JPH02269302A - Pattern forming method - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 10
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 2
- 239000001046 green dye Substances 0.000 abstract description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 9
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、基板上に複数のパターン群を近接して形成
する技術に関し、たとえば、基板上に赤、青、緑の３個
の画素パターン群を形成するに際し、最後に形成する画
素パターン群を、フォトリソグラフィの技術を用いるこ
となく簡単に形成することができる、比較的に微細なパ
ターンを形成する技術に関する。Detailed Description of the Invention (Industrial Field of Application) The present invention relates to a technique for forming a plurality of groups of patterns in close proximity on a substrate. The present invention relates to a technique for forming a relatively fine pattern that allows the last pixel pattern group to be formed easily without using photolithography technology when forming a group.
（従来の技術） 一般に、フォトリングラフィ技術は、たとえば。(Conventional technology) In general, photolithography techniques, e.g.
数十μｍ以下のような比較的に微細なパターンを形成す
る手法として良く知られている。カラーフィルタの赤、
青、緑の各画素パターン群を形成する場合などにも、こ
のフォトリソグラフィ技術が多用されている。This method is well known as a method for forming relatively fine patterns of several tens of micrometers or less. color filter red,
This photolithography technique is also frequently used when forming blue and green pixel pattern groups.
しかし、フォトリソグラフィ技術では、各画素パターン
群を形成するごとに、レジストを塗り、フォトマスクの
上から紫外線を露光し、ついで。However, with photolithography technology, each time a group of pixel patterns is formed, a resist is applied, a photomask is exposed to ultraviolet light, and then the photomask is exposed to ultraviolet light.
レジストの現像、パターンのエツチングという各工程を
経なければならない。Each step of developing the resist and etching the pattern must be completed.
一方、そうした煩雑な工程を簡略化する一つの方法とし
て、いわゆる裏露光法が知られている。On the other hand, a so-called back exposure method is known as one method for simplifying such complicated steps.
裏露光法は、たとえば、特開昭５９−２１１００４号の
公報に示されるように、複数の各画素パターン群のうち
、一つを除く他の画素パターン群を基板上に形成した後
、それらの他の画素パターン群をマスクとして基板の裏
面側から全面露光することによって、残りの一つの画素
パターン群を形成する方法である。したがって、裏露光
法によれば、一つの画素パターン群についてフォトリン
グラフィ技術の工程を省略することができ、また、その
一つの画素パターン群をセルファラインで形成すること
ができる。The back exposure method, for example, as shown in Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-211004, involves forming all but one of a plurality of pixel pattern groups on a substrate, and then This is a method of forming the remaining pixel pattern group by exposing the entire surface of the substrate from the back side using the other pixel pattern group as a mask. Therefore, according to the back exposure method, the photolithography process can be omitted for one pixel pattern group, and the one pixel pattern group can be formed by self-alignment.
（発明が解決しようとする課題）
ところが、裏露光法では、既に形成した各画素パターン
群をマスクとして用いるため、それら各画素パターン群
に充分な紫外線遮蔽作用をもたせることが必要である。(Problems to be Solved by the Invention) However, in the back exposure method, each pixel pattern group that has already been formed is used as a mask, so it is necessary to provide each pixel pattern group with a sufficient ultraviolet shielding effect.
この点、青は紫外線遮蔽作用が弱いため、′ＩＡ露光法
を適用する場合、その青の画素パターン群を最後に形成
せざるをえないなどの制約がある。In this respect, since blue has a weak ultraviolet shielding effect, when applying the 'IA exposure method, there are restrictions such as having to form the blue pixel pattern group last.
この発明は、フォトリソグラフィ技術の工程を簡略化す
ることができる別の技術、特に、パターンの形成順序に
それほど制約を受けない技術を提供することを目的とす
る。It is an object of the present invention to provide another technique that can simplify the photolithography process, particularly a technique that is not so restricted by the pattern formation order.
（発明の概要）
この発明は、基板上に、２以上の整数であるＮ個のパタ
ーン群を近接して形成するに際し、（Ｎ−１）個のパタ
ーン群を形成した後、残りの一群を次の各工程を経て形
成することに特徴がある。(Summary of the Invention) In the present invention, when forming N pattern groups, which are an integer of 2 or more, in close proximity on a substrate, after forming (N-1) pattern groups, the remaining pattern group is It is characterized by being formed through the following steps.
（Ａ）（Ｎ−１）個のパターン群を形成した基板の一面
に、残りの一群のパターン形成材料による被膜を形成す
る第１工程、
（Ｂ）第１工程による被膜の表面に、粘着シートを貼り
付け、ついで、その粘着シートを剥離することにより、
（Ｎ−１）個のパターン群を被う被膜の部分を選択的に
取り除く第２工程。(A) A first step of forming a film of the remaining pattern forming material on one surface of the substrate on which (N-1) pattern groups are formed; (B) An adhesive sheet is applied to the surface of the film formed in the first step. By pasting and then peeling off the adhesive sheet,
A second step of selectively removing portions of the film covering the (N-1) pattern groups.
すなわち、この発明は、残りの一群のパターン形成材料
による被膜が、既に形成した（Ｎ−１）個のパターン群
に対するよりも、基板に対してより強く接着することを
利用し、既に形成した（Ｎ−１）個のパターン群の谷間
の部分に、残りの一つのパターン群を形成する。したが
って、残りの一つのパターン群は、フォトリソグラフィ
技術の工程を簡略化して形成することができるし、セル
ファラインで形成することができる。That is, the present invention takes advantage of the fact that the coating formed by the remaining group of pattern forming materials adheres more strongly to the substrate than to the already formed (N-1) pattern group, and The remaining pattern group is formed in the valley portion of the N-1) pattern groups. Therefore, the remaining pattern group can be formed by simplifying the photolithography process and can be formed by self-line.
（実施例１）・・・第１図参照
まず、ガラス基板１０の一面に、黒色系のポリイミド樹
脂からなる遮光層１２、やはりポリイミド樹脂系の赤、
青の各画素パターン群１４．１６という順序で２通常の
とおりフォトリングラフィ技術でパターニングする。そ
して、そうした基板１０の一面に、第１図（ａ）に示す
ように、緑の染料を溶かしたポリイミド溶液をスピンコ
ードすることによって、緑の被膜２０を形成する。(Example 1)...See FIG. 1 First, on one surface of the glass substrate 10, a light shielding layer 12 made of black polyimide resin, a red light shielding layer 12 also made of polyimide resin,
Each blue pixel pattern group 14 and 16 are patterned in the order of 2 using photolithography technique as usual. Then, as shown in FIG. 1(a), a green coating 20 is formed on one surface of the substrate 10 by spin-coding a polyimide solution containing a green dye.
ついで、被膜２０を自然乾燥させて溶剤を飛ばした後、
粘着テープ等で被膜２ｏを物理的に剥離する。すると、
被膜２０は、第１図（ｂ）に示すように、遮光層１２お
よび赤、青の各画素パターン群１４．１６の表面を被う
部分のみが剥離され、基板１０のガラス面が露出した部
分１ｏａに緑の被膜材料２０ ａが残る。これは、被膜
２ｏの接着性あるいは密着性が、ｉ＆！光層１２および
赤、青の各画素パターン群１４．１６の表面に対するよ
りも、基板１０のガラス面が露出した部分１０ａに対す
る方が大きいからである。Then, after naturally drying the coating 20 to remove the solvent,
The coating 2o is physically peeled off using adhesive tape or the like. Then,
As shown in FIG. 1(b), the coating 20 is peeled off only in the portion that covers the surface of the light-shielding layer 12 and the red and blue pixel pattern groups 14 and 16, leaving the glass surface of the substrate 10 exposed. 1 oa of green coating material 20a remains. This means that the adhesion or adhesion of the coating 2o is i&! This is because the area 10a of the substrate 10 where the glass surface is exposed is larger than the surface of the optical layer 12 and the red and blue pixel pattern groups 14, 16.
ガラス面が露出した部分１０ａは、緑の画素パターン群
が形成されるべき所であり、緑の被膜材料２０ ａが緑
の画素パターン群を構成する・こうしたバターニング後
、その緑の画素パターン群２０ ａを硬化することによ
って、カラーフィルタを完成する。The portion 10a where the glass surface is exposed is where a green pixel pattern group is to be formed, and the green coating material 20a constitutes the green pixel pattern group.After such patterning, the green pixel pattern group is formed. A color filter is completed by curing 20a.
ここで、赤、青、緑の各画素パターン群１４゜１６．２
０ａのいずれのものもポリイミド樹脂の中に染料を加え
た材料からなるが、樹脂分と染料との比は、たとえば、
赤がｌ：ｏ、６３、青が１：０．２６、緑が１：０．７
９である。この染料の量が多くなればなるほど、前記接
着力の差が大きくなる傾向にある。したがって、好まし
くは、染料の量が一番多い緑の画素パターン群を最後に
形成するようにするのが良い。Here, each pixel pattern group of red, blue, and green is 14°16.2
All of 0a are made of polyimide resin with dye added, but the ratio of resin to dye is, for example,
Red is l:o, 63, blue is 1:0.26, green is 1:0.7
It is 9. As the amount of this dye increases, the difference in adhesive strength tends to increase. Therefore, preferably, the green pixel pattern group containing the largest amount of dye is formed last.
（実施例２）・・・第２図参照
この実施例２では、ガラス基板１０′の一面に、赤、青
、緑の各画素パターン群１４’、１６’２０ａ′を通常
のフォトリソグラフィ技術でパタニングした後、各画素
パターン群の間の部分に、透明なポリイミド樹脂３０を
埋め込むことによって、表面の平坦化を図った。この場
合でも、透明なポリイミド樹脂３０のバターニングに前
記実施例１の場合と同様な手法を適用した。(Example 2)...See Figure 2 In this Example 2, red, blue, and green pixel pattern groups 14', 16', and 20a' are formed on one surface of a glass substrate 10' using normal photolithography technology. After patterning, transparent polyimide resin 30 was embedded in the areas between each pixel pattern group to flatten the surface. In this case as well, the same method as in Example 1 was applied to patterning the transparent polyimide resin 30.
以上の実施例では、カラーフィルタの製造に適用した場
合を示したが、この発明は、基板の一面に複数のパター
ン群を近接して形成する場合に広く適用することができ
る。In the above embodiments, a case where the present invention is applied to manufacturing a color filter is shown, but the present invention can be widely applied to cases where a plurality of pattern groups are formed close to each other on one surface of a substrate.
また、この発明は、カラーフィルタの製造のみならず、
その修正にも適用することができる。たとえば、画素パ
ターンの中に異物が混入したり。In addition, this invention is applicable not only to the production of color filters, but also to
The modification can also be applied. For example, foreign matter may be mixed into the pixel pattern.
あるいは異なる色同士の画素パターンが部分的に重なっ
たりした場合、そうした部分をレーザー・光等で除去し
、基板の面を露出させた後、その部分を選択的に埋める
手法として適用することができる。Alternatively, if pixel patterns of different colors partially overlap, this method can be applied as a method to selectively fill in those areas after removing those areas with a laser or light, exposing the surface of the substrate. .
（発明の効果）
この発明では、基板の露出した部分と、既に形成したパ
ターン群の表面とに対する接着力に差があることを利用
し、最後のパターン群を粘着テープ等を用いることによ
って簡単にパターニングすることができる。・そして、
その最後に形成するパターン群は、既存のパターン群の
谷間を埋めるように形成されるため、最後に形成するパ
ターン群を既存のパターン群に対して高い位置精度をも
って形成することができる。その点、カラーフィルタで
は、画素パターンの間に隙間のない構造を得ることがで
きる。(Effects of the Invention) In this invention, by utilizing the difference in adhesive strength between the exposed portion of the substrate and the surface of the pattern group that has already been formed, the last pattern group can be easily attached using adhesive tape or the like. Can be patterned. ·and,
The last pattern group to be formed is formed so as to fill the gaps in the existing pattern group, so the last pattern group to be formed can be formed with high positional accuracy with respect to the existing pattern group. On the other hand, color filters can provide a structure with no gaps between pixel patterns.
第１図は、この発明の一実施例を示す工程図、そして、
第２図は、他の実施例を示すための図である。
１０・・・ガラス基板、１４・・・赤の画素パターン群
、１６・・・青の画素パターン群、２０・・・緑の被膜
、２０ａ・・・緑の画素パターン群。FIG. 1 is a process diagram showing one embodiment of this invention, and FIG. 2 is a diagram showing another embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Glass substrate, 14... Red pixel pattern group, 16... Blue pixel pattern group, 20... Green coating, 20a... Green pixel pattern group.
Claims (1)
近接して形成するに際し、（Ｎ−１）個のパターン群を
形成した後、残りの一群を次の各工程を経て形成するこ
とを特徴とする、パターンの形成方法。 （Ａ）（Ｎ−１）個のパターン群を形成した基板の一面
に、残りの一群のパターン形成材料による被膜を形成す
る第１工程、 （Ｂ）第１工程による被膜の表面に、粘着シートを貼り
付け、ついで、その粘着シートを剥離することにより、
（Ｎ−１）個のパターン群を被う被膜の部分を選択的に
取り除く第２工程。 ２、（Ｂ）の第２工程について、基板に対する被膜の接
着力が、（Ｎ−１）個のパターン群に対するそれよりも
大きい、請求項１に記載したパターンの形成方法。 ３、基板がガラス、各パターン群がポリイミド系の樹脂
からなる、請求項２に記載したパターンの形成方法。 ４、各パターン群がカラーフィルタの画素パターン群で
ある、請求項３に記載したパターンの形成方法。 ５、画素パターン群は、赤、青、緑の３個のパターン群
であり、最後に緑のパターン群を形成する、請求項４に
記載したパターンの形成方法。[Claims] 1. When forming N pattern groups, which are an integer of 2 or more, in close proximity on a substrate, after forming (N-1) pattern groups, the remaining one group is A method for forming a pattern, characterized in that the pattern is formed through the following steps. (A) A first step of forming a film of the remaining pattern forming material on one surface of the substrate on which (N-1) pattern groups are formed; (B) An adhesive sheet is applied to the surface of the film formed in the first step. By pasting and then peeling off the adhesive sheet,
A second step of selectively removing portions of the film covering the (N-1) pattern groups. 2. The pattern forming method according to claim 1, wherein in the second step (B), the adhesive force of the coating to the substrate is greater than that for the (N-1) pattern group. 3. The pattern forming method according to claim 2, wherein the substrate is made of glass and each pattern group is made of polyimide resin. 4. The pattern forming method according to claim 3, wherein each pattern group is a pixel pattern group of a color filter. 5. The pattern forming method according to claim 4, wherein the pixel pattern group includes three pattern groups of red, blue, and green, and finally a green pattern group is formed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9153989A JP2717841B2 (en) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | Pattern formation method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9153989A JP2717841B2 (en) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | Pattern formation method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02269302A true JPH02269302A (en) | 1990-11-02 |
| JP2717841B2 JP2717841B2 (en) | 1998-02-25 |
Family
ID=14029277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9153989A Expired - Lifetime JP2717841B2 (en) | 1989-04-11 | 1989-04-11 | Pattern formation method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2717841B2 (en) |
-
1989
- 1989-04-11 JP JP9153989A patent/JP2717841B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2717841B2 (en) | 1998-02-25 |
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