to approximately 1100 pp. 17. After. Ultraviolet irradiation started at 141, Azo> Changes in concentration over time were investigated using a detection tube N018L manufactured by Gastek. In addition, the measurement was performed by diluting the sample 16 times in row-2. -f- results are shown in Table 5. Comparative Example B Changes in ozone concentration over time were investigated under the same conditions as in Example 9 in the presence of the removal agent shown in Table 5. The results are shown in Table 5. From the results in Table 5, using the filter of the present invention
= J of powdered f-tan dioxide: 5, or honey ty
i. Molded body and 1. It can be seen that ozone can be removed more quickly compared to the ## machine used. Example 9 Example i"t' = titanium dioxide compatible f-1,,,7 used in the experiment f-1..., Tofilator was used in Example 1f and -EjJ7 of 801 similar to l2 Last mff
l (as much as possible, 10o00ppm, Y, fl,
> i □ After adding l, confirm that the ethyl 17-n concentration in class-2 is saturated. 17 2 hours after the start, 1 and a half M L f knee.From this, in the jJ method of the present invention, ultraviolet heat 9.i'
It is shown that the harmful substance removal activity of the harmful substance removal filter is regenerated by 12. ing. [Effects of the Invention] Compared to the prior art, the filter of the present invention has the following characteristics: irritating ingredients such as fruits, vegetables, and flower ps.
Preservation of Class F 11 Containing harmful hydrogen, etc. 1 body
It can be removed quickly and efficiently regardless of the type of harmful substance, and there is an advantage that the removal activity does not decrease at all. / moreover,
It can be applied to a wide range of applications, including the removal of excess ozone in facilities that use large amounts of ozone for R treatment and sewage treatment, as well as the removal of ozone generated by office automation equipment. Moreover, the filter of the present invention is efficient because it can be used as a durable and permanent equipment. 1. Since there is no need to supply special drugs and it is easy to operate unmanned, systemization is easy, and the industrial significance of the system is extremely large.Patent applicant: Nippon Zean Co., Ltd. Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 0.5〜5eVの禁止帯幅を有する半導体を、静電
気力を保持したフィルターに付着させたことを特徴とす
る有害物質除去フィルター。 2 粒径が1〜1000nmで0.5〜5eVの禁止帯
幅を有する半導体粒子を、静電気力を保持したフィルタ
ーに、バインダーなしで直接付着させたことを特徴とす
る有害物質除去フィルターの製造方法。 3 フィルターに対する紫外線照射装置を備えた請求項
1記載の有害物質除去フィルター。
[Scope of Claims] 1. A filter for removing harmful substances, characterized in that a semiconductor having a forbidden band width of 0.5 to 5 eV is attached to a filter that maintains electrostatic force. 2. A method for producing a harmful substance removal filter, characterized in that semiconductor particles having a particle size of 1 to 1000 nm and a forbidden band width of 0.5 to 5 eV are directly attached to a filter that maintains electrostatic force without a binder. . 3. The harmful substance removal filter according to claim 1, further comprising an ultraviolet irradiation device for the filter.
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